CN101341428B - 配备有黑矩阵的滤光器和液晶彩色显示器 - Google Patents
配备有黑矩阵的滤光器和液晶彩色显示器 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101341428B CN101341428B CN2006800480318A CN200680048031A CN101341428B CN 101341428 B CN101341428 B CN 101341428B CN 2006800480318 A CN2006800480318 A CN 2006800480318A CN 200680048031 A CN200680048031 A CN 200680048031A CN 101341428 B CN101341428 B CN 101341428B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- light
- black matrix
- layer
- shielding layer
- reflection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
一种配备有黑矩阵的滤光器包括适于有选择地屏蔽从光引入侧入射的光并将未屏蔽的光透射到光输出侧的黑矩阵,其中该黑矩阵包括:光屏蔽层;以及在光屏蔽层的光引入侧形成的第一反射抑制层。
Description
技术领域
本发明涉及一种适于有选择地屏蔽从光引入侧入射的光并且将未屏蔽的光透射到光输出侧的配备有黑矩阵的滤光器,还涉及一种使用该配备有黑矩阵的滤光器的液晶显示器。具体而言,本发明涉及用于防止由于将内部反射光照射到薄膜晶体管(FFT)上而引起TFT故障的改进技术。
背景技术
在当前极为普遍的彩色液晶显示器中使用的滤色器被配置为使得有色像素层R、G和B(分别对应于红色、绿色和蓝色)形成于透明基板上,以及黑矩阵形成于有色像素R、G和B的相邻像素之间的各间隙上以便增强显示对比度。尤其是,在使用TFT的有源矩阵驱动型液晶显示设备中,黑矩阵被用来防止由于将光照射到TFT上而引起的电流泄漏而使图片质量降级。近年来,对于黑矩阵已经要求等于或者高于4.0的高的光学密度(O.D.),以便增强显示图像的显示对比度。另一方面,通过增加黑矩阵的厚度来减小滤色器的表面光滑度。因此,有必要将黑矩阵形成为如同薄膜。
迄今为止,金属薄膜已经用来制造具有强光屏蔽能力的用于显示设备的黑矩阵。通过执行以下方法(见Kyoritsu Shuppan有限公司于1997年4月10日公布的“Color TFT Liquid Crystal Display”的第218至220页)来制造黑矩阵。也就是说,将光阻剂涂敷于通过执行蒸发工艺或者溅射工艺来形成的由比如铬的金属制成的金属薄膜上。随后,使用具有用于显示设备的光屏蔽膜图案的光掩模对光阻剂进行曝光和显影。然后蚀刻曝光后的金属薄膜。最后剥离和去除金属薄膜上余留的光阻剂以形成黑矩阵。
这一方法使用金属薄膜。因此,即使在模的厚度小的情况下,仍获得好的光屏蔽效果。然而,这一方法要求执行蒸发工艺或者溅射工艺的真空膜形成步骤,还要求蚀刻步骤。因此,这一方法的问题在于黑矩阵的成本高。此外,由于使用金属膜,所以膜的反射率非常高。因此,这一方法的另一问题在于显示对比度在强外部光之下为低。另一方面,已经提出一种使用低反射率铬膜(包括例如分别由金属铬和氧化铬制成的两层)的方法。然而,由于在蚀刻步骤中对包含金属离子的废液放电,所以这一方法的主要问题在于环境负担大。尤其是,最常使用的铬有害并且造成很大环境负担。近来,如EU指令如ELV和RoHS所显露的,关于减少环境负担的公共关注已经与日俱增。已经提出有望替代铬的金属材料。
同时,获得环境负担小的黑矩阵的技术之一是一种使用碳黑的技术(例如见JP-A-62-9301(术语“JP-A”如这里所用意指“未审公开日本专利申请”))。根据这一技术,如图7中所示,将包含碳黑的光敏树脂合成物涂敷到基板1上。对这一涂敷层进行干燥。然后通过将该干燥层曝光和显影来获得黑矩阵BM。然而,碳黑的单位涂敷量的光学密度低。因此,为了获得好的光屏蔽能力和高的光学密度,有必要增加膜的厚度t。
在使用碳黑的情况下,当保证与金属膜的光学密度等效的例如4.0的光学密度时,膜的厚度应当为1.2μm至1.5μm。因此,在形成黑矩阵BM之后形成RGB像素的情况下,相邻有色像素R和G的边界部分有时被扩张为例如图7中所示的凸出部分3、3。在平坦度和光滑度受损的滤色器5中,外部光穿过该黑矩阵周围的凸出部分3并且由于光照射到薄膜晶体管(TFT)上而引起光泄漏。因而,使用碳黑的技术的问题在于图片质量降级以及来自背光光源的光从凸出部分3的侧部入射以由此使显示质量降级。
一种使用金属微粒取代碳黑的方法称为一种鉴于上述问题获得环境负担小而光学密度高并且形成为薄膜的黑矩阵的方法(例如见JP-A-2004-240039)。根据这一方法,与形成金属薄膜的方法相比,可以获得环境负担小而光学密度高并且形成为薄膜的黑矩阵。
在使用金属微粒形成的配备有黑矩阵的滤光器情况下,与使用碳黑来形成黑矩阵的情况相比,可以减少黑矩阵的膜厚度。另外,在具有使用金属微粒形成的黑矩阵的滤光器情况下,与使用金属薄膜来形成黑矩阵的情况相比,可以减少环境负担。
发明内容
然而,即使在使用金属微粒形成的黑矩阵情况下,膜的反射率仍然高。因此,尤其是在具有设置于配备有黑矩阵的滤光器与背光光源之间的液晶面板的平面液晶显示器的情况下,当来自背光光源的由液晶面板透射的光从滤光器的光引入侧入射时,入射光有时被黑矩阵的光引入侧表面从该侧表面朝向液晶面板反射。预期的是,当出现这样的内部反射时,会引起由于光照射所致的在液晶面板中设置的TFT的故障。这样的问题在背光光源用来增加亮度的情况下变得突出。
鉴于上述境况而实现了本发明。本发明的一个目的在于提供一种能够防止已经从光引入侧入射的光被黑矩阵反射以及再次从光引入侧输出的配备有黑矩阵的滤光器。本发明的另一目的在于提供一种利用该配备有黑矩阵的滤光器的液晶显示器。因此,防止出现向其照射内部反射光的TFT的故障。因而,可以增强液晶面板的显示质量。
根据本发明的配备有黑矩阵的滤光器包括:黑矩阵,适于有选择地屏蔽从光引入侧入射的光以及将未屏蔽的光透射到光输出侧。该黑矩阵包括光屏蔽层以及在该光屏蔽层的光引入侧形成的第一反射抑制(inhibition)层。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的第一反射抑制层抑制了入射光的反射。也可以防止造成已经从光引入侧入射的光再次从光引入侧输出的内部反射。
根据本发明的液晶显示器被配置为使得配备有黑矩阵的滤光器被布置为跨液晶面板与背光光源相对。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到配备有黑矩阵的滤光器的黑矩阵上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的第一反射抑制层抑制了入射光的反射。也减少了会照射到在液晶面板上设置的TFT上的反射光的数量。因而,可以防止由于通过光屏蔽层将背光照射到TFT上作为内部反射光而造成的TFT的故障。也可以增强液晶面板的显示质量。
(1)根据本发明的第一方面,一种配备有黑矩阵的滤光器包括:黑矩阵,适于有选择地屏蔽从光引入侧入射的光以及将未屏蔽的光透射到光输出侧,其中该黑矩阵包括:光屏蔽层;以及在光屏蔽层的光引入侧形成的第一反射抑制层。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的第一反射抑制层抑制了该入射光反射。也就是说,可以抑制出现造成已经从光引入侧入射的光再次从光引入侧输出的内部反射。因而,在配备有黑矩阵的滤光器与背光光源之间设置液晶面板的情况下,可以抑制来自背光光源的由液晶面板透射的光被滤光器所配备的黑矩阵反射以及抑制将该光照射到液晶面板的TFT上。
(2)根据第(1)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中黑矩阵包括在光屏蔽层的光输出侧设置的第二反射抑制层。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,即使在光屏蔽层是金属膜的情况下,仍通过在光屏蔽层的光输出侧形成第二反射抑制层,利用该第二反射抑制层来减少金属膜的高反射率。因此,即使在外部光之下仍可获得高的显示对比度。
(3)根据第(1)或者(2)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中所属反射抑制层包括光吸收材料。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,在黑矩阵的光引入侧形成的反射抑制层由光吸收材料制成。因此,当来自例如背光光源的光从光引入侧照射到黑矩阵上时,照射光被光吸收材料吸收并在穿过光吸收材料的过程中衰减。未被完全吸收而到达光屏蔽层的光被反射。这一反射光被部分地吸收并在再次穿过光吸收材料的过程中衰减。因而,抑制了来自光引入侧的照射到黑矩阵上的光反射。
(4)根据第(3)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中光吸收材料是碳黑和包括碳黑的混合物中之一。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,碳黑或者包括碳黑的混合物用作光吸收材料。因此,捏制和涂敷直径为5nm至500nm的精细碳微粒。因而,可以容易地低成本形成高密度高精确度(或者高分辨率)的光吸收膜。
(5)根据第(1)至(4)项中任一项的配备有黑矩阵的滤光器,其中光屏蔽层包括金属微粒。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,膜厚度大,并且与其中黑矩阵包括碳黑的滤光器相比,可以获得高的光屏蔽能力。
(6)根据第(5)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中光屏蔽层被配置为在粘合剂中分散金属微粒以能够屏蔽光。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,可以通过应用印制技术的简单涂敷来形成光屏蔽层。
(7)根据第(6)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中粘合剂包括有机聚合物粘合剂。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,通过在粘合剂中分散金属微粒以能够屏蔽光来形成光屏蔽层。使用有机聚合物粘合剂作为用作接合剂的粘合剂。有机聚合物粘合剂的例子是具有保护胶体性质的凝胶。
(8)根据第(5)至(7)项中任一项的配备有黑矩阵的滤光器,其中金属微粒包括银和包含银的化合物中之一。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,金属微粒由银或者包含银的化合物制成。由此获得优良的柔韧性和延展性。因而,可以容易地低成本印制形成高密度高精确度(或者高分辨率)的光屏蔽层。
(9)根据本发明的第二方面,一种液晶显示器包括:根据第(1)项的配备有黑矩阵的滤光器;在配备有黑矩阵的滤光器的光引入侧布置的背光光源;以及在配备有黑矩阵的滤光器与背光光源之间布置的液晶面板。
根据该液晶显示器,当已经从光引入侧入射的光照射到配备有黑矩阵的滤光器的黑矩阵上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的第一反射抑制层抑制了入射光反射。因此,减少了照射到在液晶面板上设置的TFT上的反射光的数量。
(10)根据本发明的第三方面,一种配备有黑矩阵的滤光器包括:黑矩阵,适于有选择地屏蔽从光引入侧入射的光以及将未屏蔽的光透射到光输出侧,其中该黑矩阵包括:光屏蔽层;以及在光屏蔽层的光引入侧形成的回复反射层(retro-reflection layer)。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的回复反射层沿与入射方向相同的方向返回该入射光。也就是说,已经从光引入侧入射的光没有成为在除入射方向之外的方向上行进的内部反射光(或者杂散光)。因而,在液晶面板布置在配备有黑矩阵的滤光器与背光光源之间的情况下,防止来自背光光源的由液晶面板透射的光被配备有黑矩阵的滤光器的黑矩阵反射以及防止将该光照射到液晶面板的TFT上。
(11)根据第(10)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中该黑矩阵包括在光屏蔽层的光输出侧设置的反射抑制层。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,即使在光屏蔽层是金属膜的情况下,仍通过在光屏蔽层的光输出侧形成反射抑制层,利用反射抑制层来减少金属膜的高反射率。因此,即使在外部光之下仍可获得高的显示对比度。
(12)根据第(11)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中所述反射抑制层包括光吸收材料。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,所述反射抑制层由光吸收材料制成。因此,当外部光照射到黑矩阵上时,照射光被光吸收材料部分吸收并且在穿过光吸收材料的过程中衰减。未被吸收而到达光屏蔽层的光被反射。该反射光被部分地吸收并在再次穿过光吸收材料的过程中衰减。因而,抑制了来自光输出侧的照射到黑矩阵上的外部光反射。
(13)根据第(12)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中光吸收材料是碳黑和包括碳黑的混合物中之一。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,碳黑或者包括碳黑的混合物用作光吸收材料。因此,捏制和涂敷直径为5nm至500nm的精细碳微粒。因而,可以容易地低成本形成高密度高精确度(或者高分辨率)的光吸收膜。
(14)根据第(10)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中光屏蔽层包括金属微粒。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,膜厚度大,并且与其中黑矩阵包括碳黑的滤光器相比,可以获得高的光屏蔽能力。
(15)根据第(14)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中光屏蔽层被配置为在粘合剂中分散金属微粒以能够屏蔽光。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,可以通过应用印制技术的简单涂敷来形成光屏蔽层。
(16)根据第(15)项的配备有黑矩阵的滤光器,其中粘合剂包括有机聚合物粘合剂。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,通过在粘合剂中分散金属微粒以能够屏蔽光来形成光屏蔽层。使用有机聚合物粘合剂作为用作接合剂的粘合剂。有机聚合物粘合剂的例子是具有保护胶体性质的凝胶。
(17)根据第(14)至(16)项中任一项的配备有黑矩阵的滤光器,其中金属微粒包括银和包含银的化合物中之一。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,金属微粒由银或者包含银的化合物制成。由此获得优良的柔韧性和延展性。因而,可以容易地低成本印制形成高密度高精确度(或者高分辨率)的光屏蔽层。
(18)根据第(10)至(17)项中任一项的配备有黑矩阵的滤光器,其中回复反射层包括:接合剂层,形成于光屏蔽层的在光引入侧设置的表面上并且具有光吸收材料;以及多个微小玻璃珠,布置在接合剂层上并且具有光折射作用。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,光吸收材料被添加到其上布置有玻璃珠的接合剂层。当已经从光引入侧入射的光照射到配备有黑矩阵的滤光器的黑矩阵上时,再次沿入射方向返回已经在各玻璃珠上入射的入射光。另一方面,已经在接合剂层上入射的光被光吸收材料部分地吸收并在穿过光吸收材料的过程中衰减。因而,抑制了来自光引入侧的照射到黑矩阵上的光反射。
(19)根据本发明的第四方面,一种液晶显示器包括:根据第(10)至(18)项中任一项的配备有黑矩阵的滤光器;在配备有黑矩阵的滤光器的光引入侧布置的背光光源;以及在配备有黑矩阵的滤光器与背光光源之间布置的液晶面板。
根据该配备有黑矩阵的滤光器,当已经从光输出侧入射的光照射到配备有黑矩阵的滤光器的黑矩阵上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的回复反射层沿与入射方向相同的方向返回入射光。因此,防止入射光成为内部反射光以及照射到在液晶面板上设置的TFT上。
根据本发明的配备有黑矩阵的滤光器包括适于有选择地屏蔽从光引入侧入射的光并将未屏蔽的光透射到光输出侧的黑矩阵。该黑矩阵包括光屏蔽层和在光屏蔽层的光引入侧形成的第一反射抑制层。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的第一反射抑制层抑制了入射光反射。也可以防止造成已经从光引入侧入射的光再次从光引入侧输出的内部反射。
根据本发明的配备有黑矩阵的滤光器包括适于有选择地屏蔽从光引入侧入射的光并将未屏蔽的光透射到光输出侧的黑矩阵。该黑矩阵包括光屏蔽层和在光屏蔽层的光引入侧形成的回复反射层。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的回复反射层沿与入射方向相同的方向反射入射光。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的回复反射层沿与入射方向相同的方向反射入射光。因而,可以防止已经从光引入侧入射的光成为内部反射光(或者杂散光)。
根据本发明的液晶显示器被配置为使得配备有黑矩阵的滤光器被布置为跨液晶面板与背光光源相对。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到配备有黑矩阵的滤光器的黑矩阵时,在光屏蔽层的光引入侧形成的第一反射抑制层抑制了入射光反射。也减少了会照射到在液晶面板上设置的TFT上的反射光的数量。因而,可以防止由于通过光屏蔽层将背光照射到TFT上作为内部反射光而造成的TFT的故障。也可以增强液晶面板的显示质量。
根据本发明的液晶显示器被配置为使得配备有黑矩阵的滤光器被布置为跨液晶面板与背光光源相对。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到配备有黑矩阵的滤光器的黑矩阵上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的回复反射层沿入射方向返回入射光。因此,入射光既不成为内部反射光(或者杂散光)也不照射到在液晶面板上设置的TFT上。因而,可以防止由于通过光屏蔽层将背光照射到TFT上作为内部反射光而造成的TFT的故障。也可以增强液晶面板的显示质量。
附图说明
将参照以下附图更好地理解这里公开的本发明,在附图中:
图1是图示了根据第一实施例的配备有黑矩阵的滤光器的主要部分的大致放大剖面图;
图2是图示了具有图1中所示的配备有黑矩阵的滤光器的液晶显示器的例子的框图;
图3是图示了图2中所示液晶面板的主要部分的放大顶视图;
图4是在图3中所示箭头方向上沿着线A-A得到的截面图;
图5是图示了TFT的连接状态的示意图;
图6是图示了第一实施例中黑矩阵的修改型的截面图;
图7是图示了在第一实施例中使用碳黑来形成常规黑矩阵的配备有黑矩阵的滤光器的放大截面图;
图8是图示了根据本发明第二实施例的配备有黑矩阵的滤光器的主要部分的大致放大截面图;
图9是图示了图8中所示回复反射层的放大截面图;以及
图10是图示了第二实施例中黑矩阵的修改型的截面图。
具体实施方式
(第一实施例)
下文参照附图具体描述根据本发明的配备有黑矩阵的滤光器和液晶显示器的第一实施例。
图1是图示了根据本发明的配备有黑矩阵的滤光器的主要部分的放大图。图2是图示了具有图1中所示的配备有黑矩阵的滤光器的液晶显示器的例子的框图。图3是图示了图2中所示液晶板的主要部分的放大平面图。图4是在图3中所示箭头方向上沿着线A-A得到的截面图。图5是图示了TFT的连接状态的示意图。
如图2中所示,液晶显示器100被配置为使得水平奇数扫描电路13a、水平偶数扫描电路13b和垂直扫描电路15连接到液晶面板11。RGB极性切换电路17和控制信号生成电路19连接到各水平奇数扫描电路13a和水平偶数扫描电路13b。控制信号生成电路19连接到垂直扫描电路15。另外,控制信号生成电路19的水平同步信号和垂直同步信号从视频电路21输入到RGB极性切换电路17。
根据水平同步信号和垂直同步信号,控制信号生成电路19生成与液晶面板11的光通/断特性对应的RGB信号电压,并且还生成具有正极性和负极性的RGB信号以执行对液晶面板11的AC驱动。这防止由于只将仅在单个方向上作用的电场施加到液晶面板11而使液晶的特性降级。RGB信号依照与像素数目对应的定时由RGB极性切换电路17进行切换并且被输入到水平奇数扫描电路13a和水平偶数扫描电路13b。另一方面,如在该图中所示,控制信号电压从顶部扫描线开始串行地施加到垂直扫描电路15。因此,连接到施加有控制信号电压的各扫描线的所有TFT(见图3)被导通。信号电压通过图5中所示的信号线、TFT 23的源极S及其漏极电极D从水平奇数扫描电路13a或者水平偶数扫描电路13b施加到像素电极25。所施加的信号电压存储于作为电容器工作的像素电极25中并且继续驱动图4中所示的液晶11a直至执行下一扫描。
如图4中所示,液晶显示器100具有在液晶面板11的一个表面(图4中所示底表面)上设置的背光光源30,并且还具有在其另一表面(图4中所示顶表面)上设置的配备有黑矩阵的滤光器27。也就是说,背光光源30布置在配备有黑矩阵的滤光器27的光引入侧。液晶面板11布置在配备有黑矩阵的滤光器27和背光光源30之间。
合适配置的光源可以用作背光光源,例如利用通过棱镜从冷阴极射线管或者LED输出的光的光源。
配备有黑矩阵的滤光器27被配置为使得有色像素层R、G和B(分别对应于红色、绿色和蓝色)形成于透明基板29上(也就是说,在图4中所示底表面上),而黑矩阵31形成于有色像素R、G和B的各相邻像素对之间的间隙中以增强显示对比度。配备有黑矩阵的滤光器27具有黑矩阵,使得有选择地屏蔽已经从光引入侧入射的光并将未屏蔽的光透射到光输出侧。
顺便提一点,如图1中所示,黑矩阵31包括光屏蔽层33和在光屏蔽层33的光引入侧形成的第一反射抑制层35。使用用于产生黑矩阵的有色合成物(下文有时简称为“有色合成物”)来形成光屏蔽层33。有色合成物由金属微粒组成或者包括金属微粒。有色合成物还可以包含作为粘结剂工作的聚合物以及溶剂。在光屏蔽层33由金属微粒构成的情况下,光屏蔽层33与包括碳黑的黑矩阵相比具有大的膜厚度和高的光屏蔽能力。此外,在通过在粘结剂中分散金属微粒以能够屏蔽光来形成光屏蔽层33的情况下,可以通过利用印制技术执行粘结剂的简单涂敷来实现形成光屏蔽层33。此外,在通过在粘结剂中分散金属微粒以能够屏蔽光来形成光屏蔽层33的情况下,可以使用有机聚合物粘结剂作为用作粘合剂的粘结剂。例如,具有保护胶体性质的凝胶可以用作有机聚合物粘结剂。
例如,银微粒、由包括银的合成物制成的微粒、金微粒和铜微粒用作金属微粒。虽然可以使用商业上可获得的金属微粒,但是可以通过对金属离子执行化学还原方法或者非电解电镀方法或者通过执行金属蒸发方法来制备金属微粒。在金属微粒是银微粒(或者胶体银)的情况下,可以利用包括在溶液中将银离子化学还原为银的方法的以下常规已知方法,例如:如在美国专利No.2,688,601的说明书中所述使用对苯二酚在胶凝水溶液中化学还原可溶银盐的方法、如在德国专利No.1,096,193的说明书中所述使用肼还原微溶银盐的方法以及如在美国专利No.2,921,914号中所述使用丹宁酸将银离子还原为银的方法。常规已知方法也包括如在JP-A-5-134358中所述通过执行非电解电镀方法形成银微粒的方法以及在非活性气体如氦气中蒸发大块金属的气体蒸发方法。尤其是在金属微粒由银或者包含银的化合物制成的情况下,获得优良的柔韧性和延展性。因而,可以容易地低成本印制形成高密度高精确度(或者高分辨率)的光屏蔽层。
另外,在使用有色合成物形成光屏蔽层33的情况下,优选的是光屏蔽层33的每μm厚度的光学密度(O.D.)等于或者高于1。考虑到在生产配备有黑矩阵的滤光器时在加热步骤中防止金属微粒熔化,调整有色化合物中金属微粒的含量,使得在将要形成的光屏蔽层33中包含的金属微粒的含量的质量百分比优选为10%到90%、更优选为80%左右。顺便提一点,即使当在光屏蔽层33中包含的金属微粒的含量具有同一数值,但是其所得到的光学密度随金属微粒的平均微粒直径而变化。
从光屏蔽层33的光学密度的观点来看,在有色合成物中使用的金属微粒的平均微粒直径的范围优选为从60nm至250nm、更优选为从70nm至200nm。金属微粒的平均微粒直径是根据使用透射电子显微镜(TEM)进行观察而测量的50个微粒的直径的平均值。
有色合成物可以具有光敏性。为了向有色合成物赋予光敏性,向有色合成物添加光敏树脂合成物。在JP-A-10-160926的第16至22和29段中描述的合成物可以用作光敏树脂合成物。在金属微粒用作水分散体的情况下,类似于银胶体,需要水基合成物作为光敏树脂合成物。在JP-A-8-271727的第15至23段中描述了这样的光敏树脂合成物。此外,商业上可获得的光敏树脂合成物是例如由Toyo Gosei有限公司制造的“SPP-M20”(商标名)。可以由这些有色合成物(包括光敏合成物)制造作为薄膜并且光学密度高的光屏蔽层33。
还使用光敏有色合成物来制造光敏转移材料。然后,可以使用这一光敏转移材料来制造光屏蔽层33。光敏转移材料适于利用至少光敏有色合成物作为支撑介质以及具有光敏光屏蔽层。因此,提供光敏光屏蔽层作为光屏蔽层。优选地,光敏光屏蔽层的膜厚度约为0.25μm。优选地,支撑介质由化学和热稳定的柔性材料制成。具体而言,对于支撑介质的材料而言,由Teflon(注册商标)、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二酯、Polyalylate、聚碳酸酯、聚乙烯和聚丙烯制成的薄片或者由这些材料制成的层压产物是优选的。此外,在提供碱可溶型热塑层的情况下,优选的是,在这一层与支撑介质之间的可剥离性良好。支撑介质的适当厚度范围从5μm至30μm、尤其优选为20μm至150μm。
可以通过使用涂敷器如旋涂器、Whiler涂敷器、辊式涂敷器、帘式涂敷器、刀式涂敷器、拉丝式涂敷器或者挤压器(extruder)来涂敷并且干燥有色光敏合成物的溶液以制造光敏转移材料。在提供碱可溶型热塑层的情况下,类似地制造光敏转移材料。由于光敏转移材料具有由有色合成物制造的光敏光屏蔽层,所以可以制造作为薄膜并且光学密度高的光屏蔽层33。
因此,黑矩阵31具有使用有色合成物或者光敏转移材料制造的光屏蔽层33。优选地,光屏蔽层33的膜厚度约为0.25μm。通过分散金属微粒来形成黑矩阵31的光屏蔽层33。因此,即使光屏蔽层33是薄膜,光屏蔽层3仍具有足够的光学密度。
一种使用光敏有色合成物来制造光屏蔽层33的方法如下执行。也就是说,首先,通过用于黑矩阵的光掩模,利用普通方法来曝光通过将包含金属微粒的光敏有色合成物涂敷到光学透明基板上(使用涂敷光敏有色合成物的方法,这类似于在制造光敏转移材料时使用的方法)而形成的层。随后,对曝光层执行显影。可选地,在有色合成物无光敏性的情况下,在通过在光学透明基板上涂敷包含金属微粒的有色合成物而形成的层上形成可以显影的由光敏树脂合成物形成的层。然后,通过用于黑矩阵的光掩模,利用普通方法来曝光由光敏树脂合成物形成的层。随后,对该层执行显影和蚀刻。由此形成光屏蔽层33。
一种使用光敏转移材料制造光屏蔽层33的方法如下执行。首先,在光学透明基板上放置和堆叠光敏转移材料,使得光敏转移材料的光敏光屏蔽层与之接触。接着,从光敏转移材料的层叠体以及光学透明基板剥离支撑介质。随后,通过用于黑矩阵的光掩模来曝光由光敏转移材料形成的层。由此形成光屏蔽层33。可以无需执行复杂工艺而低成本地实现制造光屏蔽层33的这一方法。
在光屏蔽层33的光引入侧形成的第一反射抑制层35包含光吸收材料。光吸收材料可以是碳黑或者包含碳黑的混合物。可以通过曝光和显影通过涂敷包含碳黑的光敏树脂合成物并且干燥涂敷的合成物而获得的涂敷层来形成第一反射抑制层35。第一反射抑制层35的厚度可以设置为约0.25mm,这约等于例如光屏蔽层33的厚度。
在黑矩阵31中,在光引入侧形成的第一反射抑制层35由光吸收材料制成。因此,当来自例如背光光源的光从光引入侧照射到黑矩阵31时,照射光由光吸收材料吸收并在穿过光吸收材料的过程中衰减。未被吸收而到达光屏蔽层33的光被反射。这一反射光被部分地吸收并在再次穿过光吸收材料的过程中衰减。因而,抑制了从光引入侧照射到黑矩阵31上的光中的大部分光反射。
另外,碳黑或者包括碳黑的混合物用作光吸收材料。因此,捏制和涂敷直径为5nm至500nm的精细碳微粒。因而,可以容易地低成本形成高密度高精确度(或者高分辨率)的光吸收膜(第一反射抑制层35)。
图6是图示了黑矩阵的修改型的截面图。
如图6中所示,黑矩阵31可以在光屏蔽层33的光输出侧具有第二反射抑制层37。在这一情况下,第二反射抑制层37的厚度可以设置为例如约0.25μm,这约等于光屏蔽层33的厚度。因此,在根据这一修改型的黑矩阵31A情况下,光屏蔽层33的膜厚度ta、第一反射抑制层35的膜厚度tb和第二反射抑制层37的膜厚度tc的总膜厚度约为0.75μm。与在通过仅使用碳黑形成的黑矩阵来保证相似光学密度(O.D.)的情况下约1.25μm的厚度相比,可以实现黑矩阵厚度大大地减少。另外,即使在光屏蔽层33是金属膜的情况下,仍可以通过在光屏蔽层33的光输出侧形成第二反射抑制层37,利用第二反射抑制层37减少金属膜的高反射率。因此,即使在外部光之下仍可获得高的显示对比度。
具有黑矩阵31的配备有黑矩阵的滤光器27被配置为使得当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵31上时,在光屏蔽层33的光引入侧形成的第一反射抑制层35抑制了入射光反射。也就是说,抑制了造成已经从光引入侧入射的光再次从光引入侧输出的内部反射。因而,在配备有黑矩阵的滤光器27与背光光源之间设置液晶面板11的情况下,抑制了来自背光光源的由液晶面板11透射的光被配备有黑矩阵的滤光器27的黑矩阵31反射以及照射到液晶面板11的TFT 23上。因此,在具有配备有黑矩阵的滤光器27的液晶面板100中,当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵31上时,第一反射抑制层35抑制了入射光反射。因此减少了照射到在液晶面板11上设置的TFT 23上的反射光的数量。
因此,根据上述实施例的配备有黑矩阵的滤光器27包括适于有选择地屏蔽从光引入侧入射的光并将未屏蔽的光透射到光输出侧的黑矩阵31。该黑矩阵31包括光屏蔽层33和在光屏蔽层33的光引入侧形成的第一反射抑制层35。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵31上时,在光屏蔽层33的光引入侧形成的第一反射抑制层35抑制了入射光反射。还可以防止造成已经从光引入侧入射的光再次从光引入侧输出的内部反射。
另外,使用配备有黑矩阵的滤光器27的液晶显示器100被配置为使得配备有黑矩阵的滤光器27布置为跨液晶面板11与背光光源相对。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到配备有黑矩阵的滤光器27的黑矩阵31上时,在光屏蔽层33的光引入侧形成的第一反射抑制层35抑制了入射光反射。也减少了会照射到在液晶面板11上设置的TFT 23上的反射光的数量。因而,可防止由于通过光屏蔽层33将背光照射到TFT 23上作为内部反射光而造成的TFT 23的故障。也可以增强液晶面板11的显示质量。
(第二实施例)
下文参照附图具体描述根据本发明的配备有黑矩阵的滤光器和液晶显示器的第一实施例。参照第二实施例,与先前参照第一实施例描述的部分相似的部分用相同标号来表示。
图8是图示了根据第二实施例的配备有黑矩阵的滤光器的主要部分的放大图。图9是图示了TFT的连接状态的示意图。
顺便提一点,如图8中所示,黑矩阵31’包括光屏蔽层33和在该光屏蔽层33的光引入侧形成的回复反射抑制层35’。
如图9中所示,在光屏蔽层33的光引入侧形成的回复反射层35’包括在光屏蔽层33的光引入侧这一侧的表面上形成的接合剂层41,并且还包括具有光折射作用的布置在接合剂层41上的大量微小玻璃珠43。优选地,如随后将要所述,向接合剂层41添加光吸收材料,比如碳黑。在制造回复反射层35’的工艺中使用玻璃珠43,各玻璃珠的整个球面镀有例如铝。利用生产率良好的等离子体离子电镀方法作为电镀各玻璃珠43的整个球面的方法(例如见JP-A-2000-336473)。
一种形成回复反射层35’的方法执行如下。首先,通过网印在光屏蔽层33的光引入侧形成作为粘附剂层的接合剂层41。大量聚合物材料可以用作在接合剂层41中使用的粘合剂。具体而言,热固材料和热塑材料用作接合剂。适当的聚合物材料例如有聚氨酯、环氧树脂、醇酸树脂、丙烯酸树脂和酸烯烃共聚物(例如乙烯-甲基丙烯酸和聚氯乙烯-多乙酸乙烯酯共聚物)。接合剂的其它典型例子有聚乙烯醇缩丁醛、聚脂树脂、醇酸树脂、丙烯酸树脂及其组合。
随后,在涂敷的接合剂层41上分散放置玻璃珠43,各玻璃珠的整个球面镀有金属如铝45。可以通过网印涂敷添加有玻璃珠43的涂敷材料来分散放置玻璃珠43。然而,根据本发明的分散放置玻璃珠43的方法不限于此。玻璃珠43可以直接地分散放置于其上。因而,各玻璃珠43按半球嵌入于接合剂层41中。虽然可能需要将分散放置的玻璃珠43推入接合剂层41中的步骤,但是由于在玻璃珠43与接合剂层41之间的具体重力差可以通过自发沉降将玻璃珠43推入其中。随后,在干燥和固化接合剂层41之后,通过碱性水溶液来溶解或者剥离涂敷在各玻璃珠43的暴露半球上的金属膜(由铝45制成)。随后清洗和干燥玻璃珠43。然后,形成保护层47,使得各玻璃珠43的剥离金属膜的部分嵌入于其中。由此形成玻璃珠43嵌入于其中的回复反射层35’。
此外,优选地,向其中放置玻璃珠43的接合剂层41添加光吸收材料。碳黑可以用作光吸收材料。当已经从光引入侧入射的光照射到通过将光吸收材料添加到接合剂层41而获得的回复反射层34’上时,已经在各玻璃珠43上入射的入射光沿入射方向返回。另一方面,已经在接合剂层41上入射的入射光由光吸收材料部分地吸收并在穿过光吸收材料的过程中衰减。因而抑制了从光引入侧照射到回复反射层35’上的光反射。
图10是图示了第二实施例中黑矩阵的修改型的截面图。
如图10中所示,黑矩阵31可以在光屏蔽层33的光输出侧具有反射抑制层37。在这一情况下,反射抑制层37的厚度可以设置为例如约0.25μm。反射抑制层37包含光吸收材料。光吸收材料可以是碳黑或者包含碳黑的混合物。可以通过涂敷和干燥包含碳黑的光敏树脂合成物并且曝光和显影已经干燥的涂敷层来形成回复反射层35’。另外,碳黑或者包括碳黑的混合物用作反射抑制层37中包含的光吸收材料。由此捏制和涂敷直径为5nm至50nm的精细碳微粒。因而,可以容易地低成本形成高密度高精确度(或者高分辨率)的光吸收膜(回复反射层35’)。
在黑矩阵31’中,当已经从光引入侧入射的光照射到黑矩阵31’上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的回复反射层35’沿与入射方向相同的方向返回入射光。也就是说,已经从光引入侧入射的光没有成为在除入射方向以外的方向上行进的有害内部反射光(或者杂散光)。因而,在液晶面板11设置在配备有黑矩阵的滤光器27与背光光源之间的情况下,防止了来自背光光源的由液晶面板11透射的光被配备有黑矩阵的滤光器27的黑矩阵31’反射以及照射到液晶面板11的TFT 23上。
另外,在黑矩阵31’的光输出侧形成反射抑制层37。因此,当外部光从光输出侧照射到黑矩阵31时,照射光由光吸收材料部分地吸收并在穿过光吸收材料的过程中衰减。此外还反射未被吸收而到达光屏蔽层的光。这一反射光被部分地吸收并在再次穿过光吸收材料的过程中衰减。因而,即使在光屏蔽层33是金属膜的情况下,通过在光屏蔽层33的光输出侧形成反射抑制层,利用反射抑制层37减少金属膜的高反射率。因此即使在外部光之下仍可获得高的显示对比度。
根据本发明上述实施例的配备有黑矩阵的滤光器27包括适于有选择地屏蔽从光引入侧入射的光并将未屏蔽的光透射到光输出侧的黑矩阵31’。该黑矩阵31’包括光屏蔽层33和在光屏蔽层33的光引入侧形成的回复反射层35’。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵31’上时,在光屏蔽层33的光引入侧形成的回复反射层35’沿与入射方向相同的方向反射入射光。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到黑矩阵31’上时,在光屏蔽层的光引入侧形成的回复反射层35’沿与入射方向相同的方向反射入射光。因而,可以防止已经从光引入侧入射的光成为内部反射光(或者杂散光)。
另外,使用配备有黑矩阵的滤光器27的液晶显示器100’被配置为使得配备有黑矩阵的滤光器27被布置为跨液晶面板11与背光光源相对。因此,当已经从光输出侧入射的光照射到配备有黑矩阵的滤光器27的黑矩阵31’上时,在光屏蔽层3的光引入侧形成的回复反射层35’沿入射方向返回入射光。因此,入射光既不成为内部反射光也不照射到在液晶面板1 1上设置的TFT 23上。因而,可以防止由于通过光屏蔽层33将背光照射到TFT 23上作为内部反射光而造成的TFT 23的故障。也可以增强液晶面板11的显示质量。
本申请基于通过引用将内容结合于此的申请日为2005年12月21日的日本专利申请(JP 2005-368325)和申请日为2005年12月22日的日本专利申请(JP 2005-370313)而要求外国优先权。
Claims (10)
1.一种配备有黑矩阵的滤光器,包括:黑矩阵,适于有选择地屏蔽从光引入侧入射的光并将未屏蔽的光透射到光输出侧,
其中所述黑矩阵包括:
光屏蔽层;以及
在所述光屏蔽层的所述光引入侧形成的回复反射层,该回复反射层沿与入射方向相同的方向反射入射光。
2.根据权利要求1所述的配备有黑矩阵的滤光器,其中所述黑矩阵包括在所述光屏蔽层的光输出侧设置的反射抑制层。
3.根据权利要求2所述的配备有黑矩阵的滤光器,其中所述反射抑制层包括光吸收材料。
4.根据权利要求3所述的配备有黑矩阵的滤光器,其中所述光吸收材料是碳黑和包括碳黑的混合物中之一。
5.根据权利要求1所述的配备有黑矩阵的滤光器,其中所述光屏蔽层包括金属微粒。
6.根据权利要求5所述的配备有黑矩阵的滤光器,其中所述光屏蔽层被配置为在粘合剂中分散所述金属微粒以能够屏蔽光。
7.根据权利要求6所述的配备有黑矩阵的滤光器,其中所述粘合剂包括有机聚合物粘合剂。
8.根据权利要求5所述的配备有黑矩阵的滤光器,其中所述金属微粒包括银和包含银的化合物中之一。
9.根据权利要求1所述的配备有黑矩阵的滤光器,其中所述回复反射层包括:
接合剂层,形成在所述光屏蔽层的在所述光引入侧设置的表面上并且具有光吸收材料;以及
多个微小玻璃珠,布置在所述接合剂层上并且具有光折射作用。
10.一种液晶显示器,包括:
根据权利要求1所述的配备有黑矩阵的滤光器;
在所述配备有黑矩阵的滤光器的光引入侧布置的背光光源;以及
在所述配备有黑矩阵的滤光器与所述背光光源之间布置的液晶面板。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP368325/2005 | 2005-12-21 | ||
JP2005368325A JP2007171502A (ja) | 2005-12-21 | 2005-12-21 | ブラックマトリクス付フィルタ及び液晶表示装置 |
JP370313/2005 | 2005-12-22 | ||
JP2005370313A JP4810221B2 (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | 液晶表示装置 |
PCT/JP2006/326179 WO2007072998A1 (en) | 2005-12-21 | 2006-12-21 | Black-matrix-equipped filter and liquid color display |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101341428A CN101341428A (zh) | 2009-01-07 |
CN101341428B true CN101341428B (zh) | 2012-04-18 |
Family
ID=38188753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2006800480318A Expired - Fee Related CN101341428B (zh) | 2005-12-21 | 2006-12-21 | 配备有黑矩阵的滤光器和液晶彩色显示器 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8040473B2 (zh) |
KR (1) | KR101295470B1 (zh) |
CN (1) | CN101341428B (zh) |
TW (1) | TWI428642B (zh) |
WO (1) | WO2007072998A1 (zh) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7527998B2 (en) | 2006-06-30 | 2009-05-05 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Method of manufacturing MEMS devices providing air gap control |
JP2010538306A (ja) | 2007-07-31 | 2010-12-09 | クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 干渉変調器の色ずれを高めるためのデバイス |
JP5302322B2 (ja) | 2007-10-19 | 2013-10-02 | クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 一体型光起電力を有するディスプレイ |
US8941631B2 (en) | 2007-11-16 | 2015-01-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Simultaneous light collection and illumination on an active display |
US7944604B2 (en) | 2008-03-07 | 2011-05-17 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Interferometric modulator in transmission mode |
US7969638B2 (en) * | 2008-04-10 | 2011-06-28 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Device having thin black mask and method of fabricating the same |
CN102449512A (zh) | 2009-05-29 | 2012-05-09 | 高通Mems科技公司 | 照明装置及其制造方法 |
US9057872B2 (en) | 2010-08-31 | 2015-06-16 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Dielectric enhanced mirror for IMOD display |
US8963159B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-02-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
US9134527B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-09-15 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
US8736939B2 (en) | 2011-11-04 | 2014-05-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Matching layer thin-films for an electromechanical systems reflective display device |
CN103246098B (zh) * | 2013-04-26 | 2015-06-10 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种显示装置及其充电方法 |
CN104656306B (zh) * | 2015-03-23 | 2018-04-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 设置有黑矩阵的基板及其制造方法、显示装置 |
CN105093653B (zh) * | 2015-08-26 | 2018-05-29 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种彩膜基板及曲面显示装置 |
TWI602171B (zh) | 2016-03-18 | 2017-10-11 | 財團法人工業技術研究院 | 顯示裝置 |
TWI622908B (zh) * | 2016-03-18 | 2018-05-01 | 財團法人工業技術研究院 | 觸控顯示面板 |
KR102700941B1 (ko) * | 2016-10-21 | 2024-09-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 재귀반사층을 갖는 컬러 기판 및 이를 포함하는 표시 장치 |
KR102680855B1 (ko) * | 2016-11-01 | 2024-07-04 | 삼성전자주식회사 | 패널 장치 및 디스플레이 장치 |
CN107674442A (zh) * | 2017-09-25 | 2018-02-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 黑矩阵材料及其制备方法、显示装置 |
WO2020112470A1 (en) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | Corning Incorporated | Enhanced quantum dot on color filter lcd |
CN109407195A (zh) * | 2018-12-18 | 2019-03-01 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 滤光片、显示面板及滤光片制备方法 |
WO2022085824A1 (ko) * | 2020-10-22 | 2022-04-28 | 엘지전자 주식회사 | 커버 글래스, 커버 글래스 제조방법 및 이동 단말기 |
KR102457346B1 (ko) * | 2022-07-07 | 2022-10-21 | 주식회사 미디어밸리 | 전력효율 및 화질이 개선된 led전광판 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS629301A (ja) | 1985-07-05 | 1987-01-17 | Kyodo Printing Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
US5666177A (en) * | 1996-02-26 | 1997-09-09 | Industrial Technology Research Institute | Black matrix for liquid crystal display |
JP3305189B2 (ja) | 1996-03-08 | 2002-07-22 | キヤノン株式会社 | カラー表示装置及び該カラー表示装置の製造方法 |
DE69737490T2 (de) | 1996-03-08 | 2007-08-09 | Canon K.K. | Anzeigegerät und dessen Herstellungsverfahren |
JPH1073717A (ja) | 1996-06-28 | 1998-03-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 積層型ブラックマトリックスおよびブラックマトリックスの形成方法 |
JP4066467B2 (ja) | 1997-01-08 | 2008-03-26 | 凸版印刷株式会社 | ブラックマトリックス及びそれを用いたカラーフィルタ |
JPH10288703A (ja) | 1997-02-13 | 1998-10-27 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ |
JP2000019490A (ja) | 1998-06-29 | 2000-01-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射型高分子分散型液晶表示装置 |
JP3147863B2 (ja) | 1998-07-13 | 2001-03-19 | 日本電気株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
JP2000275429A (ja) | 1999-03-26 | 2000-10-06 | Fuji Xerox Co Ltd | フィルターの製造方法 |
US6501527B1 (en) | 1999-07-29 | 2002-12-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal elemental device, production process thereof and spacer-bearing substrate |
JP3997038B2 (ja) | 1999-09-09 | 2007-10-24 | キヤノン株式会社 | スペーサー付カラーフィルタと液晶素子の製造方法 |
US6639638B1 (en) * | 1999-08-27 | 2003-10-28 | International Business Machines Corporation | LCD cover optical structure and method |
JP4053260B2 (ja) | 2000-10-18 | 2008-02-27 | シャープ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス表示素子 |
JP4220796B2 (ja) * | 2003-02-04 | 2009-02-04 | 富士フイルム株式会社 | ブラックマトリックス作製用組成物及び感光性転写材料、ブラックマトリックス及びその製造方法、カラーフィルター、液晶表示素子並びにブラックマトリックス基板 |
KR20040089286A (ko) * | 2003-04-11 | 2004-10-21 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치 |
JP4401101B2 (ja) | 2003-04-18 | 2010-01-20 | 富士フイルム株式会社 | ブラックマトリックス作製用着色組成物及び感光性転写材料、ブラックマトリックス及びその製造方法、カラーフィルター、液晶表示素子並びにブラックマトリックス基板 |
JP4229805B2 (ja) | 2003-10-27 | 2009-02-25 | シャープ株式会社 | 反射型表示装置 |
JP4808383B2 (ja) | 2004-03-17 | 2011-11-02 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物及び感光性転写材料、表示装置用遮光層及びその製造方法、カラーフィルター、液晶表示素子並びに表示装置用遮光層付き基板 |
JP2005292329A (ja) | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 表示装置用の遮光膜及びその形成方法、画像形成用基板、カラーフィルター並びに転写材料 |
JP2005283673A (ja) | 2004-03-26 | 2005-10-13 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
JP2005283668A (ja) | 2004-03-26 | 2005-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 銀受容層形成組成物、ラミネート転写材料、表示装置用遮光層及びその製造方法、カラーフィルター、液晶表示素子並びに表示装置用遮光層付き基板 |
US7616368B2 (en) * | 2005-02-23 | 2009-11-10 | Pixtronix, Inc. | Light concentrating reflective display methods and apparatus |
JP4788203B2 (ja) | 2005-06-06 | 2011-10-05 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
-
2006
- 2006-12-20 TW TW095147867A patent/TWI428642B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-12-21 US US12/086,744 patent/US8040473B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-12-21 WO PCT/JP2006/326179 patent/WO2007072998A1/en active Application Filing
- 2006-12-21 KR KR1020087015168A patent/KR101295470B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-12-21 CN CN2006800480318A patent/CN101341428B/zh not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
JP特开2001-83524A 2001.03.30 |
JP特开平10-197713A 1998.07.31 |
JP特开平9-244014A 1997.09.19 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI428642B (zh) | 2014-03-01 |
TW200730892A (en) | 2007-08-16 |
CN101341428A (zh) | 2009-01-07 |
KR20080078690A (ko) | 2008-08-27 |
WO2007072998A1 (en) | 2007-06-28 |
KR101295470B1 (ko) | 2013-08-09 |
US8040473B2 (en) | 2011-10-18 |
US20090059140A1 (en) | 2009-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101341428B (zh) | 配备有黑矩阵的滤光器和液晶彩色显示器 | |
TWI359298B (en) | Liquid crystal display device and method for fabri | |
KR100305233B1 (ko) | 눈부심방지 재료 및 그것을 사용한 편광 필름 | |
CN1425941A (zh) | 滤色基板、其制造方法、液晶显示面板和电子装置 | |
TW201308179A (zh) | 導電性積層體、觸控面板及顯示裝置 | |
CN1234523A (zh) | 液晶面板及其制造方法 | |
CN107037648A (zh) | 一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置 | |
CN1336566A (zh) | 液晶装置、滤色片基板、液晶装置的制造方法以及滤色片基板制造方法 | |
CN104777665A (zh) | 黑色矩阵的制作方法 | |
CN109270733A (zh) | 一种显示面板、阵列基板和显示装置 | |
CN104765190A (zh) | 黑色矩阵的制作方法 | |
TWI356957B (en) | Electro-optical device, wiring board, and electron | |
US20050207137A1 (en) | Mounting structure for touch panel and touch panel with support plate | |
CN1510463A (zh) | 显示板用基板的制造方法 | |
JP2002023170A (ja) | 液晶表示装置 | |
CN113655667A (zh) | 反射式电子纸显示模组及其制作方法、显示装置 | |
CN100345029C (zh) | 可转换平面/立体影像的显示系统 | |
US12007663B2 (en) | Display apparatus | |
CN101750792B (zh) | 共平面开关模式液晶显示装置的滤色器基板及其制造方法 | |
TW200413773A (en) | Liquid crystal device, its driving method, and electronic apparatus | |
CN1450387A (zh) | 电光屏用基片及其制造方法和电光屏及相关电器 | |
CN107256881B (zh) | 显示面板及其制作方法、显示装置 | |
JP2007171502A (ja) | ブラックマトリクス付フィルタ及び液晶表示装置 | |
JP4810221B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
CN100426141C (zh) | 电光装置用基板的制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20120418 Termination date: 20171221 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |