CN104317158B - 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置，涉及显示技术领域，解决了彩膜层位置精度标识发生重叠和缩小位置精度标识尺寸引起的形状不规则的问题，保证所得到的色阻与黑矩阵相对位置偏差程度的准确性。其中掩膜板用于形成彩膜层，包括分别位于掩膜板四角处的四组彩膜层位置精度标识图形，每组彩膜层位置精度标识图形包括相互平行、沿横向排列且沿纵向延伸的两个条形的彩膜层位置精度标识图形，彩膜层位置精度标识图形的横向尺寸为a，a小于一个子像素的宽度。

Description

一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置。

背景技术

显示器中的彩膜基板一般包括：一玻璃基板，及形成于玻璃基板上的黑矩阵层与彩膜层，其中，黑矩阵层包括多行黑矩阵条与多列黑矩阵条交错构成的网格结构的黑矩阵，彩膜层包括矩阵式排布的多个色阻，每行色阻的排布以红、绿、蓝的排列顺序为一重复单元。通常情况下，会使色阻的边缘与黑矩阵条有一定宽度的重叠，以防止色阻边缘漏光。

目前，在形成黑矩阵层时会在基板四角处同层形成四组黑矩阵位置精度标识，每组包括三个间距为一个子像素宽度的方形黑矩阵位置精度标识，在形成彩膜层时会在基板四角处形成四组彩膜层位置精度标识，每组包括红、绿、蓝三个间距为一个子像素宽度的方形或框形的彩膜层位置精度标识，彩膜层位置精度标识的尺寸大于黑矩阵位置精度标识的尺寸，并且彩膜层位置精度标识覆盖或者框住黑矩阵位置精度标识。通过检测黑矩阵位置精度标识和彩膜层位置精度标识的中点的偏差程度，检测黑矩阵和色阻的相对位置的偏差程度，以检验色阻边缘是否与黑矩阵条重叠。

现有技术中通常利用涂布、曝光、显影、烘烤等工序形成分别形成彩膜层中不同颜色的色阻，由于彩膜层中不同颜色色阻的排布情况相同，因此在形成不同颜色色阻时可利用同一张掩膜板。

但是随着人们对显示器分辨率的要求越来越高，子像素的宽度越来越小，同一组内的黑矩阵位置精度标记之间的间距越来越小，这就导致最终形成的同一组内的尺寸更大的红色、绿色、蓝色彩膜层位置精度标记发生重叠，无法准确得到色阻与黑矩阵的相对位置的偏差程度。

如果将黑矩阵和彩膜层位置精度标记的尺寸均随像素尺寸减小，虽然能够避免彩膜层位置精度标识重叠的问题，但是尺寸过小的彩膜层位置精度标识和黑矩阵位置精度标识在制作时形状不易控制，会变得不规则，导致彩膜层位置精度标识和黑矩阵位置精度标识的位置坐标读取不准确，进而无法准确得到色阻与黑矩阵的相对位置的偏差程度。

发明内容

基于上述现有技术中的现状，本发明所要解决的技术问题为：提供一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置，以解决彩膜层位置精度标识发生重叠和缩小位置精度标识尺寸引起的位置精度标识形状不规则的问题，保证所得到的色阻与黑矩阵相对位置偏差程度的准确性。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

本发明的第一方面提供了一种掩膜板，用于形成显示装置中的彩膜层，所述彩膜层对应多个像素单元，所述彩膜层上对应每个所述像素单元具有横向排列的n种颜色的色阻，所述掩膜板包括分别位于所述掩膜板四角处的四组彩膜层位置精度标识图形，每组所述彩膜层位置精度标识图形包括相互平行、沿横向排列且沿纵向延伸的两个条形的彩膜层位置精度标识图形，所述彩膜层位置精度标识图形的横向尺寸为a，a小于一个子像素的宽度。

优选的，所述掩膜板一个角处的两个彩膜层位置精度标识图形的沿纵向的中线间的距离为e，e与一个子像素宽度的比值大于n。

优选的，所述掩膜板还包括：位于所述掩膜板中间区域的矩阵式排布的色阻图形。

优选的，a大于或等于35μm，一个子像素的宽度小于或等于65μm。

本发明的第二方面提供了一种掩膜板组，包括：第一掩膜板，所述第一掩膜板为以上所述的用于形成显示装置中的彩膜层的掩膜板；第二掩膜板，所述第二掩膜板用于形成显示装置中的黑矩阵层，包括分别位于所述第二掩膜板四角处的四组黑矩阵位置精度标识图形，每组所述黑矩阵位置精度标识图形包括n个沿横向排列的黑矩阵位置精度标识图形，相邻两个黑矩阵位置精度标识图形沿纵向的中线之间的间距为一个子像素的宽度，所述黑矩阵位置精度标识图形的横向尺寸为d，d小于一个子像素的宽度；在所述第一掩膜板和所述第二掩膜板对应显示区域的部分重合时，同一角处所述第一掩膜板的两个彩膜层位置精度标识图形中心连线的中线与所述第二掩膜板的n个黑矩阵位置精度标识图形中的第一个黑矩阵位置精度标识图形沿纵向的中线重合，且若所述第一掩膜板一个角处的两个彩膜层位置精度标识图形沿纵向的中线之间的间距为e，则e与一个子像素宽度的比值大于2n。

优选的，所述第二掩膜板还包括：位于所述第二掩膜板中间区域的网格结构的黑矩阵图形。

优选的，d大于或等于20μm，一个子像素的宽度小于或等于65μm。

优选的，n等于3或4。

本发明的第三方面提供了一种彩膜基板，包括：基板；形成于所述基板上的黑矩阵层，所述黑矩阵层利用以上所述的掩膜板组中的第二掩膜板形成，所述黑矩阵层包括分别位于所述黑矩阵层四角处的四组黑矩阵位置精度标识；形成于所述基板上的彩膜层，所述彩膜层利用以上所述的掩膜板组中的第一掩膜板形成，所述彩膜层包括分别位于所述彩膜层四角处的四组彩膜层位置精度标识；其中，同一角处所述彩膜层位置精度标识和所述黑矩阵位置精度标识的排布情况为：颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识、n个黑矩阵位置精度标识、颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识沿横向依次排布，相邻两个彩膜层位置精度标识沿纵向的中线之间的间距和相邻两个黑矩阵位置精度标识沿纵向的中线之间的间距均为一个子像素的宽度。

优选的，同一角处所述彩膜层位置精度标识与所述黑矩阵位置精度标识之间的最短距离大于零，同一角处相邻两个彩膜层位置精度标识之间具有间隙，同一角处相邻两个黑矩阵位置精度标识之间具有间隙。

优选的，所述颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识分别为红色彩膜层位置精度标识、绿色彩膜层位置精度标识和蓝色彩膜层位置精度标识；或者，所述颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识分别为红色彩膜层位置精度标识、绿色彩膜层位置精度标识、蓝色彩膜层位置精度标识和黄色彩膜层位置精度标识；或者，所述颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识分别为红色彩膜层位置精度标识、绿色彩膜层位置精度标识、蓝色彩膜层位置精度标识和白色彩膜层位置精度标识。

优选的，所述黑矩阵层还包括位于所述黑矩阵层中间区域的网格结构的黑矩阵；所述彩膜层还包括位于所述彩膜层中间区域的矩阵式排布的色阻。

本发明的第四方面提供了一种显示装置，包括以上所述的彩膜基板。

本发明所提供的掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置，通过将用于形成彩膜层的掩膜板上的每组彩膜层位置精度标识图形设置为包括相互平行且均沿列方向延伸的两个条形的彩膜层位置精度标识图形，由于形成彩膜层位置精度标识的图形为条形，条形图形的形状易控制，因此彩膜层位置精度标识能够设置的更窄并且形状更规则，从而避免了彩膜层位置精度标识发生重叠和缩小位置精度标识尺寸引起的形状不规则的问题，使得最终能够准确读取彩膜层位置精度标识的坐标，进而得到准确的黑矩阵与色阻的相对位置的偏差程度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本发明实施例所提供的用于形成彩膜层的掩膜板的平面结构图；

图2为本发明实施例所提供的用于形成黑矩阵层的掩膜板的平面结构图；

图3为本发明实施例所提供的掩膜板组中第一掩膜板与第二掩膜板对应显示区域的部分重合时的平面结构图；

图4a～图4d为利用本发明实施例所提供的掩膜板组制作彩膜基板的过程中黑矩阵位置精度标识和彩膜层位置精度标识的形成过程的步骤图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，均属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供了一种掩膜板，其结构如图1所示，该掩膜板用于形成显示装置中的彩膜层，彩膜层对应多个像素单元，彩膜层上对应每个像素单元具有横向排列的n种颜色的色阻，该掩膜板包括分别位于掩膜板四角处的四组彩膜层位置精度标识图形，每组彩膜层位置精度标识图形包括相互平行、沿横向排列且沿纵向延伸的两个条形的彩膜层位置精度标识图形1，若彩膜层位置精度标识图形1的横向尺寸为a，则a小于一个子像素的宽度。

由于彩膜层位置精度标识图形为条形，条形图形的形状相对于原来的方形和框形更易控制，即便将彩膜层位置精度标识图形的横向尺寸a降到很小，最终得到的彩膜层位置精度标识的形状也会比较规则，即所形成的彩膜层位置精度标识能够设置的更窄并且形状更规则，从而避免了子像素宽度减小引起的彩膜层位置精度标识发生重叠和缩小位置精度标识尺寸引起的位置精度标识形状不规则的问题，是利用本实施例所提供的掩膜板形成的彩膜层位置精度标识的坐标能够被准确读取，进而保证了能够准确得到的黑矩阵与色阻的相对位置的偏差程度。

本实施例中，若掩膜板一个角处的两个彩膜层位置精度标识图形1的沿纵向的中线间的距离为e，则e与一个子像素宽度的比值大于n，以保证利用该掩膜板所形成的彩膜层位置精度标识之间不发生重叠。

该掩膜板还包括：位于掩膜板中间区域的矩阵式排布的色阻图形2。具体的，色阻图形2所在的区域AA对应显示装置的显示区域；由于为避免色阻边缘漏光，色阻的边缘可与黑矩阵条发生重叠，因此每个色阻图形2的宽度可略大于一个子像素的宽度；若掩膜板用于同一彩膜层中n种颜色的色阻的制作，则相邻色阻图形2之间的间距为n-1倍的一个子像素的宽度。

本实施例中，对于一个子像素的宽度小于或等于65μm的显示装置来说，彩膜层位置精度标识图形1的横向尺寸a优选的可大于或等于35μm，以保证所形成的彩膜层位置精度标识不至于过细，实现对彩膜层位置精度标识形状的良好控制。

需要说明的是，本实施例中所述的子像素的宽度是指子像素的横向尺寸。

本发明实施例还提供了一种掩膜板组，该掩膜板组包括：第一掩膜板，该第一掩膜板为以上所述的用于形成显示装置中的彩膜层的掩膜板，其结构如图1所示；第二掩膜板，该第二掩膜板用于形成显示装置中的黑矩阵层，如图2所示，包括分别位于第二掩膜板四角处的四组黑矩阵位置精度标识图形，每组黑矩阵位置精度标识图形包括n个沿横向排列的黑矩阵位置精度标识图形3，相邻两个黑矩阵位置精度标识图形3沿纵向的中线之间的间距p为一个子像素的宽度，黑矩阵位置精度标识图形3的横向尺寸为d，d小于一个子像素的宽度；如图3所示，在第一掩膜板对应显示区域的部分AA和第二掩膜板对应显示区域的部分AA重合时，同一角处第一掩膜板的两个彩膜层位置精度标识图形1中心连线的中线与第二掩膜板的n个黑矩阵位置精度标识图形3中的第一个黑矩阵位置精度标识图形沿纵向的中线重合，且若第一掩膜板一个角处的两个彩膜层位置精度标识图形1沿纵向的中线之间的间距为e，则e与一个子像素宽度p的比值大于2n，更具体的为：e/p＞2n。

以n等于3(即每个像素单元包括3个子像素)，且所要形成的色阻的颜色包括红(R)、绿(G)和蓝(B)三种颜色为例，利用上述掩膜板组制作黑矩阵层和彩膜层的过程具体可为：首先将第二掩膜板覆盖在基板上形成黑矩阵层，所形成的黑矩阵层四角处均具有一组如图4a所示的黑矩阵位置精度标识5，相邻两个黑矩阵位置精度标识5之间的间距为p；然后将第一掩膜板覆盖在基板上形成红色色阻层，所形成的红色色阻层四角处均具有两个如图4b所示的红色彩膜层位置精度标识6，二者间距为第一掩膜板上同一组内的两个彩膜层位置精度标识1之间的间距e；之后将第一掩膜板沿横向向右移动一个像素宽度p的距离，在基板上形成绿色色阻层，所形成的绿色色阻层四角处均具有两个如图4c所示的绿色彩膜层位置精度标识7，二者间距为e；之后将第一掩膜板沿横向再向右移动一个像素宽度p的距离，在基板上形成蓝色色阻层，所形成的蓝色色阻层四角处均具有两个如图4d所示的蓝色彩膜层位置精度标识8，二者间距为e。需要说明的是，本实施仅以红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层的形成顺序为例进行说明，还可以其它顺序形成彩膜层。

在完成黑矩阵层和彩膜层的制作后，需检测黑矩阵层中的黑矩阵与彩膜层中的色阻的相对位置的偏差程度，得到每一个色阻的边缘与黑矩阵条的重叠情况，以判断色阻周围是否漏光。前述检测是通过检测黑矩阵位置精度标识5与彩膜层位置精度标识6、7和8的相对位置的偏差程度实现的。具体的，读取两个红色彩膜层位置精度标识6的坐标，得到二者中心连线的中点，检测该中点与第一个黑矩阵位置精度标识的中点的偏差程度，同理检测两个绿色彩膜层位置精度标识7中心连线的中点与第二个黑矩阵位置精度标识的中点的偏差程度和两个蓝色彩膜层位置精度标识8中心连线的中点与第三个黑矩阵位置精度标识5的中点的偏差程度，从而得到一个角处的彩膜层位置精度标识和黑矩阵位置精度标识的相对位置的偏差程度，同理得到其余三个角处的彩膜层位置精度标识和黑矩阵位置精度标识的相对位置的偏差程度。

现有技术中，虽然通过将同一组内的三个黑矩阵位置精度标识之间的间距设置为两倍的子像素宽度，能够消除彩膜层位置精度标记发生重叠的问题，也不必减小位置精度标识的尺寸，但是如果仍然用同一张掩膜板形成彩膜层，在制作不同颜色的色阻时就需要移动两个子像素的距离，这就造成显示区域边缘的色阻空缺，因此这种方式需要两张掩膜板，一张用来形成红色和蓝色色阻，另一张用来形成绿色色阻，从而不仅引起成本的增加，而且会使彩膜基板的制作步骤变得复杂，另外一旦用于形成绿色色阻的掩膜板损坏，将导致生产无法进行。从上述利用本实施例所提供的掩膜板组制作黑矩阵层和彩膜层的过程不难发现，本实施例中所提供的用于形成彩膜层的掩膜板不仅能够避免子像素宽度减小引起的彩膜层位置精度标识发生重叠和减小彩膜层位置精度标识图形的尺寸引起的彩膜层位置精度标识形状不规则的问题，而且做到了利用同一张掩膜板形成彩膜层的三种颜色的色阻，避免了使用两张掩膜板制作彩膜层，从而节约了成本，简化了彩膜基板的制作步骤，消除了现有技术中用于形成绿色色阻的掩膜板损坏导致的生产无法进行的问题。

本实施例中，第二掩膜板还包括：位于第二掩膜板中间区域的网格结构的黑矩阵图形4，用于形成网格结构的黑矩阵。

本实施例中，由于第一掩膜板上的彩膜层位置精度标识图形1的宽度能够设置的较窄，因此本实施例所提供的掩膜板组相对于现有技术中的掩膜板更适用于高分辨率(即宽度较窄的子像素)的彩膜基板的制作，具体的，对于子像素的宽度小于或等于65μm的显示装置，本实施中黑矩阵位置精度标识图形的横向尺寸d可大于或等于20μm，以使黑矩阵位置精度标识图形的尺寸不至于过小，保证所形成的黑矩阵位置精度标识的形状规则。

显示装置中子像素的颜色常见的包括三种或四种，基于此本实施例中n优选的等于3或4，从而第二掩膜板一个角处所包括的黑矩阵位置精度标识图形3的数量也为3或4。

此外，第一掩膜板所包括的彩膜层位置精度标识图形1的宽度a可与黑矩阵位置精度标识图形3的宽度d相等，也可不等，具体可根据实际情况相应设计。

需要说明的是，本实施例所提供的掩膜板及掩膜板组中所包括的图形可以为遮光区域，也可以为漏光区域，若曝光时使用负性光刻胶，则掩膜板及掩膜板组中所包括的图形为漏光区域，若曝光时使用正性光刻胶，则掩膜板及掩膜板组中所包括的图形为遮光区域。

本实施例还提供了一种彩膜基板，包括：基板；形成于基板上的黑矩阵层，该黑矩阵层利用本实施例所提供的掩膜板组中的第二掩膜板形成，包括分别位于黑矩阵层四角处的四组黑矩阵位置精度标识；形成于基板上的彩膜层，该彩膜层利用本实施例所提供的掩膜板组中的第一掩膜板形成，包括分别位于彩膜层四角处的四组彩膜层位置精度标识；如图4d所示，同一角处彩膜层位置精度标识和黑矩阵位置精度标识的排布情况为：颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识(6、7、8)、n个黑矩阵位置精度标识(5)、颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识(6、7、8)沿横向依次排布，相邻两个彩膜层位置精度标识沿纵向的中线之间的间距和相邻两个黑矩阵位置精度标识沿纵向的中线之间的间距均为一个子像素的宽度p。

本实施例所提供的彩膜基板由于利用了本实施所提供的掩膜板组制作，因此其彩膜层中色阻和黑矩阵层中黑矩阵相对位置的偏差程度能够通过检测彩膜层位置精度标识与黑矩阵位置精度标识的相对位置准确得到，保证了色阻与黑矩阵的对位的准确度，提高了彩膜基板的良率。

图4d中，a表示彩膜层位置精度标识的横向尺寸(即彩膜层位置精度标识图形的宽度)，b表示相邻两个彩膜层位置精度标识之间的间距，c表示彩膜层位置精度标识与黑矩阵位置精度标识之间的最短距离，f表示相邻两个黑矩阵位置精度标识之间的间距，则一个子像素的宽度p＝a+b＝d+f，从而保证了利用同一张掩膜板每次移动一个子像素宽度的距离能够完成彩膜层全部色阻的制作。彩膜层一个角处的两个相同颜色的彩膜层位置精度标识沿纵向的中线之间的间距(即第一掩膜版上同一组彩膜层位置精度标识图形所包括的两个彩膜层位置精度标识图形沿纵向的中线之间的间距)e＝3a+2b+2c+3d+2f，以保证最终形成的位置精度标识按照图3d中所示排布。

同一角处彩膜层位置精度标识与黑矩阵位置精度标识沿纵向的中线之间的最短距离c可大于零，同一角处相邻两个彩膜层位置精度标识之间可具有间隙(即b＞0)，同一角处相邻两个黑矩阵位置精度标识之间具有间隙(即f＞0)，以保证对位置精度标识的准确读取。进一步的，b与f可相等也可不等，b和f的值具体可设置为大于或等于7μm，以保证所形成的彩膜层位置精度标识之间不发生重叠。

根据显示装置所包括的子像素的颜色的不同(如：包括R、G、B三种颜色，或者包括R、G、B、Y(黄)四种颜色，或者包括R、G、B、W(白)四种颜色)，本实施例中同一角处位于黑矩阵位置精度标识同一端的颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识可分别为红色彩膜层位置精度标识、绿色彩膜层位置精度标识和蓝色彩膜层位置精度标识；或者为红色彩膜层位置精度标识、绿色彩膜层位置精度标识、蓝色彩膜层位置精度标识和黄色彩膜层位置精度标识；或者为红色彩膜层位置精度标识、绿色彩膜层位置精度标识、蓝色彩膜层位置精度标识和白色彩膜层位置精度标识；或者依子像素颜色不同而相应变化，以保证对所有颜色色阻位置的检测。

本实施例中，黑矩阵层还包括位于黑矩阵层中间区域的网格结构的黑矩阵；上述彩膜层还包括位于彩膜层中间区域的矩阵式排布的色阻。

本实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述彩膜基板。由于上述掩膜板的良率较现有技术提高，因此包括上述彩膜基板的显示装置也具有较高的良率。

需要说明的是，本实施例所提供的显示装置可以为液晶面板、电子纸或OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)面板，适用于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

以上所述仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种掩膜板，用于形成显示装置中的彩膜层，所述彩膜层对应多个像素单元，所述彩膜层上对应每个所述像素单元具有横向排列的n种颜色的色阻，其特征在于，所述掩膜板包括分别位于所述掩膜板四角处的四组彩膜层位置精度标识图形，每组所述彩膜层位置精度标识图形包括相互平行、沿横向排列且沿纵向延伸的两个条形的彩膜层位置精度标识图形，所述彩膜层位置精度标识图形的横向尺寸为a，a小于一个子像素的宽度；其中n等于3或4。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板一个角处的两个彩膜层位置精度标识图形的沿纵向的中线间的距离为e，e与一个子像素宽度的比值大于n。

3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板还包括：位于所述掩膜板中间区域的矩阵式排布的色阻图形。

4.根据权利要求1～3任一项所述的掩膜板，其特征在于，a大于或等于35μm，一个子像素的宽度小于或等于65μm。

5.一种掩膜板组，其特征在于，包括：

第一掩膜板，所述第一掩膜板为权利要求1～4任一项所述的用于形成显示装置中的彩膜层的掩膜板；

第二掩膜板，所述第二掩膜板用于形成显示装置中的黑矩阵层，包括分别位于所述第二掩膜板四角处的四组黑矩阵位置精度标识图形，每组所述黑矩阵位置精度标识图形包括n个沿横向排列的黑矩阵位置精度标识图形，相邻两个黑矩阵位置精度标识图形沿纵向的中线之间的间距为一个子像素的宽度，所述黑矩阵位置精度标识图形的横向尺寸为d，d小于一个子像素的宽度；

在所述第一掩膜板和所述第二掩膜板对应显示区域的部分重合时，同一角处所述第一掩膜板的两个彩膜层位置精度标识图形中心连线的中线与所述第二掩膜板的n个黑矩阵位置精度标识图形中的第一个黑矩阵位置精度标识图形沿纵向的中线重合，且若所述第一掩膜板一个角处的两个彩膜层位置精度标识图形沿纵向的中线之间的间距为e，则e与一个子像素宽度的比值大于2n。

6.根据权利要求5所述的掩膜板组，其特征在于，所述第二掩膜板还包括：位于所述第二掩膜板中间区域的网格结构的黑矩阵图形。

7.根据权利要求5或6所述的掩膜板组，其特征在于，d大于或等于20μm，一个子像素的宽度小于或等于65μm。

8.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

基板；

形成于所述基板上的黑矩阵层，所述黑矩阵层利用权利要求5～7任一项所述的掩膜板组中的第二掩膜板形成，所述黑矩阵层包括分别位于所述黑矩阵层四角处的四组黑矩阵位置精度标识；

形成于所述基板上的彩膜层，所述彩膜层利用权利要求5～7任一项所述的掩膜板组中的第一掩膜板形成，所述彩膜层包括分别位于所述彩膜层四角处的四组彩膜层位置精度标识；

其中，同一角处所述彩膜层位置精度标识和所述黑矩阵位置精度标识的排布情况为：颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识、n个黑矩阵位置精度标识、颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识沿横向依次排布，相邻两个彩膜层位置精度标识沿纵向的中线之间的间距和相邻两个黑矩阵位置精度标识沿纵向的中线之间的间距均为一个子像素的宽度。

9.根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，同一角处所述彩膜层位置精度标识与所述黑矩阵位置精度标识之间的最短距离大于零，同一角处相邻两个彩膜层位置精度标识之间具有间隙，同一角处相邻两个黑矩阵位置精度标识之间具有间隙。

10.根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识分别为红色彩膜层位置精度标识、绿色彩膜层位置精度标识和蓝色彩膜层位置精度标识，其中n等于3；或者，

所述颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识分别为红色彩膜层位置精度标识、绿色彩膜层位置精度标识、蓝色彩膜层位置精度标识和黄色彩膜层位置精度标识，其中n等于4；或者，

所述颜色各不相同的n个彩膜层位置精度标识分别为红色彩膜层位置精度标识、绿色彩膜层位置精度标识、蓝色彩膜层位置精度标识和白色彩膜层位置精度标识，其中n等于4。

11.根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵层还包括位于所述黑矩阵层中间区域的网格结构的黑矩阵；

所述彩膜层还包括位于所述彩膜层中间区域的矩阵式排布的色阻。

12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求8～11任一项所述的彩膜基板。