AT47434B - Verfahren zur Herstellung von Halbtondruckplatten. - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Halbtondruckplatten.Info
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Description
<Desc/Clms Page number 1> EMI1.1 EMI1.2 <Desc/Clms Page number 2> welehes u emcm kloinen Behälter auf eine geeignete Temperatur gebracht wird, wobei die Platte mit ihrer Oberfläche über das Quecksilber gehalten wird. Hierbei hat das Quecksilber eine doppelte Aufgabe zu erfüllen, erstens als Entwickler für das Bild und zweitens als ein Widerstandsmittel gegen die Einwirkung des Ätzmittels. Es ist vorteilhaft, went-such nicht unbedingt erforderlich, das Bild mit Natriumhyposulfit oder einem anderen geeigneten Mitte ! zu fixieren ; dadurch wird das Bestreben derjenigen Stelle der Platte, auf welche das Licht weniger eingewirkt hat, der Wirkung des Ätzmittels zu widerstehen, beseitigt. Die fünfte Stufe des Verfahrens besteht in dem Ätzen der Platte. Als Ätzbad kann ein saures neutrales oder alkalisches Bad Verwendung finden. Als saures Bad wird vorteilhaft ein solches aus doppaltchromsaurem Kali, Salzsäure und Wasser im Gewichtsverhältnis 1 : 16 : 1150 und als neutrales Bad ein solches aus Chlorkalium und Wasser im Gewichtsverhältnis 1 : 100 angewendet. Das neutrale Bad wirkt erst dann ätzend, wenn der elektrische Strom durch dasselbe geschickt wird. Das Ätzmittel greift nur denjenigen Teil der Oberfläche an, welche durch die widerstandsfähige Deckschicht nicht geschützt ist. EMI2.1 Schirm oder den Raster in der Kamera erzeugt wurden, bis schliesslich die Platte das Bild in der Form von hervorragenden Strichelchen trägt, deren obere Flächen mit Quecksilber bedeckt sind. Wenn die Platte aus dem Ätzmittel herausgenommen wird, zeigt sie ein Bild mit Queek- EMI2.2 Die fünfte Stufe des Verfahrens kann auch durch die Anwendung eines veränderlichen elektrischen Stromes unterstützt werden, wobei die Richtung des Stromes verändert wird oder auch ein Wechselstrom verwendet werden kann. Wenn das Ätzen pine Zeit hindurch gedauert EMI2.3 mt, das Verfahren unterbrochen, da sich auf der Platte eine Substanz bildet, welche der Wirkung des ätzmittels zu widerstehen scheint. Es wird zu diesem Zweck die Richtung des Stromes ge- EMI2.4 Tiefe fortgesetzt werden mit völlig zufriedenstellendem Resultat, wobei die Platte bei der An- wendung von Strom als Anode dient. Es hat. sich indessen als vorteilhaft gezeigt, bei einem tieferen Ätzen die Platte der Wirkung des Stromes zu entziehen, sobald die ungeschützten Teile völlig durchdrungen sind und dann die Platte in ein gewöhnliches Atzbad zu bringen, bis die gewünschte Tiefe erreicht ist. Du. s Verfahren bietet dadurch einen grossen Vorteil, dass Trockenplatten verwendet werden EMI2.5 ni den Einzelheiten herbeiführt. DurchdenGebrauchderempfindlichenTrockenplattenundeinerhochempfindlichenMetall- EMI2.6 kommenen Widerstand und das Atzen findet stets, längs der Vertiefungen zwischen den Strichen, Linien und Punkten statt, welche durch das Atzmittel nicht unterschnitten werden, sondern reine scharfe Ecken mit Seitenflächen zeigen, welche nach aussen schräg abfallen. Die dazwischen liegenden Räume bilden reguläre Vertiefungen, die bis zur gewünschten Tiefe ohne Gefahr des Unterschneidensgeätztwerdenkönnen. EMI2.7 <Desc/Clms Page number 3> EMI3.1 andere Verfahren, die für diesen Zweck existieren, ersetzt. l) s in der Kamera erzeugte Negativ kann auch auf eine andere lichtdurchlässige Platte iibertragen werden, wodurch es ein Positiv ergibt, und es kann auch von diesem Positiv das Bild auf die empfindliche Metalloberfläche übertragen werden. PATENT-ANSPRÜCHE : 1. Verfahren zur Hersteiiung von Hatbtondruckpiatten, darin bestehend, dass ein Daguerrotypbild in an sich bekannter Weise durch Verwendung von Rastern in Halbtöne zerlegt und hierauf geätzt wird.
Claims (1)
- 2. Verfahren nach Anspruch 1. darin bestehend, dass die Platte nach teilweiser Ätzung in einem Bade von Kaliumbichromat und verdünnter Salzsäure als Kathode der Einwirkung EMI3.2 beim Ätzen gebildeten Niederschlag lösbar zu machen, so dass er durch Abwischen, Waschen oder dgl. entfernt werden kann.
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