CN101661220B - 液晶显示器面板和掩模板 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种液晶显示器面板和掩模板，其中液晶显示器面板包括阵列基板和彩膜基板，在所述阵列基板有效区域的像素区域内形成有对位精度测量检查标记，在所述彩膜基板上与所述对位精度测量检查标记对应的位置形成有黑矩阵，所述黑矩阵用于遮挡所述对位精度测量检查标记。掩模板包括：重复使用区域和非重复使用区域，在所述重复使用区域和非重复使用区域的有效区域中设置有对位精度测量检查标记。本发明有效地解决了由对位不良而引发的问题，使得缝合对接(Stitch)区域的对位精度可以控制在所需要的范围之内，避免了薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)出现不良问题。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示器制造领域，尤其涉及一种液晶显示器面板和掩模板。
背景技术
随着薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，以下简称：TFT-LCD)技术的迅猛发展，TFT-LCD面板的尺寸也不断增大，各TFT-LCD的厂家纷纷斥巨资建设新的高世代生产线，以生产出更大尺寸的面板。但是，新建一条新的生产线，特别是更高世代的生产线，需要巨大的投资，且具有很大的风险，因此，在目前的生产线上开发及部分生产较大尺寸的面板成为解决上述问题的一个行之有效的方法，如图1所示，为采用目前的生产线生产较大尺寸面板的一示意图，该方法具体为：利用若干个较小尺寸的掩模板(Mask)进行多次分步曝光，形成较大尺寸的面板，再通过一定的设计和排布来实现较大尺寸面板的功能。
虽然在较低世代的生产线上采用多次分步曝光的方法可以制造出较大尺寸的面板，但在两次曝光区域的对接区域(如图1中10所示的区域)，经常会出现由缝合对接(Stitch)和层间覆盖(Overlay)超标引起的一系列问题，这也是一直以来技术上难以突破的难关。如图2所示，为采用目前的生产线生产较大尺寸面板的另一示意图，其问题的关键在于，一般的掩模板都将工艺中的对位标记(Mark)(用图2中的星形来表示)以及对位精度测量检查标记(用图2中的三角形来表示)设置于有效(Active)区域之外。对于尺寸较小的面板，由于面板的形成不需要采用掩模板进行多次分步曝光，在工艺过程中，其对位精度较易控制在设计所需要的范围之内；但对于采用掩模板经过多次分步曝光形成的较大尺寸的面板，由于掩模板的对位标记和对位精度测量检查标记设置于有效区域之外，所以较大尺寸面板的对位标记和对位精度测量检查标记也形成于有效区域之外，这样不能保证较大尺寸面板所有的有效区域，特别是采用掩模板进行分步曝光的对接区域的对位精度控制在所需要的范围之内，并且无法对此类区域进行对位精度检查与控制，导致TFT-LCD出现不良问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种液晶显示器面板和掩模板，使得有效区域的对位精度控制在所需要的范围之内，避免TFT-LCD出现不良问题。
本发明提供了一种掩模板，包括重复使用区域和非重复使用区域，在所述重复使用区域和非重复使用区域的有效区域中设置有对位精度测量检查标记。
本发明提供了一种液晶显示器面板，包括阵列基板和彩膜基板，在所述阵列基板有效区域的像素区域内形成有对位精度测量检查标记，在所述彩膜基板上与所述对位精度测量检查标记对应的位置形成有黑矩阵，所述黑矩阵用于遮挡所述对位精度测量检查标记。
本发明通过采用在有效区域中设置了对位精度测量检查标记的掩模板，在液晶显示器面板的像素区域内形成了对位精度测量检查标记，有效地解决了由对位不良而引发的问题，保证了较大尺寸面板所有的有效区域的对位精度控制在所需要的范围内，避免了TFT-LCD出现不良问题。
附图说明
图1为采用目前的生产线生产较大尺寸面板的一示意图；
图2为采用目前的生产线生产较大尺寸面板的另一示意图；
图3为本发明掩模板一实施例的示意图；
图4为本发明液晶显示器面板一实施例中阵列基板的示意图；
图5为本发明液晶显示器面板实施例中阵列基板一像素结构的示意图；
图6为本发明液晶显示器面板实施例中彩膜基板一像素结构的示意图；
图7为本发明液晶显示器面板实施例中阵列基板另一像素结构的示意图。
具体实施方式
下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
如图3所示，为本发明掩模板一实施例的示意图，该掩模板包括三个区域，分别为区域21、区域22和区域23，其中区域22为重复使用区域，在一次光刻工艺中被多次重复使用，区域21和区域23为非重复使用区域，在一次光刻工艺中仅使用一次。区域21包括有效区域(图中A所示)和非有效区域(图中A′所示)，区域22包括有效区域(图中B所示)和非有效区域(图中B′所示)，区域23包括有效区域(图中C所示)和非有效区域(图中C′所示)。
与现有技术相比，本实施例不仅在非有效区域A′、B′和C′中设置有对位标记(用星形来表示)和对位精度测量检查标记(用三角形来表示)，而且在重复使用区域22的有效区域B及非重复使用区域21、23的有效区域A、C中设置有对位精度测量检查标记，还定义了该对位精度测量检查标记在掩模板上的精确位置和在采用该掩模板形成的面板上的精确位置。
本实施例中，对位精度测量检查标记可以设置在A、B和C的任意位置，其中较优的实施方式为：在非重复使用区域21的有效区域A的右边缘区域、非重复使用区域23的有效区域C的左边缘区域、重复使用区域22的有效区域B的左边缘区域和右边缘区域中设置对位精度测量检查标记，即在图3所示的灰色区域中设置对位精度测量检查标记。
上述对位精度测量检查标记的个数可以为一个以上，A、B、C每个区域上都可以有一个以上的对位精度测量检查标记。按照功能划分，对位精度测量检查标记可以划分为总体倾斜标记(Total Pitch Mark)、缝合对接标记(StitchMark)以及层间覆盖标记(Overlay Mark)。
综上所述，本实施例与现有技术的区别是在掩模板的有效区域中设置了对位精度测量检查标记，这样，当采用该掩模板形成较大尺寸面板的阵列基板时，在阵列基板的有效区域中也形成了对位精度测量检查标记，保证了较大尺寸面板所有的有效区域的对位精度控制在所需要的范围内，避免了TFT-LCD出现不良问题。
本发明液晶显示面板的实施例具体包括阵列基板和彩膜基板，其中阵列基板采用图3所示的掩模板制造而成。如图4所示，为本发明液晶显示器面板一实施例中阵列基板的示意图，由于掩模板的有效区域中设置有对位精度测量检查标记，则由该掩模板制造而成的阵列基板的有效区域中也形成有对位精度测量检查标记。具体地说，图4所示的阵列基板由图3所示的掩模板经过多次分步曝光形成，该阵列基板的有效区域包括由掩模板分步曝光形成的多个曝光区域，其中曝光区域a由图3中的区域A一次曝光形成，曝光区域c由图3中的区域C一次曝光形成，曝光区域b由图3中的区域B多次曝光形成，虚线表示重复形成的区域，重复的次数因面板的尺寸以及掩模板的设计而不同。
如图4所示，本实施例的阵列基板包括多个分步曝光形成的曝光区域，图中区域20为相邻的每两个曝光区域的对接区域，若本实施例使用的掩模板为上述较优的实施方式，即在图3所示的灰色区域中设置有对位精度测量检查标记，则由该掩模板制造而成的阵列基板在区域20中形成了对位精度测量检查标记。
为了不影响面板的性能，本发明具体在阵列基板有效区域的像素区域内形成有对位精度测量检查标记，在彩膜基板上与对位精度测量检查标记对应的位置形成有黑矩阵，该黑矩阵用于遮挡对位精度测量检查标记。
下面以图4中对位精度测量检查标记33所在的一个像素结构为例，进一步介绍本发明的技术方案。
如图5所示，为本发明液晶显示器面板实施例中阵列基板一像素结构的示意图，该像素结构包括TFT结构31、像素区域32以及对位精度测量检查标记33，其中采用本发明掩模板将对位精度测量检查标记33形成在像素区域32内。本发明中对位精度测量检查标记33的位置不仅限于图5所示的位置，还可以设置在像素区域32内的其他位置。
如图6所示，为本发明液晶显示器面板实施例中彩膜基板一像素结构的示意图，该像素结构包括黑矩阵和像素区域42，其中黑矩阵包括在与阵列基板上TFT结构31对应位置形成的黑矩阵41和在与阵列基板上对位精度测量检查标记33对应的位置形成的黑矩阵43，黑矩阵43用于遮挡对位精度测量检查标记33。
进一步的，本实施例中对位精度测量检查标记可以形成在像素区域的任意位置，但需获知该对位精度测量检查标记在面板上的精确位置。本实施例的对位精度测量检查标记的个数可以为一个以上，设置在一个以上像素区域内。本实施例所涉及的对位精度测量检查标记按功能可以划分为总体倾斜标记(Total Pitch Mark)、缝合对接标记(Stitch Mark)以及层间覆盖标记(OverlayMark)。其中，功能相同的对位精度测量检查标记可以设置在一个像素区域内，也可以设置在多个像素区域内；功能不同的对位精度测量检查标记可以设置在一个像素区域内，也可以设置在多个像素区域内。如图7所示，为本发明液晶显示器面板实施例中阵列基板另一像素结构的示意图，其中对位精度测量检查标记51和52设置在一个像素区域中。这两个对位精度测量检查标记的功能可以相同，也可以不同。
本实施例通过采用在有效区域中设置了对位精度测量检查标记的掩模板，在液晶显示器面板有效区域的像素区域内形成了对位精度测量检查标记，尤其在分步曝光的对接区域形成对位精度测量检查标记，保证了较大尺寸面板所有的有效区域、特别是分步曝光的对接区域的对位精度控制在所需要的范围内，有效地解决了由对位不良而引发的问题，避免了TFT-LCD出现不良问题。
下面通过后工艺检查流程的描述，进一步说明本发明掩模板和液晶显示器面板如何使分步曝光的对接(Stitch)区域的对位精度可以控制在所需要的范围之内，有效解决TFT-LCD出现的不良问题。在生产出液晶显示器面板之后，采用如下检查流程来控制对位精度，具体包括如下步骤：
步骤1、在掩膜光刻工艺的后工艺检查时，运用特定的设备，采用一定的方法对液晶显示器面板上的对位精度测量检查标记进行测量，获得测量结果，分别为分步曝光的相邻区域之间的位置偏移量以及与基准掩膜光刻工艺之间的对位偏移量；
步骤2、将步骤1中获取的测量结果与设计的目标值和指定值进行比较，如果在误差允许的范围内，则不需要掩膜的工艺参数进行调整，结束后工艺检查流程；如果超出误差范围，则对本次掩膜的工艺参数进行调整，再次进行掩膜光刻工艺，执行步骤1。
通过上述后工艺检查流程，保证了分步曝光的对接(Stitch)区域的对位精度可以控制在所需要的范围之内，有效解决TFT-LCD出现的不良问题。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (4)
1.一种采用掩模板制造的液晶显示器面板，包括阵列基板和彩膜基板，其特征在于：在所述阵列基板有效区域的像素区域内形成有对位精度测量检查标记，在所述彩膜基板上与所述对位精度测量检查标记对应的位置形成有黑矩阵，所述黑矩阵用于遮挡所述对位精度测量检查标记；所述对位精度测量检查标记用于保证分步曝光的对接区域的对位精度；
所述阵列基板的对位精度测量检查标记是采用所述掩模板形成的，所述掩模板包括重复使用区域和非重复使用区域，在所述重复使用区域和非重复使用区域的有效区域中设置有对位精度测量检查标记，所述对位精度测量检查标记用于保证分步曝光的对接区域的对位精度；
所述在重复使用区域和非重复使用区域的有效区域中设置有对位精度测量检查标记具体为：在一非重复使用区域的有效区域的右边缘区域、另一非重复使用区域的有效区域的左边缘区域、重复使用区域的有效区域的左边缘区域和右边缘区域设置有对位精度测量检查标记；
所述对位精度测量检查标记的个数为一个以上；所述对位精度测量检查标记包括总体倾斜标记、缝合对接标记以及层间覆盖标记。
2.根据权利要求1所述的液晶显示器面板，其特征在于，所述阵列基板的有效区域包括由所述掩模板分步曝光形成的多个曝光区域，在每两个相邻曝光区域的对接区域的像素区域内形成有对位精度测量检查标记。
3.根据权利要求1所述的液晶显示器面板，其特征在于，所述对位精度测量检查标记的个数为一个以上，设置在一个以上像素区域内。
4.根据权利要求3所述的液晶显示器面板，其特征在于，所述对位精度测量检查标记包括总体倾斜标记、缝合对接标记以及层间覆盖标记。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2008101191369A CN101661220B (zh) | 2008-08-27 | 2008-08-27 | 液晶显示器面板和掩模板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2008101191369A CN101661220B (zh) | 2008-08-27 | 2008-08-27 | 液晶显示器面板和掩模板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101661220A CN101661220A (zh) | 2010-03-03 |
| CN101661220B true CN101661220B (zh) | 2013-03-13 |
Family
ID=41789313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2008101191369A Active CN101661220B (zh) | 2008-08-27 | 2008-08-27 | 液晶显示器面板和掩模板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101661220B (zh) |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: BEIJING BOE PHOTOELECTRICITY SCIENCE + TECHNOLOGY Effective date: 20150623 Owner name: JINGDONGFANG SCIENCE AND TECHNOLOGY GROUP CO., LTD Free format text: FORMER OWNER: BEIJING BOE PHOTOELECTRICITY SCIENCE + TECHNOLOGY CO., LTD. Effective date: 20150623 |
|
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20150623 Address after: 100015 Jiuxianqiao Road, Beijing, No. 10, No. Patentee after: BOE Technology Group Co., Ltd. Patentee after: Beijing BOE Photoelectricity Science & Technology Co., Ltd. Address before: 100176 Beijing economic and Technological Development Zone, West Central Road, No. 8 Patentee before: Beijing BOE Photoelectricity Science & Technology Co., Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20201201 Address after: 215200 No. 1700, Wujiang economic and Technological Development Zone, Suzhou, Jiangsu, Zhongshan North Road Patentee after: Gaochuang (Suzhou) Electronics Co.,Ltd. Patentee after: BOE TECHNOLOGY GROUP Co.,Ltd. Address before: 100015 Jiuxianqiao Road, Beijing, No. 10, No. Patentee before: BOE TECHNOLOGY GROUP Co.,Ltd. Patentee before: BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY Co.,Ltd. |