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CN104377207A - 显示面板及制造该显示面板的方法 - Google Patents

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CN104377207A
CN104377207A CN201410434066.1A CN201410434066A CN104377207A CN 104377207 A CN104377207 A CN 104377207A CN 201410434066 A CN201410434066 A CN 201410434066A CN 104377207 A CN104377207 A CN 104377207A
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electrode
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王明宗
柳智忠
齐国杰
刘建欣
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Century Technology Shenzhen Corp Ltd
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Abstract

本发明提供一种显示面板包括基板、薄膜晶体管、公共电极、公共电极线、连接电极及像素电极。所述薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极及连接所述源极与漏极的沟道层。所述栅极、公共电极及公共电极线均直接设置在基板上且相互断开并不直接相连。所述像素电极与漏极相连并与所述公共电极相对。所述公共电极与公共电极线通过连接电极相互连接。本发明还提供了一种制造所述显示面板的方法。

Description

显示面板及制造该显示面板的方法
技术领域
本发明涉及一种显示面板及制造该显示面板的方法。
背景技术
现有平面转动型(In-Plane Switching, IPS)液晶显示面板在形成不同电路图案时往往需要借助对应的不同光罩来完成。因此，导致IPS液晶显示面板所需要的光罩数量较多，成本较高。
发明内容
鉴于此，有必要提供一种简化制程的显示面板及制造该显示面板的方法。
一种显示面板包括基板、薄膜晶体管、公共电极、公共电极线、连接电极及像素电极。所述薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极及连接所述源极与漏极的沟道层。所述栅极、公共电极及公共电极线均直接设置在基板上且相互断开并不直接相连。所述像素电极与漏极相连并与所述公共电极相对。所述公共电极与公共电极线通过连接电极相互连接。
一种显示面板制造方法，所述显示面板划分为用于显示图像的显示区域及位于显示区域外侧用于走线的非显示区域，该方法包括如下步骤：
提供一基板；
在所述基板上依次形成一金属层及覆盖在金属层上的光阻层；
利用一金属层光罩对所述光阻层进行曝光及显影以在所述金属层上形成与一薄膜晶体管的栅极及一公共电极线对应的光阻图案；
对形成有光阻图案的基板进行蚀刻，以将所述金属层蚀刻成薄膜晶体管的栅极及公共电极线；
在蚀刻后的基板上镀上透明导电薄膜作为一公共电极；
在所述基板上形成一栅极绝缘层以覆盖所述栅极、公共电极及公共电极线；
在所述栅极绝缘层上与所述栅极对应的位置处形成薄膜晶体管的沟道层；
在所述栅极绝缘层上对应沟道层的相对两侧分别形成薄膜晶体管的源极及漏极；
在所述栅极绝缘层上形成平坦层以覆盖所述沟道层、源极及漏极；
在所述平坦层上分别对应与漏极及公共电极线与公共电极相对应一侧的位置处开设所述第一接触通孔及第二接触通孔；
在所述第一接触通孔内及所述平坦层上形成与漏极相连接的所述像素电极，在所述第二接触通孔内及所述平坦层上形成与连接所述公共电极与公共电极线的连接电极。
相对于现有需分别采用不同光罩来形成栅极及公共电极的方法，本发明实施方式所提供的IPS显示面板只需要采用一个金属层光罩即可以在基板上形成栅极及公共电极，可有效地减少光罩数量，降低液晶面板的制作成本。
附图说明
图1为本发明实施方式所提供的显示面板的局部结构示意图。
图2为图1所示的显示面板沿II-II方向的局部剖视图。
图3为本发明实施方式所提供的显示面板的制造方法流程图。
图4至图12为图3中步骤S801至步骤S808的显示面板结构示意图。
主要元件符号说明
显示面板 1
扫描线 10
基板 11
数据线 12
公共电极 14
公共电极线 15
连接电极 16
薄膜晶体管 13
像素单元 17
显示区域 AA、
非显示区域 BB、
像素单元 40
栅极 130
栅极绝缘层 132
源极 134
漏极 136
沟道层 137
平坦层 138
第一接触通孔 1380
第二接触通孔 1382
狭缝 170
金属层 22
光阻层 25
光阻图案 250
透明导电薄膜 140
金属层光罩 23
紫外线光罩 26
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
如图1及图2所示，本发明实施方式所提供的显示面板1包括基板11、相互平行的扫描线10、相互平行的数据线12、公共电极14、公共电极线15、连接电极16、薄膜晶体管13及像素电极17。所述显示面板1划分为用于显示图像的显示区域AA、及位于显示区域AA、外侧用于走线的非显示区域BB、。所述扫描线10与数据线12相互垂直绝缘相交以在显示面板1的显示区域AA、内定义多个像素单元40。每个像素单元40内设置有至少一公共电极线15。在本实施方式中，所述公共电极线15与所述数据线12相互平行。所述公共电极14铺设在显示面板1的整个显示区域AA、内并通过连接电极16与每个像素单元40内的公共电极线15电性相连。因为若所述公共电极14延伸至非显示区域BB、内容易造成走线短路，所以所述公共电极14仅设置在显示区域AA、内。
所述薄膜晶体管13设置在每个像素单元40内的扫描线10与数据线12相交处且分别与所述扫描线10及数据线12相连。所述薄膜晶体管13包括栅极130、栅极绝缘层132、源极134、漏极136、连接所述源极134与漏极136的沟道层137及平坦层138。
在本实施方式中，所述薄膜晶体管13为底闸型薄膜晶体管。
所述栅极130直接设置在基板11上并与所述扫描线10相连接。所述公共电极14及公共电极线15直接设置在基板11上从而与所述栅极130同层。所述栅极130、公共电极14及公共电极线15在所述基板11上相互断开并不直接连接。
所述栅极绝缘层132铺设在基板11上分别覆盖所述栅极130、公共电极14及公共电极线15。
所述沟道层137设置在栅极绝缘层132上与栅极130相对的位置处。所述源极134及漏极136设置在栅极绝缘层132上并分别覆盖在所述沟道层137的相对两侧上。所述源极134与扫描线10相连。
所述平坦层138铺设在所述栅极绝缘层132上以覆盖所述沟道层137、源极134及漏极136。所述平坦层138的顶部分别对应所述漏极136及公共电极线15与公共电极14相对应的一侧开设有第一接触通孔1380及第二接触通孔1382。
所述像素电极17设置在第一接触通孔1380内与漏极136相连接。所述连接电极16设置在第二接触通孔1382内将所述公共电极14与公共电极线15导通。
所述像素电极17上开设有多条狭缝170以与像素单元40内相对的公共电极14形成平行电场。所以，在本实施方式中所述显示面板1为IPS液晶显示面板。
图3为本发明所提供的一种制造上述实施方式所提供的显示面板1的方法流程图，该制造方法包括如下步骤：
步骤S801，提供一基板11。所述基板11由透明材料制成。在本实施方式中，所述基板11为玻璃基板11。
步骤S802，如图4所示，在所述基板11上依次形成一金属层22及覆盖在金属层22上的光阻层25。
步骤S803，如图5及图6所示，利用一金属层光罩23对所述光阻层25进行曝光及显影，以在金属层22上形成与所述薄膜晶体管的栅极130及公共电极线15对应的光阻图案250。
步骤S804，如图7所示，对形成有光阻图案250的基板11进行蚀刻，以将所述金属层22蚀刻成所述薄膜晶体管的栅极130及公共电极线15。在对所述金属层22进行蚀刻的过程中控制蚀刻的程度以使得蚀刻后的栅极130及公共电极线15的外边缘相对于上方光阻图案250的外边缘于水平投影方向上向内凹进一预定距离β，即所述光阻图案250所覆盖的区域面积大于所述栅极130及公共电极线15的面积。
步骤S805，如图8所示，在蚀刻后的基板11上镀上一层透明导电薄膜 140。所述透明导电薄膜 140覆盖在所述光阻图案250的顶部以及基板11上未被所述光阻图案250遮挡的区域。
所述透明导电薄膜 140用作显示面板1的公共电极14。因所述栅极130及公共电极线15的外边缘相对于光阻图案250的外边缘向于水平投影方向上内凹入所述预定距离β，所述公共电极14与所述栅极130及公共电极线15并不直接相连，而是相隔所述预定距离β。在本实施方式中，所述透明导电薄膜 140的材料为氧化铟锡(Indium Tin Oxide, ITO)。
步骤S806，如图9所示，将所述光阻图案250及覆盖在光阻图案250上的透明导电薄膜140一并去除，则剩下的透明导电薄膜140成为显示面板1的公共电极14。
步骤S807，如图10所示，在所述基板11上形成覆盖所述栅极130、公共电极14及公共电极线15的光阻层25。
步骤S808，如图11所示，在所述基板11与栅极130、公共电极14及公共电极线15相对的背侧采用紫外线光罩26对位于非显示区域BB、上的光阻进行曝光显影，以将非显示区域BB、上的光阻层25去除。
步骤S809，如图12所示，对所述基板11进行蚀刻以将形成在非显示区域BB、上的透明导电膜140去除。
步骤S810，在所述基板11上形成栅极绝缘层132，以覆盖所述栅极130、公共电极14及公共电极线15。
步骤S811，在所述栅极绝缘层132上与所述栅极130对应的位置处形成沟道层137。
步骤S812，在所述栅极绝缘层132上对应沟道层137的相对两侧分别形成源极134及漏极136。
步骤S813，在所述栅极绝缘层132上形成平坦层138以覆盖所述沟道层137、源极134及漏极136。
步骤S814，在所述平坦层138上分别对应与漏极136及公共电极线15与公共电极14相对应一侧的位置处开设所述第一接触通孔1380及第二接触通孔1382。
步骤S815，在所述第一接触通孔1380内及所述平坦层138上形成与漏极136相连接的所述像素电极17。在所述第二接触通孔1382内及所述平坦层138上形成与连接所述公共电极14与公共电极线15的连接电极16。在本实施方式中，所述像素电极17及连接电极16的材料为ITO。
在步骤S803至步骤S805中，因只需要采用一个金属层22光罩即可以在基板11上形成栅极130及公共电极14。相对于现有需分别采用不同光罩来形成栅极130及公共电极14的制程方法，本发明实施方式所提供的IPS显示面板1所需要光罩数量较少，可有效地降低液晶面板的制作成本。
本技术领域的普通技术人员应当认识到，以上的实施方式仅是用来说明本发明，而并非用作为对本发明的限定，只要在本发明的实质精神范围之内，对以上实施例所作的适当改变和变化都落在本发明要求保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板包括基板、薄膜晶体管、公共电极、公共电极线、连接电极及像素电极，所述薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极及连接所述源极与漏极的沟道层，所述栅极、公共电极及公共电极线均直接设置在基板上且相互断开并不直接相连，所述像素电极与漏极相连并与所述公共电极相对，所述公共电极与公共电极线通过连接电极相互连接。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于：所述公共电极为透明导电膜。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于：所述公共电极与所述像素电极相对设置，所述像素电极上开设有多条狭缝以与相对的公共电极形成平行电场。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于：所述显示面板划分为用于显示图像的显示区域及位于显示区域外侧用于走线的非显示区域，所述公共电极仅设置在显示区域内。
5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于：进一步包括相互平行的扫描线及相互平行的数据线，所述扫描线与数据线相互垂直绝缘相交以在显示面板的显示区域内定义多个像素单元，所述薄膜晶体管设置在每个像素单元内的扫描线与数据线相交处，所述源极与对应的扫描线相连接，所述漏极与对应的数据线相连接。
6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于：每个像素单元内设置有至少一与数据线相互平行的公共电极线。
7.一种显示面板制造方法，所述显示面板划分为用于显示图像的显示区域及位于显示区域外侧用于走线的非显示区域，该方法包括如下步骤：
提供一基板；
在所述基板上依次形成一金属层及覆盖在金属层上的光阻层；
利用一金属层光罩对所述光阻层进行曝光及显影以在所述金属层上形成与一薄膜晶体管的栅极及一公共电极线对应的光阻图案；
对形成有光阻图案的基板进行蚀刻，以将所述金属层蚀刻成薄膜晶体管的栅极及公共电极线；
在蚀刻后的基板上镀上透明导电薄膜作为一公共电极；
在所述基板上形成一栅极绝缘层以覆盖所述栅极、公共电极及公共电极线；
在所述栅极绝缘层上与所述栅极对应的位置处形成薄膜晶体管的沟道层；
在沟道层上形成薄膜晶体管的源极及漏极；
在所述栅极绝缘层上形成平坦层；
在所述平坦层上形成与漏极相连接的所述像素电极及连接所述公共电极与公共电极线的连接电极。
8.如权利要求7所述的显示面板制造方法，其特征在于：在形成公共电极之后及形成栅极绝缘层之前还包括如下步骤：
在所述基板上形成覆盖所述栅极、公共电极及公共电极线的光阻层；
在所述基板与栅极、公共电极及公共电极线相对的背侧采用紫外线光罩对位于非显示区域上的光阻进行曝光显影以将非显示区域上的光阻层去除；
对所述基板进行蚀刻以将形成在非显示区域上的透明导电膜去除。
9.如权利要求8所述的显示面板制造方法，其特征在于：在对所述金属层进行蚀刻的过程中控制蚀刻的程度以使得蚀刻后的栅极及公共电极线的外边缘相对于上方的光阻图案外边缘向内凹进一预定距离。
10.如权利要求7所述的显示面板制造方法，其特征在于：所述公共电极及像素电极的材料为氧化铟锡。
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