CN104962738B

CN104962738B - 一种铜电解液净化工艺

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Publication number: CN104962738B
Application number: CN201510422489.6A
Authority: CN
Inventors: 王学文; 王明玉; 王兴明
Original assignee: Central South University
Current assignee: Ningbo Fmr Environ & Tech Co ltd
Priority date: 2015-07-17
Filing date: 2015-07-17
Publication date: 2017-01-25
Anticipated expiration: 2035-07-17
Also published as: CN104962738A

Abstract

一种铜电解液净化工艺，是向铜电解液或预脱铜后液中加入结晶剂或向吸附脱杂处理后的铜电解液或预脱铜后液中加入结晶剂，结晶得铜镍复盐，所得铜镍复盐分离回收铜和镍，实现铜电解液净化；吸附脱杂处理采用锑和/或铋的氧化物及其水合物为吸附剂，选择性吸附铜电解液中的杂质As、Sb、Bi，可彻底消除黑铜泥、黑铜板及AsH₃气体在铜电解液净化过程的产生。本发明具有工艺简单，操作简便，成本低，效率高，作业环境好等优点，适合于铜电解液净化工业生产应用。

Description

一种铜电解液净化工艺

技术领域

本发明属于湿法冶金领域，具体涉及一种铜电解液净化工艺，适用于铜电解液中砷、锑、铋、镍等杂质的分离。

背景技术

铜电解精练过程，阳极铜中的砷、锑、铋、镍等杂质随铜一起电化学溶解进入电解液。这些杂质在电解精炼过程表现出不同的行为，按它们电化次序及其在电解液中的可溶性归类如下：

第一类杂质包括锌、铁、镍、铅、锡等。它们比铜更负电性，因而在阳极电化溶解。其中铅和锡形成不溶于电解液的硫酸盐——PbSO₄及Sn(OH)₂SO₄，这两种元素在电解液中的含量非常小。其余的则主要以离子形态进入电解液，且一般不在阴极上析出。

第二类杂质主要是金、银及铂族金属。它们比铜更正电性，电解过程几乎不溶解而直接进入阳极泥。但银少量以Ag₂SO₄进入电解液，而在电解液中氯离子的作用下，银即以AgCl沉淀进入阳极泥。

第三类杂质主要是氧、硫、硒、碲等的化合物(Cu₂O、Cu₂S、Cu₂Se、Cu₂Te)，它们在铜电解过程一般不发生溶解而直接进入阳极泥。

第四类杂质主要是砷、锑、铋。它们的电位与铜接近，电解过程它们既能和阳极上的铜一起(甚至优先)电化学溶解，又可与铜离子一道在阴极上析出，溶解在电解液中的砷、锑、铋还能以悬浮物的形式吸附到阴极上，从而显著降低阴极铜的质量。

铜电解精练过程除第一类杂质和第四类杂质会在电解液中积累外，电解液中的铜也会积累，因为铜在电解精练过程除电化学溶解外还存在化学溶解。附图1所示的铜电解液净化传统工艺包括三个步骤：第一步，蒸发结晶，得硫酸铜和一次脱铜液；第二步，一次脱铜液电积脱铜脱杂进行二次脱铜，得黑铜板、黑铜泥和二次脱铜液；第三步，二次脱铜液强制结晶硫酸盐，得粗硫酸镍和硫酸溶液，所得硫酸溶液返回铜电解系统继续使用。

广义地说，铜电解液净化包括以上三步，一般情况都泛指脱除电解液中的杂质As、Sb、Bi,因为它们对阴极铜的质量有着更直接的影响。传统的铜电解液净化工艺中采用电积脱铜脱除杂质As、Sb、Bi存在诸多缺陷：电积脱杂过程电的有效利用率很低，一般不到20％；能耗高，净化1m³电解液耗电100-120kwh、蒸汽0.8-1吨；净液作业环境差，产生大量黑铜泥和黑铜板，并释放有害气体AsH₃；铜的直收率低，产生的黑铜泥和黑铜板需返回火法系统回收其中的铜，造成铜及杂质砷、锑、铋在冶炼系统内死循环。因此，人们一直在寻求新的铜电解液净化方法，脱除杂质As、Sb、Bi，其中包括锡酸及活性炭净化铜电解液，碳酸钡、碳酸缌共沉淀除Bi，有机溶剂萃取Sb、Bi，含锑或铋的吸附剂吸附As、Sb、Bi等。但这些方法只能用于脱除杂质砷、锑、铋，无法脱除镍、铁等杂质。因此，这些方法只能作为电积脱铜脱杂的补充，无法完全取代传统的铜电解液净化工艺。这些方法无法取代铜电解液净化传统工艺的另一个原因是，电解液中的铜镍分离只能依靠电积。

铜电解液净化过程分离回收镍，不仅是因为回收镍有一定的经济价值，更重要的是随Ni浓度的升高，电解液的电阻增大，铜电解精炼过程的单位电耗升高。二次脱铜后液采用强制冷冻结晶虽然能分离部分镍、铁等杂质，但分离效率不高，一般镍的结晶不到60％，二次脱铜经-15～-20℃冷冻结晶8-24h，结晶后液中仍然含有15-20g/L Ni。总之，铜电解液传统净化工艺存在净化效率低，生成成本高，作业环境差等缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能完全取代铜电解液传统净化工艺的净化效率高，净液成本低，操作简便，环境友好的铜电解净化工艺。

本发明一种铜电解液净化工艺，是向铜电解液或预脱铜后液中加入结晶剂，于-25℃～35℃冷却或冷冻至少0.5h，使其中的Cu和Ni以硫酸铵复盐形式结晶析出，过滤得含铜和镍的硫酸铵复盐混合晶体及第一结晶后液；第一结晶后液经吸附脱杂处理后返回铜电解系统继续使用；或

先对铜电解液或预脱铜后液进行吸附脱杂处理后，再加入结晶剂，于-25℃～35℃冷却或冷冻至少0.5h，使其中的Cu和Ni以硫酸铵复盐形式结晶析出，过滤得含铜和镍的硫酸铵复盐混合晶体及第二结晶后液；第二结晶后液直接返回铜电解系统继续使用；

所述结晶剂选自在水中能产生铵根离子的硫酸铵、硫酸氢铵、氯化铵、氨水、氨气中的至少一种；

所述铜电解液是指主要成分为：As≥2.5g/L、Sb≥0.25g/L、Bi≥0.10g/L，Ni≥5.5g/L，Cu 35-55g/L，H₂SO₄140-220g/L的铜电解精炼电解液。

本发明一种铜电解液净化工艺，所述预脱铜后液是将铜电解液蒸发浓缩至比重为1.37-1.43g/ml，冷却结晶析出CuSO₄·5H₂O产品，过滤得到的结晶后液；或

所述预脱铜后液是将铜电解液经电积至其含Cu≤25g/L后得到的电积后液。

本发明一种铜电解液净化工艺，所述结晶剂的加入量按铜电解液或预脱铜后液或吸附脱杂后的铜电解液或预脱铜后液中的Cu和Ni形成硫酸铵复盐理论量的0.5-1.5倍加入。

本发明一种铜电解液净化工艺，所述吸附脱杂处理，是向第一结晶后液或铜电解液或预脱铜后液中加入吸附剂，选择性吸附第一结晶后液或铜电解液或预脱铜后液中的杂质As、Sb、Bi，过滤得吸附后液和负载吸附剂；负载吸附剂经解吸再生后返回吸附脱杂工序循环使用；

所述吸附剂选自锑和/或铋的氧化物及其水合物。

本发明一种铜电解液净化工艺，吸附脱杂处理工艺为：所述吸附剂中锑或铋的氧化物包括Sb₂O₃、Bi₂O₃、Sb₂O₄、Sb₂O₅中的至少一种，吸附剂中[Sb(III)+Bi(III)]/[Sb(III)+Bi(III)+Sb(IV)+Sb(V)]摩尔数之比为0.5-1；

吸附工艺条件是：按第一结晶后液或铜电解液或预脱铜后液中的As(V)与吸附剂中的Sb(III)和Bi(III)的摩尔数比1:0.5～5加入吸附剂，25-105℃搅拌吸附0.5-5h，过滤得负载吸附剂和吸附后液，负载吸附剂经解吸再生后，返回吸附脱杂处理工序使用。

本发明一种铜电解液净化工艺，所述负载吸附剂经解吸再生的工艺过程为：负载吸附剂先按固液比1:2-10g/ml与水混合，再搅拌加入氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢钠中的至少一种，调溶液pH至8-14，50-100℃，搅拌0.5-5h，使吸附剂上吸附的砷解吸进入溶液，过滤得再生吸附剂和解吸后液；再生吸附剂返回吸附脱杂工序循环使用，或开路综合回收其中的锑和铋；解吸后液冷却结晶析出砷酸钠，过滤得砷酸钠产品及其结晶后液，结晶后液返回解吸再生工序继续使用。

本发明一种铜电解液净化工艺，硫酸复盐混合晶体中铜镍分离回收工艺为：

按固/液比1:4-10g/ml，向第一步得到的铜镍硫酸铵复盐混合晶体加水，于30-110℃搅拌溶解，得到溶解液；

将溶解液直接电积生产阴极铜，电积后液冷却结晶硫酸镍铵；或

将溶解液先选择性溶剂萃取其中的铜，再用反萃液作电解液电积生产阴极铜，萃余液冷却结晶硫酸镍铵；或

将溶解液选择性硫化沉铜，沉铜后液冷却结晶硫酸镍铵；

所得硫酸镍铵晶体用于分离回收镍。

本发明一种铜电解液净化工艺，所述溶解液直接电积生产阴极铜的工艺过程为：溶解液经40-65℃，槽电压1.8-2.2V，电流密度150-250A/m²电积至溶解液中铜含量≤20g/l，得阴极铜产品及第一电积后液，所得第一电积后液置于0-35℃温度下冷却，因第一电积后液中铜含量≤20g/l，因此，形成硫酸铜铵的不饱和溶液，而硫酸镍铵则是过饱和溶液，结晶析出硫酸镍铵，过滤得硫酸镍铵晶体及其结晶后液，所得结晶后液返回硫酸铵复盐结晶工序艺继续使用；

所得结晶后液返回铜镍复盐结晶工序继续使用，或返回混合晶体溶解工序升温继续溶解铜镍硫酸复盐混合晶体，所得溶解液继续电积生产阴极铜。

本发明一种铜电解液净化工艺，所述溶解液选择性溶剂萃取铜的工艺过程为：

选用酸性络合萃取体系或协同萃取体系，在pH≤4的酸度下，选择性萃取其中的铜，铜的萃取率达20-100％后，萃余液中铜含量≤20g/l，负载有机相用0.5-3.5mol/L的H₂SO₄溶液反萃，反萃所得硫酸铜溶液用于电积生产阴极铜，或浓缩结晶生产硫酸铜；

反萃所得硫酸铜溶液电积生产阴极铜的条件为：槽温40-50℃，槽电压1.8-2.2V，电流密度100-350A/m²，所得阴极铜清洗后作产品出售，所得电积后液返回萃取工序循环使用；

所用萃取剂选自P204、P507、Lix984、Lix984N、Lix84、Lix84N、Lix973、Lix984、Lix622、Lix644、Acorga P5000、Acorga M5640、BK992中的至少一种；

所得萃余液置于0-35℃温度下冷却，因萃余液中铜含量≤20g/l，因此，形成硫酸铜铵的不饱和溶液，而硫酸镍铵则是过饱和溶液，结晶析出硫酸镍铵，过滤得硫酸镍铵晶体及第三结晶后液，所得第三结晶后液直接返回铜电解液净化工艺继续使用，或经蒸发浓缩后再返回硫酸铵复盐结晶工序使用。

本发明一种铜电解液净化工艺，所述溶解液选择性硫化沉铜工艺过程为：用在水中能产生硫离子的H₂S、(NH₄)₂S、NH₄HS、Na₂S、NaHS、CaS、BaS中的至少一种作铜的沉淀剂，按溶解液中的铜形成硫化铜化学计量数的0.5-1倍加入沉淀剂，控制溶液的终点酸度≥0.01mol/L H⁺，使溶解液中的铜选择性沉淀析出，过滤得硫化铜沉淀物及第一沉淀后液，第一沉淀后液中铜含量≤20g/l，所得硫化铜沉淀物送铜熔炼系统回收其中的铜，所得第一沉淀后液经0-35℃冷却，因第一沉淀后液中铜含量≤20g/l，形成硫酸铜铵的不饱和溶液，而硫酸镍铵则是过饱和溶液，选择性结晶析出硫酸镍铵，过滤得硫酸镍铵晶体及第四结晶后液，所得第四结晶后液直接返回硫酸铵复盐结晶工序继续使用，或经蒸发浓缩后再返回硫酸铵复盐结晶工序使用。

本发明一种铜电解液净化工艺，所得硫酸镍铵晶体直接作产品出售，或将硫酸镍铵晶体按固液比1:4-10g/ml加水40-110℃溶解后，电积得阴极镍及第二电积后液；所得阴极镍清洗后作产品出售，所得第二电积后液经0-35℃冷却结晶得硫酸镍铵晶体及第五结晶后液，所得第五结晶后液直接返回硫酸铵复盐结晶工序使用，或经蒸发浓缩后再返回硫酸铵复盐结晶工序使用；电积得阴极镍的工艺条件是：槽电压2.2-3.8V，电流密度250-550A/m²电积；或将硫酸镍铵晶体按固液比1:2-10g/ml加水40-100℃溶解后，按溶液中Ni转化成碳酸镍或草酸镍化学计量数的1-1.5倍加入碳酸铵或碳酸氢铵或草酸铵，0-100℃搅拌0.5-3.5h，过滤得碳酸镍或草酸镍的沉淀物及第二沉淀后液；所得碳酸镍或草酸镍直接作产品销售，或热解转化成氧化镍后出售；所得第二沉淀后液直接返回硫酸铵复盐结晶工序继续使用，或经蒸发浓缩后再返回硫酸铵复盐结晶工序使用，或蒸发浓缩结晶，所得铵盐结晶物作产品出售。

本发明与已有的技术相比具有以下优点及效果：

1、本发明巧妙地利用锑和铋的氧化物及其水合物能选择性铜电解液中杂质As、Sb、Bi，及硫酸镍铵在硫酸溶液中的溶解度小等特点，采用“吸附脱杂-铜镍复盐结晶，或铜镍复盐结晶-吸附脱杂”的方法分离铜电解液中的As、Sb、Bi、Ni等杂质，不仅彻底消除了铜电解液净化过程黑铜泥、黑铜板及AsH₃气体的产生，而且使镍的脱除率由不到60％，提高到80％以上；

2、本发明根据铜镍电位的差异，及铜镍溶剂萃取对溶液酸度要求的不同，采用“吸附脱杂-铜镍复盐结晶，或铜镍复盐结晶-吸附脱杂”的方法成功地分离回收铜电解液中残留的铜和镍，且回收得到的是阴极铜，阴极镍，及铜和镍的纯化合物，而不是传统工艺产生的黑铜泥、黑铜板及粗硫酸镍。

3、本发明形成的的铜电解液净化新工艺，成功地克服了铜电解液净化传统工艺存在的净化效率低，生成成本高，作业环境差等缺陷，适合于铜电解液净化工业生产应用。

附图说明

附图1为传统铜电解液净化工艺流程图。

具体实施方式

下面结合实施例，对本发明作进一步描述，以下实施例旨在说明本发明而不是对本发明的进一步限定。

实施例1

取铜电解精炼电解液1L，按Sb(III)/As(V)的摩尔比2:1加入Sb₂O₃，并按Sb(IV)/Sb(III)摩尔比1:7再加入水合Sb₂O₄作吸附剂，75℃搅拌吸附1h后过滤，过滤得负载吸附剂和吸附后液。所得负载吸附剂按固液比1:6g/ml先加水搅拌，再加碳酸钠调pH至10.6，70℃搅拌解吸3h，过滤得水合锑的氧化物和解吸液。解吸液经10℃搅拌冷却1h后，过滤得砷酸钠产品及其结晶后液。所得吸附后液经5℃冷却结晶硫酸铜预脱铜后，再按预脱铜后液中的Cu和Ni形成硫酸铵复盐理论量的1.5倍加入硫酸铵，10℃静置8h，过滤得铜镍硫酸铵复盐混合晶体及脱镍后液。铜电解液净化实验结果如下：

	Cu	As	Sb	Bi	Ni	Fe	H₂SO₄
								铜电解液，g/L	45.2	13.13	0.41	0.36	7.38	0.47	184.3
脱镍后液，g/L	0.31	0.57	0.014	0.051	0.51	0.26	179.1

实施例2

取铜电解液净化过程产生的一次脱铜液5m³，按其中的Cu和Ni形成硫酸铵复盐理论量的1倍通入氨气，-18℃搅拌6h，过滤得铜镍硫酸铵复盐混合晶体及脱镍后液。所得脱镍后液吸附脱杂，按(Sb(III)+Bi(III))/As(V)的摩尔比2.5:1加入Sb₂O₃和Bi₂O₃的混合物作吸附剂，混合物中Sb₂O₃与Bi₂O₃的摩尔比为4:1，并按Sb(V)/Sb(III)摩尔比1:5再加入水合Sb₂O₅，85℃搅拌吸附1.5h，过滤得负载吸附剂和吸附后液。所得吸附后液返回铜电解生产系统使用；所得铜镍复盐混合晶体按固/液比1:5g/ml加水，80℃搅拌溶解后，经槽电压1.8-2.2V，电流密度100-350A/m²电积得纯度为99.992％的阴极铜产品，电积后液5℃冷却结晶析出硫酸镍铵，过滤得硫酸镍铵晶体及其结晶后液，所得硫酸镍铵作产品出售。一次脱铜液净化实验结果如下：

	Cu	As	Sb	Bi	Ni	Fe	H₂SO₄
								一次脱铜液，g/L	25.6	23.13	0.97	0.61	23.2	0.81	356.6

脱镍后液，g/L

0.19

2.12

0.033

0.071

0.23

0.21

309.1

实施例3

取铜电解液净化过程产生的二次脱铜液1m³，按其中的Cu和Ni形成硫酸铵复盐理论量的0.8倍加入实施例2得到的硫酸镍铵结晶后液，-5℃搅拌20h，过滤得铜镍硫酸铵复盐混合晶体及其结晶后液。所得结晶后液返回铜电解生产系统使用；所得铜镍硫酸铵复盐混合晶体按固/液比1:5g/ml加水，60℃搅拌溶解；所得溶解液用P204-煤油体系作有机相选择性萃取铜，有机相中P204的浓度为10％，负载有机相用2mol/L H₄SO₄溶液作反萃液。反萃液浓缩结晶硫酸铜，萃余液5℃冷却结晶析出硫酸镍铵，过滤得硫酸镍铵晶体及其结晶后液；所得硫酸镍铵晶体按固/液比1:5g/ml加水搅拌升温溶解，按其中的Ni转化成草酸镍化学计量数的1倍加入草酸铵，搅拌1h后，过滤得草酸镍产品及其沉淀后液。二次脱铜液净化实验结果如下：

	Cu	As	Sb	Bi	Ni	Fe	H₂SO₄
								二次脱铜液，g/L	1.35	2.43	0.06	0.01	18.7	0.93	389.5
脱镍后液，g/L	0.82	2.81	0.07	0.01	3.78	0.56	375.1

Claims

1.一种铜电解液净化工艺，是向铜电解液或预脱铜后液中加入结晶剂，于-25℃~35℃冷却或冷冻至少0.5h，使其中的Cu和Ni以硫酸铵复盐形式结晶析出，过滤得含铜和镍的硫酸铵复盐混合晶体及第一结晶后液；第一结晶后液经吸附脱杂处理后返回铜电解系统继续使用；或

先对铜电解液或预脱铜后液进行吸附脱杂处理后，再加入结晶剂，于-25℃~35℃冷却或冷冻至少0.5h，使其中的Cu和Ni以硫酸铵复盐形式结晶析出，过滤得含铜和镍的硫酸铵复盐混合晶体及第二结晶后液；第二结晶后液直接返回铜电解系统继续使用；

所述结晶剂的加入量按铜电解液或预脱铜后液或吸附脱杂后的铜电解液或预脱铜后液中的Cu和Ni形成硫酸铵复盐理论量的0.5-1.5倍加入。

2.根据权利要求1所述的一种铜电解液净化工艺，其特征在于：所述预脱铜后液是将铜电解液蒸发浓缩至比重为1.37-1.43 g/ml，冷却结晶析出产品，过滤得到的结晶后液；或

3.根据权利要求1所述的一种铜电解液净化工艺，其特征在于：所述吸附脱杂处理，是向第一结晶后液或铜电解液或预脱铜后液中加入吸附剂，选择性吸附第一结晶后液或铜电解液或预脱铜后液中的杂质As、Sb、Bi，过滤得吸附后液和负载吸附剂；负载吸附剂经解吸再生后返回吸附脱杂工序循环使用；

所述吸附剂选自锑和/或铋的氧化物及其水合物。

4.根据权利要求3所述的一种铜电解液净化工艺，其特征在于：所述吸附剂中锑或铋的氧化物包括Sb₂O₃、Bi₂O₃、Sb₂O₄、Sb₂O₅中的至少一种，吸附剂中[Sb(III)+Bi(III)]/[Sb(III)+Bi(III)+Sb(IV)+Sb(V)]摩尔数之比为0.5-1；

吸附工艺条件是：按第一结晶后液或铜电解液或预脱铜后液中的As(V) 与吸附剂中的Sb(III)和Bi(III)的摩尔数比1:0.5~5加入吸附剂，25-105℃搅拌吸附0.5-5h，过滤得负载吸附剂和吸附后液。

5.根据权利要求1-3任意一项所述的一种铜电解液净化工艺，其特征在于：硫酸铵复盐混合晶体中铜镍分离回收工艺为：

将溶解液选择性硫化沉铜，沉铜后液冷却结晶硫酸镍铵；

所得硫酸镍铵晶体用于分离回收镍。

6.根据权利要求5所述的一种铜电解液净化工艺，其特征在于，所述溶解液直接电积生产阴极铜的工艺过程为：溶解液经40-65℃，槽电压1.8-2.2V，电流密度150-250A/m²电积至溶解液中铜含量≤20g/l，得阴极铜产品及第一电积后液，所得第一电积后液置于0-35℃温度下冷却，使之对硫酸铜铵是不饱和溶液，而对硫酸镍铵则是过饱和溶液，结晶析出硫酸镍铵，过滤得硫酸镍铵晶体及其结晶后液，所得结晶后液返回硫酸铵复盐结晶工序继续使用。

7.根据权利要求5所述的一种铜电解液净化工艺，其特征在于，所述溶解液选择性溶剂萃取铜的工艺过程为：

选用酸性络合萃取体系或协同萃取体系，在pH≤4的酸度下，选择性萃取其中的铜，铜的萃取率达20-100%后，萃余液中铜含量≤20g/l，负载有机相用0.5-3.5mol/L 的H₂SO₄溶液反萃，反萃所得硫酸铜溶液用于电积生产阴极铜，或浓缩结晶生产硫酸铜；

所得萃余液置于0-35℃温度下冷却，使之对硫酸铜铵是不饱和溶液，而对硫酸镍铵则是过饱和溶液，结晶析出硫酸镍铵，过滤得硫酸镍铵晶体及第三结晶后液，所得第三结晶后液直接返回硫酸铵复盐结晶工序继续使用，或经蒸发浓缩后再返回硫酸铵复盐结晶工序使用。

8.根据权利要求5所述的一种铜电解液净化工艺，其特征在于，所述溶解液选择性硫化沉铜工艺过程为：用在水中能产生硫离子的H₂S、(NH₄)₂S、NH₄HS、Na₂S、NaHS、CaS、BaS中的至少一种作铜的沉淀剂，按溶解液中的铜形成硫化铜化学计量数的0.5-1倍加入沉淀剂，控制溶液的终点酸度≥0.01mol/L H⁺，使溶解液中的铜选择性沉淀析出，过滤得硫化铜沉淀物及第一沉淀后液，第一沉淀后液中铜含量≤20g/l，所得硫化铜沉淀物送铜熔炼系统回收其中的铜，所得第一沉淀后液经0-35℃冷却，使之对硫酸铜铵是不饱和溶液，而对硫酸镍铵则是过饱和溶液，选择性结晶析出硫酸镍铵，过滤得硫酸镍铵晶体及第四结晶后液，所得第四结晶后液直接返回硫酸铵复盐结晶工序继续使用，或经蒸发浓缩后再返回硫酸铵复盐结晶工序使用。

9.根据权利要求5所述的一种铜电解液净化工艺，其特征在于：将硫酸镍铵晶体按固液比1:4-10g/ml加水40-110℃溶解后，电积得阴极镍及第二电积后液；所得阴极镍清洗后作产品出售，所得第二电积后液经0-35℃冷却结晶得硫酸镍铵晶体及第五结晶后液，所得第五结晶后液直接返回硫酸铵复盐结晶工序使用，或经蒸发浓缩后再返回硫酸铵复盐结晶工序使用；电积得阴极镍的工艺条件是：槽电压2.2-3.8V，电流密度250-550A/m²电积；

或将硫酸镍铵晶体按固液比1:2-10g/ml加水40-100℃溶解后，按溶液中Ni转化成碳酸镍或草酸镍化学计量数的1-1.5倍加入碳酸铵或碳酸氢铵或草酸铵，0-100℃搅拌0.5-3.5h，过滤得碳酸镍或草酸镍的沉淀物及第二沉淀后液；所得碳酸镍或草酸镍直接作产品销售，或热解转化成氧化镍后出售；所得第二沉淀后液直接返回硫酸铵复盐结晶工序继续使用，或经蒸发浓缩后再返回硫酸铵复盐结晶工序使用，或蒸发浓缩结晶铵盐，所得铵盐结晶物作产品出售。