CH618800A5

CH618800A5 -

Info

Publication number: CH618800A5
Application number: CH94376A
Authority: CH
Inventors: Hans Josephus Corluy; Francois Leon Schelfaut; Pierre Herman Nys; Raoul Jan Bortels
Original assignee: Agfa Gevaert Nv
Priority date: 1976-02-04
Filing date: 1976-01-26
Publication date: 1980-08-15
Also published as: IT1062025B; DE2606892A1; FR2300355B1; DE2606892C2; FR2300355A1; JPS607264B2; GB1530453A; JPS51110329A; CA1070548A; US4081280A; BE838632A

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entwicklung von photographischen Silberhalogenidmaterialien unter praktisch gleichen Entwicklungsbedingungen.

Bei der genormten Maschinenentwicklung stellen reproduzierbare Entwicklungsbedingungen eine Notwendigkeit dar. Das gilt ganz besonders im graphischen Betrieb, wo die Entwicklung der belichteten Silberhalogenidmaterialien immer häufiger automatisch erfolgt und praktisch identische, sensito-metrische Eigenschaften der Bilder erforderlich sind, so dass hier ein konstanter Entwicklungsvorgang besonders wichtig ist.

Bei den Bildern im graphischen Betrieb handelt es sich zum grossen Teil um Rasterbilder, die in kontrastreichen Silberhalogenidmaterialien mit kontrastreichen Entwicklern, das heisst den sogenannten Lith-Entwicklern, erzeugt werden. Um in Rasterbildern sehr kontrastreiche Rasterpunkte zu erhalten, ist es in der Praxis üblich gewesen, Entwicklerrezepturen zu benutzen, die aus einem p-Dihydroxyphenol wie etwa Hydro-chinon, einem Alkali, einem Alkalimetallbromid und einer geringen Menge freier Sulfitionen bestanden. Die geringe Menge freier Sulfitionen stabilisiert teilweise die Entwicklerlösung kurzzeitig und wird in den meisten handelsüblichen Entwicklern dieser Art durch Zusatz eines Aldehydsulfits wie Natrium-Formaldehydhydrogensulfit erhalten, das als Sulfitionen-Puffer wirkt. Ein derartiger Entwickler ist zum Beispiel in der britischen Patentschrift 1 197 306 beschrieben.

In letzter Zeit entwickelte kontrastreiche Entwickler, die Litho-Entwickler mit einem vergleichsweise hohen Gehalt an Sulfitionen sind, sind in der britischen Patentschrift 1 376 600 beschrieben.

Ein sehr starker Kontrast, vorzugsweise mit einem Gamma-Wert oberhalb von 10 (auch als «Lith-Gradation» bezeichnet), lässt sich mit diesen kontrastreichen Entwicklern und den sogenannten «Lith-Silberhalogenidemulsionsmaterialien» erhalten. Bei diesen Materialien besteht das Silberhalogenid zu mindestens 50 Mol-% aus Chlorid; nur gegebenenfalls ist der Rest Bromid und wahlweise eine kleine Menge Jodid. Die Beziehung Lith-Gradation und Schärfe eines Punktes wird im Handbuch «Modern Halftone Photography» von E. Fred Noemer, erschienen bei Perfect Graphic Arts, Demarest/New Jersey, USA, 1965, Seiten 54-55, behandelt.

Bekanntlich verändert sich die Zusammensetzung einer in der Silberhalogenid-Photographie benutzten Entwicklerlösung auf Grund der bei der Entwicklung stattfindenden Reaktionen und der Berührung mit dem Luftsauerstoff. Diese chemischen Veränderungen haben einen gewissen Einfluss auf die photographischen Eigenschaften der schliesslich erhaltenen Bilder.

Bei der Entwicklung der belichteten Silberhalogenidemul-sion wird eine bestimmte Menge der Entwicklersubstanzen und der oxidationshemmenden Verbindungen verbraucht, wobei

Halogenidionen des entwickelten Silberhalogenids in die Entwicklerlösung gelangen.

Wie schnell die Erschöpfung des Entwicklers dabei voranschreitet, ist eine Frage von Anzahl und Art (Negativ- oder Positivmaterial) und des Gehalts an entwickelbarem (belichtetem oder geschleiertem) Silberhalogenid im entwickelten Material.

Weiterhin nimmt jedes entwickelte Silberhalogenidmate-rial, das den Entwicklungsbehälter verlässt, eine gewisse Menge Entwicklerflüssigkeit mit, die für die nachfolgende Entwicklung von Material verlorengeht. Diese Menge ist abhängig von Dicke und Art der Silberhalogenidemulsionsschicht, der Oberfläche des Materials, der Art des Trägers und von der Zeitspanne, während der man den Film abtropfen oder abgepresst hängen lässt, um den Überschuss an Entwicklerlösung zu entfernen.

Der ständige Kontakt der Entwicklerlösung mit dem Sauerstoff der Luft verbraucht ebenfalls eine Menge der Entwicklersubstanzen zusammen mit einer Menge der oxidationshem-menden Verbindungen und verändert dadurch das Reduziervermögen des Entwicklers. Je länger die Kontaktzeit ist, je grösser die Kontaktfläche zwischen der Entwicklerflüssigkeit und der Luft ist und je intensiver die Entwicklerflüssigkeit bewegt wird, umso schneller findet eine Oxidation statt. Die Luftoxidation unterliegt ebenfalls dem Einfluss der Temperatur der Entwicklerlösung, das heisst je höher die Temperatur ist, umso intensiver erfolgt die Luftoxidation.

Um die Entwicklungseigenschaften auf einem annähernd konstanten Pegel zu halten, kommen unterschiedliche Verfahren zur Anwendung. Die bekanntesten Verfahren sind die folgenden:

a) Häufiges Wegschütten der verbrauchten Entwicklerlösung und Ersatz durch frische Lösung und b) rechtzeitiger, teilweiser Ersatz der Entwicklerlösung durch eine sogenannte Regeneratorlösung.

Bei der Schalenentwicklung ist das einzig praktisch brauchbare Verfahren das erstere, was natürlich zu einem hohen Verbrauch an Entwickler führt und sich infolgedessen als kostspielig erweist.

Im Falle der Maschinenentwicklung ist es sicherlich wirtschaftlicher, die Entwicklungswirkung dadurch auf dem gewünschten Pegel zu halten, dass man rechtzeitig einen Teil des Entwicklers durch eine Regenatorlösung ersetzt.

Beim heutzutage zur Anwendung kommenden Regenera-tor-Betrieb wird die Wirkung der Luftoxidation nicht wirksam berücksichtigt. Das Regenerieren wird mit nur einer Lösung durchgeführt, deren Zusammensetzung für eine ganz bestimmte Filmmenge und Filmart charakteristisch ist. Mit anderen Worten: die Menge der zugesetzten Regeneratorlösung ist praktisch nur der Menge entwickelten Silberhalogenids proportional. Insbesondere bei Litho-Entwicklern ist die Luftoxidation keineswegs vernachlässigbar, und man muss die dadurch verursachten Veränderungen der photographischen Resultate verhindern.

In der britischen Patentschrift 1 313 796 ist ein Verfahren zum Erhalten einer praktisch konstanten Entwickleraktivität unter beliebigen Filmdurchsatz-Bedingungen beschrieben worden. Bei diesem Verfahren auf der Basis der Regenerierung einer Entwicklerlösung für photographisches Silberhalogenid kommen eine erste und eine zweite Regeneratorlösung mit unterschiedlicher Halogenid-Ionen-Konzentration zur Verwendung. Die Lösungen werden zum Entwickler derart zugesetzt, dass sowohl die Konzentration an Halogenid-Ionen als auch die Konzentration an nicht-oxidierter Entwicklersubstanz im Entwickler praktisch auf einem gewünschten Pegel gehalten werden.

Die erste Regeneratorlösung hat eine niedrige Konzentration an Halogenidionen, die jedoch vorzugsweise nicht unbe618800

dingt gleich Null ist, während die zweite Regeneratorlösung eine höhere Konzentration an Halogenidionen enthält, die praktisch gleich der gewünschten Konzentration im Entwicklerbad ist.

Jedoch löst der Ausgleich der Veränderung der Konzentration an Halogenid-Ionen und der Konzentration an nicht-oxidierter Entwicklungssubstanz das Problem, die Entwicklungseigenschaften bei der Lith-Entwicklung praktisch konstant zu halten, nur zum Teil. So sind zum Beispiel auch die Sulfit-Ionen-konzentration, der pH und sogar die Konzentration der Reaktionsprodukte wichtig und müssen sorgfältig überwacht werden.

Es ist eine Aufgabe dieser Erfindung, ein Entwicklungsverfahren zu erhalten, bei dem die Entwicklungseigenschaften des Entwicklers durch geregelte Regenerierung mit zwei Regeneratorlösungen sehr konstant gehalten werden, und bei dem eine photographische Kontrolle für die geregelte Zugabe dieser zwei Regeneratorlösungen durchgeführt wird.

Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Entwicklung photographischen Silberhalogenidmaterials, das aus den folgenden Schritten besteht:

- Entwicklung latenter Rasterbilder in photographischen Lith-Silberhalogenidmaterialien in einer automatischen Entwicklungsmaschine mit einem Lith-Entwickler, der enthält:

eine p-Dihydroxybenzol-Entwickiersubstanz, freie Sulfit-Ionen, ein Alkalimetallbromid, wobei dieser Entwickler keine oder nicht mehr als 0,05 g/Liter einer oder mehrerer Hilfsentwickler-substanz(en) enthält, die zusammen mit dieser p-Dihydroxyben-zoI-Entwicklersubstanz einen Superadditiv-Entwicklungseffekt ergibt (ergeben),

- Zusatz zweier mit RD und RA bezeichneter Regeneratorlösungen zum Entwickler, die sich in folgender Hinsicht voneinander unterscheiden:

1. der pH von RD ist höher als der pH von RA,

2. die Halogenid-Ionenkonzentration von RD, die gleich Null sein kann, ist niedriger als die Halogenid-Ionenkonzentra-tion von Ra,

3. die Konzentration der p-Dihydroxybenzol-Entwickler-substanz in RD ist eine andere als die Konzentration der p-Dihy-droxybenzol-Entwicklersubstanz in RA,

4. die Konzentration an freien Sulfit-Ionen in RD ist niedriger als die Konzentration an freien Sulfit-Ionen in RA, wobei die unter 3. und 4. angegebenen Unterschiede so sind, dass das Gewichtsverhältnis zwischen der p-Dihydroxybenzol-Entwick-lersubstanz und freien Sulfit-Ionen in der Regeneratorlösung Rd ein anderes ist als das entsprechende Gewichtsverhältnis in der Regeneratorlösung RA, wobei dieser Zusatz durch die Ergebnisse einer oder mehrerer Kontrollen der Wirksamkeit des jeweiligen, das heisst momentanen Entwicklers auf ein Lith-Silberhalogenidemulsionsmaterial geregelt wird, das zuvor durch einen oder mehrere Sensitometerkeil(e) hindurch belichtet und durch Entwicklung im vorliegenden Entwickler zu einer Rasterkeilkopie verarbeitet worden ist, auf der der Abstand zwischen der Fläche unterschiedlichen Punktwertes, zum Beispiel 10 und 95% Punktwert, gemessen und mit einem Bezugsabstand verglichen wird, wobei die Abweichung von diesem Bezugsabstand als Richtwert für die Bestimmung eines teilweisen Ersatzes von Entwickler durch Regeneratorlösung RA dient und wobei die Lage eines Empfindlichkeitspunktes auf dieser Raster-Keilkopie oder auf einer Verlaufskeilkopie auf diesem Material, bezogen auf einen Bezugs-Empfindlichkeitspunkt, als Richtwert für die Bestimmung des teilweisen Ersatzes von Entwickler durch Regeneratorlösung RD dient.

Die Rezeptur der Regeneratorlösung RD ist so, dass sie im Entwickler in der Hauptsache die Erschöpfung durch die während der Entwicklung ablaufenden chemischen Reaktionen kompensiert.

Die Rezeptur der Regeneratorlösung RA ist so, dass sie im

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Entwickler in der Hauptsache die Erschöpfung durch Luftoxidation kompensiert.

Gemäss einer ersten abgeänderten Ausführungsform dieser Erfindung werden zwei Regeneratorlösungen benutzt, von denen die eine aus einer Mischung von RD und Ra besteht, in der die Menge Ra unter Normalbetriebsbedingungen für eine vollständige ICompensierung der durch Luftoxidation verursachten Entv/icklererschöpfung noch ungenügend ist. Als zweite Regeneratorlösung v/erden kleine Mengen getrennt aufbewahrtes RA zugegeben, die für das Gleichgewicht der Kompensierung der Erschöpfung durch Oxidation sorgen.

Die Mischung von RD und RA wird nach der bereits erwähnten Kontrolle proportional zur entwickelbaren Menge Silberhalogenid des durch den Entwickler gelaufenen Films zugegeben; jede durch weitere Kontrollen der vorliegenden Entwicklerzusammensetzung festgestellte Abweichung des Bezugs-Abstandes wird durch Mengen RA eingestellt, die hauptsächlich die Erschöpfung durch Luftoxidation kompensieren.

Gemäss einer zweiten abgeänderten Ausführungsform dieser Erfindung wird die Regeneratorlösung RA in zwei Teilen benutzt, wobei ein Teil RAi eine grössere Menge Sulfit-Ionen hat als die Regeneratorlösung RA und somit in der Hauptsache den Verlust an Sulfit-Ionen kompensiert, während der andere Teil RA2 einen höheren Gehalt an Entwicklersubstanz hat als die Regeneratorlösung RA und dadurch hauptsächlich den Verlust an Entwicklersubstanz(en) kompensiert. Dadurch werden eine noch besser einstellbare Kompensation der Erschöpfung und besser reproduzierbare Entwicklungsresultate erhalten. Das ist auch dann der Fall, wenn wie in der ersten abgeänderten Ausführungsform eine Mischung von RD und RA zur Verwendung kommt, jedoch dann in zv/ei Teilen, wobei ein Teil eine grössere Menge Sulfit-Ionen enthält als der andere Teil, der seinerseits eine grössere Menge Entwicklersubstanz enthält.

Ist das wirkliche Verhältnis zwischen der Erschöpfung durch Entwicklung und der Erschöpfung durch Luftoxidation bekannt, so können die beiden Regeneratorlösungen RD und RA als Mischung im entsprechenden Verhältnis zugegeben v/erden, bevor sie in den Entwickler gelangen.

Gemäss einer besonderen Ausführungsform und um bereits seit Beginn des Einbringens des ersten Silberhalogenidmate-rials photographische Resultate zu erhalten, die mit den beim Dauerbetrieb erhaltenen praktisch identisch sind, werden ein oder mehrere Reaktionsprodukt(e), die sich während der Lith-Entwicklung und/oder während des Kontaktes mit dem Luftsauerstoff bilden, bereits zu Beginn der automatischen Entwicklung in den Entwickler eingebracht.

Durch Versuche ist festgestellt worden, dass mindestens eines dieser Reaktionsprodukte, nämlich p-Dihydroxybenzol-sulfonat, einen Einfluss auf die photographischen Eigenschaften ausübt und zu einer Empfindlichkeitssteigerung führt. Da die Bildung von p-Dihydroxybenzolsulfonat ein stetig fortschreitender Vorgang ist, enthalten die oben beschriebenen Regeneratorlösungen kein p-Dihydroxybenzolsulfonat oder weniger davon als der Entwickler, um die Konzentration von p-Dihydroxybenzolsulfonat und seinen Einfluss auf die photographischen Eigenschaften auf den gewünschten Pegel zu halten.

Enthält der Lith-Entwickler freie Sulfit-Ionen in einer Menge, die gross genug ist, um eine kontrastreiche Entwicklung zu verhindern, so werden bestimmte Substanzen, wie Nitroindazol- oder Nitrobenzimidazol-Verbindungen, zugegeben, wie es in der britischen Patentschrift 1 376 600 beschrieben ist. In Gegenwart dieser Verbindungen, von denen 5-Nitroindazol vorzuziehen ist, kann der Gehalt an freien Sulfit-Ionen mehr als 5 g/Liter betragen, ohne die Lith-Gradation zu zerstören.

V/ird eine grosse Menge freier Sulfit-Ionen enthaltender

Lith-Entwickler benutzt, so werden diese Nitroverbindungen zum Entwickler und vorzugsweise auch zu den Regeneratorlösungen zugegeben. Einzelheiten über die geeigneten Mengen sind in der britischen Patentschrift 1376 600 angegeben.

Beim erfindungsgemässen Verfahren können der Lith-Entwickler und mindestens eine der Regeneratorlösungen alle Arten von Zusätzen enthalten, die die Qualität der Rasterkopie verbessern. Beispiele für derartige Zusätze sind polymere Oxyalkylenverbindungen und Poly-N-Vinylpyrrolidon und Derivate, die in der bereits erwähnten britischen Patentschrift 1 376 600 und in der US-Patentschrift 3 617 284 beschrieben sind. Eine vorzugsv/eise zur Verwendung kommende Polyoxy-alkylenverbindung ist Polyoxyäthylenglycol mit einem mittleren Molekulargewicht von mindestens 1500.

Bei der Durchführung der bereits erwähnten Kontrollen werden identisch belichtete Streifen Lith-Material in gewünschten zeitlichen Abständen oder ständig durch den Entwickler gegeben.

Gemäss einer vorzuziehenden Ausführungsform erfolgt die Belichtung dieser Streifen in der Weise, dass eine gerasterte Keilkopie und eine Verlaufskeilkopie erzeugt werden. Parallel zu jedem Keil wird eine Millimeterskala kopiert. Der «Null»-Wert der Millimeterskalakopie entspricht dem maximalen Schwärzungswert jeder Keilkopie. In der Zone der geringeren Belichtungen hat jeder Streifen eine Kerbe, die denjenigen Teil des Streifens bezeichnet, der zuerst in die Entwicklungsmaschine gebracht werden muss, um vergleichbare Messungen sicherzustellen.

Die Streifen können fabrikmässig vorbelichtet sein oder an Ort und Stelle durch die beschriebenen Keile hindurch belichtet werden. Hier erfolgt die Belichtung vorzugsweise unmittelbar vor der Entwicklung oder etwas früher. Die Streifen können auf einem besonderen Filmmaterial oder auf dem zur Produktionsarbeit benutzten Film belichtet werden.

Der Empfindlichkeitspunkt wird entweder auf der Verlaufskeilkopie, vorzugsweise bei einer optischen Dichte zwischen 0,3 und 3,0, oder auf dem Rasterkeil bei einem beliebigen prozentualen Punktwert, vorzugsweise jedoch zwischen 10 und 95% Punktwert, bestimmt. Der Empfindlichkeitspunkt wird senkrecht auf die erwähnte Millimeterskala übertragen.

Um die Stelle mit dem Punktwert 10% zu finden, wird die gerasterte Keilkopie mit einem Densitometer ausgemessen, der einen Messfleck (Blendenöffnung) hat, der mindestens 15 Rasterpunkte erfasst (siehe das bereits erwähnte Handbuch «Modern Halftone Photography» von Ewald Fred Noemer, Seiten 97-98). Die integrierte Rasterdichte (D-Integral), die 10% Punktfläche entspricht, beträgt 0,04 + Schleier des Films.

Der Spitzenwert des D-Integrals, der dieser 10% Punktfläche entspricht, wird senkrecht auf die Millimeterskala übertragen und mit D] bezeichnet.

Die integrierte Rasterdichte (D-Integral), die 95% Punktfläche entspricht, beträgt 1,30 + Schleier des Films. Der Spitzenwert des D-Integrals, der diesen 95% Punktfläche entspricht, wird senkrecht auf die Millimeterskala übertragen und mit D2 bezeichnet. Der Abstand zwischen Di und D2 wird hier «integrierter Schwärzungsbereich» genannt.

Die Entwicklungserschöpfung des Lith-Entwicklers verursacht einen Verschiebungsbetrag der Empfindlichkeit, bezogen auf den Bezugs-Empfindlichkeitspunkt, zu niedrigeren Werten hin.

Der Zusatz einer Menge RD oder der Mischung RD + RA zur Entwicklerlösung verursacht eine Verschiebung des Empfindlichkeitspunktes, bezogen auf den Bezugs-Empfindlichkeitspunkt, zu höheren Werten um eine Strecke, die von der durch Regeneratorlösung ersetzten Menge Entwickler und von der Konzentration der benutzten Lösung(en) abhängt.

Wird durch eine oder mehrere dieser Kontrollen eine Verschiebung des Empfindlichkeitspunktes von dem Bezugs-Emp-

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findlichkeitspunkt in Richtung auf niedrigere Empfindlichkeitswerte festgestellt, so wird die Geschwindigkeit des teilweisen Ersatzes von Entwickler durch Regeneratorlösung RD oder durch die Mischung RD + RA erhöht und/oder eine zusätzliche Menge von R.D oder von dieser Mischung wird zugegeben.

Wird durch eine oder mehrere dieser Kontrollen eine Verschiebung des Empfindlichkeitspunktes von dem Bezugs-Emp-findlichkeitspunkt in Richtung auf höhere Empfindlichkeitswerte festgestellt, so wird die Geschwindigkeit des teilweisen Ersatzes von Entwickler durch Regeneratorlösung RD oder durch die Mischung von RD und RA herabgesetzt und/óder es wird zu entwickelndes Silberhalogenidmaterial ohne Regenerierung mit RD oder mit dieser Mischung durch den Entwickler geschickt.

Der «integrierte Schwärzungsbereich», das heisst der Abstand zwischen Di und D2, wird durch Erschöpfung infolge Luftoxidation kleiner; die Zugabe der Regeneratorlösung RA stellt diesen unerwünschten Effekt ab.

Wird demgemäss entweder durch eine oder durch mehrere dieser Kontrollen eine Verminderung dieses Abstandes festgestellt, so wird eine den Entwickler teilweise ersetzende Menge Ra zum Entwickler zugesetzt und/oder die Geschwindigkeit des teilweisen Ersatzes des Entwicklers durch Regeneratorlösung RA oder die Menge RA in der Mischung RD + RA erhöht.

Wird durch eine oder mehrere dieser Kontrollen eine Ver-grösserung dieses Abstandes festgestellt, so wird die Geschwindigkeit des teilweisen Ersatzes des Entwicklers durch Regeneratorlösung RA oder die Menge RA in der Mischung RD + RA herabgesetzt.

Gemäss einer vorzuziehenden Ausführungsform des erfin-dungsgemässen Verfahrens wird als Ersatz für einen Teil des Entwicklers RD zum letzteren mit einer Geschwindigkeit zugegeben, die durch eine gemessene Menge zu entwickelnden Sil-berhalogenids oder durch das festgestellte Ergebnis mehrerer dieser Kontrollen geregelt wird.

Die Zugabe von RA erfolgt vorzugsweise als Funktion der Zeit. Einer Tendenz zur Vergrösserung des integrierten Schwärzungsbereichs, die durch mehrere dieser Kontrollen festgestellt wird, wird durch Herabsetzung der Geschwindigkeit des Ersatzes von Entwickler durch RA entgegengewirkt. Einer Tendenz zur Verkleinerung des integrierten Schwärzungsbereichs, die durch mehrere dieser Kontrollen festgestellt wird, wird durch Erhöhung der Geschwindigkeit des Ersatzes von Entwickler durch RA entgegengewirkt.

Die Erfindung soll nun durch ein spezielles Beispiel näher erläutert werden, ohne jedoch dadurch begrenzt zu werden.

Beispiel

Ein Lith-Silberhalogenidfilm mit einer 8 g/m2 Silbernitrat äquivalenten Silberhalogenidschicht mit einer Silberchlorid-bromid-Emulsion mit 84 Gew.-% Chlorid und 16 Gew.-% Bromid wird zur Herstellung von Rasterkopien benutzt und in einer Verarbeitungsanlage «PAKONOLITH 24» (Pakonolith ist eine Handelsbezeichnung der Pako Corporation, Minneapolis, USA, für eine Rasterfilm-Verarbeitungsanlage) entwickelt.

Der in diese Verarbeitungsanlage eingesetzte Entwickler wird erhalten durch Mischen der folgenden Ingredienzien:

Formaldehydhydrogensulfit 50 g

Kaliummetabisulfit 4,25 g

Kaliumbromid 2 g

Kaliumchlorid 6 g

Hydrochinon 15 g

Kaliumcarbonat 70 g

Borsäure 6 g Polyoxyäthylenglycol (mittleres Molekulargewicht 0,3 g 1500)

Hydrochinonsulfonsäure 15 g mit Wasser aufgefüllt auf 1 Liter

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Der pH wird mit Kaliumhydroxid auf 9,90 eingestellt. Die Regeneratorlösung RA hat eine der Entwicklerlösung identische Zusammensetzung mit Ausnahme der Verwendung von:

Kaliummetabisulfit 9,25 g

Hydrochinon 21 g

Hydrochinonsulfonsäure keine

Der pH wird mit Kaliumhydroxid auf 9,81 eingestellt. Die Regeneratorlösung RD hat eine der Regeneratorlösung identische Zusammensetzung mit Ausnahme der Verwendung von:

Kaliummetabisulfit 7,15 g

Hydrochinon 19 g

Kaliumbromid 0,7 g

Kaliumchlorid keines

Hydrochinonsulfonsäure 7 g

Der pH wird mit Kaliumhydroxid auf 10,05 eingestellt.

Die bei der vorliegenden Entwicklung zur Anwendung kommende Entwicklungszeit beträgt 1 min 45 s. Die Entwicklungstemperatur wird konstant auf 26 °C gehalten.

Die Regenerierung der Entwicklerlösung mit den Regeneratorlösungen Rd und Ra erfolgt mit den folgenden Geschwindigkeiten:

Es werden je m2 dieses Films 320 ml RD zugegeben, wobei dieser Film unter solchen Bedingungen belichtet wird, dass etwa 50 Gew.-% des Silberhalogenids entwickelbar sind, sowie 5500 ml RA/24 Std. in kleinen, gleichen Portionen alle 20 min.

Alle 2 Std. wird ein Teststreifen des obigen Films im vorliegenden Entwickler entwickelt, der in Kontakt mit einem Verlaufskeil mit einem Inkrement von D = 0,15 je cm und belichtet durch einen Purpur-Kontrastraster Typ MP mit 60 Linien/cm, der vom Anmelder vertrieben wird, belichtet wird.

Gemäss dem zur Anwendung kommenden Kontrollverfahren entspricht der «Bezugs-Empfindlichkeitspunkt» bei einer Schwärzung von 0,04 über Schleier dem Punkt auf der Millimeterskala, der unterhalb des Schwärzungswerts 0,04 auf der Verlaufskeilkopie eines richtig entwickelten Streifens liegt. Der «integrierte Bezugs-Schwärzungsbereich» wird auf der Millimeterskala unter dem Rasterkeil gemessen und ist der Abstand auf dieser Skala, der dem Abstand zwischen der integrierten Schwärzung 0,04 über Schleier einerseits und/oder integrierten Schwärzung 1,30 über Schleier andererseits auf diesem Rasterkeil entspricht. Der Bezugs-Empfindlichkeitspunkt und der integrierte Bezugs-Schwärzungsbereich werden mit einem Entwickler mit der gewünschten Aktivität, nämlich der Aktivität des frischen, oben beschriebenen Entwicklers, bestimmt.

Für die Regenerierung wird das folgende Verfahren verwendet: Es wurde keine der oben aufgeführten Regeneratorlösungszugaben (Rd und Ra) verändert, wenn auf drei aufeinanderfolgenden Kontrollstreifen (in Intervallen von 120 min erhalten) keine Abweichung von dem Bezugs-Empfindlichkeitspunkt und vom integrierten Schwärzungsbereich von mehr als 2 mm in derselben Richtung festgestellt wurde. Wurde eine stärkere Abweichung festgestellt, so wurden die obigen Regenerierungsgeschwindigkeiten in folgender Weise herabgesetzt oder erhöht:

Nach Feststellung einer Tendenz zur Überschreitung dieser Verschiebung von 2 mm in Richtung auf höhere Empfindlichkeit wird die Zugabegeschwindigkeit von RD um 10% vermindert, während eine Erhöhung der RD-Geschwindigkeit um 10% zur Entgegnung einer Tendenz in entgegengesetzter Richtung zur Anwendung kommt.

Einer Tendenz zur Erzeugung einer Vergrösserung des integrierten Schwärzungsbereichs von mehr als 2 mm wird

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lungsbedingungen die RA-Regenerierungsgeschwindigkeit um Die photographische Empfindlichkeit, die Punktschärfe

10% herabsetzt, während eine Erhöhung der RA-Geschwindig- und Bromid-Mitnahme blieben bei der Durchführung der keit um 10% zur Anwendung kommt, um der entgegengesetz- ' Maschinenentwicklung unter den beschriebenen Umständen ten Tendenz, nämlich eines abnehmenden integrierten Schwär- s wochenlang unverändert.

Claims

618800 PATENTANSPRÜCHE

1) der pH von RD ist höher als der pH von RA,

1. Verfahren zur Entwicklung photographischer Silberhalogenidmaterialien, dadurch gekennzeichnet, dass es die folgenden Schritte umfasst:

- Entwicklung latenter Rasterbilder in photographischen s Lith-Silberhalogenidmaterialien in einer automatischen Entwicklungsmaschine mit einem Lith-Entwickler, der enthält:

eine p-Dihydroxybenzol-Entwicklersubstanz, freie Sulfit-Ionen, ein Alkalimetallbromid, wobei dieser Entwickler pro Liter keine oder nicht mehr als 0,05 g einer oder mehrerer Hilfsent- i o wicklersubstanzen enthält, die zusammen mit dieser p-Dihydro-xybenzol-Entwicklersubstanz einen Superadditiv-Entwick-lungseffekt ergibt (ergeben),

- Zusatz zweier mit RD und Ra bezeichneter Regeneratorlösungen zum Entwickler, die sich in folgender Hinsicht vonein-15 ander unterscheiden:

2. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zwei Regeneratorlösungen zur Verwendung kommen, von denen eine aus einer Mischung dieser Regeneratorlösungen RD und Ra besteht, in der die Menge von RA unter den Betriebsbedingungen noch nicht ausreicht, um die durch Luft- 50 oxidation hervorgerufene Erschöpfung des Entwicklers vollständig zu kompensieren, und dass als zweite Regeneratorlösung kleine Mengen gesondert aufbewahrtes RA zugegeben werden, die für den Rest der Kompensation der Erschöpfung durch Oxidation sorgen. 55

2) die Halogenid-Ionenkonzentration von RD, die gleich Null sein kann, ist niedriger als die Halogenid-Ionenkonzentra-tion von Ra, 20

3. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Regeneratorlösung RA in zwei Teilen zur Verwendung kommt, von denen ein Teil Rai einen höheren Gehalt an Sulfit-Ionen hat und hauptsächlich den Verlust an Sulfit-Ionen kompensiert, während der andere Teil Ra2 einen höheren 60 Gehalt an Entwicklersubstanz als die Regeneratorlösung RA

hat und hauptsächlich den Verlust an Entwicklersubstanz(en) kompensiert.

3) die Konzentration der p-Dihydroxybenzol-Entwickler-substanz in RD ist eine andere als die Konzentration der p-Dihy-droxybenzol-Entwicklersubstanz in RA,

4. Verfahren nach Patentanspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Mischung von RA und RD in zwei Teilen zur Ver- 65 Wendung kommt, von denen einer eine grössere Menge Sulfit-Ionen als der andere enthält und der andere Teil eine grössere Menge Entwicklersubstanz enthält.

4) die Konzentration an freien Sulfit-Ionen in Rd ist niedriger als die Konzentration an freien Sulfit-Ionen in RA, wobei die 25 unter 3) und 4) angegebenen Unterschiede so sind, dass das Gewichtsverhältnis zwischen der p-Dihydroxybenzol-Entwick-lersubstanz und freien Sulfit-Ionen in der Regeneratorlösung

Rd ein anderes ist als das entsprechende Gewichtsverhältnis in der Regeneratorlösung RA, wobei dieser Zusatz durch die 30 Ergebnisse einer oder mehrerer Kontrollen der Wirksamkeit des jeweiligen Entwicklers auf ein Lith-Silberhalogenidemul-sionsmaterial geregelt wird, das zuvor durch einen oder mehrere Sensitometerkeil(e) hindurch belichtet und durch Entwicklung im vorliegenden Entwickler zu einer Rasterkeilkopie ver- 35 arbeitet worden ist, auf der der Abstand zwischen der Fläche unterschiedlichen Punktwertes gemessen und mit einem Bezugsabstand verglichen wird, wobei die Abweichung von diesem Bezugsabstand als Richtwert für die Bestimmung eines teilweisen Ersatzes von Entwickler durch Regeneratorlösung 40 Ra dient und wobei die Lage eines Empfindlichkeitspunktes auf dieser Rasterkeilkopie oder auf einer Verlaufskeilkopie auf diesem Material, bezogen auf einen Bezugs-Empfindlichkeits-punkt, als Richtwert für die Bestimmung des teilweisen Ersatzes von Entwickler durch Regeneratorlösung RD dient. 45

5. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Entwickler bereits vom Beginn der automatischen Entwicklung an Reaktionsprodukte enthält, die während der Lith-Entwicklung der photographischen Materialien und/oder während des Kontaktes mit Luftsauerstoff gebildet werden.

6. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Empfindlichkeitspunkt auf der Verlaufskeilkopie bei einer optischen Dichte zwischen 0,3 und 3,0 bestimmt wird.

7. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass 10% bzw. 95% Punktfläche entsprechende integrierte Schwärzungspunkte Di und D2 auf der Rasterkeilkopie bestimmt werden und dass der Abstand zwischen diesen Punkten mit dem Bezugsabstand verglichen wird.