CN102501450A - 透光单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种真空溅射方法生产的多层膜结构镀膜玻璃，具体是一种透光单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法，所述镀膜玻璃包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层，其特征在于：以玻璃基板为基础，所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层。玻璃膜层中含有具有红外线反射能力的银层和减少可见光反射以及保护银层的电介质层，所述电介质层使用新型陶瓷材料AZO作为银层后的电介质层，替代了现有的金属阻挡层，优化了膜层架构，使本发明在保证很低辐射率的情况下，获得与相同厚度普通透明玻璃原板相等，甚至更高的透过率，玻璃通透、自然，并且具有良好的隔热、保温效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种镀膜玻璃，具体是一种透光单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法。
背景技术
目前市场上普通单银低辐射镀膜产品，由于使用金属膜层作为银层保护层，往往透光不能做到很高，而且金属层保护层的存在也使得膜层对光线的吸收增加，使得玻璃看上不够清澈、通透。
发明内容
本发明的技术目的是解决现有技术中存在的问题，提供一种清澈、通透的低辐射镀膜玻璃及其制造方法。
本发明的技术方案是：
一种透光单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层，其特征在于：
以玻璃基板为基础，所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层；
其中，第三电介质层为AZO层，该膜层的作用是保护银层不被氧化，并且提高银层和其它膜层的附着力；
进一步的技术方案还包括：
第一电介质层为NbOx层，根据镀膜工艺条件设定的不同，镀膜最终形成的材料为铌氧化物中的一种。该镀层的作用是阻止玻璃中的Na+向膜层中渗透，提高膜层透过率，能够有效增加膜层和玻璃基片之间的吸附力，并且控制膜系的光学性能和颜色；
第二电介质层为ZnAlOx层，该层对银层起铺垫作用，银层在其上可以更好地成膜，并且保护银层不被氧化；
银层的材料为Ag，用于降低辐射率，达到隔热、保温的效果；
第四电介质层为ZnSnO3层，该膜层保护整个膜层结构，减少氧化，提高膜层的物理和化学性能，并且控制膜系的光学性能和颜色。
第五电介质层的材料为Si3N4层，该膜层的作用是在银层和电介质层之间提供吸附力，保护整个膜层结构，减少氧化，提高膜层的物理和化学性能，并且控制膜系的光学性能和颜色。
一种用于生产上述透光单银低辐射镀膜玻璃的方法，其特征在于，所述玻璃基板上的镀膜膜层采用真空磁控溅射镀膜，包括以下步骤：
步骤一、清洗干燥玻璃基板；
步骤二、进行预真空过渡；
步骤三、在玻璃基板上依次镀制第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层、第五电介质层；
所述第三电介质层通过旋转交流阴极的AZO靶在纯氩或氧、氩氛围中溅射镀膜；
进一步的技术方案还包括：
所述第一电介质层通过旋转交流阴极的陶瓷氧化铌靶在氧、氩氛围中溅射镀膜；
所述第二电介质层通过旋转交流阴极的锌铝靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比Zn∶Al＝98∶2；
所述银层通过直流平面阴极的银靶在氩气氛围中溅射；
所述第四电介质层通过旋转交流阴极的锌锡靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比Zn∶Sn＝50∶50；
所述第五电介质层通过旋转交流阴极的硅铝靶在氮、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比Si∶Al＝92∶8；
作为优选方案，在镀膜第一电介质层时，氧气与氩气的体积比设为1∶10；
镀膜第二电解质层，氧气与氩气的体积比设为9∶14；
镀膜第三电解质层，氧气与氩气的体积比设为9∶100；
镀膜第四电解质层，氧气与氩气的体积比设为3∶2；
镀膜第五电解质层，氮气与氩气的体积比设为2∶1。
本发明生产的产品由于使用了陶瓷材料AZO作为银层后电介质层，取代了现有产品中的金属保护层，并且使用高折射率的新型材料来抵消银层的吸收，所以使得本发明产品的透光可以达到和同厚度玻璃原板一样，甚至更高的透过率，并且产品外观清澈、通透，还可以保证良好的隔热、保温效果，符合消费者追求自然环保的需求。
附图说明
图1是本发明的结构示意图；
图2是本发明的流程示意图。
具体实施方式
为了阐明本发明的技术方案及技术目的，下面结合附图及具体实施方式对本发明做进一步的介绍。
如图所示，一种透光单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层，以玻璃基板为基础，所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层；
其中，第一电介质层为NbOx层，通过旋转交流阴极的陶瓷氧化铌靶在氧氩氛围中溅射镀膜，氧气与氩气的体积比为1∶10；
第二电介质层为ZnAlOx层，通过旋转交流阴极的锌铝靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比Zn∶Al＝98∶2，氧气与氩气的体积比为9∶14；
银层的材料为Ag，通过直流平面阴极的银靶在氩气氛围中溅射镀膜；
第三电介质层的材料为AZO层，通过旋转交流阴极的AZO靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，氧气与氩气的体积比为9∶100；
第四电介质层的材料为ZnSnO3层，通过旋转交流阴极的锌锡靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比Zn∶Sn＝50∶50，氧气与氩气的体积比为3∶2；
第五电介质层的材料为Si3N4层，通过旋转交流阴极的硅铝靶在氮、氩氛围中溅射，其中质量比Si∶Al＝92∶8，氮气与氩气的体积比为2∶1。
本发明采用磁控溅射镀膜机进行玻璃的镀膜，所述磁控溅射镀膜机包括19个交流旋转双阴极，7个直流平面阴极，本发明采用下表列出的工艺参数，使用6个交流旋转双阴极，1个直流平面直流阴极，制出本发明的透光单银低辐射镀膜玻璃，其工艺参数和靶的位置列表如下：
表中1#、2#靶镀制第一电介质层，3#靶镀制第二电介质层，4#靶镀制银层，5#靶镀制第三电介质层，6#靶镀制第四电介质层，7#靶镀制第五电介质层，玻璃基板在镀膜前要经过清洗、干燥和预真空过渡，如图2所示。
镀膜后，产品的光学性能如下：
玻璃可见光透过率T＝89.8％；
可见光玻璃面反射率＝4.7％；
可见光玻璃面色坐标a*值＝-2.3；
可见光玻璃面色坐标b*值＝-5.8；
可见光膜面反射率＝3.8％；
可见光膜面色坐标a*＝2.8；
可见光膜面色坐标b*＝-7.7；
玻璃辐射率E＝0.06。
以上已以较佳实施例公开了本发明，然其并非用以限制本发明，凡采用等同替换或者等效变换方式所获得的技术方案，均落在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种透光单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和镀在玻璃基板上的镀膜膜层，其特征在于：
以玻璃基板为基础，所述镀膜膜层自内向外依次包括第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层及第五电介质层；
其中，第三电介质层为AZO层。
2.根据权利要求1所述的一种透光单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：
第一电介质层为NbOx层；
第二电介质层为ZnAlOx层；
银层的材料为Ag；
第四电介质层为ZnSnO3层；
第五电介质层为Si3N4层。
3.一种透光单银低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于，其玻璃基板上的镀膜膜层采用真空磁控溅射镀膜，包括以下步骤：
步骤一、清洗、干燥玻璃基板；
步骤二、进行预真空过渡；
步骤三、在玻璃基板上依次镀制第一电介质层、第二电介质层、银层、第三电介质层、第四电介质层、第五电介质层；
所述第三电介质层通过旋转交流阴极的AZO靶在纯氩或氧、氩氛围中溅射镀膜。
4.按权利要求3所述的一种透光单银低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征 在于：
所述第一电介质层通过旋转交流阴极的陶瓷氧化铌靶在氧、氩氛围中溅射镀膜；
所述第二电介质层通过旋转交流阴极的锌铝合金靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比Zn∶Al＝98∶2；
所述银层通过直流平面阴极的银靶在氩气氛围中溅射镀膜；
所述第四电介质层通过旋转交流阴极的锌锡靶在氧、氩氛围中溅射镀膜，其中质量比Zn∶Sn＝50∶50；
所述第五电介质层通过旋转交流阴极的硅铝靶在氮、氩氛围中溅射，其中质量比Si∶Al＝92∶8。
5.按权利要求4所述的一种透光单银低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于，各膜层在镀制过程中，其工艺气体成分为：
镀膜第一电介质层，氧气与氩气的体积比为1∶10；
镀膜第二电解质层，氧气与氩气的体积比为9∶14；
镀膜第三电解质层，氧气与氩气的体积比为9∶100；
镀膜第四电解质层，氧气与氩气的体积比为3∶2；
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20120620 |