BE681638A - - Google Patents
Info
- Publication number
- BE681638A BE681638A BE681638DA BE681638A BE 681638 A BE681638 A BE 681638A BE 681638D A BE681638D A BE 681638DA BE 681638 A BE681638 A BE 681638A
- Authority
- BE
- Belgium
- Prior art keywords
- mixture
- semiconductor element
- tellurium
- silicon
- arsenic
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 5
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/025—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein by transferring ink from the master sheet
- B41M5/06—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein by transferring ink from the master sheet using master sheets coated with jelly-like materials, e.g. gelatin
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/20—Multistable switching devices, e.g. memristors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
- H10N70/881—Switching materials
- H10N70/882—Compounds of sulfur, selenium or tellurium, e.g. chalcogenides
- H10N70/8828—Tellurides, e.g. GeSbTe
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
<Desc/Clms Page number 1> "Elément semi-conducteur". La présente invention est relative à un dispositif @ semi-conducteur constitué par un mélange de substances multiples, qui revient lors du dépassement d'une tension fixée, d'un état à haute impédance à un état à basse impédenoe, ainsi que lors du dépassement d'une valeur de seuil de courant. , Les mélanges de substances multiples les plus divers, @ en particulier des mélanges de trois substances ont été proposée jsuqu'à présent, possédant la qualité préoitée et qui peuvent être commutés depuis une très haute résistance, par exemple 106 chsm <Desc/Clms Page number 2> EMI2.1 jusqu'à une très faible résistance, par temple 1 ohm, .%oui en ,1,, h revenant automatiquement a l'état à hautn àmpédenoe ou haute ré'- r. i.i siatanoe après l'arrêt du courant* Toutefois, des expériences ont j=,,, révélé que cette réversibilité fait défaut lorsqu'une oertaine @ EMI2.2 charge a été dépassée dans l'état à biisso impédenoe. A cause de I:: cet%e ciiarge, ex% évidez% qu'tl produit, >eu%-4%ro sous cette charge, il est évident qu'il sa produit, peut-être soua l'effet de la température qui est engendrée, une modification @ de structure qui ne permet plue un retour automatique au point @ de départ. EMI2.3 Des essais internes ont révélé qu'il est possible d'ar- river à des mélanges uniques particuliers, grâce auxquels une EMI2.4 charge plue élevée est possible sans que lbn arrive à un état non réversible. De tels mélanges ne son pas appliqués en pratique, étant' 0 EMI2.5 donné que lors de la production de tels éléments semi-conducteurs, une proportion de mélange absolument invariable ne peut être obte- nue qu'à un prix de revient très élevé. Normalement, l'on doit tenir compte du fait, par exemple lorsqu'il s'agit d'un processus de dépôt sous forme de vapeur, que la proportion de mélange au @ cours de la phase vapeur et dans la couche déposée sous forme @ de vapeur variera dans certaines limites. L'invention a pour bass le problème d'offrir un élément EMI2.6 semi-conducteur tel que défini précédemment, qui possédera dans une proportion de mélange plus large, la capacité de charge plus élevée requise. Suivant l'invention, ce problème est résolu grâce au fait que l'élément semi-oonduoteur est constitué par un mélange EMI2.7 de 10 à 33 de silicium, 20 à 60 96 d'arsenic et 40 à 80 % de tellure ( en poids atomique %). Ces données signifient que les proportions de mélange utilisables se situent dans la zone d'un diagramme de trois consti- tuants du système si-as-te, tele qu'indiquée dans le dessin annexé.! Etant donné que pour les constituants d'arsenic et de tellure, des possibilités de variation relativement importantes sont admises, il est particulièrement important pour l'invention <Desc/Clms Page number 3> que la proprotion de silicium ne puisse varier que dans des limi- tes relativement étroites, qu'elle soit relativement faible et qu'elle ne dépasse en aucun cas 33 %. Une attention supplé- mentaire doit être accordée au fait quo le but recherche ne peut être obtenu qu'avec du silicium et non avec du germanium, qui avait été considéré jusqu'à présent comme l'équivalent du aili- cium en ce qui concerne les qualités semi-conductrices néoessai- res dans le présent cas. Lorsque l'on doit veiller à ce que les éléments semi- conducteurs aient une réversibilité active totale, les proportions de mélange indiquées doivent être maintenues dans le processus de production. Etant donné qu'une variation de plus ou moins 5 % peut aisément se produire lors de la production, il est recomman- dé de choisir les proportions de mélange requises de telle sorte qu'elles se situent dans la gamme de 15 à 38 % de silium, 25 à 55 % d'arsenic et 45 à 75 % de tellure. Comme indiqué dans le diagramme de trois constituants du dessin annex :1 existe dans le système décrit un point de proportion de mélange optimum où de très larges tolérances des proportions de mélange sott admises lors de la production. Le point optimum correspond à des proportions de mélange d'environ 20 % de si, 30 % de as et 50 % de te. Dans le diagramme, la zone requise suivant l'invention est définie clairement par un trait gras, La zone préférée est indiquée par des hachures et les proportions de mélange optimum sont représentées par un point. **ATTENTION** fin du champ DESC peut contenir debut de CLMS **.
Claims (1)
- REVENDICATIONS 1. Elément semi-conducteur constitué par un mélange de substances multiples, qui revient d'un état à haute impédenoe à un état à basse impédence lors du département d'une tension prévue et lors da dépassement d'une valeur de seuil de oourant, caractérisé en ce qu'il est constitué par un mélange de 10 à 33% de silicium, 20 à 60 % d'arsenic et 40 à 80 % de tellure (en poids atomique %). <Desc/Clms Page number 4> EMI4.1.-. ". \, ' Loj [.i' 2. Elément semi-conducteur suivant la fevend,.a,1on: Ji;\} caractérisé en ce qu'il est constitué par un mélange de 15 à 28 % EMI4.2 de silicium, de 25 à 55 y6dareenio et de 45 à 75 9 de tellure.3. Elément semi-conducteur suivant la revendication 2, caractérisé en ce qu'il est constitué par un mélange de 20 % de silicium, 30 % d'arsenic et 50 % de tellure.4. Elément semi-conducteur, tel que décrit ci-avant ou conforme au diagramme annexé.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DED0047539 | 1965-06-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
BE681638A true BE681638A (fr) | 1966-10-31 |
Family
ID=45002167
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
BE681638D BE681638A (fr) | 1965-06-18 | 1966-05-26 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
BE (1) | BE681638A (fr) |
DE (1) | DE1299778C2 (fr) |
FR (1) | FR1483423A (fr) |
NL (1) | NL6608235A (fr) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1252819B (de) * | 1961-11-06 | 1967-10-26 | Western Electric Company Incorporated, New York, N. Y. (V. St. A.) | Elektronisches Festkörperbauelement |
-
1965
- 1965-06-18 DE DE19651299778 patent/DE1299778C2/de not_active Expired
-
1966
- 1966-05-26 BE BE681638D patent/BE681638A/fr unknown
- 1966-06-14 NL NL6608235A patent/NL6608235A/xx unknown
- 1966-06-15 FR FR65593A patent/FR1483423A/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1299778C2 (de) | 1974-11-14 |
FR1483423A (fr) | 1967-06-02 |
NL6608235A (fr) | 1966-12-19 |
DE1299778B (de) | 1974-11-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0206926B1 (fr) | Matériaux diélectriques à base de polymères et à permittivité diélectrique élevée | |
Kajimoto et al. | Charge-transfer-state formation in supercritical fluid:(N, N-dimethylamino) benzonitrile in trifluoromethane | |
EP0003237A1 (fr) | Utilisation d'un alliage amorphe de silicium et de germanium comme photoconducteur sensible au rayonnement laser émis par l'arséniure de gallium | |
FR2509923A1 (fr) | Circuit d'evaluation de signal electrique de couple sur une perceuse | |
BE681638A (fr) | ||
FR2471698A1 (fr) | Dispositif pour la regulation du courant de propulsion et du courant de freinage d'un moteur a courant continu sans balais | |
FR2461477A1 (fr) | Presse-agrumes | |
FR2664442A1 (fr) | Declencheur electronique comportant une fonction long retard amelioree. | |
Shimizu et al. | Effects of alloying chalcogen atoms into amorphous Germanium films | |
FR2539913A1 (fr) | Montage de commande electronique destine a produire un comportement de commutation monostable avec un relais bistable | |
EP0045258A2 (fr) | Détecteur photovoltaique sensible dans l'infrarouge proche | |
Marin | Commission des surfaces planétaires: La planète Mars | |
FR2490020A1 (fr) | Element galvanique | |
EP0079352A1 (fr) | Amplificateur a transistor fonctionnant en hyperfrequence en regime impulsionnel. | |
Zellama et al. | Systematic study of light-induced effects in hydrogenated amorphous silicon | |
RIR et al. | High d-band occupancy in alloys of Mg with some 4d and 5d transition metals: a photoemission study | |
Zhi-guo et al. | Improvement of the two-beam coupling response time in photorefractive double-doping KNbO3 | |
JOHNSON et al. | Structural characterization of nylon 7 by solid-state NMR, DSC, and ATR-FTIR(Technical Report, 1 Jun. 1992- 31 May 1993) | |
FR2538606A1 (fr) | Electrolyte liquide pour condensateur electrolytique | |
CH628189A5 (fr) | Equipement de ralentissement, notamment pour vehicule. | |
LU87352A1 (fr) | Procede pour la formation et la mise au point d'un composant pelliculaire sur une plaquette de circuit integre | |
Ferry | ENTANGLEMENT NETWORKS CROSSLINKED IN STRAINED STATES | |
BE393266A (fr) | Procédé et dispositif pour le laminage continu à froid de feuillards | |
BODNAR et al. | Dependence of the forbidden-band width on the composition of the quasibinary InAs-GaP system(Quasi-binary InAs-GaP single crystals absorption and diffuse reflection spectra, determining forbidden bandwidth as function of compound composition) | |
FR2659809A1 (fr) | Dispositif limiteur a transistor a effet de champ. |