CN205874224U - 超高透低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种超高透低辐射镀膜玻璃。所述镀膜玻璃包括玻璃基板和自所述玻璃基板一表面向外依次叠设的第一电介质膜层、第二电介质膜层、银功能膜层、阻挡膜层、第三电介质膜层、第四电介质膜层、第五电介质膜层、第六电介质膜层。本实用新型获得的超高透低辐射镀膜玻璃具有辐射率低(小于0.08)，玻面颜色接近无色(a*可达‑0.5)，透过色也接近无色(a*可达2.0，b*可达‑1)，光学性能稳定、色彩明亮且容易调节，可见光透过率高，不同批次玻璃的色差小等特点，完全可以达到兼具低辐射镀膜玻璃性能以及比拟白玻的可见光透过率的效果。
Description
技术领域
本实用新型属于镀膜玻璃技术领域，具体涉及一种超高透低辐射镀膜玻璃。
背景技术
低辐射玻璃，又称Low-E玻璃，是一种在玻璃表面镀制包括银层在内的多层金属或其它化合物组成的膜系产品。由于银层具有低辐射的特性，低辐射玻璃对可见光有较高的透射率，对红外线有很高的反射率，因此，具有良好的隔热性能。
而超高透低辐射玻璃，则是在普通单银低辐射玻璃的基础上增加两层电介质层的一种玻璃。与普通低辐射玻璃相比，超高透低辐射玻璃在保持对红外线具有较高的反射率的同时，对可见光有更高的透射率，因此，具有更强的采光性能。
目前采用真空磁控溅射法生产的超高透低辐射镀膜玻璃的膜层结构一般为：玻璃/基层电介质层/功能层银层/阻挡层/上层电介质层/上层第二电介质层/上层第三电介质层/上层第四电介质层等。
电介质层一般为金属的氧化物或金属的氮化物,或为非金属的氧化物或非金属的氮化物，如SiZrOx、TiO2、ZnSnOx、SnO2、ZnO、SiO2、Ta2O5、SiNxOy、BiO2、Al2O3、Nb2O5、Si3N4、AZO等。
阻挡层一般为金属或金属氧化(氮化)物，也可以是合金或合金氧化(氮化)物，如Ti、NiCr或NiCrOx、NiCrNx等。也有使用铜作为阻挡层。
在传统的低辐射膜的开发及生产中，所定义的高透、低透，只是相对普通浮法玻璃的可见光透过率，乘以一定的百分比，很难使可见光透过率接近普通浮法玻璃。
对于实际应用中需要选择使用可见光透过率非常高的低辐射镀膜产品时，一般都采用使用超白玻璃做为基板，镀一种透过较高的低辐射膜，这种做法的存在如下的局限性：
(1).超白玻璃的实际价格远高于普通的白玻，这就限制了此类低辐射镀膜产品的使用范围，不利于产品的推广；
(2).超白玻璃在生产过程中不同批次的，不同厂家的产品，难以做到颜色的一致性，致使在生产使用过程中无形中增加加工成本或者出现色差类事故报废的风险。
(3).基板使用超白玻璃的产品，其可见光透过率也只是相对较高，不能完全满足市场对可见光透过率的需求。
实用新型内容
针对目前由有超白作为基板制造的超高透低辐射镀膜玻璃存在的不同批次玻璃颜色一致性差、存在色差、可见光透过率不能满足市场需求以及造价高等问题，本实用新型实施例提供了一种超高透低辐射镀膜玻璃。
为了实现上述实用新型目的，本实用新型实施例的技术方案如下：
一种超高透低辐射镀膜玻璃，所述镀膜玻璃包括玻璃基板和自所述玻璃基板一表面向外依次叠设的第一电介质膜层、第二电介质膜层、银功能膜层、阻挡膜层、第三电介质膜层、第四电介质膜层、第五电介质膜层、第六电介质膜层。
优选地，所述银功能膜层的厚度为5nm～10nm。
优选地，所述阻挡膜层的厚度为1nm～5nm。
优选地，所述第一电介质膜层的厚度为25nm～35nm；和/或
所述第二电介质膜层的厚度为15nm～25nm；和/或
所述第三电介质膜层的厚度为5nm～10nm；和/或
所述第四电介质膜层的厚度为10nm～15nm；和/或
所述第五电介质膜层的厚度为25nm～30nm；和/或
所述第六电介质膜层的厚度为5nm～10nm。
优选地，所述阻挡膜层为镍铬膜层、氧化镍铬膜层或氮化镍铬膜层中任一种。
优选地，所述第一电介质膜层SiZrOx膜层、TiO2膜层、SiO2膜层、Ta2O5膜层、SiNxOy膜层、BiO2膜层、Al2O3膜层、Nb2O5膜层、Si3N4膜层、AZO膜层中的任一种。
优选地，所述第二电介质膜层和/或所述第四电介质膜层为ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层中的任一种。
优选地，所述第三电介质膜层为ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层、AZO膜层中的任一种。
优选地，所述第五电介质膜层为SiO2膜层、Ta2O5膜层、SiNxOy膜层、BiO2膜层、Al2O3膜层、Nb2O5膜层、Si3N4膜层、ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层中的任一种；和/或所述第六电介质膜层为如TiO2膜层、ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层、AZO膜层中的任一种。
优选地，所述玻璃基板为普通白玻。
上述实施例中的超高透低辐射镀膜玻璃，具有辐射率低(小于0.08)，玻面颜色接近无色(a*可达-0.5)，透过色也接近无色(a*可达2.0，b*可达-1)，光学性能稳定、色彩明亮且容易调节，可见光透过率高，不同批次玻璃的色差小等特点，完全可以达到兼具低辐射镀膜玻璃性能以及比拟白玻的可见光透过率的效果，因此，具有广泛的市场应用前景，适合推广至民用建筑。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：
图1是本实用新型实施例超高透低辐射镀膜玻璃的结构示意图；
图2是本实用新型实施例超高透低辐射镀膜玻璃的制备工艺流程图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
如图1所示，本实用新型实例提供了一种超高透低辐射镀膜玻璃，该超高透低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外依次叠设的第一电介质膜层2、第二电介质膜层3、银功能膜层4、阻挡膜层5、第三电介质膜层6、第四电介质膜层7、第五电介质膜层8、第六电介质膜层9。
其中，在优选实施例中，玻璃基板1为普通白色浮法玻璃(简称普通白玻)，一方面降低生产成本，另一方面提高生产效率，同时还避免存在底色而影响镀膜玻璃的最终颜色。
在优选实施例中，第一电介质膜层2的厚度为25nm～35nm。进一步优选地，第一电介质膜层2为SiZrOx膜层、TiO2膜层、SiO2膜层、Ta2O5膜层、SiNxOy膜层、BiO2膜层、Al2O3膜层、Nb2O5膜层、Si3N4膜层、AZO膜层中的任一种膜层。第一电介质膜层2为减反射膜层，起着连接玻璃基板1和第二电介质膜层3的作用，并且能有效阻止玻璃基板1中的Na+向其他膜层中渗透。
在优选实施例中，第二电介质膜层3的厚度为15nm～25nm。第二电介质膜层3为ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层中的任一种。
结合起来，第一电介质膜层2和第二电介质膜层3为减反射膜层，起着连接玻璃基板1和其他功能膜层的作用，要求膜层与玻璃之间粘结性能好，并能够缓解整个低辐射膜的内部应力。
优选地，银功能膜层4的厚度为3nm～30nm。
优选地，阻挡膜层5的厚度为1nm～5nm。阻挡膜层5为镍铬膜层、氧化镍铬膜层或氮化镍铬膜层中任一种。
优选地，第三电介质膜层6的厚度为5nm～10nm。第三电介质膜层6为ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层、AZO膜层中的任一种。
优选地，第四电介质膜层7的厚度为10nm～15nm。第四电介质膜层7为ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层中的任一种。
在一优选实施例中，第五电介质膜层8的厚度为25nm～30nm。
进一步优选地，第五电介质膜层8为SiO2膜层、Ta2O5膜层、SiNxOy膜层、BiO2膜层、Al2O3膜层、Nb2O5膜层、Si3N4膜层、ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层中的任一种。
在一优选实施例中，第六电介质膜层9的厚度为5nm～10nm。
进一步优选地，第六电介质膜层9为TiO2膜层、ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层、AZO膜层中的任一种。
第五电介质膜层8和第六电介质膜层9电介质膜层作为外层减反射膜层，直接影响到产品的抗划伤，耐磨和抗腐蚀性能，有较高的硬度，以起到对功能层保护的作用。
电介质膜层、银功能膜层和阻挡层的相互配合，以及通过改变各膜层的厚度，从而沉积出颜色明亮鲜艳、可见光透过率非常高的超高透低辐射膜。通过调节第三电介质膜层6和第四电解质膜层7的厚度比例，使得透过色更加趋向于无色，结合第六电介质膜层9，可以提高产品的抗氧化性能和抗划伤性能，解决了普通低辐射镀膜玻璃在可见光透过率上的限制，扩大了可选择的范围，因此，仅仅通过镀膜工艺的调整，即可达到在浮法玻璃原片上解决现有技术中存在的问题。
上述各膜层在所限定的厚度范围内按顺序结合，具有辐射率低(小于0.08)，玻面颜色接近无色(a*可达-0.5)，透过色也接近无色(a*可达2.0，b*可达-1)，光学性能稳定、色彩明亮且容易调节，可见光透过率高，不同批次玻璃的色差小等特点，完全可以达到兼具低辐射镀膜玻璃性能以及比拟白玻的可见光透过率的效果，因此，具有广泛的市场应用前景，适合推广至民用建筑。
相应地，在上文所述的超高透低辐射镀膜玻璃的基础上，本实用新型实施例还提供了本实用新型实施例超高透低辐射镀膜玻璃的一种制备方法。作为本实用新型优选实施例，该超高透低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
所述玻璃基板1一表面向外，依次叠设第一电介质膜层2、第二电介质膜层3、银功能膜层4、阻挡膜层5、第三电介质膜层6、第四电介质膜层7、第五电介质膜层8、第六电介质膜层9。
在该实施例的制备方法中，第一电介质膜层2为氮化硅膜层、第二电介质膜层3为氧化锌膜层、阻挡膜层5为镍铬膜层、第三电介质膜层6为AZO膜层、第四电介质膜层7为氧化锌膜层、第五电解质膜层8为氮化硅膜层、第六电介质膜层9为氧化钛膜层，玻璃基板1为普通白玻璃。
具体地，在玻璃基板1表面叠设膜层前，先采用Benteler清洗机对普通白色浮法玻璃进行清洗，去除玻璃基板1表面的有机污染物质。
具体地，叠设的所有氮化硅膜层(第一电介质膜层2、第五电解质膜层8)采用中频电源加旋转阴极在氩氮分为中溅射沉积，溅射功率为30kW～80kW，中频电源频率为30～50kHz；
第二电介质膜层3、第三电介质膜层6、第四电介质膜层7和第六电介质膜层9采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中溅射沉积，溅射功率为10～50kW中频电源频率为30～40kHz。
阻挡膜层5在氩气氛围中溅射铬平面靶材，溅射功率为2～5kW。
银功能膜层4在氩气氛围中直流或直交流加脉冲磁控溅射，溅射功率为3～10kW。
具体参数详见表1所示。
表1本实用新型超高透低辐射镀膜玻璃制备过程工艺参数
本实用新型实施例超高透低辐射镀膜玻璃的制备工艺工序简单、生产效率高、生产成本低，结构牢固、紧凑，产品性能满足人们对超高透低辐射镀膜玻璃的需求。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包括在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种超高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述镀膜玻璃包括玻璃基板和自所述玻璃基板一表面向外依次叠设的第一电介质膜层、第二电介质膜层、银功能膜层、阻挡膜层、第三电介质膜层、第四电介质膜层、第五电介质膜层、第六电介质膜层。
2.如权利要求1所述的超高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述银功能膜层的厚度为5nm～10nm。
3.如权利要求1所述的超高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述阻挡膜层的厚度为1nm～5nm。
4.如权利要求1～3任一所述的超高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质膜层的厚度为25nm～35nm；和/或
所述第二电介质膜层的厚度为15nm～25nm；和/或
所述第三电介质膜层的厚度为5nm～10nm；和/或
所述第四电介质膜层的厚度为10nm～15nm；和/或
所述第五电介质膜层的厚度为25nm～30nm；和/或
所述第六电介质膜层的厚度为5nm～10nm。
5.如权利要求1所述的超高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述阻挡膜层为镍铬膜层、氧化镍铬膜层或氮化镍铬膜层中任一种。
6.如权利要求1所述的超高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质膜层SiZrOx膜层、TiO2膜层、SiO2膜层、Ta2O5膜层、SiNxOy膜层、BiO2膜层、Al2O3膜层、Nb2O5膜层、Si3N4膜层、AZO膜层中的任一种。
7.如权利要求1所述的超高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质膜层和/或所述第四电介质膜层为ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层中的任一种。
8.如权利要求1所述的超高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第三电介质膜层为ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层、AZO膜层中的任一种。
9.如权利要求1所述的超高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第五电介质膜层为SiO2膜层、Ta2O5膜层、SiNxOy膜层、BiO2膜层、Al2O3膜层、Nb2O5膜层、Si3N4膜层、ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层中的任一种；和/或所述第六电介质膜层为TiO2膜层、ZnSnOx膜层、SnO2膜层、ZnO膜层、Al2O3膜层、AZO膜层中的任一种。
10.如权利要求1所述的超高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板为普通白玻。
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| CN201620779938.2U CN205874224U (zh) | 2016-07-22 | 2016-07-22 | 超高透低辐射镀膜玻璃 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106746734A (zh) * | 2017-02-20 | 2017-05-31 | 揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司 | 一种高红外反射镀膜玻璃及其制备方法 |
| CN106915905A (zh) * | 2017-03-08 | 2017-07-04 | 威海中玻镀膜玻璃股份有限公司 | 一种具有复合功能薄膜的可钢化镀膜玻璃及其制备方法 |
| CN107129161A (zh) * | 2017-04-11 | 2017-09-05 | 深圳前海中玻联合节能股份有限公司 | 阻挡紫外光的低辐射双银low‑e中空玻璃及其防紫外线和双银low‑e膜层制备方法 |
| CN108264243A (zh) * | 2018-04-16 | 2018-07-10 | 四川南玻节能玻璃有限公司 | 一种低辐射镀膜玻璃 |
-
2016
- 2016-07-22 CN CN201620779938.2U patent/CN205874224U/zh active Active
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