CN106502060B - 一种显示基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示基板、显示面板及显示装置，该显示基板包括多个呈阵列排布的亚像素单元；在至少一个亚像素单元所在区域内设置有一具有空心区域的对位标记；对位标记用于在曝光形成显示基板上的一膜层的图形时进行曝光设备的对位。这种对位标记由于位于亚像素单元内部，不占用基板空间，可以有效增加基板利用率，且在大尺寸拼接产品中，使用这种对位标记可以满足大尺寸拼接产品的曝光需求，提高了显示基板在制造过程中的灵活性与实用性。

Description

一种显示基板、显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤指一种显示基板、显示面板及显示装置。

背景技术

近年来，液晶显示装置因其轻薄、省电、无辐射等优点，已经取代了传统阴极射线管显示器广泛应用于诸多电子产品中。液晶显示装置通常包括相对而置的阵列基板和彩膜基板。

现有的液晶显示面板中彩膜层进行RGB曝光工艺时，是通过曝光机位于掩膜版(Mask)上方的检出系寻找由黑矩阵(BM)工序制成的对位标记进行对位曝光的。而目前普遍应用的对位标记，多为由黑矩阵制程中制作的实心标记，各层之间形状一致，横向分列，占用较大空间，以图1为例，一共三行，靠上和靠下的两行都是字母标识，用于标识中间的三个对位标记是用于对位哪一层的，从左到右分别是B、G-PS、R，而中间一行就是常规设计的对位标记01，而叉表示的是掩膜版上的叉形标记02，利用检出系将掩膜版上的叉形标记02与基板上的对位标记01对齐后进行曝光。需要说明的是，方框只是区分三个对位标记01所属区域，并非真实存在的图形设计。

由于对位标记通常都置于各次曝光(shot)边缘的基板的虚拟(Dummy)区域，而且基板上还要标识R、G-PS、B等用于区分哪一层的字母标识，所以会占用很大的有效空间，影响基板的使用率，在一些例如大尺寸拼接曝光产品、基板利用率较高的情况下，没有地方放置或无法区别这一类标记，从而导致无法进行曝光的窘境；所以常规的显示基板带有一定局限性，在制程中对基板的利用率较低。

因此，如何设计一种新的对位标记可以满足大尺寸拼接产品的曝光需求，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种显示基板、显示面板及显示装置，可以有效增加基板利用率，且可以满足大尺寸拼接产品的曝光需求，提高了显示基板在制造过程中的灵活性与实用性。

因此，本发明实施例提供了一种显示基板，所述显示基板包括多个呈阵列排布的亚像素单元；

在至少一个所述亚像素单元所在区域内设置有一具有空心区域的对位标记；所述对位标记用于在曝光形成所述显示基板上的膜层图形时进行曝光设备的对位。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述对位标记的空心区域在所述显示基板上的正投影为中心对称图形。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述对位标记是由所述亚像素单元的底边、所述亚像素单元的中间区域设置的隔断，以及所述亚像素单元的两侧边围绕组成的闭合结构；

所述亚像素单元的底边为平整状。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述对位标记的空心区域在所述显示基板上的正投影的形状为正方形；

所述正方形的边长不小于32μm。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述显示基板为彩膜基板时，所述彩膜基板上形成有黑矩阵，所述对位标记与所述黑矩阵同层同材质。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述膜层包括红色彩膜层、绿色彩膜层和/或蓝色彩膜层。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述显示基板为阵列基板时，所述对位标记的材料为金属材料或绝缘材料。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述膜层包括电极层、栅极金属层、源漏极金属层和/或有源层。

本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述显示基板。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示面板。

本发明实施例的有益效果包括：

本发明实施例提供的一种显示基板、显示面板及显示装置，该显示基板包括多个呈阵列排布的亚像素单元；在至少一个亚像素单元所在区域内设置有一具有空心区域的对位标记；对位标记用于在曝光形成显示基板上的膜层图形时进行曝光设备的对位。这种对位标记由于位于亚像素单元内部，不占用基板空间，可以有效增加基板利用率，且在大尺寸拼接产品中，使用这种对位标记可以满足大尺寸拼接产品的曝光需求，提高了显示基板在制造过程中的灵活性与实用性。

附图说明

图1为现有技术中显示基板进行曝光工艺的示意图；

图2至图5分别为本发明实施例提供的显示基板的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图，对本发明实施例提供的显示基板、显示面板及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。

其中，附图中各结构的大小和形状不反映显示基板的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

本发明实施例提供了一种显示基板，如图2至图5所示，显示基板包括多个呈阵列排布的亚像素单元1；

在至少一个亚像素单元1(图2示出了位于中间的亚像素单元)所在区域内设置有一具有空心区域的对位标记2；对位标记2用于在曝光形成显示基板上的一膜层的图形时进行曝光设备的对位。

在本发明实施例提供的上述显示基板，该显示基板包括多个呈阵列排布的亚像素单元；在至少一个亚像素单元所在区域内设置有一具有空心区域的对位标记；对位标记用于在曝光形成显示基板上的一膜层的图形时进行曝光设备的对位。由于该显示基板包括具有空心区域的对位标记，这种对位标记位于亚像素单元内部(即显示区域内)，不占用基板空间，可以有效增加基板利用率，当显示基板利用率较大时，例如在大尺寸拼接产品中，各次曝光之间由于没有任何空隙，无法放置常规的对位标记，使用这种对位标记可以满足大尺寸拼接产品的曝光需求，提高了显示基板在制造过程中的灵活性与实用性。并且，与常规的对比标记不同的是，常规标记为实心标记，而本发明实施例提供的显示基板所具备的对位标记为空心标记，具体地，在某亚像素单元所在区域内形成一个具有空心区域的对位标记，内部中空，对透光率影响极低。

需要说明的是，本发明实施例提供的上述显示基板中，是通过检出系进行掩膜版对位标记(即图1中的叉形标记)与亚像素单元所在区域内具有空心区域的对位标记进行对位；曝光机识别掩膜版(Mark)是依靠灰度的临界变化实现的，所以不管是中空还是实心标记，只要有明显的灰度变化，即可准确的识别到标记的边缘位置，从而抓取标记位置进行曝光，可以在现实生产中实现，具有极高的应用价值。

在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，对于曝光机本身来说，由于在叉形标记内去抓捕一个不规则图形，很难完成标记中心的识别，因此为了能够使上述具有空心区域的对位标记可以被检出系检出，对位标记的空心区域在显示基板上的正投影应设计为一规则图形，具体地，可以设置为中心对称图形。如图2所示，对位标记2的空心区域在显示基板上的正投影的形状为正方形；如图3所示，对位标记2的空心区域在显示基板上的正投影的形状为长方形；如图4所示，对位标记2的空心区域在显示基板上的正投影的形状为菱形；如图5所示，对位标记2的空心区域在显示基板上的正投影的形状为圆形。对于对位标记的空心区域在显示基板上的正投影的形状，可以根据实际情况而定，不仅仅限于本发明附图中涉及到的形状，在此不做限定。

进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图2和图3所示，对位标记2可以是由亚像素单元的底边、亚像素单元的中间区域设置的隔断3，以及亚像素单元的两侧边围绕组成的闭合结构；亚像素单元的底边为平整状，这样在亚像素单元所在区域内就形成了一个四边形的中空区域作为对位标记，制作方式简单，只需在亚像素单元的中间区域增加一隔断，隔断上下所对应的区域可以保持透光，对于透过率影响仅有隔断区域面积。

进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图2所示，当对位标记2的空心区域在显示基板上的正投影的形状需要设置为正方形时，只需通过在亚像素单元内做出一个正方形空白区域，该区域大小根据亚像素单元的大小可以进行调整，而曝光机检出系可以检出的最小的极限一般为32μm*32μm左右，因此正方形的边长不能小于曝光机检出系可以检出的最小极限，此时正方形的边长可以设置为不小于32μm。

在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，当显示基板为彩膜基板时，彩膜基板上形成有黑矩阵，对位标记可以与黑矩阵同层同材质，这样，在制备显示基板时不需要增加额外的制备工序，只需要通过一次构图工艺即可形成黑矩阵和对位标记的图形，能够简化制作工艺，节省制备成本，提升产品附加值。

进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，膜层可以包括红色彩膜层、绿色彩膜层或蓝色彩膜层。红色彩膜层、绿色彩膜层或蓝色彩膜层均可以直接形成在具有空心区域的对位标记上。需要说明的是，在彩膜基板上，膜层不仅仅局限于这三种彩膜层，其他的膜层需要通过对位标记使曝光设备进行准确对位后才能最终曝光形成该膜层的图形，在曝光时均可采用本发明实施例提供的对位标记进行曝光设备的准确对位。

在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，当显示基板为阵列基板时，对位标记的材料为金属材料或绝缘材料，这样，在制备显示基板时不需要增加额外的制备工序，只需要通过一次构图工艺即可形成阵列基板的某一膜层和对位标记的图形，能够简化制作工艺，节省制备成本，提升产品附加值。

进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，膜层包括电极层、栅极金属层、源漏极金属层或有源层，电极层、栅极金属层、源漏极金属层或有源层均可以直接形成在具有空心区域的对位标记上。需要说明的是，在阵列基板上，膜层也不仅仅局限于上述膜层，其他的膜层需要通过对位标记使曝光设备进行准确对位后才能最终曝光形成该膜层的图形，在曝光时均可采用本发明实施例提供的对位标记进行曝光设备的准确对位。

在具体实施时，本发明实施例提供的显示基板中一般还会具有诸如绝缘层、钝化层、支撑柱等其他膜层结构，以及在衬底基板上还一般形成有薄膜晶体管、栅线、数据线等结构，这些具体结构可以有多种实现方式，在此不做限定。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述显示基板。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示面板，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。该显示装置的实施可以参见上述显示面板或显示基板的实施例，重复之处不再赘述。

本发明实施例提供的一种显示基板、显示面板及显示装置，该显示基板包括多个呈阵列排布的亚像素单元；在至少一个亚像素单元所在区域内设置有一具有空心区域的对位标记；对位标记用于在曝光形成显示基板上的一膜层的图形时进行曝光设备的对位。这种对位标记由于位于亚像素单元内部，不占用基板空间，可以有效增加基板利用率，且在大尺寸拼接产品中，使用这种对位标记可以满足大尺寸拼接产品的曝光需求，提高了显示基板在制造过程中的灵活性与实用性。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种显示基板，所述显示基板包括多个呈阵列排布的亚像素单元；其特征在于，

在至少一个所述亚像素单元所在区域内设置有一具有空心区域的对位标记；所述对位标记用于在曝光形成所述显示基板上的膜层图形时进行曝光设备的对位。

2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述对位标记的空心区域在所述显示基板上的正投影为中心对称图形。

3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述对位标记是由所述亚像素单元的底边、所述亚像素单元的中间区域设置的隔断、以及所述亚像素单元的两侧边围绕组成的闭合结构；

所述亚像素单元的底边为平整状。

4.如权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述对位标记的空心区域在所述显示基板上的正投影的形状为正方形；

所述正方形的边长不小于32μm。

5.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板时，所述彩膜基板上形成有黑矩阵，所述对位标记与所述黑矩阵同层同材质。

6.如权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述膜层包括红色彩膜层、绿色彩膜层和/或蓝色彩膜层。

7.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为阵列基板时，所述对位标记的材料为金属材料或绝缘材料。

8.如权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述膜层包括电极层、栅极金属层、源漏极金属层和/或有源层。

9.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的显示基板。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的显示面板。