CN102608689A - 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置。标准具包括第一基板;与第一基板相对的第二基板;在第一基板的与第二基板相对的表面上设置的固定反射镜;设置于第二基板上并介由反射镜间间隙与固定反射镜相对的可动反射镜;以及在第一基板的与第二基板相对的表面上设置的第一电极;并且具有第一电极的一部分与固定反射镜的外周边缘的至少一部分层叠构成的第一层叠阻止部。
Description
技术领域
本发明涉及波长可变干涉滤波器、具备该波长可变干涉滤波器的光模块以及具备该光模块的光分析装置。
背景技术
现有技术中已知在一对基板的彼此相对的表面上以既定间隙分别相向配置有反射膜的可变干涉装置(波长可变干涉滤波器)(例如参照专利文献1)。
在专利文献1记载的波长可变干涉滤波器中,为了调整间隙,在一对反射膜的彼此相对的表面上相向地配置电极,可以通过向各电极施加驱动电压,利用静电引力调整间隙。由此,波长可变干涉滤波器能仅透射对应于该间隙的特定波长的光。即,波长可变干涉滤波器对入射光在一对反射膜间使光发生多重干涉,从而仅透射因多重干涉而彼此增强的特定波长的光。
专利文献1:特开平1-94312号公报
发明内容
然而,在这样的波长可变干涉滤波器的制造工序中,在将基板彼此接合的工序中,反射膜之间可能彼此粘附。另外,可能在调整间隙时反射膜之间出现彼此粘附、或因施加外力时的冲击而在反射膜之间出现彼此粘附。由于一旦发生上述的反射膜之间的粘附,则会损坏反射膜的表面,因而反射膜的光学特性(透射率、反射率)下降。
因此,为了防止反射膜之间的粘附,可以考虑在反射膜的附近设置突起部。
然而,在设置这样的突起部的情况下,在波长可变干涉滤波器的制造工序中,存在需要另行设置突起部的工序并且使结构复杂化的问题。
本发明的目的在于,以简洁的结构提供能够防止反射膜之间的粘附的波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置。
本发明的波长可变干涉滤波器的特征在于,具备:第一基板;第二基板,与所述第一基板彼此相对;第一反射膜,设置于所述第一基板的与所述第二基板相对的表面上;第二反射膜,设置于所述第二基板上,并隔着既定间隙与所述第一反射膜相对;以及第一电极,设置于所述第一基板的与所述第二基板相对的表面上;并且具有所述第一电极的一部分与所述第一反射膜的外周边缘的至少一部分层叠构成的第一层叠阻止部。
依据本发明,具有第一电极的一部分与第一反射膜的外周边缘的至少一部分层叠构成的第一层叠阻止部。由此,第一层叠阻止部与第二反射膜之间的尺寸比反射膜之间的间隙的尺寸小。因此,在反射膜间的间隙尺寸变小的情况下,第一层叠阻止部和第二反射膜接触,从而能够防止反射膜之间的粘附。
另外,依据本发明,第一层叠阻止部由第一电极与第一反射膜层叠形成,因而不需要在反射膜另行设置上述的突起部,能够通过实施形成第一反射膜及第一电极的工序来设置,因此能够简化制造工序,而且能简化结构。
在本发明的波长可变干涉滤波器中,优选具备设置于所述第二基板的与所述第一基板相对的表面的第二电极,具有所述第二电极的一部分与所述第二反射膜的外周边缘的至少一部分层叠构成的第二层叠阻止部。
依据本发明,在第二基板形成有第二层叠阻止部。在这样的结构中,在第二基板侧也设置有防止反射膜彼此接触的第二层叠阻塞,因而能够更可靠地防止反射膜之间的接触。
这里,在从基板厚度方向看第一基板及第二基板的俯视图中,在第二层叠阻止部形成于与第一层叠阻止部重叠的位置的情况下,通过第一层叠阻止部和第二层叠阻止部抵接,能够防止第一及第二反射膜的接触。在此情况下,在第一基板和第二基板之间产生第一层叠阻止部的厚度尺寸和第二层叠阻止部的厚度尺寸的合计量的间隙。因而,例如与仅通过第一层叠阻止部防止反射膜彼此接触的情况相比,能够增大反射膜间的间隙尺寸,从而能够更可靠地防止反射膜彼此的接触、粘附。
另一方面,所述俯视图中,也可以是第一层叠阻止部和第二层叠阻止部设置于完全不重叠的位置的结构。在此情况下,与仅通过第一层叠阻止部防止反射膜之间的接触、粘附的情况相比,能够使防止反射膜彼此接触、粘附的阻止部的面积增大设置的第二层叠阻止部的面积,从而能够对抗更强的应力。
在本发明的波长可变干涉滤波器中,优选在所述第二基板设置与所述第一电极相对的第二电极,所述第一电极及所述第二电极是通过被施加电压而改变所述间隙的尺寸的驱动电极。
依据本发明,第一电极及第二电极是驱动电极,因而能够兼作改变间隙的尺寸的间隙改变部。即,在波长可变干涉滤波器的制造工序中,不需要另行设置上述的突起部的工序,通过形成第一反射膜的工序和形成驱动电极的工序,很容易形成第一层叠阻止部、简化制造工序并且简化结构。
在本发明的波长可变干涉滤波器中,优选在所述第二基板设置与所述第一电极相对的第二电极,所述第一电极及所述第二电极是测定在所述第一电极及所述第二电极之间保持的静电电容的静电电容测定用电极。
依据本发明,第一电极及第二电极作为静电电容测定用电极而起作用。在设有这样的静电电容测定用电极的波长可变干涉滤波器中,通过测定第一电极及第二电极所保持的电荷量,能够算出第一反射膜及第二反射膜间的间隙。因而,能够准确地求出通过波长可变干涉滤波器获得的光的波长,通过基于该静电电容设定第一反射膜及第二反射膜间的间隙,能够将反射膜间间隙准确地设定为期望的间隙。
而且,在波长可变干涉滤波器的制造工序中,通过形成第一反射膜的工序和形成静电电容测定用电极的工序,很容易形成第一层叠阻止部。
在本发明的波长可变干涉滤波器中,优选所述第一电极是去除所述第一反射膜的电荷的电荷去除用电极。
依据本发明,第一电极作为去除第一反射膜的电荷的电荷去除用电极而起作用。另外,反射膜间的间隙的尺寸变小,第一层叠阻止部和第二反射膜接触时,保持在第二反射膜的电荷也能够从第一层叠阻止部的电荷去除用电极逃逸。因此,不会因分别保持于第一反射膜及第二反射膜的电荷而产生静电引力,从而能够将反射膜间的间隙准确地设定为期望的间隙尺寸。
在本发明的波长可变干涉滤波器中,优选所述第一层叠阻止部从所述第一基板侧依次层叠所述第一反射膜及所述第一电极。
一般地,在基板上成膜的反射膜存在外围端部比较容易剥离、易劣化的问题。然而,依据本发明,第一层叠阻止部是在第一反射膜上层叠第一电极的结构,因而第一电极能够可靠地保护第一反射膜的端部,防止第一反射膜的劣化。
在本发明的波长可变干涉滤波器中,优选所述第一层叠阻止部从所述第一基板侧依次层叠所述第一电极及所述第一反射膜。
依据本发明,第一层叠阻止部从第一基板侧依次层叠第一电极及第一反射膜。由此,在第一基板上成膜第一电极后,成膜第一反射膜,因而能够使第一反射膜的形成工序成为更靠后的工序,并进一步防止在制造工序中使第一反射膜受到损伤。
另外,第一反射膜是例如层叠有SiO2、TiO2等绝缘层的电介质多层膜,在将与第一电极相对的第二电极设置于第二基板上的情况下,通过在第一电极之中将与第二电极相对的区域整体用第一反射膜覆盖而构成第一层叠阻止部,能够将第一反射膜用作绝缘层。在此情况下,通过第一层叠阻止部能够防止反射膜之间的接触、粘附,同时能够防止第一电极及第二电极间的放电、漏电(leak)等不良状况。
在本发明的波长可变干涉滤波器中,优选所述第一电极用非透光性的材料形成,在沿所述第一基板及第二基板的基板厚度方向看的俯视图中,所述第一层叠阻止部被设定为规定透射所述第一反射膜及第二反射膜的入射光的光透射区域的环状。
这里,本发明所述的非透光性的材料是指在波长可变干涉滤波器中不透射成为测定对象的波长范围的光的材料。因而,在成为测定对象的波长范围是可见光的情况下,作为第一电极,可以使用能透射红外光的、诸如Si的不透射可见光的金属材料。
依据本发明,非透光性的材料的第一电极与第一反射膜层叠形成环状的第一层叠阻止部,因而在非透光性的第一层叠阻止部的内侧露出的第一反射膜的区域成为入射光的光透射区域,从而能够将第一层叠阻止部用作光圈。使用这样的波长可变干涉滤波器,通过测定利用波长干涉滤波器获得的光的光量,能够实施准确的光量测定。
在本发明的波长可变干涉滤波器中,优选在所述第二基板的与所述第一基板相对的表面上设置所述第二电极,所述第二电极的一部分层叠于所述第二反射膜的外周边缘而构成环状的第二层叠阻止部,在沿所述第一基板及所述第二基板的基板厚度方向看所述第一基板及所述第二基板的俯视图中,所述第一层叠阻止部的内径尺寸比所述第二层叠阻止部的内径尺寸小。
依据本发明,第一层叠阻止部的内径尺寸形成为比第二层叠阻止部的内径尺寸小。即,光透射区域由第一层叠阻止部的内径尺寸规定。
一般地,难以将具有同一内径尺寸的两个光圈以内径部分完全一致的方式对齐,一旦产生对齐的偏离,光的透射量也会变化。与此相对,如上所述,若将第一层叠阻止部的内径尺寸形成为比第二层叠阻止部的内径尺寸小,则与使第一层叠阻止部的内径和第二层叠阻止部的内径完全一致的情况相比,很容易设置第一层叠阻止部的内径部分以使其位于第二层叠阻止部的内周侧。另外,光透射区域由内径尺寸小的第一层叠阻止部规定,因而能够容易地、精度良好地规定光透射区域。由此,很容易将透过光透射区域的光的透射光量设定为期望的值。
本发明的光模块的特征在于,具备上述的波长可变干涉滤波器和接收透过所述波长可变干涉滤波器的检查对象光的光接收部。
依据本发明,如上所述,在波长可变干涉滤波器中,能够以简洁的结构防止反射膜之间的粘附,能够防止反射膜的光学性能的下降从而高精度地维持分辨率。因此,在具备这样的波长可变干涉滤波器的光模块中,能够通过光接收部实施精度高的光量测定。
本发明的光分析装置的特征在于,具备上述的光模块,以及基于通过所述光模块的所述光接收部接收的光分析所述检查对象光的光特性的分析处理部。
依据本发明,具备具有上述的波长可变干涉滤波器的光模块,因而能够实施精度高的测定,通过基于该测定结果实施光分析处理,能够实施准确的分光特性。
附图说明
图1是示出本发明涉及的第一实施方式的测色装置的概略结构的框图。
图2是所述第一实施方式的标准具的第一基板的俯视图。
图3是所述第一实施方式的标准具的第二基板的俯视图。
图4是示出所述第一实施方式的标准具的概略结构的剖面图。
图5是示出所述第一实施方式的第一变形例的标准具的主要部分的局部剖面图。
图6是示出所述第一实施方式的第二变形例的标准具的主要部分的局部剖面图。
图7是示出所述第一实施方式的第二变形例的标准具的主要部分的局部剖面图。
图8是示出所述第一实施方式的第三变形例的标准具的主要部分的局部剖面图。
图9是示出所述第一实施方式的第四变形例的标准具的主要部分的局部剖面图。
图10是示出所述第一实施方式的第五变形例的标准具的主要部分的局部剖面图。
图11是本发明涉及的第二实施方式的标准具的第一基板的俯视图。
图12是所述第二实施方式的标准具的第二基板的俯视图。
图13是示出所述第二实施方式的标准具的主要部分的局部剖面图。
图14是示出本发明涉及的第三实施方式的标准具的主要部分的局部剖面图。
图15是本发明涉及的第四实施方式的标准具的第一基板的俯视图。
图16是所述第四实施方式的标准具的第二基板的俯视图。
具体实施方式
[第一实施方式]
以下基于附图对本发明涉及的第一实施方式进行说明。
〔1.测色装置的概略结构〕
图1是示出本实施方式的测色装置1(光分析装置)的概略结构的框图。如图1所示,测色装置1具备:向检查对象A发射光的光源装置2、测色传感器3(光模块)以及控制测色装置1的整体动作的控制装置4。而且,该测色装置1是如下的装置:使从光源装置2发射的光在检查对象A反射,在测色传感器3接收反射的检查对象光,基于从测色传感器3输出的检测信号对检查对象光的色度(即检查对象A的颜色)进行分析测定。
〔2.光源装置的结构〕
光源装置2具备光源21、多个透镜22(图1仅示出了一个),对检查对象A发射白色光。另外,多个的透镜22可以包含准直透镜,在此情况下,光源装置2通过准直透镜使从光源21发射的白色光变为平行光,从未图示的投射透镜向检查对象A发射。此外,在本实施方式中,例示了具备光源装置2的测色装置1,但在例如检查对象A是液晶面板等的发光部件的情况下,也可以采用不设置光源装置2的结构。
〔3.测色传感器的结构〕
如图1所示,测色传感器3具备标准具5(波长可变干涉滤波器),接收透过标准具5的光的光接收元件31(光接收部),以及改变透过标准具5的光的波长的电压控制部6。另外,测色传感器3在与标准具5相对的位置具备将在检查对象A反射的反射光(检查对象光)导向内部的未图示的入射光学透镜。而且,该测色传感器3通过标准具5在从入射光学透镜入射的检查对象光之中分光出既定波长的光,并在光接收元件31接收分光后的光。
光接收元件31由多个光电转换元件构成,生成与光接收量相应的电信号。而且,光接收元件31与控制装置4连接,将生成的电信号作为光接收信号输出至控制装置4。
(3-1.标准具的结构)
图2是标准具5的第一基板51的俯视图,图3是标准具5的第二基板52的俯视图。图4是在图2及图3的箭头IV-IV线所示的位置的标准具5的剖面图。此外,在图1中,从图中下侧向标准具5入射检查对象光,但在图4中,变成从图中上侧入射检查对象光。
如图2及图3所示,第一基板51及第二基板52是俯视时为正方形的板状的光学部件,一边例如形成为10mm。如图4所示,该标准具5具备第一基板51及第二基板52,这些基板51、52通过使用等离子聚合膜的硅氧烷接合等经由接合层53互相接合而一体地构成。这两块基板51、52分别由例如钠玻璃、结晶性玻璃、石英玻璃、铅玻璃、钾玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃等各种玻璃或水晶等形成。
另外,在第一基板51和第二基板52之间,如图2至图4所示,设有直径尺寸R1的固定反射镜54(第一反射膜),以及直径尺寸R2的可动反射镜55(第二反射膜)。这里,固定反射镜54形成于第一基板51的与第二基板52相对的表面上,可动反射镜55形成于第二基板52的与第一基板51相对的表面上。另外,上述固定反射镜54及可动反射镜55隔着反射镜间间隙G1而相对配置。
而且,在第一基板51和第二基板52之间,设有用于调整各反射镜54、55之间的反射镜间间隙G1的尺寸的静电致动器56。该静电致动器56以覆盖各反射镜54、55的外周边缘的方式分别形成,在从基板厚度方向看的俯视图(以下称为标准具俯视图)中形成为环状。此外,对于静电致动器56的结构,在下文中予以详述。
(3-1-1.第一基板的结构)
第一基板51通过蚀刻加工厚度为例如500μm的玻璃基材而形成。如图2及图4所示,在该第一基板51通过蚀刻形成电极形成槽511及反射镜固定部512。
如图2及图4所示,在电极形成槽511中,在从反射镜固定部512的外周边缘到电极形成槽511的内周壁面之间(标准具俯视图中)形成有环状的电极固定面511A。
如图2及图4所示,反射镜固定部512在与电极形成槽511相同的轴上形成为直径尺寸比电极形成槽511小的近似圆柱状,在与第二基板52相对的一侧的表面上具备反射镜固定面512A。
而且,在反射镜固定面512A固定有能够覆盖整个可见光范围作为可分光的波长范围的由圆形AgC合金单层形成的固定反射镜54。此外,在本实施方式中,作为固定反射镜54示出了使用AgC合金单层的反射镜的例子,但也可以是使用TiO2-SiO2类的电介质多层膜、AgC合金以外的Ag合金、Ag合金与电介质膜的层叠膜的反射镜的结构。
第一基板51上形成从电极固定面511A向反射镜固定面512A的外周边缘延伸且覆盖在反射镜固定面512A上形成的固定反射镜54的外周边缘的第一电极561。
第一电极561在标准具俯视图中形成为环状。而且,从第一基板51侧开始依次层叠固定反射镜54的外周边缘及第一电极561的内周边缘,构成在标准具俯视图中形成为环状的第一层叠阻止部60(图2所示的斜线部分)。即,第一层叠阻止部60沿着以固定反射镜54的中心点C1(参照图2)为中心的假想圆的圆周方向而形成。
由于第一层叠阻止部60设置于固定反射镜54的外周边缘,所以露出在固定反射镜54中的光透射区域Ar1(参照图2)。而且,该第一层叠阻止部60和可动反射镜55之间的间隙G2比反射镜间间隙G1小。因此,在反射镜间间隙G1因静电致动器56而变小时,可动反射镜55与第一层叠阻止部60抵接,在即使各反射镜54、55接近的情况下,反射镜54、55之间的粘附也得到防止。
另外,在第一电极561的上表面,如图4所示,为了防止因第一电极561及第二基板52的后述的第二电极562之间的放电等引起的漏电,形成绝缘膜563。即,绝缘膜563也覆盖第一层叠阻止部60。
作为该绝缘膜563,可使用SiO2、TEOS(TetraEthoxySilane:四乙氧基硅烷)等,特别优选具有与形成第一基板51的玻璃基板相同的光学特性的SiO2。此外,作为绝缘膜563,在使用SiO2的情况下,由于没有第一基板51和绝缘膜之间的光的反射等,所以在第一基板51上形成第一电极561后,能在与第一基板51的与第二基板52相对的一侧的整个表面形成绝缘膜。
此外,第一电极561只要具有导电性及非透光性,并且通过在与第二基板52的后述第二电极562之间施加电压能在第一电极561和第二电极562间产生静电引力,并无特别限定,但在本实施方式中,使用Au/Cr的金属层叠体。
另外,在后述的第二电极562上也可与第一电极561同样,形成绝缘膜。
在图2所示的俯视图中,从第一电极561的外周边缘的一部分,以沿着第一基板51的对角线的方式朝向右上方向延伸形成1条第一电极线561L。
第一电极线561L的前端形成第一电极焊盘(electrode pad)561P,第一电极焊盘561P与电压控制部6(参照图1)连接。而且,在驱动静电致动器56时,通过电压控制部6(参照图1)向第一电极焊盘561P施加电压。
这里,在第一基板51中,未形成电极形成槽511及反射镜固定部512的部分成为第一基板51的接合面513。如图4所示,在该接合面513形成接合用的接合层53。对于该接合层53,可以采用使用聚硅氧烷作为主材料的等离子聚合膜等。
(3-1-2.第二基板的结构)
第二基板52通过蚀刻加工厚度为例如200μm的玻璃基体材料而形成。在该第二基板52上形成有在图3所示的标准具俯视图中以基板中心点为中心的圆形的位移部521。如图3及图4所示,该位移部521与朝向第一基板51可进退地移动的圆柱状的可动部522是同轴的,具备在标准具俯视图中形成为圆环状并将可动部522保持为沿第二基板52的厚度方向可移动的连结保持部523。
利用蚀刻作为第二基板52的形成素材的平板状玻璃基材来形成槽,从而形成位移部521。即,位移部521是通过在第二基板52的与第一基板51不相对的入射侧面蚀刻形成用于形成连结保持部523的圆环状的圆环槽部523A而形成。
可动部522形成为比连结保持部523厚度尺寸大,例如,在本实施方式中,形成为与第二基板52的厚度尺寸相同的200μm。该可动部522的直径尺寸形成为比第一基板51的反射镜固定部512的直径尺寸大。
在可动部522的与第一基板51相对的表面具备与第一基板51的反射镜固定面512A平行的可动面522A,在该可动面522A上形成与固定反射镜54相对的可动反射镜55、以及与第一电极561相对的第二电极562。这里,通过第二电极562和前述的第一电极561构成静电致动器56。
可动反射镜55用与固定反射镜54相同的材料形成,以比固定反射镜54的直径尺寸R1大的直径尺寸R2形成。而且,可动反射镜55设置为在标准具俯视图中与固定反射镜54重叠。
第二电极562用与第一电极561相同的材料形成,且在标准具俯视图中形成为环状,以内周边缘覆盖可动反射镜55的外周边缘的方式形成。而且,从第二基板52侧依次层叠可动反射镜55的外周边缘及第二电极562的内周边缘,构成在标准具俯视图中形成为环状的第二层叠阻止部70(图3所示的斜线部分)。即,第二层叠阻止部70沿着以可动反射镜55的中心点C2(参照图3)为中心的假想圆的圆周方向而形成。
第二层叠阻止部70设置于可动反射镜55的外周边缘,因而露出可动反射镜55中的光透射区域Ar2(参照图3)。由于可动反射镜55形成为比固定反射镜54大,可动反射镜55的光透射区域Ar2设定为比固定反射镜54的光透射区域Ar1大。即,第二层叠阻止部70的内径尺寸形成为比第一层叠阻止部60的内径尺寸大。因此,从第二基板52的上表面侧入射的检查对象光透过标准具5的透射光量,由第一层叠阻止部60的内径尺寸即固定反射镜54的光透射区域Ar1规定。
此外,第二电极562使用和第一电极561为相同材料Au/Cr的金属层叠体,但也可使用具有透光性的ITO(Indium Tin Oxide:氧化铟锡)。
另外,第二层叠阻止部70的内径尺寸形成为比第一层叠阻止部60的外径尺寸R1大。即,在从基板厚度方向看标准具5的俯视图中,第一层叠阻止部60设置于与第二层叠阻止部70不重叠的位置。
连结保持部523是包围可动部522的周围的振动膜(diaphragm),厚度尺寸形成为例如50μm。
在图3所示的标准具俯视图中,从第二电极562的外周边缘的一部分以沿着第二基板52的对角线的方式朝向左下方向延伸而形成1条第二电极线562L。
在第二电极线562L的前端形成第二电极焊盘562P,第二电极焊盘562P与电压控制部6(参照图1)连接。而且,在驱动静电致动器56时,通过电压控制部6(参照图1)向第二电极焊盘562P施加电压。
这里,在第二基板52的与第一基板51相对的面中,与第一基板51的接合面513相对的区域成为第二基板52中的接合面524。与第一基板51的接合面513同样,在接合面524上设置使用聚硅氧烷作为主材料的接合层53。
(3-2.电压控制部的结构)
电压控制部6基于从控制装置4输入的控制信号,控制向静电致动器56的第一电极561及第二电极562施加的电压。
〔4.控制装置的结构〕
控制装置4控制测色装置1的整体动作。作为该控制装置4,可以使用例如通用个人计算机、便携信息终端,以及除此之外的测色专用计算机等。
而且,如图1所示,控制装置4由光源控制部41、测色传感器控制部42及测色处理部43(分析处理部)等构成。
光源控制部41与光源装置2连接。而且,光源控制部41基于例如利用者的设定输入向光源装置2输出既定控制信号,从光源装置2发射既定亮度的白光。
测色传感器控制部42与测色传感器3连接。而且,测色传感器控制部42基于例如利用者的设定输入设定在测色传感器3内接收的光的波长,向测色传感器3输出旨在检测该波长的光的光接收量的控制信号。由此,测色传感器3的电压控制部6基于控制信号,以使利用者期望的光的波长透过的方式,设定对静电致动器56的施加电压。
测色处理部43控制测色传感器控制部42,改变标准具5的反射镜间间隙,使透过标准具5的光的波长变化。另外,测色处理部43基于从光接收元件31输入的光接收信号,取得透过标准具5的光的光量。而且,测色处理部43基于如上所述地得到的各波长的光的光接收量,计算被检查对象A反射的光的色度。
〔5.第一实施方式的作用效果〕
依据上述的第一实施方式涉及的标准具5,起到以下的效果。
(1)环状的第一电极561及第二电极562的内周边缘与圆形状的固定反射镜54及可动反射镜55的外周边缘层叠,构成层叠阻止部60、70。由此,与反射镜间间隙G1的尺寸相比,层叠阻止部60、70与各反射镜54、55之间的间隙G2的尺寸较小,所以即使在反射镜间间隙G1的尺寸变小的情况下,层叠阻止部60、70与相对的反射镜54、55接触。从而,反射镜54、55彼此不会粘附,能够防止反射镜54、55彼此粘附。
另外,层叠阻止部60、70由电极561、562与反射镜54、55层叠形成,所以不需要在反射镜54、55另行设置上述的现有结构的突起部。能够简化制造工序,简化结构。即,仅仅实施形成电极561、562的工序和形成反射镜54、55的工序,就很容易形成层叠阻止部60、70。
(2)第一电极561及第二电极562是驱动电极,因此能够兼用作改变反射镜间间隙G1的尺寸的静电致动器56。即,在标准具5的制造工序中,能够不需要另行设置上述的现有结构的突起部的工序,能简化制造工序,简化构造。
(3)层叠阻止部60、70是在反射镜54、55之上层叠有电极561、562的结构,因而电极561、562可靠地保护各反射镜54、55的端部,能够防止反射镜54、55的劣化。
(4)由于非透光性的材料的电极561、562与反射镜54、55层叠形成层叠阻止部60、70,因而在非透光性的层叠阻止部60、70的内侧露出的反射镜54、55的区域中,较小的一方的区域成为入射光的光透射区域。而且,在本实施方式中,固定反射镜54的直径尺寸R1形成为比可动反射镜55的直径尺寸R2小,因而固定反射镜54的露出的光透射区域Ar1成为入射光的光透射区域。因此,在制造工序上,即使在难以将各反射镜54、55的直径尺寸R1、R2形成为同一尺寸的情况下,通过形成层叠阻止部60、70,也很容易精度良好地规定光透射区域Ar1。由此,很容易将透过光透射区域Ar1的光的透射光量设定为期望的值。
(5)第一层叠阻止部60的外径尺寸R1形成为比第二层叠阻止部70的内径尺寸小,在从基板厚度方向看标准具5的俯视图中,第一层叠阻止部60和第二层叠阻止部70不重叠。因此,在沿标准具5的基板厚度方向施加较大的应力的情况下,与只形成第一层叠阻止部60的情况、或第一层叠阻止部60和第二层叠阻止部70互相接触的情况相比,接触部位的面积变大,能够分散压力。因此,能够防止所述第一层叠阻止部60及第二层叠阻止部70由于应力引起的破损。
[第一实施方式的第一变形例]
图5是示出第一实施方式的第一变形例涉及的标准具5的主要部分的局部剖面图。
在所述第一实施方式中,虽然在标准具5的俯视图中是第一层叠阻止部60和第二层叠阻止部70设置于互不重叠的位置的结构,但作为其变形例,也可以是如图5所示的结构。即,在俯视图中,第一层叠阻止部60的一部分和第二层叠阻止部70的一部分设置于重叠的位置,通过第一层叠阻止部60和第二层叠阻止部70抵接,防止反射镜54、55的接触、粘附。
在这样的结构中,第一层叠阻止部60的内周边缘比第二层叠阻止部70的内周边缘直径尺寸小,且通过设置于第二层叠阻止部的内周边缘的内侧,能够规定透过标准具5的检查对象光的光透射区域。
另外,在本变形例中,在标准具俯视图中,由于第一层叠阻止部60和第二层叠阻止部70重叠地形成,所以间隙G2是各层叠阻止部60、70之间的尺寸。
依据本变形例,在反射镜间间隙G1的尺寸变小的情况下,各层叠阻止部60、70彼此接触。在此情况下,层叠阻止部60、70彼此接触,从而在可动部522的移动被限制的状态下,反射镜54、55之间的间隔比上述第一实施方式大。因而,能更可靠地防止反射镜54、55之间的接触、粘附。
此外,与所述第一实施方式同样,在本变形例中也可以覆盖第一电极561的方式形成绝缘膜。另外,也可以仅覆盖第二电极562的方式形成。而且,还可以以覆盖第一电极561及第二电极562双方的方式形成绝缘膜。
[第一实施方式的第二变形例]
图6是示出第一实施方式的第二变形例涉及的标准具5的主要部分的局部剖面图。
所述第一实施方式中的各层叠阻止部60、70是从各基板51、52侧依次层叠反射镜54、55及电极561、562的结构,但作为其变形例,如图6所示,也可从各基板51、52侧依次层叠电极561、562及反射镜54、55。
在制造工序中,这种结构的标准具5在使各电极561、562成膜后,使各反射镜54、55成膜。因此,能够使透射率、反射率等光学特性容易因环境温度等因素而劣化的反射镜54、55的形成工序成为后续工序,从而能够更可靠地防止反射镜54、55在制造工序中受到损伤。
另外,例如在将固定反射镜54作为电介质多层膜而形成的情况下,可以在第一电极561及第二电极562上形成该电介质多层膜的一部分或全部,用作绝缘层。若是这种结构,还能够省略用于形成绝缘层的工序,能够更加简化制造工序。
此外,在图6中,与所述第一变形例相同,是通过使第一层叠阻止部60和第二层叠阻止部70抵接来防止各反射镜54、55彼此的接触、粘附的结构,但也可以如所述第一实施方式那样,在标准具5的俯视图中是将第一层叠阻止部60和第二层叠阻止部70设定在不重叠的位置的结构。
另外,如图7所示,在上述的结构中,以覆盖各反射镜54、55及各层叠阻止部60、70的方式形成反射镜保护膜59也可。作为该反射镜保护膜59,使用硅(Si)的氧化膜。除此以外,可以使用铝(Al)的氧化膜、镁(Mg)的氟化膜等。
依据这种结构,在反射镜间间隙G1变小、第一层叠阻止部60和第二层叠阻止部70接触的情况下,反射镜保护膜59覆盖各反射镜54、55,因而能够可靠地防止各反射镜54、55的损伤。另外,用反射镜保护膜59覆盖在反射镜54、55中的容易出现劣化或剥离的外周边缘,因而能够防止反射镜54、55的劣化、剥离。
[第一实施方式的第三变形例]
图8是示出第一实施方式的第三变形例涉及的标准具5的主要部分的局部剖面图。
在所述第一实施方式中,形成了覆盖第一电极561的绝缘膜563,但也可形成覆盖各反射镜54、55及各电极561、562的具有绝缘性的反射镜保护膜59。
依据这种结构,通过反射镜保护膜59能够抑制反射镜54、55的劣化,且还能够防止第一电极561及第二电极562间的放电和漏电。
[第一实施方式的第四变形例]
图9是示出第一实施方式的第四变形例涉及的标准具5的主要部分的局部剖面图。
在所述第一实施方式的第三变形例中,以覆盖各反射镜54、55及各层叠阻止部60、70的方式形成有反射镜保护膜59,但也可在各层叠阻止部60、70中在各电极561、562与各反射镜54、55之间形成反射镜保护膜59,并且以覆盖各反射镜54、55的方式形成。
依据本变形例,通过反射镜保护膜59能够抑制反射镜54、55的劣化。
[第一实施方式的第五变形例]
图10是示出第一实施方式的第五变形例涉及的标准具5的主要部分的局部剖面图。
在所述第一实施方式中,在第一基板51及第二基板52的双方形成了层叠阻止部60、70,但也可以是仅在第一基板51设置第一层叠阻止部60的结构。
此外,在图10中,例示了与所述第一变形例同样的将各反射镜54、55的直径尺寸形成为相同尺寸的情况,但也可如所述第一实施方式那样,使用各反射镜54、55的直径尺寸不同的结构。
另外,在本变形例中也可以设置覆盖各反射镜54、55的反射镜保护膜。而且,可以形成覆盖第一电极561的绝缘膜,也可以形成仅覆盖第二电极562的绝缘膜。另外,还可以形成覆盖第一电极561及第二电极562两者的绝缘膜。
而且,也可以是在第一基板51上不设置第一层叠阻止部60而仅在第二基板52上设置第二层叠阻止部70的结构。
[第二实施方式]
以下参照图11至图13说明本发明涉及的第二实施方式。
图11是本实施方式中的标准具5A的第一基板51A的俯视图,图12是第二基板52A的俯视图。此外,在图11及图12中,为了图示的方便,仅示出在各基板51A、52A上形成的各电极561A、562A,以及各反射镜54、55。图13是示出在图11及图12的箭头XIII-XIII线所示的位置的标准具5A的主要部分的局部剖面图。
本实施方式的标准具5A具备与所述第一实施方式的标准具5同样的结构,而在本实施方式的标准具5A中的不同点是,除了第一电极561A及第二电极562A以外,还具备第一驱动电极571及第二驱动电极572,该第一驱动电极571及第二驱动电极572构成静电致动器56。
此外,在以下的说明中,对与所述第一实施方式相同的结构要素标记相同的符号,并省略其说明。
可以将本实施方式中的各反射镜54、55的直径尺寸R1、R2形成为相同的尺寸,将各反射镜54、55的光透射区域Ar1、Ar2(从图13中的虚线开始的各反射镜54、55侧的区域)形成为相同的尺寸。在此情况下,透过标准具5A的检查对象光的光透射区域由各反射镜54、55的光透射区域Ar1、Ar2规定。
如图13所示,第一层叠阻止部60A从第一基板51A侧依次层叠第一电极561A及固定反射镜54而构成。
另外,如图13所示,第二层叠阻止部70A从第二基板52A侧依次层叠第二电极562A及可动反射镜55而构成。
此外,各层叠阻止部60A,70A可以与所述第一实施方式相同,是从各基板51A、52A侧依次层叠各反射镜54、55及各电极561A、562A的结构。
第一电极561A及第二电极562A用于保持电荷,作为静电电容测定用电极而起作用。因此,如图13所示,在第一电极561A及第二电极562A设置绝缘膜563,防止电极561A、562A间的漏电。该绝缘膜563也形成在固定反射镜54及可动反射镜55上,兼有作为反射镜保护膜的功能。即,在反射镜间间隙G1变小、各层叠阻止部60A、70A接触的情况下,也能防止各反射镜54、55的损伤。
另外,第一电极561A仅形成于反射镜固定部512的反射镜固定面512A上,第二电极562A仅形成于可动部522的可动面522A上。
第一电极561A的电荷保持量经由第一电极焊盘561P(参照图11)通过电压控制部6(参照图1)检测。另外,第二电极562A的电荷保持量经由第二电极焊盘562P(参照图12)通过电压控制部6(参照图1)检测。而且,电压控制部6(参照图1)基于检测的静电电容计算出间隙,向第一驱动电极571及第二驱动电极572施加用于将反射镜间间隙G1设定为期望的间隙的电压。即,反射镜间间隙G1被准确地设定为期望的间隙。
如图11及图12所示,第一驱动电极571及第二驱动电极572在标准具俯视图中分别形成为C字状。第二驱动电极572形成于连结保持部523的与第一基板51A相对的表面,第一驱动电极571形成于第一基板51A的与第二驱动电极572相对的表面。
如图11所示,第一驱动电极571以固定反射镜54的中心点C1为中心与第一电极561A为同心圆状地形成于第一电极561A的外侧。而且,在图11所示的俯视图中,从第一驱动电极571的外周边缘的一部分以沿着第一基板51A的对角线的方式朝向左上方向延伸并形成1条第一驱动电极线571L。
在第一驱动电极线571L的前端形成第一驱动电极焊盘571P,第一驱动电极焊盘571P与电压控制部6(参照图1)连接。而且,驱动静电致动器56时,通过电压控制部6(参照图1)向第一驱动电极焊盘571P施加电压。
如图12所示,第二驱动电极572以可动反射镜55的中心点C2为中心与第二电极562A为同心圆状地形成于第二电极562A的外侧。而且,在图12所示的俯视图中,从第二驱动电极572的外周边缘的一部分以沿着第二基板52A的对角线的方式朝向左下方向延伸并形成1条第二驱动电极线572L。
在第二驱动电极线572L的前端形成第二驱动电极焊盘572P,第二驱动电极焊盘572P与电压控制部6(参照图1)连接。而且,在驱动静电致动器56时,通过电压控制部6(参照图1)向第二驱动电极焊盘572P施加电压。
依据上述的第二实施方式涉及的标准具5A,除了所述第一实施方式的效果外,还起到以下的效果。
依据本实施方式,第一电极561A及第二电极562A作为静电电容测定用的电极而起作用。而且,电压控制部6基于检测的静电电容计算出间隙,向第一驱动电极571及第二驱动电极572施加用于将反射镜间间隙G1设定为期望的间隙的电压。由此,能够准确地将反射镜间间隙G1设定为期望的间隙。
而且,在标准具5A的制造工序中,通过形成各反射镜54、55的工序,以及形成第一电极561A及第二电极562A(静电电容测定用电极)的工序,很容易形成各层叠阻止部60A、70A。
[第三实施方式]
以下参照图14说明本发明涉及的第三实施方式。
图14是示出本实施方式涉及的标准具5B的主要部分的局部剖面图。
在本实施方式的标准具5B中,也与所述第二实施方式同样,除了第一电极561B及第二电极562B以外,还具备第一驱动电极571及第二驱动电极572,该第一驱动电极571及第二驱动电极572构成静电致动器56。
此外,在以下的说明中,对与所述第一实施方式相同的结构要素标记相同的符号,并省略其说明。另外,第一驱动电极571及第二驱动电极572与所述第二实施方式是同样的结构,在以下省略其说明。
本实施方式的第一层叠阻止部60A及第二层叠阻止部70A与所述第二实施方式同样,是从各基板51A、52A侧依次层叠有各电极561B、562B及各反射镜54、55的结构。
此外,各层叠阻止部60A、70A也可以与所述第一实施方式同样,是从各基板51A、52A侧依次层叠有各反射镜54、55及各电极561B、562B的结构。
第一电极561B及第二电极562B作为去除反射镜54、55所带的电荷的电荷去除用电极而起作用。因此,在本实施方式中,设定用所述第一实施方式形成的第一电极线561L及第二电极线562L与GND连接,第一电极561B及第二电极562B的电位差为0。
此外,可以将第一电极561B及第二电极562B的任一方作为电荷去除用电极。
依据上述的第三实施方式涉及的标准具5B,除了所述第一实施方式的效果外,还起到以下的效果。
依据本实施方式,第一电极561B及第二电极562B作为去除各反射镜54、55的电荷的电荷去除用电极而起作用。另外,在反射镜间间隙G1的尺寸变小、各层叠阻止部60A、70A彼此接触时,在各反射镜54、55保持的电荷也能够从各层叠阻止部60A、70A的第一电极561B及第二电极562B(电荷去除用电极)逃逸。从而不会因分别保持在各反射镜54、55的电荷而产生静电引力,能够准确地将反射镜间间隙G1设定为期望的间隙尺寸。
[第四实施方式]
以下,参照图15及图16说明本发明涉及的第四实施方式。
图15是示出本实施方式涉及的标准具5C的第一基板51B的俯视图,图16是示出标准具5C的第二基板52B的俯视图。此外,在图15及图16中,与图11及图12相同,为了图示的方便,仅示出在各基板51B、52B上形成的各电极561C、562C及各反射镜54、55。
所述第一实施方式中的各层叠阻止部60、70形成为环状,而在本实施方式的标准具5C中的不同点是,在各层叠阻止部60B、70B沿着以各反射镜54、55的中心点C1、C2为中心的假想圆的周周方向等间隔地形成。
此外,在以下的说明中,对与所述第一实施方式为相同的结构要素,标记相同的符号,并省略其说明。
如图15所示,在本实施方式涉及的标准具5C的第一电极561C沿该第一电极561C的第一环部561C1的圆周方向形成以90度间隔延伸的4个第一延伸部561C2。具体而言,第一延伸部561C2从第一环部561C1沿着第一基板51B的对角线朝向固定反射镜54的中心点C1延伸。而且,通过将该4个第一延伸部561C2的前端侧层叠于固定反射镜54的外周边缘,形成4个第一层叠阻止部60B。
即,如图15所示,该第一层叠阻止部60B沿着以固定反射镜54的中心点C1为中心的假想圆(第一电极561C的第一环部561C1)的圆周方向以90度间隔设置。换言之,4个第一层叠阻止部60B以固定反射镜54的中心点C1为对称中心而点对称地形成。
如图16所示,在第二电极562C在该第二电极562C的第二环部562C1的圆周方向形成以90度间隔延伸的4个第二延伸部562C2。具体而言,第二延伸部562C2从第二环部562C1沿着第二基板52B的中心线(图16中的虚线)朝向可动反射镜55的中心点C2延伸。而且,通过将该4个第二延伸部562C1的前端侧层叠于可动反射镜55的外周边缘,形成4个第二层叠阻止部70B。
即,如图16所示,该第二层叠阻止部70B沿着以可动反射镜55的中心点C2为中心的假想圆(第二电极562C的第二环部562C1)的圆周方向以90度间隔设置。换言之,4个第二层叠阻止部70B以可动反射镜55的中心点C2为对称中心而点对称地形成。
另外,该第二层叠阻止部70B在标准具俯视图中,以各反射镜54、55的中心点C1、C2为中心,形成于使第一层叠阻止部60B分别旋转45度后的位置,因而形成在不与第一层叠阻止部60B重叠的位置。
在以上那样的结构中,反射镜间间隙G1(参照图4)变小时,第二层叠阻止部70B与固定反射镜54接触,而且第一层叠阻止部60B与可动反射镜55接触,从而防止各反射镜54、55之间的接触。
此外,也可以在本实施方式的各电极561C、562C上设置绝缘膜。另外,在本实施方式中,也可适用所述第一实施方式的第三变形例及第四变形例。
另外,本实施方式的各层叠阻止部60B、70B沿着所述假想圆的圆周方向以90度间隔设置,但例如也可以180度间隔设置,只要以等间隔地设置即可。
而且,本实施方式的各层叠阻止部60B、70B在标准具俯视图中形成于不重叠的位置,但也可以重叠形成各层叠阻止部60B、70B。
另外,也可以使本实施方式的各层叠阻止部60B、70B的层叠顺序是所述第一实施方式的第一变形例、所述第二实施方式及第三实施方式的各层叠阻止部60A、70A的层叠顺序。在该情况下,若在各反射镜54、55上设置反射镜保护膜,则在各层叠阻止部60B、70B与反射镜54、55分别接触的情况下,也能够防止各反射镜54、55的损伤。
而且,也可以通过用Ag合金形成本实施方式的各反射镜54、55,使各反射镜54、55具有驱动电极的功能,使第一电极561C及第二电极562C、第一电极线561L及第二电极线562L具有作为与各反射镜54、55连接的电极线的功能。在该情况下,将从各电极焊盘561P、562P施加的电压经由所述电极线向各反射镜54、55施加,能够在各反射镜54、55间产生静电引力,从而改变反射镜间间隙。
依据上述的第四实施方式涉及的标准具5C,除了所述第一实施方式的效果以外,还起到以下的效果。
依据本实施方式,各层叠阻止部60B、70B沿着以各反射镜54、55的中心点C1、C2为中心的假想圆的圆周方向等间隔地设置,所以层叠阻止部60B、70B和与该层叠阻止部60B、70B相对的反射镜54、55接触,接触面积与所述第一实施方式中的相比能够变小。由此,能够防止接触部分的吸附,能够准确地将反射镜54、55间的间隙G1设定为期望的间隙尺寸。
[实施方式的变形]
此外,本发明并不限定于前述的实施方式,在能够达到本发明的目的的范围内的变形、改良等都包含于本发明。
在所述各实施方式中,在各基板51、52上设置第一、第二层叠阻止部60、70,但也可以是如第一实施方式的第五变形例那样,仅在任一方的基板设置层叠阻止部的结构。
在从所述第一实施方式至第三实施方式中,各层叠阻止部60、70形成为环状,但也可以如所述第四实施方式那样,沿着以各反射镜54、55的中心点C1、C2为中心的假想圆的圆周方向等间隔地形成各层叠阻止部。
在所述第三实施方式中,设定第一电极561B及第二电极562B的电位差为0,但也可通过使反射镜54、55互相接触,使反射镜54、55导通并成为相同电位。
在所述各实施方式中,作为改变反射镜间间隙G1的结构,例示了静电致动器56,但也可以使用具备流通电流的电磁线圈和通过电磁力相对电磁线圈移动的永久磁石的电磁致动器。依据这种结构,在电磁线圈中流通电流,利用因来自永久磁石的磁通量以及该磁通量和电流的相互作用而引起的电磁力,永久磁石朝向电磁线圈移动,因而位移部变动。另外,也可以是在基板间设置能通过施加电压伸缩的压电元件的结构。
在所述实施方式中,接合面513、524通过接合层53接合,但并不限于此。例如,也可以是如下的结构等:不形成接合层53,而使接合面513、524活性化,通过重叠活性化的接合面513、524并加压而接合,即通过所谓的常温活性化接合而接合。可以采用任何接合方法。
另外,在上述各实施方式中,示出了反射镜固定部512的与可动基板52相对的反射镜固定面512A比电极固定面511A更接近可动基板52而形成的例子,但并不限定于此。电极固定面511A及反射镜固定面512A的高度位置可根据固定于反射镜固定面512A的固定反射镜54与形成于可动基板52上的可动反射镜55之间的间隙的尺寸、第一电极561与第二电极562之间的尺寸、固定反射镜54和可动反射镜55的厚度尺寸等而适当设定。因此,例如,可以是电极固定面511A和反射镜固定面512A形成于同一表面的结构,也可以是在电极固定面511A的中心部形成有圆筒凹槽状的反射镜固定槽并在该反射镜固定槽的底面上形成有反射镜固定面的结构等。
在所述实施方式中,作为本发明的光模块例示了测色传感器3,作为光分析装置例示了具备测色传感器3的测色装置1,但并不限定于此。例如,也可使用使气体流入传感器内部并检测入射光中被气体吸收的光的气体传感器作为本发明的光模块,也可将通过这种气体传感器分析并判别流入传感器内的气体的气体检测装置作为本发明的光分析装置。而且,光分析装置也可以是具备这种光模块的分光摄像机、分光分析器等。
另外,通过使各波长的光的强度随时间而变化,能以各波长的光传送数据,在此情况下,通过利用设置于光模块的标准具5将特定波长的光分光并使其在光接收部接收,能够提取通过特定波长的光传送的数据,通过利用具备这样的数据提取用光模块的光分析装置处理各波长的光的数据,能够实施光通信。
[符号的说明]
1测色装置(光分析装置);3测色传感器(光模块);5、5A、5B、5C标准具(波长可变干涉滤波器);31光接收元件(光接收部);43测色处理部(分析处理部);51、51A、51B第一基板;52、52A、52B第二基板;54固定反射镜(第一反射膜);55可动反射镜(第二反射膜);60、60A、60B第一层叠阻止部;70、70A、70B第二层叠阻止部;561、561A、561B、561C第一电极;562、562A、562B、562C第二电极;563绝缘膜;Ar1、Ar2光透射区域;G1反射镜间间隙。
Claims (15)
1.一种波长可变干涉滤波器,其特征在于,具备:
第一基板;
第二基板,与所述第一基板彼此相对;
第一反射膜,设置在所述第一基板的与所述第二基板相对的表面上;
第二反射膜,设置在所述第二基板上、与所述第一反射膜隔开既定间隙而相对;以及
第一电极,设置在所述第一基板的与所述第二基板相对的表面上,并且
具有所述第一电极的一部分与所述第一反射膜的外周边缘的至少一部分层叠构成的第一层叠阻止部。
2.根据权利要求1所述的波长可变干涉滤波器,其特征在于,具备:
第二电极,设置在所述第二基板的与所述第一基板相对的表面上,并且
具有所述第二电极的一部分与所述第二反射膜的外周边缘的至少一部分层叠而成的第二层叠阻止部。
3.根据权利要求1或2所述的波长可变干涉滤波器,其特征在于,
在所述第二基板上设置有与所述第一电极相对的第二电极,
所述第一电极和所述第二电极是通过被施加电压而改变所述间隙的尺寸的驱动电极。
4.根据权利要求1或2所述的波长可变干涉滤波器,其特征在于,
在所述第二基板上设置有与所述第一电极相对的第二电极,
所述第一电极和所述第二电极是测定保持在所述第一电极和所述第二电极之间的静电电容的静电电容测定用电极。
5.根据权利要求1或2所述的波长可变干涉滤波器,其特征在于,
所述第一电极是去除所述第一反射膜的电荷的电荷去除用电极。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的波长可变干涉滤波器,其特征在于,
所述第一层叠阻止部中所述第一反射膜和所述第一电极从所述第一基板侧依次层叠。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的波长可变干涉滤波器,其特征在于,
所述第一层叠阻止部中所述第一电极和所述第一反射膜从所述第一基板侧依次层叠。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的波长可变干涉滤波器,其特征在于,
所述第一电极用非透光性材料形成,
在从所述第一基板和第二基板的基板厚度方向看的俯视图中,所述第一层叠阻止部被设置为限定从所述第一反射膜和第二反射膜透射的入射光的光透射区域的环状。
9.根据权利要求8所述的波长可变干涉滤波器,其特征在于,
在所述第二基板的与所述第一基板相对的表面上设有所述第二电极,
所述第二电极的一部分层叠于所述第二反射膜的外周边缘,构成环状的第二层叠阻止部,
在从所述第一基板和所述第二基板的基板厚度方向看所述第一基板和所述第二基板的俯视图中,所述第一层叠阻止部的内径尺寸比所述第二层叠阻止部的内径尺寸小。
10.一种光模块,其特征在于,具备:
权利要求1至权利要求9中任一项所述的波长可变干涉滤波器;以及
接收从所述波长可变干涉滤波器透射的检查对象光的光接收部。
11.一种光分析装置,其特征在于,具备:
权利要求10所述的光模块;以及
基于由所述光模块的所述光接收部接收的光分析所述检查对象光的光特性的分析处理部。
12.一种波长可变干涉滤波器,其特征在于,具备:
第一反射膜;
与所述第一反射膜隔开既定间隙而相对的第二反射膜;以及
第一电极,
具有所述第一电极的一部分与所述第一反射膜的外周边缘的至少一部分层叠构成的第一突起部。
13.根据权利要求12所述的波长可变干涉滤波器,其特征在于,
具备与所述第一电极相对设置的第二电极,并且
具有所述第二电极的一部分与所述第二反射膜的外周边缘的至少一部分层叠而成的第二突起部。
14.一种波长可变干涉滤波器,其特征在于,具有:
第一反射膜;
与所述第一反射膜隔开既定间隙而对置的第二反射膜;以及
通过电极和所述第一反射膜的外周边缘的至少一部分层叠构成的、用于防止所述第一反射膜和所述第二反射膜的粘附的突起部。
15.一种波长可变干涉滤波器,其特征在于,具有:
第一反射膜;
与所述第一反射膜隔开既定间隙而相对的第二反射膜;以及
设置于所述第一反射膜的外周边缘的突起部,
设所述间隙为R1、所述突起部与所述第二反射膜的间隔为R2时,R1>R2。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011012199A JP5716412B2 (ja) | 2011-01-24 | 2011-01-24 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
JP2011-012199 | 2011-01-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102608689A true CN102608689A (zh) | 2012-07-25 |
CN102608689B CN102608689B (zh) | 2016-12-14 |
Family
ID=46526184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201210017655.0A Active CN102608689B (zh) | 2011-01-24 | 2012-01-19 | 波长可变干涉滤波器、光模块以及光分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20120188646A1 (zh) |
JP (1) | JP5716412B2 (zh) |
CN (1) | CN102608689B (zh) |
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CN102608689B (zh) | 2016-12-14 |
JP2012155023A (ja) | 2012-08-16 |
JP5716412B2 (ja) | 2015-05-13 |
US20180129035A1 (en) | 2018-05-10 |
US20120188646A1 (en) | 2012-07-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |