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WO2019202908A1 - パターンの製造方法、光学フィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法、光硬化性組成物および膜 - Google Patents

パターンの製造方法、光学フィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法、光硬化性組成物および膜 Download PDF

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Publication number
WO2019202908A1
WO2019202908A1 PCT/JP2019/011973 JP2019011973W WO2019202908A1 WO 2019202908 A1 WO2019202908 A1 WO 2019202908A1 JP 2019011973 W JP2019011973 W JP 2019011973W WO 2019202908 A1 WO2019202908 A1 WO 2019202908A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
photocurable composition
mass
pattern
organic solvent
less
Prior art date
Application number
PCT/JP2019/011973
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
昂広 大河原
崇一郎 長田
裕樹 奈良
翔一 中村
Original Assignee
富士フイルム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士フイルム株式会社 filed Critical 富士フイルム株式会社
Priority to CN201980021987.6A priority Critical patent/CN111902775B/zh
Priority to KR1020207027126A priority patent/KR102612685B1/ko
Priority to JP2020514027A priority patent/JP7084985B2/ja
Publication of WO2019202908A1 publication Critical patent/WO2019202908A1/ja
Priority to US17/022,282 priority patent/US20210026240A1/en

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    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/011—Manufacture or treatment of image sensors covered by group H10F39/12
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    • H10F39/80—Constructional details of image sensors
    • H10F39/805—Coatings
    • H10F39/8053—Colour filters

Definitions

  • the present invention relates to a pattern manufacturing method. More specifically, the present invention relates to a pattern manufacturing method in which a negative pattern is formed by developing with a developer containing an organic solvent.
  • the present invention also relates to an optical filter manufacturing method including the above-described pattern manufacturing method, a solid-state imaging device manufacturing method, and an image display device manufacturing method.
  • the present invention also relates to a photocurable composition and a film.
  • a color filter or the like is produced by forming a pattern by a photolithography method using a photocurable composition containing a color material.
  • a photocurable composition containing a color material As the developer, an alkaline aqueous solution has been used conventionally. Attempts have also been made to use organic solvents as the developer.
  • a colored layer is formed using a colored radiation-sensitive composition containing a dye soluble in an organic solvent, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator, and containing 65% by mass or more of the dye in the total solid content.
  • An invention relating to a method for producing a color filter comprising a step of forming, a step of exposing the above-mentioned colored layer in a pattern through a mask, and a step of developing the exposed colored layer with a developer containing an organic solvent.
  • Patent Document 2 discloses a step a for forming a colored radiation-sensitive composition layer using a colored radiation-sensitive composition containing a colorant, a polymerizable compound, an alkali-soluble resin, and a photopolymerization initiator. And a step b of exposing the colored radiation-sensitive composition layer in a pattern form through a mask, and a step c of processing the exposed colored radiation-sensitive composition layer to form a colored layer.
  • step c1 is performed using a developer containing an organic solvent
  • step c2 is performed using an aqueous alkali solution, and then the other step is performed.
  • an object of the present invention is to provide a pattern manufacturing method, an optical filter manufacturing method, a solid-state imaging device manufacturing method, and an image display device manufacturing method that are excellent in pattern formability and suppress generation of residues between patterns. Is to provide. Another object of the present invention is to provide a photocurable composition and a film.
  • the present invention provides the following.
  • a photocurable composition comprising a colorant and a resin, wherein the photocurable composition having a solid content acid value of 1 to 25 mgKOH / g is used on the support.
  • the photocurable composition contains a resin having a solubility parameter whose absolute value of the difference from the solubility parameter of the organic solvent contained in the developer is 3.5 MPa 0.5 or less, any one of ⁇ 1> to ⁇ 3> A method for producing the pattern according to claim 1.
  • the photocurable composition includes any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the photocurable composition contains a resin having a CLogP value that is 2 or less in absolute value from the CLogP value of the organic solvent contained in the developer. Pattern manufacturing method.
  • ⁇ 6> The method for producing a pattern according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the organic solvent contained in the developer is at least one selected from a ketone solvent and an alcohol solvent.
  • ⁇ 7> The pattern production according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the organic solvent contained in the developer is at least one selected from cyclopentanone, cyclohexanone, isopropyl alcohol, and ethyl lactate.
  • Method. ⁇ 8> The method for producing a pattern according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the color material is a pigment.
  • ⁇ 9> The method for producing a pattern according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, further comprising a step of rinsing with a rinsing liquid containing an organic solvent after the step of developing.
  • ⁇ 10> The method for producing a pattern according to ⁇ 9>, wherein the boiling point of the organic solvent contained in the rinse liquid is lower than the boiling point of the organic solvent contained in the developer.
  • ⁇ 11> The method for producing a pattern according to ⁇ 9> or ⁇ 10>, wherein the solubility parameter of the organic solvent contained in the rinse liquid is 17 to 21 MPa 0.5 .
  • ⁇ 12> The method for producing a pattern according to any one of ⁇ 9> to ⁇ 11>, wherein the organic solvent contained in the rinse liquid has a CLogP value of 0.3 to 2.0.
  • the absolute value of the difference between the solubility parameter of the organic solvent contained in the rinse solution and the solubility parameter of the organic solvent contained in the developer is 3.5 MPa 0.5 or less, and any one of ⁇ 9> to ⁇ 12> A method for producing the described pattern.
  • the absolute value of the difference between the CLogP value of the organic solvent contained in the rinse solution and the CLogP value of the organic solvent contained in the developer is 1.0 or less, according to any one of ⁇ 9> to ⁇ 13> Pattern manufacturing method.
  • the photocurable composition has a solubility parameter whose difference from the solubility parameter of the organic solvent contained in the developer is 3.5 MPa 0.5 or less, and the solubility of the organic solvent contained in the rinse solution.
  • the photocurable composition has a CLogP value that is 2 or less in absolute value with respect to the CLogP value of the organic solvent contained in the developing solution, and the ClogP value of the organic solvent contained in the rinse solution.
  • the method for producing a pattern according to any one of ⁇ 9> to ⁇ 15> comprising a resin having a CLogP value having an absolute difference of 0.5 to 3.
  • a method for producing an optical filter comprising the method for producing a pattern according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 16>.
  • a method for producing a solid-state imaging device comprising the method for producing a pattern according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 16>.
  • a method for manufacturing an image display device including the method for manufacturing a pattern according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 16>.
  • the contact angle with respect to pure water is 70 to 120 °.
  • a pattern manufacturing method, an optical filter manufacturing method, a solid-state imaging device manufacturing method, and an image display device manufacturing method that have excellent pattern formability and suppress the generation of residues between patterns. can do.
  • membrane which can be used suitably for the manufacturing method of the above-mentioned pattern can be provided.
  • ⁇ is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
  • the notation in which neither substitution nor substitution is described includes a group (atomic group) having a substituent together with a group (atomic group) having no substituent.
  • the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams.
  • the light used for exposure include an emission line spectrum of a mercury lamp, actinic rays or radiation such as far ultraviolet rays, extreme ultraviolet rays (EUV light) typified by excimer laser, X-rays, and electron beams.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth) acrylate” represents both and / or acrylate and methacrylate
  • (meth) acryl” represents both and / or acrylic and “(meth) acrylic”.
  • Acryloyl represents both and / or acryloyl and methacryloyl.
  • the weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), and dispersity (also referred to as molecular weight distribution) (Mw / Mn) of the resin are GPC (Gel Permeation Chromatography) apparatus (HLC-manufactured by Tosoh Corporation). 8120 GPC) (solvent: tetrahydrofuran, flow rate (sample injection amount): 10 ⁇ L, column: TSK gel Multipore HXL-M manufactured by Tosoh Corporation, column temperature: 40 ° C., flow rate: 1.0 mL / min, detector: differential refraction It is defined as a polystyrene conversion value by a rate detector (Refractive Index Detector).
  • GPC Gel Permeation Chromatography
  • the total solid content refers to the total mass of the components excluding the solvent from all the components of the composition.
  • the pigment means a compound that is difficult to dissolve in a solvent.
  • the solubility of the pigment in 100 g of water at 23 ° C. and 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate at 23 ° C. is preferably 0.1 g or less, and more preferably 0.01 g or less.
  • the term “process” is not limited to an independent process, and is included in the term if the intended action of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes. .
  • the method for producing a pattern of the present invention is a photocurable composition containing a colorant and a resin, wherein the solid content acid value is 1 to 25 mgKOH / g.
  • the step of forming a photocurable composition layer on the substrate, the step of exposing the photocurable composition layer to a pattern, and the photocurable composition layer in an unexposed portion are processed using a developer containing an organic solvent. And a developing step.
  • a photocurable composition layer is formed using a photocurable composition having a solid content acid value of 1 to 25 mgKOH / g, and a developer containing an organic solvent is used.
  • the unexposed portion of the photocurable composition layer can be efficiently removed with an organic solvent.
  • the photocurable composition layer of the exposed portion is difficult to be developed with an organic solvent, distortion of the pattern obtained can be suppressed. For this reason, excellent pattern formability is obtained.
  • the photocurable composition layer of an unexposed part can be efficiently removed with an organic solvent, generation
  • the acid value of solid content in a photocurable composition is increased.
  • the acid value of the solid content in the photocurable composition can be lowered, it is also possible to increase the colorant concentration of the solid content in the photocurable composition. And a film having a high colorant concentration can be produced.
  • Step of forming a photocurable composition layer In the step of forming the photocurable composition layer, a photocurable composition containing a colorant and a resin, and having a solid acid value of 1 to 25 mgKOH / g, is used. A photocurable composition layer is formed on a support. Details of the photocurable composition will be described later.
  • a support body there is no limitation in particular as a support body, According to a use, it can select suitably.
  • a support body includes a glass substrate, a solid-state image sensor substrate provided with a solid-state image sensor (light-receiving element), and a silicon substrate.
  • an undercoat layer may be provided on these substrates in order to improve adhesion with an upper layer, prevent diffusion of a substance, or planarize a surface.
  • a known method can be used as a method for applying the photocurable composition to the support.
  • a dropping method drop casting
  • a slit coating method for example, a spray method; a roll coating method; a spin coating method (spin coating); a casting coating method; a slit and spin method; a pre-wet method (for example, JP 2009-145395 A).
  • Methods described in the publication inkjet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), ejection printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing method, etc.
  • Various printing methods transfer methods using a mold or the like; nanoimprint methods and the like.
  • the application method in the ink jet is not particularly limited.
  • the method described in international publication WO2017 / 030174 and international publication WO2017 / 018419 can also be used, These content is integrated in this specification.
  • the prebaking temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, and even more preferably 110 ° C. or lower.
  • the lower limit may be 50 ° C. or higher, and may be 80 ° C. or higher.
  • the pre-bake time is preferably 10 to 3000 seconds, more preferably 40 to 2500 seconds, and still more preferably 80 to 2200 seconds. Drying can be performed with a hot plate, oven, or the like.
  • the photocurable composition layer is exposed in a pattern.
  • it can expose in a pattern form by exposing to the photocurable composition layer formed on the support body through the mask which has a predetermined mask pattern using an exposure apparatus.
  • the photocurable composition layer of an exposure part can be hardened.
  • the solubility with respect to the organic solvent of the photocurable composition layer of an exposure part can be reduced.
  • Examples of radiation (light) that can be used for exposure include g-line and i-line. Further, light having a wavelength of 300 nm or less (preferably light having a wavelength of 180 to 300 nm) can be used. Examples of the light having a wavelength of 300 nm or less include KrF rays (wavelength 248 nm), ArF rays (wavelength 193 nm), and KrF rays (wavelength 248 nm) are preferable.
  • exposure may be performed by continuously irradiating light, or exposure may be performed by irradiating in pulses (pulse exposure).
  • pulse exposure is an exposure method in which exposure is performed by repeatedly irradiating and pausing light in a short cycle (for example, a millisecond level or less).
  • the pulse width is preferably 100 nanoseconds (ns) or less, more preferably 50 nanoseconds or less, and further preferably 30 nanoseconds or less.
  • the lower limit of the pulse width is not particularly limited, but may be 1 phenomsecond (fs) or more, and may be 10 phenomseconds or more.
  • the frequency is preferably 1 kHz or more, more preferably 2 kHz or more, and further preferably 4 kHz or more.
  • the upper limit of the frequency is preferably 50 kHz or less, more preferably 20 kHz or less, and still more preferably 10 kHz or less.
  • Maximum instantaneous intensity is preferably at 50000000W / m 2 or more, more preferably 100000000W / m 2 or more, more preferably 200000000W / m 2 or more.
  • the upper limit of the maximum instantaneous intensity is preferably at 1000000000W / m 2 or less, more preferably 800000000W / m 2 or less, further preferably 500000000W / m 2 or less.
  • the pulse width is the time during which light is irradiated in the pulse period.
  • the frequency is the number of pulse periods per second.
  • the maximum instantaneous illuminance is the average illuminance within the time during which light is irradiated in the pulse period.
  • the pulse period is a period in which light irradiation and pause in pulse exposure are one cycle.
  • Irradiation dose for example, preferably 0.03 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05 ⁇ 1.0J / cm 2.
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected.
  • a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially It may be exposed in an oxygen-free manner, or may be exposed in a high oxygen atmosphere (for example, 22%, 30%, or 50% by volume) in which the oxygen concentration exceeds 21% by volume.
  • the exposure illuminance can be appropriately set, and is usually selected from the range of 1000 W / m 2 to 100,000 W / m 2 (for example, 5000 W / m 2 , 15000 W / m 2 , or 35000 W / m 2 ). Can do.
  • Oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combined conditions, for example, illuminance 10000 W / m 2 at an oxygen concentration of 10 vol%, oxygen concentration of 35 vol% can be such illuminance 20000W / m 2.
  • the organic solvent used in the developer examples include various organic solvents.
  • ester solvents, ketone solvents, alcohol solvents, amide solvents, ether solvents, hydrocarbon solvents and the like can be mentioned.
  • the ester solvent is a solvent having an ester group in the molecule.
  • the ketone solvent is a solvent having a ketone group in the molecule.
  • the alcohol solvent is a solvent having an alcoholic hydroxyl group in the molecule.
  • the amide solvent is a solvent having an amide group in the molecule.
  • the ether solvent is a solvent having an ether bond in the molecule.
  • diethylene glycol monomethyl ether corresponds to the alcohol solvent and ether solvent in the above classification.
  • the hydrocarbon solvent is a hydrocarbon solvent having no substituent.
  • Examples of the ketone solvent include 1-octanone, 2-octanone, 1-nonanone, 2-nonanone, acetone, 2-heptanone (methyl amyl ketone), 4-heptanone, 1-hexanone, 2-hexanone, diisobutyl ketone, Examples include cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, phenylacetone, methylethylketone, methylisobutylketone, acetylacetone, acetonylacetone, ionone, diacetylalcohol, acetylcarbinol, acetophenone, methylnaphthylketone, isophorone, and propylene carbonate.
  • ester solvent examples include methyl acetate, butyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, pentyl acetate, isopentyl acetate, amyl acetate, isoamyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono Butyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, ethyl-3-ethoxypropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, methyl formate, ethyl formate, butyl formate, propyl formate, ethyl lactate, lactic acid Examples include butyl, propyl lactate, butyl butanoate, methyl 2-hydroxyisobutyrate, isobutyl isobutyrate, and butyl propionate
  • the alcohol solvent examples include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, isobutyl alcohol, n-hexyl alcohol, n-heptyl alcohol, alcohols such as n-octyl alcohol and n-decanol; glycol solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol and triethylene glycol; ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether (also known as 1-methoxy-2-propanol), ethylene glycol mono Ethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol Bruno ethyl ether, glycol ethers such as methoxymethyl butanol solvent; and the like.
  • glycol solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol and triethylene glycol
  • ether solvent examples include the above glycol ether solvents, dioxane, tetrahydrofuran and the like.
  • amide solvents include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, hexamethylphosphoric triamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. Can be mentioned.
  • hydrocarbon solvent examples include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, and aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, octane and decane.
  • the developer since the developer has an appropriate polarity, it is difficult to swell the photosensitive composition layer in the exposed area, and an excellent pattern forming property is easily obtained. It is preferable to include at least one organic solvent selected from. Further, the developer used in the present invention may contain two or more organic solvents. As a combination of two or more kinds of organic solvents, the photosensitive composition layer in the exposed area is difficult to swell and the photocurable composition layer in the unexposed area is excellent in solubility (developability). A combination of a solvent and an alcohol solvent is preferred.
  • the developer used in the present invention has a moisture content of preferably 10% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and more preferably 1% by mass or less, because more excellent developability is easily obtained. More preferably, it is particularly preferable that it contains substantially no water.
  • the case where the developer does not substantially contain water means that the water content of the developer is 0.1% by mass or less, preferably 0.01% by mass or less, and 0% by mass. More preferably (does not contain water).
  • the concentration of the organic solvent is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and still more preferably 95% by mass.
  • the above is the case, and particularly preferable is the case of substantially consisting of only an organic solvent.
  • the case where it consists only of an organic solvent includes the case where a trace amount surfactant, antioxidant, a basic compound, a stabilizer, an antifoamer, etc. are contained.
  • the solubility parameter of the organic solvent contained in the developer is preferably 18 to 24 MPa 0.5 .
  • the lower limit is preferably Because of their ease of the photocurable composition layer in the unexposed area effectively dissolved and removed at 19 MPa 0.5 or more, more preferably 19.5MPa 0.5 or more, is 20 MPa 0.5 or more More preferably.
  • the upper limit is preferably for the reason that the influence on the photosensitive composition layer of the exposed portion can be suppressed at 23 MPa 0.5 or less, more preferably 22.5 MPa 0.5 or less, and more preferably 22 MPa 0.5 or less .
  • the solubility parameter of the above-mentioned organic solvent means the solubility parameter in the mixed solution of 2 or more types of organic solvents calculated from following formula (1). is there.
  • SP ave is a solubility parameter in a mixed solution of two or more (n types) organic solvents
  • M i is the mass ratio of the organic solvent i in the total amount of the organic solvent (the mass of the organic solvent i / the total organic solvent SP i is a solubility parameter of the organic solvent i
  • n is an integer of 2 or more.
  • the solubility of the photo-curable composition layer in the unexposed area is suppressed while suppressing the influence on the photo-curable composition layer in the exposed area.
  • the solubility parameter of each organic solvent is preferably 18 to 24 MPa 0.5 because it is easy to ensure sufficiently.
  • the lower limit is preferably at 19 MPa 0.5 or more, more preferably 19.5MPa 0.5 or more, more preferably 20 MPa 0.5 or more.
  • the upper limit is preferably at 23 MPa 0.5 or less, more preferably 22.5 MPa 0.5 or less, and more preferably 22 MPa 0.5 or less.
  • Hansen solubility parameters are used as the solubility parameter of the organic solvent and the solubility parameter of the polymerizable monomer described later. Specifically, a value calculated using Hansen solubility parameter software “HSPiP 5.0.09” is used.
  • the CLogP value of the organic solvent contained in the developer is preferably 0 to 1.
  • the lower limit is preferably 0.1 or more and more preferably 0.2 or more because it is easy to suppress swelling of the photocurable composition layer in the exposed area.
  • the upper limit is preferably 0.9 or less, and more preferably 0.8 or less, because the solubility of the photocurable composition layer in the unexposed area can be sufficiently secured.
  • the CLogP value of the above-mentioned organic solvent is a CLogP value in a mixed solution of two or more types of organic solvents calculated from the following formula (2). is there.
  • CLogP ave is a CLogP value in a mixed solution of two or more (n types) organic solvents
  • M i is the mass ratio of the organic solvent i in the total amount of the organic solvent (the mass of the organic solvent i / the total organic solvent ClogP i is the ClogP value of the organic solvent i
  • n is an integer of 2 or more.
  • the CLogP value of each organic solvent is preferably 0 to 1 because it is easy to ensure sufficiently.
  • the lower limit is preferably 0.1 or more, and more preferably 0.2 or more.
  • the upper limit is more preferably 0.9 or less, and still more preferably 0.8 or less.
  • the CLogP value is a calculated value of LogP, which is a common logarithm of 1-octanol / water partition coefficient P. As used herein, CLogP values are given in ChemiBioDraw Ultra ver. It is a value obtained by predictive calculation using 13.0.2.3021 (manufactured by Cambridge software).
  • the boiling point of the organic solvent contained in the developer is preferably 80 to 220 ° C.
  • the lower limit is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, and further preferably 130 ° C. or higher.
  • the upper limit is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower, and still more preferably 160 ° C. or lower.
  • the boiling point of the above-mentioned organic solvent is a boiling point in the mixed solution of 2 or more types of organic solvents computed from following formula (3).
  • BP ave is the boiling point of a mixed solution of two or more (n types) organic solvents, and M i is the mass ratio of the organic solvent i in the total amount of the organic solvent (the mass of the organic solvent i / the mass of the total organic solvent).
  • BP i is the boiling point of the organic solvent i, and n is an integer of 2 or more.
  • the boiling point of each organic solvent is preferably 50 to 300 ° C.
  • the lower limit is preferably 60 ° C. or higher, and more preferably 70 ° C. or higher.
  • the upper limit is more preferably 260 ° C. or less, still more preferably 240 ° C. or less.
  • the organic solvent contained in the developer used in the present invention easily secures sufficient solubility of the photocurable composition layer in the unexposed area while suppressing the influence on the photocurable composition layer in the exposed area. For this reason, at least one selected from cyclopentanone, cyclohexanone, isopropyl alcohol and ethyl lactate is preferable, and cyclopentanone and cyclohexanone are more preferable.
  • a processing method with a developer
  • a method in which a support on which a photocurable composition layer is formed is immersed in a tank filled with the developer
  • photocurable A method in which the developer is swelled on the surface of the composition layer by surface tension and developed by standing for a certain time (paddle method)
  • spray method a method in which the developer is sprayed on the surface of the photocurable composition layer
  • spray method a constant speed A method that keeps the developer discharged while scanning the developer discharge nozzle at a constant speed on the rotating substrate
  • dynamic dispensing method can be applied to achieve both uniform development and saving of developer.
  • the paddle method is preferred because it is easy to do.
  • the processing time (development time) in the developer is preferably 15 to 300 seconds.
  • the lower limit is preferably 30 seconds or more, and more preferably 60 seconds or more.
  • the upper limit is preferably 180 seconds or less, and more preferably 120 seconds or less.
  • the temperature of the developer is preferably from 0 ° C to 50 ° C.
  • the lower limit is preferably 10 ° C or higher, and more preferably 20 ° C or higher.
  • the upper limit is preferably 40 ° C. or lower, and more preferably 30 ° C. or lower.
  • the drying method include spin drying and spray drying. Among these, spin drying is preferable because uniform drying is possible.
  • the number of rotations is preferably 2000 rpm or more, more preferably 3000 rpm or more, and still more preferably 4000 rpm or more.
  • the upper limit is preferably 10,000 rpm or less, more preferably 7000 rpm or less, and still more preferably 5000 rpm or less.
  • the drying time is not particularly limited, but is preferably 1 second or longer, more preferably 5 seconds or longer, and more preferably 10 seconds or longer.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 30 seconds or shorter, more preferably 25 seconds or shorter, and more preferably 20 seconds or shorter.
  • rinsing process In the manufacturing method of the pattern of this invention, it is preferable to include the process of rinsing using a rinse liquid after the image development process.
  • a rinse liquid one containing at least one selected from water and an organic solvent is used, and it is preferable to perform rinsing with a rinsing liquid containing an organic solvent because it is easy to reduce development residuals and the like.
  • organic solvent used in the rinse liquid examples include various organic solvents.
  • ester solvents, ketone solvents, alcohol solvents, amide solvents, ether solvents, hydrocarbon solvents and the like can be mentioned.
  • amide solvents, ether solvents, hydrocarbon solvents and the like can be mentioned.
  • the rinsing solution reduces propylene residue and easily suppresses damage to the pattern, so that propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, cyclohexanone, acetone, and ethyl-3-ethoxypropio It is preferable to include at least one organic solvent selected from the nates.
  • the rinse liquid used in the present invention may contain two or more organic solvents. As a combination of two or more organic solvents, a combination of propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether is preferable.
  • the rinsing liquid used in the present invention preferably has a water content of 10% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, still more preferably 1% by mass or less, and substantially contains water. It is particularly preferred not to do so.
  • the case where the rinsing liquid contains substantially no water means that the water content of the rinsing liquid is 0.1% by mass or less, preferably 0.01% by mass or less, and 0% by mass. More preferably (does not contain water).
  • the concentration of the organic solvent is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and still more preferably 95% by mass.
  • concentration of the organic solvent is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and still more preferably 95% by mass.
  • the above is the case, and particularly preferred is a case consisting essentially of an organic solvent.
  • the case where it consists only of an organic solvent includes the case where a trace amount surfactant, antioxidant, a basic compound, a stabilizer, an antifoamer, etc. are contained.
  • the solubility parameter of the organic solvent contained in the rinse liquid is preferably 17 to 21 MPa 0.5 .
  • the lower limit is more preferably is at 17.4MPa 0.5 or more and preferably 17.7 MPa 0.5 or more, more preferably 18 MPa 0.5 or more.
  • the upper limit is preferably at 20 MPa 0.5 or less, more preferably 19.5MPa 0.5 or less, and more preferably 19 MPa 0.5 or less.
  • the solubility parameter of the organic solvent contained in the rinsing solution is preferably smaller than the solubility parameter of the organic solvent contained in the developer because it is easy to suppress damage to the pattern by the rinsing solution.
  • the absolute value of the difference between the solubility parameters of the two is preferably 1.5 MPa 0.5 or more, more preferably 2.0 MPa 0.5 or more, and further preferably 2.5 MPa 0.5 or more.
  • the upper limit is preferably at 4.5 MPa 0.5 or less, more preferably 4.0 MPa 0.5 or less, and more preferably 3.5 MPa 0.5 or less.
  • the solubility parameter of the organic solvent contained in the rinsing liquid is a solubility parameter in a mixed solution of two or more organic solvents calculated from the above formula (1). (SP ave ).
  • the solubility parameter of each organic solvent is preferably 17 to 21 MPa 0.5 .
  • the lower limit is preferably at 17.4MPa 0.5 or more, more preferably 17.7 MPa 0.5 or more, more preferably 18 MPa 0.5 or more.
  • the upper limit is preferably at 20 MPa 0.5 or less, more preferably 19.5MPa 0.5 or less, and more preferably 19 MPa 0.5 or less.
  • the CLogP value of the organic solvent contained in the rinsing liquid is preferably 0.3 to 2.0.
  • the lower limit is preferably 0.4 or more, and more preferably 0.5 or more.
  • the upper limit is preferably 1.4 or less, and more preferably 0.9 or less.
  • ClogP of the organic solvent contained in the rinse liquid is larger than ClogP of the organic solvent contained in the developer because it is easy to suppress damage to the pattern by the rinse liquid.
  • the absolute value of the difference between the two CLogPs is preferably 0.1 or more, more preferably 0.2 or more, and more preferably 0.3 or more because it is easy to suppress damage to the pattern by the rinse liquid. More preferably.
  • the upper limit is preferably 1.0 or less, and preferably 0.7 or less, because it is easy to suppress the generation of aggregates due to reaggregation of the photocurable composition layer dissolved in the developer. More preferred is 0.5 or less.
  • the CLogP value of the organic solvent contained in the rinsing liquid is the CLogP value in a mixed solution of two or more organic solvents calculated from the above formula (2). (CLogP ave ).
  • the CLogP value of each organic solvent is preferably ⁇ 0.3 to 3.0.
  • the lower limit is preferably 0.2 or more, more preferably 0.3 or more, still more preferably 0.4 or more, still more preferably 0.5 or more, and 0.6 or more. It is particularly preferred that The upper limit is preferably 2.4 or less, more preferably 1.8 or less, still more preferably 1.4 or less, and particularly preferably 0.9 or less.
  • the boiling point of the organic solvent contained in the rinsing solution is preferably lower than the boiling point of the organic solvent contained in the developer, more preferably 10 ° C. or more, and more preferably 20 ° C. or less. Is more preferable. According to this aspect, it is possible to suppress the rinse liquid from remaining on the pattern surface, and it is possible to effectively suppress the occurrence of defects derived from the residual rinse liquid.
  • the boiling point of the organic solvent contained in the rinsing liquid is preferably 70 to 165 ° C. The lower limit is preferably 90 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher, and still more preferably 120 ° C.
  • the boiling point of the organic solvent contained in the rinsing liquid is the boiling point (BP) of the mixed solution of two or more organic solvents calculated from the above formula (3). ave ).
  • the boiling point of each organic solvent is preferably 50 to 200 ° C.
  • the lower limit is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, still more preferably 100 ° C. or higher, even more preferably 110 ° C. or higher, and further preferably 120 ° C. or higher. Even more preferred.
  • the upper limit is preferably 185 ° C. or less, more preferably 170 ° C. or less, further preferably 160 ° C. or less, still more preferably 155 ° C. or less, and 150 ° C. or less. Even more preferred.
  • the organic solvent contained in the rinsing solution used in the present invention is selected from propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, acetone and ethyl-3-ethoxypropionate because it is easy to achieve both development residue reduction and pattern damage suppression. It is preferably at least one selected, and more preferably at least one selected from propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone and ethyl-3-ethoxypropionate.
  • a treatment method for example, a method in which a support on which a photocurable composition layer is formed is immersed in a bath filled with a rinsing liquid (dip method), photocuring A method of spraying a developer on the surface of the composition layer (spray method), a method of continuously discharging a developer while scanning a developer discharge nozzle at a constant speed on a support rotating at a constant speed (dynamic dispensing method) Etc.) and the dynamic dispensing method is preferable.
  • the treatment time (rinsing time) with the rinsing liquid is preferably 10 to 120 seconds.
  • the lower limit is preferably 20 seconds or longer, and more preferably 30 seconds or longer.
  • the upper limit is preferably 90 seconds or less, and more preferably 60 seconds or less.
  • the temperature of the rinse liquid is preferably 0 ° C. to 50 ° C.
  • the lower limit is preferably 10 ° C or higher, and more preferably 20 ° C or higher.
  • the upper limit is preferably 40 ° C. or lower, and more preferably 30 ° C. or lower.
  • a drying process may be performed.
  • the drying method include spin drying and spray drying, and spin drying is preferable.
  • the number of rotations is preferably 2000 rpm or more, more preferably 3000 rpm or more, and still more preferably 4000 rpm or more.
  • the upper limit is preferably 10,000 rpm or less, more preferably 7000 rpm or less, and still more preferably 5000 rpm or less.
  • the drying time is not particularly limited, but is preferably 5 seconds or more, more preferably 10 seconds or more, and more preferably 15 seconds or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 30 seconds or shorter, more preferably 25 seconds or shorter, and more preferably 20 seconds or shorter.
  • the heating temperature is preferably 100 to 240 ° C., for example, and more preferably 200 to 240 ° C.
  • the post-baking can be carried out continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation dryer), a high-frequency heater or the like so that the film after development is in the above condition. .
  • the thickness and line width of the pattern obtained by the pattern manufacturing method of the present invention are not particularly limited. It can adjust suitably according to a use and the objective.
  • the pattern thickness is preferably 20.0 ⁇ m or less, more preferably 10.0 ⁇ m or less, and even more preferably 5.0 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and further preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the line width of the pattern is preferably 10.0 ⁇ m or less, more preferably 5.0 ⁇ m or less, still more preferably 3.0 ⁇ m or less, and even more preferably 2.0 ⁇ m or less. Preferably, it is still more preferably 1.7 ⁇ m or less, and particularly preferably 1.5 ⁇ m or less.
  • the lower limit is not particularly limited, but can be, for example, 0.1 ⁇ m or more.
  • the use of the pattern obtained by the pattern manufacturing method of the present invention is not particularly limited.
  • it is used for a solid-state imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device) or CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) or an image display device.
  • CCD Charge Coupled Device
  • CMOS Complementary Metal Oxide Semiconductor
  • the pattern obtained by the pattern production method of the present invention can be used for a color filter, an infrared cut filter, an infrared transmission filter, a light shielding film, and the like.
  • the photocurable composition of the present invention contains a colorant and a resin, and has an acid value of 1 to 25 mgKOH / g in the solid content.
  • the photocurable composition of this invention can be preferably used for the manufacturing method of the pattern of this invention mentioned above.
  • the photocurable composition of the present invention preferably satisfies the following condition 1.
  • Condition 1 When a photocurable composition was applied on a glass substrate and heated at 100 ° C. for 2 minutes to form a film, 8 ⁇ L of pure water was dropped on the film, and the film surface after 3000 ms had elapsed.
  • the contact angle with respect to pure water is 70 to 120 °.
  • the upper limit of the contact angle in the above condition 1 is preferably 110 ° or less, more preferably 100 ° or less, and still more preferably 90 ° or less.
  • the lower limit of the contact angle in the above condition 1 is preferably 73 ° or more, more preferably 76 ° or more, and further preferably 79 ° or more.
  • a film formed of the photocurable composition that satisfies the above condition 1 has a low affinity for water. Moreover, since the affinity with respect to water is low, the affinity with respect to the organic solvent is good. Therefore, when the photocurable composition layer is formed using the photocurable composition satisfying the above condition 1, the photocurable composition in the unexposed part has good affinity for the organic solvent in the unexposed part. The layer can be efficiently developed and removed.
  • the acid value of the solid content of the photocurable composition of the present invention is preferably 20 mgKOH / g or less, more preferably 15 mgKOH / g or less, and further preferably 12 mgKOH / g or less.
  • the lower limit is preferably 2 mgKOH / g or more, more preferably 3 mgKOH / g or more, for reasons such as improving the dispersion stability of the color material and easily obtaining a pattern having excellent linearity.
  • the amine value of the solid content of the photocurable composition of the present invention is 80 mgKOH / g or less for the purpose of improving the dispersion stability of the color material and obtaining a pattern having excellent linearity. Is preferably 60 mgKOH / g or less, and more preferably 40 mgKOH / g or less.
  • the lower limit is preferably 1 mgKOH / g or more, and more preferably 3 mgKOH / g or more.
  • the photocurable composition of the present invention can be used for color filters, infrared transmission filters, light shielding films, and the like.
  • the color filter include a filter having a pixel (pattern) having a hue selected from red, blue, green, cyan, magenta, and yellow.
  • the infrared transmission filter has a maximum transmittance of 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less) in the wavelength range of 400 to 640 nm, and the minimum transmittance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm. Examples thereof include a filter that satisfies the spectral characteristics having a value of 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the infrared transmission filter is also preferably a filter satisfying any of the following spectral characteristics (1) to (4).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 640 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 800 to 1300 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 900 to 1300 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 830 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1000 to 1300 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the photocurable composition of the present invention When the photocurable composition of the present invention is used as a composition for an infrared transmission filter, the photocurable composition of the present invention has a minimum absorbance Amin in a wavelength range of 400 to 640 nm and a wavelength range of 1100 to 1300 nm. It is preferable that Amin / Bmax, which is a ratio to the maximum value Bmax of absorbance at, satisfies the spectral characteristics of 5 or more. Amin / Bmax is more preferably 7.5 or more, further preferably 15 or more, and particularly preferably 30 or more.
  • the absorbance A ⁇ at a certain wavelength ⁇ is defined by the following equation (1).
  • a ⁇ ⁇ log (T ⁇ / 100) (1)
  • a ⁇ is the absorbance at the wavelength ⁇
  • T ⁇ is the transmittance (%) at the wavelength ⁇ .
  • the absorbance value may be a value measured in the state of a solution, or may be a value in a film formed using a photocurable composition.
  • the photocurable composition of the present invention When the photocurable composition of the present invention is used as a composition for an infrared transmission filter, the photocurable composition of the present invention satisfies any of the following spectral characteristics (11) to (14): Is more preferable.
  • Amin2 / Bmax2 which is a ratio of the minimum absorbance Amin2 in the wavelength range of 400 to 750 nm and the maximum absorbance Bmax2 in the wavelength range of 900 to 1300 nm, is 5 or more and 7.5 or more Preferably, it is 15 or more, more preferably 30 or more. According to this aspect, it is possible to form a filter capable of blocking light in the wavelength range of 400 to 750 nm and transmitting light having a wavelength of 850 nm or more.
  • Amin3 / Bmax3 which is a ratio of the minimum absorbance Amin3 in the wavelength range of 400 to 850 nm and the maximum absorbance Bmax3 in the wavelength range of 1000 to 1300 nm, is 5 or more and 7.5 or more Preferably, it is 15 or more, more preferably 30 or more. According to this aspect, it is possible to form a filter capable of blocking light in the wavelength range of 400 to 850 nm and transmitting light having a wavelength of 940 nm or more.
  • Amin4 / Bmax4 which is a ratio of the minimum absorbance Amin4 in the wavelength range of 400 to 950 nm and the maximum absorbance Bmax4 in the wavelength range of 1100 to 1300 nm, is 5 or more, and is 7.5 or more Preferably, it is 15 or more, more preferably 30 or more. According to this aspect, it is possible to form a filter capable of shielding light having a wavelength in the range of 400 to 950 nm and transmitting light having a wavelength of 1040 nm or more.
  • the photocurable composition of the present invention contains a coloring material.
  • the color material include chromatic colorants, black colorants, infrared absorbing dyes, and the like.
  • the color material used in the photocurable composition of the present invention preferably contains at least a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant examples include a red colorant, a green colorant, a blue colorant, a yellow colorant, a purple colorant, and an orange colorant.
  • the chromatic colorant may be a pigment or a dye. Preferably, it is a pigment because it is removed together with a resin such as a dispersant during development and it is difficult to remain as a residue.
  • the average particle diameter (r) of the pigment is preferably 20 nm ⁇ r ⁇ 300 nm, more preferably 25 nm ⁇ r ⁇ 250 nm, and still more preferably 30 nm ⁇ r ⁇ 200 nm.
  • the “average particle size” here means the average particle size of secondary particles in which primary particles of the pigment are aggregated.
  • the particle size distribution of secondary particles of the pigment that can be used (hereinafter also simply referred to as “particle size distribution”) is such that the secondary particles contained in the range of the average particle size ⁇ 100 nm are 70% by mass or more of the total. It is preferable that it is 80% by mass or more.
  • the pigment is preferably an organic pigment.
  • the following are mentioned as an organic pigment.
  • C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4 49, 49: 1, 49: 2, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 57: 1, 60: 1, 63: 1, 66, 67, 81: 1, 81: 2, 81: 3 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 22
  • a metal comprising at least one anion selected from an azo compound represented by the following formula (I) and an azo compound having a tautomer structure thereof, two or more metal ions, and a melamine compound
  • An azo pigment can also be used.
  • R 1 and R 2 are each independently —OH or —NR 5 R 6
  • R 3 and R 4 are each independently ⁇ O or ⁇ NR 7
  • R 5 to R 7 Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group represented by R 5 to R 7 preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent.
  • the substituent is preferably a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, a cyano group or an amino group.
  • R 1 and R 2 are preferably —OH.
  • R 3 and R 4 are preferably ⁇ O.
  • the melamine compound in the metal azo pigment is preferably a compound represented by the following formula (II).
  • R 11 to R 13 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent.
  • the substituent is preferably a hydroxy group.
  • at least one of R 11 ⁇ R 13 is a hydrogen atom, more preferably all of R 11 ⁇ R 13 is a hydrogen atom.
  • the metal azo pigment includes at least one anion selected from the azo compound represented by the formula (I) and an azo compound having a tautomer structure thereof, and a metal ion containing at least Zn 2+ and Cu 2+ And a metal azo pigment comprising an melamine compound.
  • the total amount of Zn 2+ and Cu 2+ is preferably 95 to 100 mol%, more preferably 98 to 100 mol%, based on 1 mol of all metal ions of the metal azo pigment.
  • the content is preferably 99.9 to 100 mol%, more preferably 100 mol%.
  • the metal azo pigment may further contain a divalent or trivalent metal ion (hereinafter also referred to as metal ion Me1) other than Zn 2+ and Cu 2+ .
  • the content of the metal ion Me1 is preferably 5 mol% or less, more preferably 2 mol% or less, and more preferably 0.1 mol% or less, based on 1 mol of all metal ions of the metal azo pigment. More preferably it is.
  • paragraph numbers 0011 to 0062 and 0137 to 0276 in JP 2017-171912 A, paragraph numbers 0010 to 0062 and 0138 to 0295 in JP 2017-171913 A, and JP 2017-171914 A paragraph numbers 0011 to 0062 and 0139 to 0190 of the publication and paragraph numbers 0010 to 0065 and 0142 to 0222 of JP-A-2017-171915 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • red pigment a compound having a structure in which an aromatic ring group in which a group in which an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom is bonded to an aromatic ring is bonded to a diketopyrrolopyrrole skeleton can also be used.
  • a compound is preferably a compound represented by the formula (DPP1), and more preferably a compound represented by the formula (DPP2).
  • R 11 and R 13 each independently represent a substituent
  • R 12 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • n11 and n13 each independently
  • X 12 and X 14 each independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom
  • m12 represents 1, If 12 is a nitrogen atom, m12 represents 2, if X 14 is an oxygen atom or a sulfur atom, m14 represents 1, if X 14 is a nitrogen atom, m14 represents 2.
  • Examples of the substituent represented by R 11 and R 13 include alkyl groups, aryl groups, halogen atoms, acyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, heteroaryloxycarbonyl groups, amide groups, cyano groups, nitro groups, trifluoro groups.
  • a methyl group, a sulfoxide group, a sulfo group and the like are preferable examples.
  • a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average number of halogen atoms in one molecule of 10 to 14, bromine atoms on average 8 to 12, and chlorine atoms on average 2 to 5 is used. You can also. Specific examples include the compounds described in International Publication No. WO2015 / 118720.
  • the aluminum phthalocyanine compound which has a phosphorus atom can also be used as a blue pigment.
  • Specific examples include compounds described in paragraphs 0022 to 0030 of JP2012-247491A and paragraph 0047 of JP2011-157478A.
  • dye there is no restriction
  • pyrazole azo, anilinoazo, triarylmethane, anthraquinone, anthrapyridone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, xanthene Examples include phthalocyanine-based, benzopyran-based, indigo-based, and pyromethene-based dyes. Moreover, you may use the multimer of these dyes. Further, the dyes described in JP-A-2015-028144 and JP-A-2015-34966 can also be used.
  • the dyes described in International Publication Nos. WO2012 / 128233 and JP2017-201003A can be used.
  • the dyes described in International Publication WO2012 / 102399, International Publication WO2012 / 117965 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-229344 can be used.
  • dye described in international publication WO2012 / 102395 can be used as a green colorant.
  • salt-forming dyes described in WO2011 / 037195 can also be used.
  • Black colorant examples include inorganic black colorants such as carbon black, metal oxynitrides (titanium black, etc.), metal nitrides (titanium nitride, etc.), bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, azo compounds, etc.
  • Organic black colorant is preferably a bisbenzofuranone compound or a perylene compound.
  • the bisbenzofuranone compounds include compounds described in JP-T 2010-534726, JP-2012-515233, JP-2012-515234, and the like, for example, “Irgaphor Black” manufactured by BASF It is available.
  • perylene compounds include C.I. I.
  • the bisbenzofuranone compound is preferably a compound represented by any of the following formulas or a mixture thereof.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • R 3 and R 4 each independently represent a substituent
  • a and b each independently represent an integer of 0 to 4
  • the plurality of R 3 may be the same or different
  • the plurality of R 3 may be bonded to form a ring
  • b is 2 or more
  • the plurality of R 4 may be the same or different, and the plurality of R 4 may be bonded to form a ring.
  • the substituents represented by R 1 to R 4 are a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, —OR 301 , —COR 302 , —COOR 303 , —OCOR 304 , —NR 305 R 306 , —NHCOR 307 , —CONR 308 R 309 , —NHCONR 310 R 311 , —NHCOOR 312 , —SR 313 , —SO 2 R 314 , —SO 2 OR 315 , —NHSO 2 R 316 or —SO 2 NR 317 R 318 , each of R 301 to R 318 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • the infrared absorbing dye is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1300 nm, more preferably in the wavelength range of 700 to 1000 nm.
  • the infrared absorbing dye may be a pigment or a dye.
  • the infrared absorbing dye a compound having a ⁇ -conjugated plane containing a monocyclic or condensed aromatic ring can be preferably used.
  • the number of atoms other than hydrogen constituting the ⁇ -conjugated plane of the infrared absorbing dye is preferably 14 or more, more preferably 20 or more, still more preferably 25 or more, and 30 or more. It is particularly preferred that For example, the upper limit is preferably 80 or less, and more preferably 50 or less.
  • the ⁇ -conjugated plane of the infrared absorbing dye preferably includes two or more monocyclic or condensed aromatic rings, more preferably includes three or more of the above-described aromatic rings, and includes four or more of the above-described aromatic rings. More preferably, at least five are included, and it is particularly preferable that at least five aromatic rings are included.
  • the upper limit is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, and still more preferably 30 or less.
  • aromatic ring examples include benzene ring, naphthalene ring, pentalene ring, indene ring, azulene ring, heptalene ring, indacene ring, perylene ring, pentacene ring, quaterylene ring, acenaphthene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, naphthacene ring, Chrysene ring, triphenylene ring, fluorene ring, pyridine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, imidazole ring, benzimidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, triazole ring, benzotriazole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, imidazoline Ring, pyrazine ring, quinoxaline ring, pyrimidine ring, qui
  • Infrared absorbing dyes are pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, diimonium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, pyromethene compounds, azomethine compounds
  • Examples of the pyrrolopyrrole compound include compounds described in paragraph Nos. 0016 to 0058 of JP-A-2009-263614, compounds described in paragraph Nos. 0037 to 0052 of JP-A-2011-68731, and international publication WO2015 / 166873. Examples include the compounds described in paragraphs 0010 to 0033, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of the squarylium compound include compounds described in paragraph Nos. 0044 to 0049 of JP2011-208101A, compounds described in paragraph Nos. 0060 to 0061 of JP6065169A, paragraph No. 0040 of International Publication WO2016 / 181987.
  • Compounds described in International Publication WO2013 / 133099, compounds described in International Publication WO2014 / 088063, compounds described in JP2014-126642A, and described in JP2016-146619A A compound described in JP-A-2015-176046, a compound described in JP-A-2017-251531, a compound described in International Publication WO2016 / 154787, a compound described in Japanese Patent No. 5884953, and a patent 6036689
  • Compounds described in JP-A compound according to Japanese Patent No. 5810604 can be mentioned compounds described in JP-A-2017-068120, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of the cyanine compound include compounds described in paragraph Nos. 0044 to 0045 of JP-A-2009-108267, compounds described in paragraph Nos. 0026 to 0030 of JP-A No. 2002-194040, and JP-A-2015-172004.
  • the compounds described in JP-A-2015-172102, the compounds described in JP-A-2008-88426, the compounds described in JP-A-2017-031394, and the like are described in the present specification. Incorporated into.
  • Examples of the diimonium compound include compounds described in JP-T-2008-528706, and the contents thereof are incorporated herein.
  • Examples of the phthalocyanine compound include a compound described in paragraph No. 0093 of JP2012-77153A, an oxytitanium phthalocyanine described in JP2006-343631A, and paragraph numbers 0013 to 0029 of JP2013-195480A. And the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of naphthalocyanine compounds include the compounds described in paragraph No. 0093 of JP2012-77153A, the contents of which are incorporated herein.
  • a commercially available product can be used as the infrared absorbing dye.
  • SDO-C33 manufactured by Arimoto Chemical Industry Co., Ltd.
  • e-ex color IR-14 e-ex color IR-10A
  • e-ex color TX-EX-801B e-ex color TX-EX-805K (inc.
  • the content of the colorant in the total solid content of the photocurable composition is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and 55% by mass from the viewpoint of thinning the film obtained. More preferably, it is more preferably 60% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, and still more preferably 70% by mass or less from the viewpoint of film formability.
  • the color material used in the photocurable composition of the present invention preferably contains at least one selected from a chromatic colorant and a black colorant.
  • the content of the chromatic colorant and the black colorant in the total mass of the colorant is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and 70% by mass or more. Is more preferable.
  • the upper limit can be 100% by mass, or 90% by mass or less.
  • the color material used for the photocurable composition of this invention contains a green colorant at least. Further, the content of the green colorant in the total mass of the coloring material is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and further preferably 50% by mass or more.
  • the upper limit can be 100% by mass, or 75% by mass or less.
  • the pigment content in the total mass of the color material is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and 90% by mass. % Or more is more preferable.
  • the content of the pigment in the total mass of the color material is in the above range, a film in which spectral fluctuation due to heat is suppressed is easily obtained.
  • the content of the chromatic colorant in the total solid content of the photocurable composition is preferably 40% by mass or more, It is more preferably 50% by mass or more, further preferably 55% by mass or more, and particularly preferably 60% by mass or more. Further, the content of the chromatic colorant in the total mass of the coloring material is preferably 25% by mass or more, more preferably 45% by mass or more, and further preferably 65% by mass or more. The upper limit can be 100% by mass, or 75% by mass or less.
  • the colorant preferably contains at least a green colorant.
  • the content of the green colorant in the total mass of the coloring material is preferably 35% by mass or more, more preferably 45% by mass or more, and further preferably 55% by mass or more.
  • the upper limit can be 100% by mass, and can also be 80% by mass or less.
  • the content of the black colorant (preferably an inorganic black colorant) in the total solid content of the photocurable composition is 40. It is preferably at least mass%, more preferably at least 50 mass%, even more preferably at least 55 mass%, particularly preferably at least 60 mass%. Further, the content of the black colorant in the total mass of the coloring material is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and further preferably 70% by mass or more. The upper limit can be 100% by mass, or 90% by mass or less.
  • the color material used in the present invention preferably satisfies at least one of the following requirements (1) to (3).
  • Black is formed by a combination of two or more chromatic colorants, including two or more chromatic colorants. It is preferable that black is formed by a combination of two or more colorants selected from a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, a purple colorant and a green colorant.
  • Examples of the preferred combination of the above aspect (1) include the following.
  • (1-1) An embodiment containing a red colorant and a blue colorant.
  • (1-2) An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, and a yellow colorant.
  • (1-3) An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, and a purple colorant.
  • (1-4) An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, a purple colorant, and a green colorant.
  • (1-5) An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, and a green colorant.
  • (1-6) An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, and a green colorant.
  • (1-7) An embodiment containing a yellow colorant and a purple colorant.
  • a chromatic colorant By using the organic black colorant and the chromatic colorant in combination, excellent spectral characteristics can be easily obtained.
  • the chromatic colorant used in combination with the organic black colorant include a red colorant, a blue colorant, and a purple colorant, and a red colorant and a blue colorant are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the mixing ratio of the chromatic colorant and the organic black colorant is preferably 10 to 200 parts by mass, more preferably 15 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organic black colorant.
  • the content of the infrared absorbing dye in the total mass of the coloring material is preferably 5 to 40% by mass.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, and more preferably 25% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 10% by mass or more, and more preferably 15% by mass or more.
  • the photocurable composition of the present invention contains a resin.
  • the resin refers to an organic compound other than a color material and having a molecular weight of 3000 or more. Resin is mix
  • a resin that is mainly used for dispersing particles such as pigment is also referred to as a dispersant.
  • such use of the resin is an example, and it can be used for purposes other than such use.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 3000-2 million.
  • the upper limit is preferably 1000000 or less, and more preferably 500000 or less.
  • the lower limit is preferably 4000 or more, and more preferably 5000 or more.
  • Resins include (meth) acrylic resin, ene / thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamideimide resin , Polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin and the like.
  • a (meth) acrylic resin is preferable because it is easy to obtain better developability.
  • the solubility parameter of the resin is preferably 18 to 24 MPa 0.5 .
  • the lower limit is preferably 19 MPa 0.5 or more, 20 MPa 0.5 or more is more preferable.
  • the upper limit is preferably 23 MPa 0.5 or more, 22 MPa 0.5 or more is more preferable.
  • the CLogP value of the resin is preferably 0-10.
  • the lower limit is preferably 1 or more, and more preferably 2 or more.
  • the upper limit is preferably 8 or less, and more preferably 6 or less. If the CLogP value of the resin is within the above range, the photosensitive composition layer in the unexposed area is easily removed by the developer, and excellent pattern formability is easily obtained. Furthermore, it is easy to more effectively suppress development residue.
  • the ClogP value of the resin is a value calculated as follows.
  • the resin is composed of repeating units D1, D2,... Dn, and the ClogP values of the monomers corresponding to the repeating units D1, D2,.
  • ClogP value of resin ⁇ [( ⁇ 1 ⁇ ClogP1) + ( ⁇ 2 ⁇ ClogP2) +... ( ⁇ n ⁇ ClogPn)]
  • ClogP value (ClogP1, ClogP2,..., ClogPn) of the monomer (monomer) corresponding to the repeating units D1, D2,. It is a value obtained by predictive calculation using 13.0.2.3021 (manufactured by Cambridge software).
  • a resin having an acid group may be used as the resin.
  • the acid group include a carboxyl group, a phosphate group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group, and a carboxyl group is preferable.
  • the resin having an acid group preferably contains a repeating unit having an acid group in the side chain, and more preferably contains 5 to 80 mol% of the repeating unit having an acid group in the side chain in the total repeating units of the resin.
  • the upper limit of the content of the repeating unit having an acid group in the side chain is preferably 70 mol% or less, and more preferably 50 mol% or less.
  • the lower limit of the content of the repeating unit having an acid group in the side chain is preferably 10 mol% or more, and more preferably 20 mol% or more.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably 5 to 200 mgKOH / g.
  • the lower limit is more preferably 10 mgKOH / g or more, further preferably 15 mgKOH / g or more, and particularly preferably 20 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is more preferably 150 mgKOH / g or less, and still more preferably 100 mgKOH / g or less.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin having an acid group is preferably 5000 to 100,000.
  • the number average molecular weight (Mn) of the resin having an acid group is preferably 1000 to 20000.
  • the resin used in the present invention includes a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimers”).
  • ED1 a compound represented by the following formula
  • ED2 a compound represented by the following formula
  • a resin including a repeating unit derived from a monomer component is also preferable.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the details of the formula (ED2) can be referred to the description of JP 2010-168539 A, the content of which is incorporated herein.
  • paragraph number 0317 of JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the resin used in the present invention is also preferably a resin containing a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (X).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • R 3 represents a hydrogen atom or 1 to 20 carbon atoms which may contain a benzene ring.
  • n represents an integer of 1 to 15.
  • the photocurable composition of the present invention can also contain a resin as a dispersant.
  • the dispersant include an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups occupies 70 mol% or more when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol%. A resin consisting only of groups is more preferred.
  • the acid group possessed by the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 1 to 80 mgKOH / g, more preferably 7 to 60 mgKOH / g, and further preferably 12 to 40 mgKOH / g.
  • the basic dispersant (basic resin) represents a resin in which the amount of basic groups is larger than the amount of acid groups.
  • the basic dispersant (basic resin) is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol%.
  • the basic group possessed by the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a graft copolymer. Since the graft copolymer has an affinity for the solvent by the graft chain, it is excellent in pigment dispersibility and dispersion stability after aging. Details of the graft copolymer can be referred to the descriptions in paragraphs 0025 to 0094 of JP2012-255128A, the contents of which are incorporated herein. Specific examples of the graft copolymer include the following resins. The following resins are also resins having acid groups (alkali-soluble resins). Examples of the graft copolymer include resins described in JP-A-2012-255128, paragraphs 0072 to 0094, the contents of which are incorporated herein.
  • an oligoimine copolymer containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain is also preferable to use as the resin (dispersant).
  • the oligoimine-based copolymer has a main chain having a partial structure having a functional group of pKa14 or less, and a side chain containing a side chain having 40 to 10,000 atoms, and at least the main chain and the side chain.
  • a resin having a basic nitrogen atom on one side is preferred.
  • the basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a basic nitrogen atom.
  • oligoimine-based copolymer the description of paragraph numbers 0102 to 0166 in JP 2012-255128 A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • resins described in paragraph numbers 0168 to 0174 of JP 2012-255128 A can be used.
  • a commercial item can also be used for a dispersing agent.
  • the product described in paragraph No. 0129 of JP2012-137564A can be used as a dispersant.
  • the DISPERBYK series for example, DISPERBYK-161, etc.
  • the resin described as the dispersant can be used for purposes other than the dispersant. For example, it can be used as a binder.
  • the resin content in the total solid content of the photocurable composition is preferably 10 to 40% by mass.
  • the lower limit is preferably 15% by mass or more, and more preferably 20% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 35% by mass or less, more preferably 32% by mass or less, and still more preferably 30% by mass or less.
  • the content of the resin having an acid group in the total solid content of the photocurable composition is preferably 5 to 38% by mass.
  • the lower limit is preferably 8% by mass or more, and more preferably 13% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 33% by mass or less, more preferably 28% by mass or less, and further preferably 25% by mass or less.
  • the photocurable composition of the present invention has an absolute value of a difference from the solubility parameter of the organic solvent contained in the developer described above of 3.5 MPa 0.5 or less (preferably 3 MPa 0.5 or less, more preferably 2.5 MPa 0.5
  • resin A a resin having a solubility parameter of 2 MPa 0.5 or less
  • the resin A further has a solubility parameter having an absolute value of a difference from the solubility parameter of the organic solvent contained in the rinsing liquid described above of 5.5 MPa 0.5 or less (preferably 5 MPa 0.5 or less, more preferably 4 MPa 0.5 or less). It is more preferable to have it. According to this aspect, it is possible to more effectively remove the development residue while suppressing the swelling of the pattern by the rinsing liquid during the rinsing step.
  • the content of the resin A having an acid group in the total solid content of the photocurable composition is preferably 3 to 36% by mass.
  • the lower limit is preferably 4% by mass or more, and more preferably 6% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 33% by mass or less, more preferably 27% by mass or less, and still more preferably 24% by mass or less.
  • the content of the resin A in the total amount of the resin is preferably 30 to 100% by mass, more preferably 50 to 100% by mass, and further preferably 70 to 100% by mass.
  • the photocurable composition of the present invention has a ClogP value having an absolute value of a difference of 2 or less (preferably 1.5 or less, more preferably 1 or less) from the ClogP value of the organic solvent contained in the developer described above.
  • a resin hereinafter also referred to as “resin B”.
  • the resin B further has an absolute value of a difference from the CLogP value of the organic solvent contained in the rinsing liquid described above of 0.5 to 3 (preferably 1 to 2.5, more preferably 1.5 to 2). It is more preferable to have a CLogP value of.
  • the resin B further satisfies the requirements for the resin A described above.
  • the content of the resin B having an acid group in the total solid content of the photocurable composition is preferably 1 to 37% by mass.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, and more preferably 3% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 34% by mass or less, more preferably 29% by mass or less, and still more preferably 23% by mass or less.
  • the content of the resin B in the total amount of the resin is preferably 40 to 100% by mass, more preferably 60 to 100% by mass, and still more preferably 80 to 100% by mass.
  • the acid value of the entire resin contained in the photocurable composition of the present invention is preferably 20 mgKOH / g or less, more preferably 15 mgKOH / g or less, from the viewpoint of dispersion stability of the coloring material and pattern formation. Preferably, it is 12 mgKOH / g or less.
  • the lower limit is preferably 2 mgKOH / g or more, more preferably 3 mgKOH / g or more, and still more preferably 5 mgKOH / g or more, from the viewpoint of dispersion stability of the color material and pattern formation.
  • the amine value of the entire resin contained in the photocurable composition is preferably 10 mgKOH / g or less, more preferably 7 mgKOH / g or less, and further preferably 5 mgKOH / g or less.
  • the lower limit is preferably 1 mgKOH / g or more, more preferably 2 mgKOH / g or more, and further preferably 3 mgKOH / g or more.
  • the photocurable composition of the present invention can contain a polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer is preferably a compound that can be polymerized by the action of radicals. That is, the polymerizable monomer is preferably a radical polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer is preferably a compound having one or more ethylenically unsaturated bond groups, more preferably a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups, and 3 ethylenically unsaturated bond groups. More preferably, it is a compound having at least one.
  • the upper limit of the number of ethylenically unsaturated bonding groups is preferably 15 or less, and more preferably 6 or less.
  • the ethylenically unsaturated bond group include a vinyl group, a styrene group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group, and a (meth) acryloyl group is preferable.
  • the polymerizable monomer is preferably a 3 to 15 functional (meth) acrylate compound, and more preferably a 3 to 6 functional (meth) acrylate compound.
  • the molecular weight of the polymerizable monomer is preferably less than 2000.
  • the upper limit is preferably 1500 or less, and more preferably 1000 or less.
  • the lower limit is preferably 100 or more, more preferably 150 or more, and still more preferably 250 or more.
  • the solubility parameter of the polymerizable monomer is preferably 18 to 24 MPa 0.5 .
  • the lower limit is preferably 19 MPa 0.5 or more, 20 MPa 0.5 or more is more preferable.
  • the upper limit is preferably 23 MPa 0.5 or more, 22 MPa 0.5 or more is more preferable.
  • the polymerizable group value of the polymerizable monomer is preferably 1 mmol / g or more, more preferably 6 mmol / g or more, and still more preferably 10 mmol / g or more.
  • the upper limit is preferably 30 mmol / g or less.
  • the polymerizable group value of the polymerizable monomer was calculated by dividing the number of polymerizable groups contained in one molecule of the polymerizable monomer by the molecular weight of the polymerizable monomer.
  • ethyleneoxy-modified pentaerythritol tetraacrylate (commercially available is NK ester ATM-35E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), dipentaerythritol triacrylate (commercially available is KAYARAD D-330).
  • Examples of the polymerizable monomer include polymerizable monomers described in paragraphs 0034 to 0038 of JP2013-253224A, paragraph 0477 of JP2012-208494A, and the like. Embedded in the book.
  • diglycerin EO (ethylene oxide) modified (meth) acrylate commercially available product is M-460; manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMMT
  • 1,6-hexanediol diacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA
  • RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Aronix TO-2349 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • NK Oligo UA-7200 manufactured by
  • the polymerizable monomer used in the present invention is preferably a compound having no acid group and no hydroxyl group because the hydrophobicity of the film is increased and the developability is more easily improved.
  • a compound having a caprolactone structure can also be used as the polymerizable monomer.
  • the compound having a caprolactone structure the description in paragraphs 0042 to 0045 of JP2013-253224A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • Examples of the compound having a caprolactone structure include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 and the like commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the KAYARAD DPCA series.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond group and an alkyleneoxy group can also be used.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond group and an alkyleneoxy group a compound having an ethylenically unsaturated bond group and an ethyleneoxy group and / or propyleneoxy group is preferable, and the ethylenically unsaturated bond group and the ethyleneoxy group are preferred.
  • a tri- to hexa-functional (meth) acrylate compound having 4 to 20 ethyleneoxy groups is more preferable.
  • Examples of commercially available compounds having an ethylenically unsaturated bond group and an alkyleneoxy group include SR-494, a tetrafunctional (meth) acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartomer, and three isobutyleneoxy groups. Examples thereof include KAYARAD TPA-330 which is a trifunctional (meth) acrylate.
  • polymerizable monomer having a fluorene skeleton it is also preferable to use a polymerizable monomer having a fluorene skeleton as the polymerizable monomer.
  • examples of commercially available polymerizable monomers having a fluorene skeleton include Ogsol EA-0200, EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., (meth) acrylate monomers having a fluorene skeleton).
  • polymerizable monomers examples include urethane acrylates described in JP-B-48-41708, JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, and JP-B-58.
  • Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-A-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, and JP-B-62-39418 are also suitable.
  • addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Can do.
  • polymerizable monomer 8UH-1006, 8UH-1012 (above, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), light acrylate POB-A0 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) or the like is also preferably used.
  • the content of the polymerizable monomer in the total solid content of the photocurable composition of the present invention is preferably 0.1 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, and more preferably 20% by mass or less.
  • the total content of the polymerizable monomer and the resin in the total solid content of the photocurable composition is preferably 17 to 57% by mass.
  • the lower limit is preferably 22% by mass or more, more preferably 27% by mass or more, and further preferably 32% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 52% by mass or less, more preferably 47% by mass or less, and still more preferably 42% by mass or less. Further, it is preferable to contain 10 to 100 parts by mass of the polymerizable monomer with respect to 100 parts by mass of the resin.
  • the lower limit is preferably 30 parts by mass or more, and more preferably 50 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, and more preferably 70 parts by mass or less.
  • the polymerizable monomer may be used alone or in combination of two or more. When using 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.
  • the photocurable composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator.
  • a photoinitiator There is no restriction
  • a compound having photosensitivity to light in the ultraviolet region to the visible region is preferable.
  • the photopolymerization initiator is preferably a radical photopolymerization initiator.
  • Photopolymerization initiators include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazoles, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds , Ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and the like.
  • halogenated hydrocarbon derivatives for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
  • oxime compounds for example, organic peroxides,
  • Photopolymerization initiators are trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, triarylimidazoles from the viewpoint of exposure sensitivity.
  • Dimer, onium compound, benzothiazole compound, benzophenone compound, acetophenone compound, cyclopentadiene-benzene-iron complex, halomethyloxadiazole compound and 3-aryl-substituted coumarin compound are preferable, oxime compound, ⁇ -hydroxyketone compound More preferred is a compound selected from among ⁇ -aminoketone compounds and acylphosphine compounds, and further preferred is an oxime compound.
  • the description in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • Examples of commercially available ⁇ -hydroxyketone compounds include IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127 (above, manufactured by BASF).
  • Examples of commercially available ⁇ -aminoketone compounds include IRGACURE-907, IRGACURE-369, IRGACURE-379, and IRGACURE-379EG (above, manufactured by BASF).
  • Examples of commercially available acylphosphine compounds include IRGACURE-819, DAROCUR-TPO (above, manufactured by BASF).
  • Examples of the oxime compound include compounds described in JP-A No. 2001-233842, compounds described in JP-A No. 2000-80068, compounds described in JP-A No. 2006-342166, J.P. C. S. Perkin II (1979, pp.1653-1660), J.M. C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp. 156-162), compounds described in Journal of Photoscience and Technology (1995, pp. 202-232), compounds described in JP-A No. 2000-66385, Compounds described in JP-A No. 2000-80068, compounds described in JP-T No. 2004-534797, compounds described in JP-A No. 2006-342166, compounds described in JP-A No.
  • oxime compound examples include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxy And imino-1-phenylpropan-1-one.
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include compounds described in JP-A-2014-137466. This content is incorporated herein.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP 2010-262028 A, compounds 24 and 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A 2013-164471. Compound (C-3). This content is incorporated herein.
  • an oxime compound having a nitro group can be used as a photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A, paragraphs 0008 to 0012 and 0070 to 0079 of JP2014-137466A, Examples include compounds described in paragraph Nos. 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071, Adeka Arcles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication No. WO2015 / 036910.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high from the viewpoint of sensitivity, more preferably 1,000 to 300,000, and preferably 2,000 to 300,000. Is more preferably 5,000 to 200,000.
  • the molar extinction coefficient of the compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using an ethyl acetate solvent at a concentration of 0.01 g / L.
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional radical photopolymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the radical photopolymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered and the solubility in a solvent or the like is improved, so that it is difficult to precipitate over time, and the stability over time of the composition can be improved.
  • bifunctional or trifunctional or higher functional photopolymerization initiator include those described in JP-T 2010-527339, JP-T 2011-524436, International Publication WO 2015/004565, JP-T 2016-532675. Dimers of oxime compounds described in Paragraph Nos. 0417 to 0412 and Paragraph Nos. 0039 to 0055 of International Publication No. WO2017 / 033680, Compound (E) and Compound described in JP 2013-522445 A G), Cmpds 1 to 7 described in International Publication WO2016 / 034963, and oxime ester photoinitiators described in paragraph No.
  • the content of the photopolymerization initiator in the total solid content of the photocurable composition of the present invention is preferably 0.1 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, and more preferably 15% by mass or less.
  • the photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more. When using 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.
  • the total content of the polymerizable monomer and the photopolymerization initiator in the total solid content of the photocurable composition is preferably 3 to 25% by mass.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 7% by mass or more, and further preferably 9% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, more preferably 18% by mass or less, and still more preferably 16% by mass or less.
  • the photopolymerization initiator is preferably contained in an amount of 25 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable monomer.
  • the lower limit is preferably 50 parts by mass or more, and more preferably 75 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 200 parts by mass or less, and more preferably 150 parts by mass or less.
  • the photocurable composition of the present invention can contain a compound having a cyclic ether group.
  • the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having an epoxy group.
  • the compound having an epoxy group include a compound having one or more epoxy groups in one molecule, and a compound having two or more epoxy groups is preferable. It is preferable to have 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
  • the upper limit of the epoxy group can be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit of the epoxy group is preferably 2 or more.
  • Examples of the compound having an epoxy group include paragraph numbers 0034 to 0036 of JP2013-011869A, paragraphs 0147 to 0156 of JP2014043556A, and paragraphs 0085 to 0092 of JP2014089408A.
  • the described compounds and the compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used. These contents are incorporated herein.
  • the compound having an epoxy group may be a low molecular weight compound (for example, a molecular weight of less than 2000, or even a molecular weight of less than 1000), or a macromolecule (for example, a molecular weight of 1000 or more, in the case of a polymer, the weight average molecular weight is 1000 or more).
  • the weight average molecular weight of the compound having an epoxy group is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5000 or less, and still more preferably 3000 or less.
  • an epoxy resin can be preferably used as the compound having an epoxy group.
  • the epoxy resin include an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a phenol compound, an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, and a glycidyl ester type.
  • the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 310 to 3300 g / eq, more preferably 310 to 1700 g / eq, and still more preferably 310 to 1000 g / eq.
  • Examples of commercially available compounds having a cyclic ether group include EHPE3150 (manufactured by Daicel Corp.), EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corp.), Marproof G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G -0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (above, manufactured by NOF Corporation, epoxy group-containing polymer).
  • the content of the compound having a cyclic ether group in the total solid content of the photocurable composition is 0.1 to 20% by mass.
  • the lower limit is, for example, preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 15% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
  • the compound having a cyclic ether group may be only one type or two or more types. In the case of two or more types, the total amount thereof is preferably in the above range.
  • the photocurable composition of the present invention can contain a silane coupling agent. According to this aspect, it is possible to improve the adhesion of the obtained film to the support.
  • the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and can generate a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • a hydrolysable group a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group etc. are mentioned, for example, An alkoxy group is preferable.
  • the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • functional groups other than hydrolyzable groups include vinyl groups, (meth) allyl groups, (meth) acryloyl groups, mercapto groups, epoxy groups, oxetanyl groups, amino groups, ureido groups, sulfide groups, and isocyanate groups.
  • a phenyl group, and an amino group, a (meth) acryloyl group and an epoxy group are preferable.
  • Specific examples of the silane coupling agent include compounds described in paragraph Nos. 0018 to 0036 of JP-A-2009-288703 and compounds described in paragraph Nos. 0056 to 0066 of JP-A-2009-242604. Is incorporated herein by reference.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the photocurable composition is preferably 0.1 to 5% by mass.
  • the upper limit is preferably 3% by mass or less, and more preferably 2% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the silane coupling agent may be only one type or two or more types. In the case of two or more types, the total amount is preferably within the above range.
  • the photocurable composition of the present invention can contain a pigment derivative.
  • the photocurable composition of the present invention preferably further contains a pigment derivative.
  • the pigment derivative include compounds having a structure in which a part of the pigment is substituted with an acid group, a basic group, a group having a salt structure, or a phthalimidomethyl group.
  • a compound represented by the formula (B1) is preferable.
  • P represents a dye structure
  • L represents a single bond or a linking group
  • X represents an acid group, a basic group, a group having a salt structure, or a phthalimidomethyl group
  • m is an integer of 1 or more.
  • N represents an integer of 1 or more.
  • the dye structure represented by P includes pyrrolopyrrole dye structure, diketopyrrolopyrrole dye structure, quinacridone dye structure, anthraquinone dye structure, dianthraquinone dye structure, benzoisoindole dye structure, thiazine indigo dye structure, azo dye structure, quinophthalone
  • at least one selected from a pyrrolopyrrole dye structure, a diketopyrrolopyrrole dye structure, a quinacridone dye structure, and a benzoimidazolone dye structure is more preferable.
  • linking group represented by L examples include a hydrocarbon group, a heterocyclic group, —NR—, —SO 2 —, —S—, —O—, —CO—, or a combination thereof.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • Examples of the acid group represented by X include a carboxyl group, a sulfo group, a carboxylic acid amide group, a sulfonic acid amide group, and an imido acid group.
  • a carboxylic acid amide group a group represented by —NHCOR X1 is preferable.
  • a group represented by —NHSO 2 R X2 is preferable.
  • the imido acid group a group represented by —SO 2 NHSO 2 R X3 , —CONHSO 2 R X4 , —CONHCOR X5 or —SO 2 NHCOR X6 is preferable.
  • R X1 to R X6 each independently represent a hydrocarbon group or a heterocyclic group.
  • the hydrocarbon group and heterocyclic group represented by R X1 to R X6 may further have a substituent.
  • a halogen atom is preferable, and a fluorine atom is more preferable.
  • An amino group is mentioned as a basic group which X represents. Examples of the salt structure represented by X include the salts of the acid groups or basic groups described above.
  • pigment derivative examples include compounds having the following structure. Also, JP-A-56-118462, JP-A-63-264673, JP-A-1-217077, JP-A-3-9961, JP-A-3-26767, JP-A-3-153780.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, and more preferably 30 parts by mass or less. If content of a pigment derivative is the said range, the dispersibility of a pigment can be improved and aggregation of a pigment can be suppressed efficiently. Only one pigment derivative may be used, or two or more pigment derivatives may be used. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.
  • the photocurable composition of the present invention can contain a solvent.
  • the solvent include organic solvents.
  • the solvent is basically not particularly limited as long as the solubility of each component and the coating property of the composition are satisfied.
  • the organic solvent include ester solvents, ketone solvents, alcohol solvents, amide solvents, ether solvents, hydrocarbon solvents, and the like. Regarding these details, paragraph number 0223 of International Publication No. WO2015 / 166779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein. Further, ester solvents substituted with a cyclic alkyl group and ketone solvents substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • organic solvent examples include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, -Heptanone, cyclohexanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N , N-dimethylpropanamide and the like.
  • aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as a solvent may be better reduced for environmental reasons or the like (for example, 50 ppm by weight per part of organic solvent). (million) or less, or 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • a solvent having a low metal content it is preferable to use a solvent having a low metal content, and the metal content of the solvent is preferably 10 mass ppb (parts per billion) or less, for example. If necessary, a solvent having a mass ppt (parts per trill) level may be used, and such a high-purity solvent is provided, for example, by Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Industry Daily, November 13, 2015).
  • Examples of the method for removing impurities such as metals from the solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Moreover, only 1 type may be included and the isomer may be included multiple types.
  • the organic solvent preferably has a peroxide content of 0.8 mmol / L or less, and more preferably contains substantially no peroxide.
  • the content of the solvent in the photocurable composition is preferably 10 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and still more preferably 30 to 90% by mass.
  • the photocurable composition of this invention does not contain an environmental control substance substantially from a viewpoint of environmental control.
  • the phrase “substantially containing no environmentally regulated substance” means that the content of the environmentally regulated substance in the photocurable composition is 50 mass ppm or less, and is 30 mass ppm or less. Is preferably 10 mass ppm or less, more preferably 1 mass ppm or less.
  • environmentally regulated substances include benzene; alkylbenzenes such as toluene and xylene; halogenated benzenes such as chlorobenzene, and the like.
  • REACH Registration Evaluation Authorization and Restriction of Chemicals
  • PRTR Policy Release and Transfer Register
  • VOC Volatile Organic Registered
  • the method is strictly regulated.
  • These compounds may be used as a solvent when producing each component used in the photocurable composition of the present invention, and may be mixed in the photocurable composition as a residual solvent. It is preferable to reduce these substances as much as possible from the viewpoint of human safety and consideration for the environment.
  • As a method for reducing the environmentally regulated substance there is a method of heating and depressurizing the system so as to make it equal to or higher than the boiling point of the environmentally regulated substance to distill off the environmentally regulated substance from the system.
  • distilling off a small amount of environmentally regulated substances it is also useful to azeotrope with a solvent having a boiling point equivalent to that of the corresponding solvent in order to increase efficiency.
  • a polymerization inhibitor or the like is added and the solvent is distilled off under reduced pressure in order to prevent the radical polymerization reaction from proceeding during the vacuum distillation and causing cross-linking between molecules. May be.
  • These distillation methods can be performed either at the raw material stage, the product obtained by reacting the raw material (for example, a resin solution after polymerization or a polyfunctional monomer solution), or a composition stage prepared by mixing these compounds. It is also possible in stages.
  • the photocurable composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), Examples include 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salt, primary cerium salt, etc.). Of these, p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the photocurable composition is preferably 0.001 to 5% by mass.
  • the photocurable composition of the present invention can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as a fluorine surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicon surfactant can be used.
  • paragraph numbers 0238 to 0245 of International Publication No. WO2015 / 166679 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • the surfactant is preferably a fluorosurfactant.
  • a fluorosurfactant in the photocurable composition, liquid properties (particularly fluidity) can be further improved, and liquid-saving properties can be further improved.
  • a film with small thickness unevenness can be formed.
  • the fluorine content in the fluorosurfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass.
  • a fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid-saving properties, and has good solubility in the composition.
  • fluorosurfactant examples include surfactants described in paragraph Nos. 0060 to 0064 of JP-A No. 2014-41318 (paragraph Nos. 0060 to 0064 of the corresponding International Publication No. 2014/17669) and JP-A No. 2011-2011.
  • the surfactants described in paragraph Nos. 0117 to 0132 of No. 132503 are listed, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of commercially available fluorosurfactants include Megafac F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, EXP, MFS.
  • the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which the fluorine atom is volatilized by cleavage of the functional group containing the fluorine atom when heat is applied. It can be suitably used.
  • a fluorosurfactant include Megafac DS series manufactured by DIC Corporation (Chemical Industry Daily, February 22, 2016) (Nikkei Sangyo Shimbun, February 23, 2016). -21.
  • the fluorine-based surfactant is also preferably a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • a fluorosurfactant can be referred to the description in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated herein.
  • a block polymer can be used. Examples thereof include compounds described in JP2011-89090A.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy group or propyleneoxy group) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the following compounds are also exemplified as the fluorosurfactant used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3,000 to 50,000, for example, 14,000. % Which shows the ratio of a repeating unit in said compound is mol%.
  • a fluoropolymer having an ethylenically unsaturated bond group in the side chain can also be used.
  • Specific examples thereof include compounds described in paragraph Nos. 0050 to 0090 and paragraph Nos. 0289 to 0295 of JP2010-164965A, for example, Megafac RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation. RS-72-K and the like.
  • the fluorine-based surfactant compounds described in paragraph numbers 0015 to 0158 of JP-A No. 2015-117327 can also be used.
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF ), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (BASF) ), Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (manufactured by Wako Pure
  • silicone-based surfactant examples include Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torre Silicone SH21PA, Torree Silicone SH28PA, Torree Silicone SH29PA, Torree Silicone SH30PA, Torree Silicone SH8400 (above, Toray Dow Corning Co., Ltd.) ), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4442 (above, manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6001, KF-6002 (above, Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), BYK307, BYK323, BYK330 (above, manufactured by BYK Chemie) and the like.
  • the compound of the following structure can also be used for a silicon-type surfactant.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the photocurable composition is preferably 0.001 to 5.0% by mass, and more preferably 0.005 to 3.0% by mass. Only one surfactant may be used, or two or more surfactants may be used. In the case of two or more types, the total amount is preferably within the above range.
  • the photocurable composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • an ultraviolet absorber a conjugated diene compound, aminodiene compound, salicylate compound, benzophenone compound, benzotriazole compound, acrylonitrile compound, hydroxyphenyltriazine compound, indole compound, triazine compound, or the like can be used. Details of these are described in paragraph numbers 0052 to 0072 in JP2012-208374A, paragraph numbers 0317 to 0334 in JP2013-68814A, and paragraph numbers 0061 to 0080 in JP2016-162946A. Which are incorporated herein by reference. Specific examples of the ultraviolet absorber include compounds having the following structure.
  • UV-503 manufactured by Daito Chemical Co., Ltd.
  • MYUA series Chemical Industry Daily, February 1, 2016
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the photocurable composition is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 5% by mass.
  • only one type of ultraviolet absorber may be used, or two or more types may be used. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.
  • the photocurable composition of the present invention can contain an antioxidant.
  • the antioxidant include a phenol compound, a phosphite compound, and a thioether compound.
  • the phenol compound any phenol compound known as a phenol-based antioxidant can be used.
  • Preferable phenolic compounds include hindered phenolic compounds.
  • a compound having a substituent at a site (ortho position) adjacent to the phenolic hydroxy group is preferred.
  • the aforementioned substituent is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms.
  • the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite group in the same molecule.
  • phosphorus antioxidant can also be used suitably for antioxidant.
  • phosphorus-based antioxidant tris [2-[[2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylethyl) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine-6 -Yl] oxy] ethyl] amine, tris [2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphin-2-yl ) Oxy] ethyl] amine, ethylbisphosphite (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl), and the like.
  • antioxidants include, for example, ADK STAB AO-20, ADK STAB AO-30, ADK STAB AO-40, ADK STAB AO-50, ADK STAB AO-50F, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-60G and ADK STAB AO-80.
  • Adeka Stub AO-330 (above, ADEKA Co., Ltd.) and the like.
  • the content of the antioxidant in the total solid content of the photocurable composition is preferably 0.01 to 20% by mass, and more preferably 0.3 to 15% by mass. Only one type of antioxidant may be used, or two or more types may be used. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.
  • the photocurable composition of the present invention may be a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a thermal curing accelerator, a plasticizer, and other auxiliary agents (for example, conductive particles, fillers, antifoaming) as necessary. Agents, flame retardants, leveling agents, release accelerators, fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, and the like). Properties such as film properties can be adjusted by appropriately containing these components. These components are described, for example, in paragraphs No. 0183 and later of JP2012-003225A (corresponding to paragraph No. 0237 of US Patent Application Publication No. 2013/0034812) and paragraphs of JP2008-250074A.
  • the photocurable composition of this invention may contain a latent antioxidant as needed.
  • the latent antioxidant is a compound in which a site functioning as an antioxidant is protected with a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C. or heated at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst.
  • a compound that functions as an antioxidant due to elimination of the protecting group can be mentioned.
  • Examples of the latent antioxidant include compounds described in International Publication WO2014 / 021023, International Publication WO2017 / 030005, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-008219.
  • Examples of commercially available products include Adeka Arcles GPA-5001 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • the viscosity (23 ° C.) of the photocurable composition of the present invention is preferably 1 to 100 mPa ⁇ s, for example, when a film is formed by coating.
  • the lower limit is more preferably 2 mPa ⁇ s or more, and further preferably 3 mPa ⁇ s or more.
  • the upper limit is more preferably 50 mPa ⁇ s or less, further preferably 30 mPa ⁇ s or less, and particularly preferably 15 mPa ⁇ s or less.
  • a storage container of the photocurable composition of this invention A well-known storage container can be used.
  • a container for the purpose of suppressing impurities from being mixed into raw materials and compositions, a multilayer bottle in which the inner wall of the container is composed of six types and six layers of resin, and a bottle having six types of resin and a seven layer structure are used. It is also preferable to use it. Examples of such a container include a container described in JP-A-2015-123351.
  • the photocurable composition of the present invention can be prepared by mixing the aforementioned components. In preparing the photocurable composition, all components may be simultaneously dissolved or dispersed in a solvent to prepare the photocurable composition. If necessary, two or more components appropriately blended with each component may be prepared. A solution or a dispersion may be prepared in advance, and these may be mixed at the time of use (at the time of application) to prepare as a photocurable composition.
  • the photocurable composition of this invention contains particle
  • the mechanical force used for dispersing the particles includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like. Specific examples of these processes include a bead mill, a sand mill, a roll mill, a ball mill, a paint shaker, a microfluidizer, a high speed impeller, a sand grinder, a flow jet mixer, high pressure wet atomization, and ultrasonic dispersion.
  • the pulverization of particles in a sand mill it is preferable to use beads having a small diameter, and to perform the treatment under conditions that increase the pulverization efficiency by increasing the filling rate of beads. Further, it is preferable to remove coarse particles by filtration, centrifugation, or the like after the pulverization treatment.
  • the process and disperser for dispersing particles are described in “Dispersion Technology Taizen, Issued by Information Technology Corporation, July 15, 2005” and “Dispersion technology and industrial application centering on suspension (solid / liquid dispersion system)”. The process and disperser described in Paragraph No. 0022 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-157893 can be suitably used.
  • the particles may be refined in the salt milling process.
  • materials, equipment, processing conditions and the like used in the salt milling process for example, descriptions in JP-A Nos. 2015-194521 and 2012-046629 can be referred to.
  • a filter for the purpose of removing foreign substances or reducing defects.
  • a filter if it is a filter conventionally used for the filtration use etc., it can use without being specifically limited.
  • fluororesins such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resins such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultra high molecular weight)
  • PP polypropylene
  • a filter using a material such as polyolefin resin.
  • polypropylene including high density polypropylene
  • nylon are preferable.
  • the pore size of the filter is suitably about 0.01 to 7.0 ⁇ m, preferably about 0.01 to 3.0 ⁇ m, and more preferably about 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the hole diameter of a filter is the said range, a fine foreign material can be removed reliably. It is also preferable to use a fiber-shaped filter medium.
  • the fiber-shaped filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, and glass fiber.
  • filter cartridges of SBP type series (such as SBP008), TPR type series (such as TPR002 and TPR005), and SHPX type series (such as SHPX003) manufactured by Loki Techno Co., Ltd. may be mentioned.
  • a filter When using a filter, you may combine a different filter (For example, a 1st filter, a 2nd filter, etc.). In that case, filtration with each filter may be performed only once or may be performed twice or more. Moreover, you may combine the filter of a different hole diameter within the range mentioned above. Further, filtration with the first filter may be performed only on the dispersion, and after mixing other components, filtration may be performed with the second filter.
  • a different filter For example, a 1st filter, a 2nd filter, etc.
  • filtration with each filter may be performed only once or may be performed twice or more.
  • filtration with the first filter may be performed only on the dispersion, and after mixing other components, filtration may be performed with the second filter.
  • the film of the present invention is a film containing a colorant and a resin and having a solid content acid value of 1 to 25 mgKOH / g. After dropping 8 ⁇ L of pure water onto the film, the film surface after 3000 ms has elapsed.
  • the contact angle with respect to pure water is 70 to 120 °.
  • the upper limit of the contact angle is preferably 110 ° or less, more preferably 100 ° or less, and still more preferably 90 ° or less.
  • the lower limit of the contact angle is preferably 73 ° or more, more preferably 76 ° or more, and further preferably 79 ° or more.
  • the film of the present invention is preferably a film obtained by using the above-described photocurable composition of the present invention.
  • the method for producing an optical filter of the present invention includes the above-described method for producing a pattern of the present invention.
  • the optical filter examples include a color filter and an infrared transmission filter.
  • the color filter examples include a filter having a pixel (pattern) having a hue selected from red, blue, green, cyan, magenta, and yellow.
  • the infrared transmission filter has a maximum transmittance of 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less) in the wavelength range of 400 to 640 nm, and the transmittance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm.
  • a filter satisfying the spectral characteristics in which the minimum value is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • At least one type of pixel may be formed using the above-described pattern manufacturing method of the present invention. It is not necessary to form using the pattern manufacturing method of the present invention described above.
  • the method for manufacturing a solid-state imaging device of the present invention includes the above-described method for manufacturing a pattern of the present invention.
  • the configuration of the solid-state imaging device is not particularly limited as long as it is a configuration that functions as a solid-state imaging device, and examples thereof include the following configurations.
  • a transfer electrode made of a plurality of photodiodes, polysilicon, and the like constituting a light receiving area of a solid-state imaging device (CCD (charge coupled device) image sensor, CMOS (complementary metal oxide semiconductor) image sensor, etc.) is provided on a substrate.
  • a device protective film made of silicon nitride or the like which has a light-shielding film opened only on the photodiode and the transfer electrode on the photodiode and the transfer electrode, and is formed on the light-shielding film so as to cover the entire surface of the light-shielding film and the photodiode light-receiving part.
  • a structure having a color filter on the device protective film is provided on a substrate.
  • the device has a condensing means (for example, a microlens, etc., the same shall apply hereinafter) on the device protective film under the color filter (on the side close to the substrate), or a constitution having the condensing means on the color filter.
  • a condensing means for example, a microlens, etc., the same shall apply hereinafter
  • An image pickup apparatus including a solid-state image pickup device can be used for an in-vehicle camera or a surveillance camera in addition to a digital camera or an electronic device (such as a mobile phone) having an image pickup function.
  • the method for manufacturing an image display device of the present invention includes the above-described method for manufacturing a pattern of the present invention.
  • the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display device.
  • image display devices and details of each image display device refer to, for example, “Electronic Display Devices (Akio Sasaki, published by Kogyo Kenkyukai 1990)”, “Display Devices (written by Junaki Ibuki, Sangyo Tosho Co., Ltd.) ) Issued in 1989).
  • the liquid crystal display device is described in, for example, “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Kenkyukai 1994)”.
  • the liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the “next-generation liquid crystal display technology”.
  • ⁇ Preparation of photocurable composition> After mixing the raw materials shown in the following table, the mixture was filtered through a nylon filter (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a pore size of 0.45 ⁇ m, and a photocurable composition (compositions 1 to 43) having a solid content concentration of 20% by mass. , R1, R2) were prepared.
  • the solid content concentrations of the photocurable compositions of Compositions 1 to 22, 24 to 43, R1, and R2 were adjusted by changing the blending amount of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA).
  • Pigment dispersion A1 Pigment dispersion prepared by the following method C. I. 9 parts by mass of Pigment Green 58, C.I. I. Pigment Yellow 185, 6 parts by mass, pigment derivative Y1, 2.5 parts by mass, dispersant D2, 5 parts by mass, and 77.5 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were mixed in a diameter. 230 parts by weight of 0.3 mm zirconia beads were added, dispersion treatment was performed for 3 hours using a paint shaker, and the beads were separated by filtration to prepare a pigment dispersion A1.
  • This pigment dispersion A1 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a pigment content of 15% by mass.
  • Pigment derivative Y1 Compound having the following structure.
  • Pigment dispersion prepared by the following method C. I. 9 parts by mass of Pigment Green 36, C.I. I. Pigment Yellow 150, 6 parts by mass of pigment derivative Y1, 2.5 parts by mass of dispersant D2, and 77.5 parts by mass of PGMEA were mixed with a mixed solution of zirconia beads 230 having a diameter of 0.3 mm. Part by mass was added, and a dispersion treatment was performed for 3 hours using a paint shaker, and the beads were separated by filtration to prepare a pigment dispersion A2.
  • This pigment dispersion A2 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a pigment content of 15% by mass.
  • Pigment dispersion prepared by the following method C. I. 9 parts by mass of Pigment Green 58, C.I. I. Pigment Yellow 139, 6 parts by mass, pigment derivative Y1, 2.5 parts by mass, dispersant D2, 5 parts by mass, and PGMEA 77.5 parts by mass were mixed with zirconia beads 230 having a diameter of 0.3 mm. Part by mass was added, and a dispersion treatment was performed for 3 hours using a paint shaker, and the beads were separated by filtration to prepare a pigment dispersion A3.
  • This pigment dispersion A3 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a pigment content of 15% by mass.
  • 230 parts by mass of zirconia beads were added, dispersed for 3 hours using a paint shaker, and the beads were separated by filtration to prepare pigment dispersion A5.
  • This pigment dispersion A5 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a pigment content of 15% by mass.
  • A6 Pigment dispersion prepared by the following method C. I. Pigment Blue 15: 6, 12 parts by mass, C.I. I. Pigment Violet 23, 2.7 parts by mass of pigment derivative Y1, 4.8 parts by mass of dispersant D2, and 77.5 parts by mass of PGMEA were mixed with zirconia having a diameter of 0.3 mm. 230 parts by mass of the beads were added, and a dispersion treatment was performed for 3 hours using a paint shaker, and the beads were separated by filtration to prepare a pigment dispersion A6.
  • This pigment dispersion A6 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a pigment content of 15% by mass.
  • This pigment dispersion A7 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a colorant content (total amount of pigment and dye) of 15% by mass.
  • This pigment dispersion A6 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a pigment content of 15% by mass.
  • a pigment dispersion A9 was prepared in the same manner as in the pigment dispersion A1, except that the same amount of the dispersant D3 was used instead of the dispersant D2 in the pigment dispersion A1.
  • This pigment dispersion A9 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a pigment content of 15% by mass.
  • a pigment dispersion A10 was prepared in the same manner as the pigment dispersion A1 except that the same amount of the dispersant D4 was used instead of the dispersant D2 in the pigment dispersion A1.
  • This pigment dispersion A10 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a pigment content of 15% by mass.
  • a pigment dispersion A11 was prepared in the same manner as in the pigment dispersion A1, except that the same amount of the dispersant D5 was used instead of the dispersant D2 in the pigment dispersion A1.
  • This pigment dispersion A11 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a pigment content of 15% by mass.
  • A12 Pigment dispersion prepared by the following method C. I. Pigment Green 58, 10.13 parts by mass, C.I. I. Pigment Yellow 185, 6.75 parts by mass, pigment derivative Y1, 2.81 parts by mass, dispersant D1, 2.81 parts by mass, and PGMEA, 77.5 parts by mass, were mixed in a diameter of 0.3 mm. In addition, 230 parts by mass of zirconia beads were added, dispersed for 3 hours using a paint shaker, and the beads were separated by filtration to prepare pigment dispersion A12. This pigment dispersion A12 had a solid content concentration of 22.5% by mass and a pigment content of 16.68% by mass.
  • Dispersant D2 Resin having the following structure (The numerical value attached to the main chain is the molar ratio, and the numerical value attached to the side chain is the number of repeating units.
  • B2 Resin having the following structure (Numerical values attached to the main chain are molar ratios.
  • T1 EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation, epoxy resin)
  • T2 Compound having the following structure (silane coupling agent)
  • T3 Compound having the following structure (ultraviolet absorber)
  • Exposure 1 Using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.) and an exposure amount of 200 mJ / cm 2 through a mask having a Bayer pattern formed with a pixel (pattern) size of 1 ⁇ m square. Exposure with i-line.
  • Exposure 2 Using a KrF scanner exposure machine, pulse exposure was performed with KrF rays at a dose of 200 mJ / cm 2 through a mask having a Bayer pattern formed with a pixel (pattern) size of 1 ⁇ m square (maximum instantaneous illuminance: 250000000 W / m 2 (average illuminance: 30000 W / m 2 ), pulse width: 30 nanoseconds, frequency: 4 kHz).
  • the image area (pattern) of the obtained pixels was observed using a high resolution FEB (Field Emission Beam) measuring device (HITACHI CD-SEM) S9380II (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
  • C A pattern having a substantially targeted line width was formed, but the difference between the line width at the center of the pattern and the line width at the end was 10% or more and less than 30%.
  • the pixel pattern is 0.7 ⁇ m square, 0.8 ⁇ m square, 0.9 ⁇ m square, 1.0 ⁇ m square, 1.1 ⁇ m square, 1.2 ⁇ m square, 1.3 ⁇ m square, 1.4 ⁇ m square, Except for the use of a mask having a Bayer pattern formed of 5 ⁇ m square, 1.7 ⁇ m square, 2.0 ⁇ m square, 3.0 ⁇ m square, 5.0 ⁇ m square, 10.0 ⁇ m square, pattern formation and residue evaluation In order to carry out, the pixel (pattern) was formed in the same procedure as that for forming the pixel (pattern).
  • composition 1 C.I. of pigment dispersion A1 was used instead of pigment dispersion A1.
  • composition 1 C.I. of pigment dispersion A1 was used instead of pigment dispersion A1.
  • Pigment Yellow 150 with the same amount of C.I. I. Even when a pigment dispersion prepared by replacing with Pigment Yellow 231 is used, the same effect can be obtained.

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Abstract

パターン形成性に優れ、かつ、パターン間の残渣の発生が抑制されたパターンの製造方法、光学フィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法および画像表示装置の製造方法を提供する。また、光硬化性組成物および膜を提供する。パターンの製造方法は、色材と樹脂とを含む光硬化性組成物であって固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである光硬化性組成物を用いて支持体上に光硬化性組成物層を形成する工程と、光硬化性組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部の光硬化性組成物層を、有機溶剤を含む現像液を用いて処理して現像する工程と、を含む。

Description

パターンの製造方法、光学フィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法、光硬化性組成物および膜

　本発明は、パターンの製造方法に関する。更に詳しくは、有機溶剤を含む現像液で現像してネガ型パターンを形成するパターンの製造方法に関する。また、本発明は前述のパターンの製造方法を含む光学フィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法および画像表示装置の製造方法に関する。また、本発明は光硬化性組成物および膜に関する。

　色材を含む光硬化性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法にてパターンを形成してカラーフィルタなどを製造することが行なわれている。現像液としては、従来よりアルカリ水溶液が用いられている。また、現像液として有機溶剤を用いる試みも検討されている。

　特許文献１には、有機溶剤に可溶な染料、重合性化合物及び光重合開始剤を含有し、全固形分中、染料を６５質量％以上含む着色感放射線性組成物を用いて着色層を形成する工程、前述の着色層をマスクを介してパターン状に露光する工程、および、露光された着色層を有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むカラーフィルタの製造方法に関する発明が記載されている。

　また、特許文献２には、着色剤、重合性化合物、アルカリ可溶性樹脂、および、光重合開始剤を含有する着色感放射線性組成物を用いて着色感放射線性組成物層を形成する工程ａと、着色感放射線性組成物層を、マスクを介してパターン状に露光する工程ｂと、露光された着色感放射線性組成物層を処理して、着色層を形成する工程ｃと、を備え、工程ｃが、有機溶剤を含む現像液を用いて処理する工程ｃ１、および、アルカリ水溶液を用いて現像する工程ｃ２のうちいずれか一方の工程を実施して、その後他方の工程を実施する工程である、着色層の製造方法に関する発明が記載されている。

特開２０１４－１９９２７２号公報 国際公開ＷＯ２０１７／０３８３３９号公報

　色材を含む光硬化性組成物を用いてパターンを製造するに際して、パターン形成性に優れ、かつ、パターン間の残渣の発生がより抑制されていることが望ましく、近年においてはこれらの特性についてのさらなる向上が望まれている。

　よって、本発明の目的は、パターン形成性に優れ、かつ、パターン間の残渣の発生が抑制されたパターンの製造方法、光学フィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法および画像表示装置の製造方法を提供することにある。また、本発明は、光硬化性組成物および膜を提供することにある。

　本発明者の検討によれば、以下の構成とすることにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。

　＜１＞　色材と、樹脂とを含む光硬化性組成物であって、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである光硬化性組成物を用いて支持体上に光硬化性組成物層を形成する工程と、

　光硬化性組成物層をパターン状に露光する工程と、

　未露光部の光硬化性組成物層を、有機溶剤を含む現像液を用いて処理して現像する工程と、

　を含むパターンの製造方法。

　＜２＞　現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータが１８～２４ＭＰａ0.5である、＜１＞に記載のパターンの製造方法。

　＜３＞　現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値が０～１である、＜１＞または＜２＞に記載のパターンの製造方法。

　＜４＞　光硬化性組成物は、現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとの差の絶対値が３．５ＭＰａ0.5以下の溶解度パラメータを有する樹脂を含む、＜１＞～＜３＞のいずれかに記載のパターンの製造方法。

　＜５＞　光硬化性組成物は、現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値との差の絶対値が２以下のＣＬｏｇＰ値を有する樹脂を含む、＜１＞～＜４＞のいずれかに記載のパターンの製造方法。

　＜６＞　現像液に含まれる有機溶剤がケトン系溶剤およびアルコール系溶剤から選ばれる少なくとも１つである、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載のパターンの製造方法。

　＜７＞　現像液に含まれる有機溶剤が、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコールおよび乳酸エチルから選ばれる少なくとも１つである、＜１＞～＜６＞のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

　＜８＞　色材が顔料である、＜１＞～＜７＞のいずれかに記載のパターンの製造方法。

　＜９＞　現像する工程の後に、更に有機溶剤を含むリンス液でリンスする工程を含む、＜１＞～＜８＞のいずれかに記載のパターンの製造方法。

　＜１０＞　リンス液に含まれる有機溶剤の沸点が現像液に含まれる有機溶剤の沸点よりも低い、＜９＞に記載のパターンの製造方法。

　＜１１＞　リンス液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータが１７～２１ＭＰａ0.5である、＜９＞または＜１０＞に記載のパターンの製造方法。

　＜１２＞　リンス液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値が０．３～２．０である、＜９＞～＜１１＞のいずれかに記載のパターンの製造方法。

　＜１３＞　リンス液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータと現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとの差の絶対値が３．５ＭＰａ0.5以下である、＜９＞～＜１２＞のいずれかに記載のパターンの製造方法。

　＜１４＞　リンス液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値と現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値との差の絶対値が１．０以下である、＜９＞～＜１３＞のいずれかに記載のパターンの製造方法。

　＜１５＞　光硬化性組成物は、現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとの差の絶対値が３．５ＭＰａ0.5以下の溶解度パラメータを有し、かつ、リンス液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとの差の絶対値が５．５ＭＰａ0.5以下の溶解度パラメータを有する樹脂を含む、＜９＞～＜１４＞のいずれかに記載のパターンの製造方法。

　＜１６＞　光硬化性組成物は、現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値との差の絶対値が２以下のＣＬｏｇＰ値を有し、かつ、リンス液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値との差の絶対値が０．５～３のＣＬｏｇＰ値を有する樹脂を含む、＜９＞～＜１５＞のいずれかに記載のパターンの製造方法。

　＜１７＞　＜１＞～＜１６＞のいずれかに記載のパターンの製造方法を含む光学フィルタの製造方法。

　＜１８＞　＜１＞～＜１６＞のいずれかに記載のパターンの製造方法を含む固体撮像素子の製造方法。

　＜１９＞　＜１＞～＜１６＞のいずれかに記載のパターンの製造方法を含む画像表示装置の製造方法。

　＜２０＞　＜１＞～＜１６＞のいずれかに記載のパターンの製造方法に用いられる光硬化性組成物であって、

　色材と、樹脂とを含み、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである光硬化性組成物。

　＜２１＞　色材と、樹脂とを含み、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである光硬化性組成物であって、下記の条件１を満たす光硬化性組成物；

　条件１：ガラス基板上に光硬化性組成物を塗布し１００℃で２分加熱して膜を形成した際に、前述の膜に純水を８μＬ滴下した後、３０００ｍｓ経過後の前述の膜表面の純水に対する接触角が７０～１２０°である。

　＜２２＞　色材と、樹脂とを含み、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである膜であって、

　前述の膜に純水を８μＬ滴下した後、３０００ｍｓ経過後の前述の膜表面の純水に対する接触角が７０～１２０°である、膜。

　本発明によれば、パターン形成性に優れ、かつ、パターン間の残渣の発生が抑制されたパターンの製造方法、光学フィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法および画像表示装置の製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、前述のパターンの製造方法に用い好適に用いることができる光硬化性組成物および膜を提供することができる。

　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。

　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。

　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。

　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。

　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。

　本明細書において、樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）、及び分散度（分子量分布ともいう）（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ＧＰＣ（Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）装置（東ソー社製ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ）によるＧＰＣ測定（溶媒：テトラヒドロフラン、流量（サンプル注入量）：１０μＬ、カラム：東ソー社製ＴＳＫ　ｇｅｌ　Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ　ＨＸＬ－Ｍ、カラム温度：４０℃、流速：１．０ｍＬ／分、検出器：示差屈折率検出器(Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ　Ｉｎｄｅｘ　Ｄｅｔｅｃｔｏｒ）)によるポリスチレン換算値として定義される。

　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。

　本明細書において、顔料とは、溶剤に対して溶解しにくい化合物を意味する。例えば、顔料は、２３℃の水１００ｇおよび２３℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００ｇに対する溶解度がいずれも０．１ｇ以下であることが好ましく、０．０１ｇ以下であることがより好ましい。

　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。

＜パターンの製造方法＞

　本発明のパターンの製造方法は、色材と、樹脂とを含む光硬化性組成物であって、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである光硬化性組成物を用いて支持体上に光硬化性組成物層を形成する工程と、光硬化性組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部の光硬化性組成物層を、有機溶剤を含む現像液を用いて処理して現像する工程と、を含むことを特徴とする。

　本発明のパターンの製造方法によれば、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである光硬化性組成物を用いて光硬化性組成物層を形成し、有機溶剤を含む現像液を用いて未露光部の光硬化性組成物層を処理することにより、未露光部の光硬化性組成物層を有機溶剤にて効率よく除去することができる。更には、露光部の光硬化性組成物層が有機溶剤で現像されにくいので、得られるパターンの歪みなどを抑制することができる。このため、優れたパターン形成性が得られる。また、未露光部の光硬化性組成物層を有機溶剤にて効率よく除去できるので現像残渣（パターン間の残渣）の発生を効率よく抑制することもできる。

　また、アルカリ水溶液にて未露光部の光硬化性組成物層を処理する場合、酸価の高いアルカリ可溶性樹脂の配合量を増やすなどして、光硬化性組成物中の固形分の酸価を高める必要があったが、本発明によれば、光硬化性組成物中の固形分の酸価を低くすることができるので、光硬化性組成物中の固形分の色材濃度を高めることもでき、色材濃度の高い膜を製造することもできる。

　以下、本発明のパターンの製造方法についてさらに詳しく説明する。

（光硬化性組成物層を形成する工程）

　光硬化性組成物層を形成する工程では、色材と、樹脂とを含む光硬化性組成物であって、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである光硬化性組成物を用いて支持体上に光硬化性組成物層を形成する。光硬化性組成物の詳細については後述する。

　支持体としては、特に限定は無く、用途に応じて適宜選択できる。例えば、ガラス基板、固体撮像素子（受光素子）が設けられた固体撮像素子用基板、シリコン基板等が挙げられる。また、これらの基板上には、上部の層との密着改良、物質の拡散防止あるいは表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。

　支持体への光硬化性組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。また、光硬化性組成物の適用方法については、国際公開ＷＯ２０１７／０３０１７４号公報、国際公開ＷＯ２０１７／０１８４１９号公報に記載された方法を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　支持体に光硬化性組成物を適用した後、更に乾燥（プリベーク）を行ってもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、８０～２２００秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。

（露光する工程）

　次に、光硬化性組成物層をパターン状に露光する。例えば、支持体上に形成した光硬化性組成物層に対し露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部の光硬化性組成物層を硬化させることができる。この結果、露光部の光硬化性組成物層の有機溶剤に対する溶解性を低下させることができる。

　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。

　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。パルス露光の場合、パルス幅は、１００ナノ秒（ｎｓ）以下であることが好ましく、５０ナノ秒以下であることがより好ましく、３０ナノ秒以下であることが更に好ましい。パルス幅の下限は、特に限定はないが、１フェノム秒（ｆｓ）以上とすることができ、１０フェノム秒以上とすることもできる。周波数は、１ｋＨｚ以上であることが好ましく、２ｋＨｚ以上であることがより好ましく、４ｋＨｚ以上であることが更に好ましい。周波数の上限は５０ｋＨｚ以下であることが好ましく、２０ｋＨｚ以下であることがより好ましく、１０ｋＨｚ以下であることが更に好ましい。最大瞬間照度は、５０００００００Ｗ／ｍ2以上であることが好ましく、１００００００００Ｗ／ｍ2以上であることがより好ましく、２００００００００Ｗ／ｍ2以上であることが更に好ましい。また、最大瞬間照度の上限は、１０００００００００Ｗ／ｍ2以下であることが好ましく、８００００００００Ｗ／ｍ2以下であることがより好ましく、５００００００００Ｗ／ｍ2以下であることが更に好ましい。なお、パルス幅とは、パルス周期における光が照射されている時間のことである。また、周波数とは、１秒あたりのパルス周期の回数のことである。また、最大瞬間照度とは、パルス周期における光が照射されている時間内での平均照度のことである。また、パルス周期とは、パルス露光における光の照射と休止を１サイクルとする周期のことである。

　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ2が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ2がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ2～１０００００Ｗ／ｍ2（例えば、５０００Ｗ／ｍ2、１５０００Ｗ／ｍ2、または、３５０００Ｗ／ｍ2）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ2、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ2などとすることができる。

（現像する工程）

　次に、未露光部の光硬化性組成物層を、有機溶剤を含む現像液を用いて処理して現像する。これによって、未露光部の光硬化性組成物層が現像液によって除去されてパターン（ネガ型パターン）が形成される。

　現像液に用いられる有機溶剤としては、種々の有機溶剤が挙げられる。例えば、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。本発明において、エステル系溶剤とは分子内にエステル基を有する溶剤のことである。また、ケトン系溶剤とは分子内にケトン基を有する溶剤のことである。また、アルコール系溶剤とは分子内にアルコール性水酸基を有する溶剤のことである。また、アミド系溶剤とは分子内にアミド基を有する溶剤のことである。また、エーテル系溶剤とは分子内にエーテル結合を有する溶剤のことである。これらの中には、１分子内に上記官能基を複数種類有する溶剤も存在するが、その場合は、その溶剤の有する官能基を含むいずれの溶剤種にも該当するものとする。例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテルは、上記分類中の、アルコール系溶剤及びエーテル系溶剤に該当するものとする。また、炭化水素系溶剤とは置換基を有さない炭化水素系溶剤のことである。以下、有機溶剤の具体例を説明する。

　ケトン系溶剤としては、例えば、１－オクタノン、２－オクタノン、１－ノナノン、２－ノナノン、アセトン、２－ヘプタノン（メチルアミルケトン）、４－ヘプタノン、１－ヘキサノン、２－ヘキサノン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、フェニルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、イオノン、ジアセトニルアルコール、アセチルカービノール、アセトフェノン、メチルナフチルケトン、イソホロン、プロピレンカーボネート等が挙げられる。

　エステル系溶剤としては、例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチル－３－エトキシプロピオネート、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸ブチル、蟻酸プロピル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸プロピル、ブタン酸ブチル、２-ヒドロキシイソ酪酸メチル、イソ酪酸イソブチル、プロピオン酸ブチル等が挙げられる。

　アルコール系溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、ｓｅｃ－ブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｎ－ヘキシルアルコール、ｎ－ヘプチルアルコール、ｎ－オクチルアルコール、ｎ－デカノールなどのアルコール；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールなどのグリコール系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（別名：１－メトキシ－２－プロパノール）、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、メトキシメチルブタノールなどのグリコールエーテル系溶剤；等が挙げられる。

　エーテル系溶剤としては、例えば、上記グリコールエーテル系溶剤、ジオキサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。

　アミド系溶剤としては、例えば、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられる。

　炭化水素系溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素系溶剤が挙げられる。

　本発明においては、現像液は、適度な極性を有しつつ、露光部の感光性組成物層を膨潤させ難く、優れたパターン形成性が得られやすいという理由から、ケトン系溶剤およびアルコール系溶剤から選ばれる少なくとも１つの有機溶剤を含むことが好ましい。また、本発明で用いられる現像液は２種以上の有機溶剤を含んでいてもよい。２種以上の有機溶剤の組み合わせとしては、露光部の感光性組成物層が膨潤し難く、かつ、未露光部の光硬化性組成物層の溶解性（現像性）に優れるという理由から、ケトン系溶剤とアルコール系溶剤との組み合わせが好ましい。

　本発明で用いられる現像液は、より優れた現像性が得られやすいという理由から、含水率が１０質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることが更に好ましく、実質的に水分を含有しないことが特に好ましい。現像液が実質的に水分を含有しない場合とは、現像液の含水率が０．１質量％以下であることを意味し、０．０１質量％以下であることが好ましく、０質量％である（水を含有しない）ことが更に好ましい。

　本発明で用いられる現像液において、有機溶剤（複数種類を混合する場合は合計）の濃度は、好ましくは５０質量％以上であり、より好ましくは７０質量％以上であり、更に好ましくは９５質量％以上であり、特に好ましくは、実質的に有機溶剤のみからなる場合である。なお、実質的に有機溶剤のみからなる場合とは、微量の界面活性剤、酸化防止剤、塩基性化合物、安定剤、消泡剤などを含有する場合を含むものとする。

　本発明で用いられる現像液において、現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータは、１８～２４ＭＰａ0.5であることが好ましい。下限は、未露光部の光硬化性組成物層を効果的に溶解除去し易いという理由から１９ＭＰａ0.5以上であることが好ましく、１９．５ＭＰａ0.5以上であることがより好ましく、２０ＭＰａ0.5以上であることが更に好ましい。上限は、露光部の感光性組成物層への影響を抑制できるという理由から２３ＭＰａ0.5以下であることが好ましく、２２．５ＭＰａ0.5以下であることがより好ましく、２２ＭＰａ0.5以下であることが更に好ましい。なお、現像液が２種以上の有機溶剤を含む場合、上述の有機溶剤の溶解度パラメータとは、下記式（１）から算出される２種以上の有機溶剤の混合溶液での溶解度パラメータのことである。

Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　ＳＰaveは、２種以上（ｎ種）の有機溶剤の混合溶液での溶解度パラメータであり、Ｍiは有機溶剤の全量中における有機溶剤ｉの質量比（有機溶剤ｉの質量／全有機溶剤の質量）であり、ＳＰiは、有機溶剤ｉの溶解度パラメータであり、ｎは２以上の整数である。

　本発明で用いられる現像液が、２種以上の有機溶剤を含む場合、露光部の光硬化性組成物層への影響を抑制しつつ、未露光部の光硬化性組成物層の溶解性を十分に確保し易いという理由から各々の有機溶剤の溶解度パラメータは、１８～２４ＭＰａ0.5であることが好ましい。下限は、１９ＭＰａ0.5以上であることが好ましく、１９．５ＭＰａ0.5以上であることがより好ましく、２０ＭＰａ0.5以上であることが更に好ましい。上限は、２３ＭＰａ0.5以下であることが好ましく、２２．５ＭＰａ0.5以下であることがより好ましく、２２ＭＰａ0.5以下であることが更に好ましい。

　なお、本明細書において、有機溶剤の溶解度パラメータおよび後述する重合性モノマーの溶解度パラメータは、ハンセン溶解度パラメータを用いる。具体的には、ハンセン溶解度パラメータ・ソフトウエア「ＨＳＰｉＰ　５．０．０９」を用いて算出される値を用いる。

　本発明で用いられる現像液において、現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値は、０～１であることが好ましい。下限は、露光部の光硬化性組成物層の膨潤などを抑制し易いという理由から０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましい。上限は、未露光部の光硬化性組成物層の溶解性を十分に確保し易いという理由から０．９以下であることが好ましく、０．８以下であることがより好ましい。なお、現像液が２種以上の有機溶剤を含む場合、上述の有機溶剤のＣＬｏｇＰ値とは、下記式（２）から算出される２種以上の有機溶剤の混合溶液でのＣＬｏｇＰ値のことである。

Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
　ＣＬｏｇＰaveは、２種以上（ｎ種）の有機溶剤の混合溶液でのＣＬｏｇＰ値であり、Ｍiは有機溶剤の全量中における有機溶剤ｉの質量比（有機溶剤ｉの質量／全有機溶剤の質量）であり、ＣＬｏｇＰiは、有機溶剤ｉのＣＬｏｇＰ値であり、ｎは２以上の整数である。

　本発明で用いられる現像液が、２種以上の有機溶剤を含む場合、露光部の光硬化性組成物層への影響を抑制しつつ、未露光部の光硬化性組成物層の溶解性を十分に確保し易いという理由から各々の有機溶剤のＣＬｏｇＰ値は、０～１であることが好ましい。下限は０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましい。上限は、０．９以下であることがより好ましく０．８以下であることが更に好ましい。なお、ＣＬｏｇＰ値とは、１－オクタノール／水の分配係数Ｐの常用対数であるＬｏｇＰの計算値である。

本明細書において、ＣＬｏｇＰ値は、ＣｈｅｍｉＢｉｏＤｒａｗ　Ｕｌｔｒａ　ｖｅｒ．１３．０．２．３０２１（Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ　ｓｏｆｔ社製）を用いて予測計算して求めた値である。

　本発明で用いられる現像液において、現像液に含まれる有機溶剤の沸点は、８０～２２０℃であることが好ましい。下限は、１００℃以上であることが好ましく、１２０℃以上であることがより好ましく、１３０℃以上であることが更に好ましい。上限は、２００℃以下であることが好ましく、１８０℃以下であることがより好ましく、１６０℃以下であることが更に好ましい。なお、現像液が２種以上の有機溶剤を含む場合、上述の有機溶剤の沸点とは、下記式（３）から算出される２種以上の有機溶剤の混合溶液での沸点のことである。

Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003

　ＢＰaveは、２種以上（ｎ種）の有機溶剤の混合溶液での沸点であり、Ｍiは有機溶剤の全量中における有機溶剤ｉの質量比（有機溶剤ｉの質量／全有機溶剤の質量）であり、ＢＰiは、有機溶剤ｉの沸点であり、ｎは２以上の整数である。

　本発明で用いられる現像液が、２種以上の有機溶剤を含む場合、各々の有機溶剤の沸点は、５０～３００℃であることが好ましい。下限は６０℃以上であることが好ましく、７０℃以上であることがより好ましい。上限は、２６０℃以下であることがより好ましく２４０℃以下であることが更に好ましい。

　本発明で用いられる現像液に含まれる有機溶剤は、露光部の光硬化性組成物層への影響を抑制しつつ、未露光部の光硬化性組成物層の溶解性を十分に確保し易いという理由から、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコールおよび乳酸エチルから選ばれる少なくとも１つであることが好ましく、シクロペンタノンおよびシクロヘキサノンがより好ましい。

　現像液での処理方法（現像方法）としては、例えば、現像液が満たされた槽中に光硬化性組成物層が形成された支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、光硬化性組成物層の表面に現像液を表面張力によって盛り上げて一定時間静止することによって現像する方法（パドル法）、光硬化性組成物層の表面に現像液を噴霧する方法（スプレー法）、一定速度で回転している支持体上に一定速度で現像液吐出ノズルをスキャンしながら現像液を吐出しつづける方法（ダイナミックディスペンス法）などを適用することができ、均一な現像と現像液の節約を両立し易いという理由からパドル法が好ましい。

　現像液での処理時間（現像時間）は、１５～３００秒が好ましい。下限は３０秒以上が好ましく、６０秒以上がより好ましい。上限は１８０秒以下が好ましく、１２０秒以下がより好ましい。

　現像液の温度は、０℃～５０℃が好ましい。下限は、１０℃以上が好ましく、２０℃以上がより好ましい。上限は、４０℃以下が好ましく、３０℃以下がより好ましい。

　現像後、乾燥処理を行ってもよい。乾燥方法としては、スピン乾燥、スプレー乾燥などが挙げられる。なかでも、均一な乾燥が可能であるという理由からスピン乾燥が好ましい。スピン乾燥条件としては、回転数が２０００ｒｐｍ以上であることが好ましく、３０００ｒｐｍ以上であることがより好ましく、４０００ｒｐｍ以上であることが更に好ましい。上限は、１００００ｒｐｍ以下であることが好ましく、７０００ｒｐｍ以下であることがより好ましく、５０００ｒｐｍ以下であることが更に好ましい。乾燥時間は、特に限定はないが、１秒以上であることが好ましく、５秒以上であることがより好ましく、１０秒以上であることがより好ましい。上限は特に限定はないが、３０秒以下が好ましく、２５秒以下がより好ましく、２０秒以下がより好ましい。

（リンスする工程）

　本発明のパターンの製造方法においては、現像する工程の後に、リンス液を用いてリンスする工程を含むことが好ましい。リンス液には、水および有機溶剤から選ばれる少なくとも１種を含むものが用いられ、現像残差などをより低減させやすいという理由から、有機溶剤を含むリンス液を用いてリンスすることが好ましい。

　リンス液に用いられる有機溶剤としては、種々の有機溶剤が挙げられる。例えば、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、現像液に用いられる有機溶剤の項で説明したものが挙げられる。

　本発明においては、リンス液は、現像残渣を低減しつつ、パターンへのダメージを抑制し易いという理由から、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、アセトンおよびエチル－３－エトキシプロピオネートから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤を含むことが好ましい。また、本発明で用いられるリンス液は２種以上の有機溶剤を含んでいてもよい。２種以上の有機溶剤の組み合わせとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとプロピレングリコールモノメチルエーテルとの組み合わせが好ましい。

　本発明で用いられるリンス液は、含水率が１０質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることが更に好ましく、実質的に水分を含有しないことが特に好ましい。リンス液が実質的に水分を含有しない場合とは、リンス液の含水率が０．１質量％以下であることを意味し、０．０１質量％以下であることが好ましく、０質量％である（水を含有しない）ことが更に好ましい。

　本発明で用いられるリンス液において、有機溶剤（複数種類を混合する場合は合計）の濃度は、好ましくは５０質量％以上であり、より好ましくは７０質量％以上であり、更に好ましくは９５質量％以上であり、特に好ましくは、実質的に有機溶剤のみからなる場合である。なお、実質的に有機溶剤のみからなる場合とは、微量の界面活性剤、酸化防止剤、塩基性化合物、安定剤、消泡剤などを含有する場合を含むものとする。

　本発明で用いられるリンス液において、リンス液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータは、１７～２１ＭＰａ0.5であることが好ましい。下限は、１７．４ＭＰａ0.5以上であることが好ましく１７．７ＭＰａ0.5以上であることがより好ましく、１８ＭＰａ0.5以上であることが更に好ましい。上限は、２０ＭＰａ0.5以下であることが好ましく、１９．５ＭＰａ0.5以下であることがより好ましく、１９ＭＰａ0.5以下であることが更に好ましい。

　また、リンス液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータは、リンス液によるパターンへのダメージを抑制し易いという理由から現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータよりも小さいことが好ましい。また、両者の溶解度パラメータの差の絶対値は、１．５ＭＰａ0.5以上であることが好ましく２．０ＭＰａ0.5以上であることがより好ましく、２．５ＭＰａ0.5以上であることが更に好ましい。上限は、４．５ＭＰａ0.5以下であることが好ましく、４．０ＭＰａ0.5以下であることがより好ましく、３．５ＭＰａ0.5以下であることが更に好ましい。なお、リンス液が２種以上の有機溶剤を含む場合、リンス液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとは、上記式（１）から算出される２種以上の有機溶剤の混合溶液での溶解度パラメータ（ＳＰave）のことである。

　本発明で用いられるリンス液が、２種以上の有機溶剤を含む場合、各々の有機溶剤の溶解度パラメータは、１７～２１ＭＰａ0.5であることが好ましい。下限は、１７．４ＭＰａ0.5以上であることが好ましく、１７．７ＭＰａ0.5以上であることがより好ましく、１８ＭＰａ0.5以上であることが更に好ましい。上限は、２０ＭＰａ0.5以下であることが好ましく、１９．５ＭＰａ0.5以下であることがより好ましく、１９ＭＰａ0.5以下であることが更に好ましい。

　本発明で用いられるリンス液において、リンス液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値は、０．３～２．０であることが好ましい。下限は、０．４以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましい。上限は、１．４以下であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましい。

　また、リンス液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰは、リンス液によるパターンへのダメージを抑制し易いという理由から現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰよりも大きいことが好ましい。両者のＣＬｏｇＰの差の絶対値は、リンス液によるパターンへのダメージを抑制し易いという理由から０．１以上であることが好ましく０．２以上であることがより好ましく、０．３以上であることが更に好ましい。上限は、現像液に溶解した光硬化性組成物層の再凝集などに起因した凝集物の発生を抑制し易いという理由から１．０以下であることが好ましく、０．７以下であることがより好ましく、０．５以下であることが更に好ましい。なお、リンス液が２種以上の有機溶剤を含む場合、リンス液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値とは、上記式（２）から算出される２種以上の有機溶剤の混合溶液でのＣＬｏｇＰ値（ＣＬｏｇＰave）のことである。

　本発明で用いられるリンス液が、２種以上の有機溶剤を含む場合、各々の有機溶剤のＣＬｏｇＰ値は、－０．３～３．０であることが好ましい。下限は０．２以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましく、０．４以上であることが更に好ましく、０．５以上であることがより一層好ましく、０．６以上であることが特に好ましい。上限は、２．４以下であることが好ましく１．８以下であることがより好ましく、１．４以下であることが更に好ましく、０．９以下であることが特に好ましい。

　本発明で用いられるリンス液において、リンス液に含まれる有機溶剤の沸点は、現像液に含まれる有機溶剤の沸点よりも低いことが好ましく、１０℃以上低いことがより好ましく、２０℃以上低いことがより好ましい。この態様によれば、パターン表面にリンス液が残留することを抑制でき、残留リンス液由来の欠陥の発生を効果的に抑制できる。また、本発明で用いられるリンス液において、リンス液に含まれる有機溶剤の沸点は、７０～１６５℃であることが好ましい。下限は、９０℃以上であることが好ましく、１１０℃以上であることがより好ましく、１２０℃以上であることが更に好ましい。上限は、１６０℃以下であることが好ましく、１５５℃以下であることがより好ましく、１５０℃以下であることが更に好ましい。なお、リンス液が２種以上の有機溶剤を含む場合、リンス液に含まれる有機溶剤の沸点とは、上記式（３）から算出される２種以上の有機溶剤の混合溶液での沸点（ＢＰave）のことである。

　本発明で用いられるリンス液が、２種以上の有機溶剤を含む場合、各々の有機溶剤の沸点は、５０～２００℃であることが好ましい。下限は８０℃以上であることが好ましく、９０℃以上であることがより好ましく、１００℃以上であることが更に好ましく、１１０℃以上であることがより一層好ましく、１２０℃以上であることが更に一層好ましい。上限は、１８５℃以下であることが好ましく、１７０℃以下であることがより好ましく、１６０℃以下であることが更に好ましく、１５５℃以下であることがより一層好ましく、１５０℃以下であることが更に一層好ましい。

　本発明で用いられるリンス液に含まれる有機溶剤は、現像残渣低減とパターンへのダメージ抑制を両立し易いという理由から、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、アセトンおよびエチル－３－エトキシプロピオネートから選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノンおよびエチル－３－エトキシプロピオネートから選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。

　リンス液での処理方法（リンス方法）としては、例えば、リンス液が満たされた槽中に光硬化性組成物層が形成された支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、光硬化性組成物層の表面に現像液を噴霧する方法（スプレー法）、一定速度で回転している支持体上に一定速度で現像液吐出ノズルをスキャンしながら現像液を吐出しつづける方法（ダイナミックディスペンス法）などを適用することができ、ダイナミックディスペンス法が好ましい。

　リンス液での処理時間（リンス時間）は、１０～１２０秒が好ましい。下限は２０秒以上が好ましく、３０秒以上がより好ましい。上限は９０秒以下が好ましく、６０秒以下がより好ましい。

　リンス液の温度は、０℃～５０℃が好ましい。下限は、１０℃以上が好ましく、２０℃以上がより好ましい。上限は、４０℃以下が好ましく、３０℃以下がより好ましい。

　リンス後、乾燥処理を行ってもよい。乾燥方法としては、スピン乾燥、スプレー乾燥などが挙げられ、スピン乾燥が好ましい。スピン乾燥条件としては、回転数が２０００ｒｐｍ以上であることが好ましく、３０００ｒｐｍ以上であることがより好ましく、４０００ｒｐｍ以上であることが更に好ましい。上限は、１００００ｒｐｍ以下であることが好ましく、７０００ｒｐｍ以下であることがより好ましく、５０００ｒｐｍ以下であることが更に好ましい。乾燥時間は、特に限定はないが、５秒以上であることが好ましく、１０秒以上であることがより好ましく、１５秒以上であることがより好ましい。上限は特に限定はないが、３０秒以下が好ましく、２５秒以下がより好ましく、２０秒以下がより好ましい。

（ポストベーク工程）

　本発明のパターンの製造方法においては、現像する工程後（リンスする工程を行った後はリンスする工程後）、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。

　本発明のパターンの製造方法によって得られるパターンの厚さおよび線幅は特に限定されない。用途および目的に応じて適宜調整できる。例えば、パターンの厚さは、２０．０μｍ以下が好ましく、１０．０μｍ以下がより好ましく、５．０μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。また、パターンの線幅は、１０．０μｍ以下であることが好ましく、５．０μｍ以下であることがより好ましく、３．０μｍ以下であることが更に好ましく、２．０μｍ以下であることがより一層好ましく、１．７μｍ以下であることが更に一層好ましく、１．５μｍ以下であることが特に好ましい。下限はとくに限定はないが、例えば０．１μｍ以上とすることができる。

　本発明のパターンの製造方法によって得られるパターンの用途は特に限定されないが、例えば、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や画像表示装置などに用いることができる。また、本発明のパターンの製造方法によって得られるパターンは、カラーフィルタ、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、遮光膜などに用いることができる。

＜光硬化性組成物＞

　次に、本発明の光硬化性組成物について説明する。本発明の光硬化性組成物は、色材と、樹脂とを含み、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである。本発明の光硬化性組成物は、上述した本発明のパターンの製造方法に好ましく用いることができる。

　本発明の光硬化性組成物は、下記の条件１を満たすことが好ましい。

　条件１：ガラス基板上に光硬化性組成物を塗布し１００℃で２分加熱して膜を形成した際に、前述の膜に純水を８μＬ滴下した後、３０００ｍｓ経過後の前述の膜表面の純水に対する接触角が７０～１２０°である。

　上記条件１における接触角の上限は１１０°以下であることが好ましく、１００°以下であることがより好ましく、９０°以下であることが更に好ましい。上記条件１における接触角下限は、７３°以上であることが好ましく、７６°以上であることがより好ましく、７９°以上であることが更に好ましい。

　上記条件１を満たす光硬化性組成物によって形成される膜は、水に対する親和性が低い。また、水に対する親和性が低いため、有機溶剤に対する親和性は良好である。したがって、上記条件１を満たす光硬化性組成物を用いて光硬化性組成物層を形成した場合においては、未露光部の有機溶剤に対する親和性が良好で、未露光部の光硬化性組成物層を効率よく現像除去することができる。

　本発明の光硬化性組成物の固形分の酸価は、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、１２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。下限は、色材の分散安定性を向上させたり、直線性に優れたパターンが得られやすいなどの理由から２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましい。

　また、本発明の光硬化性組成物の固形分のアミン価は、色材の分散安定性を向上させたり、直線性に優れたパターンが得られやすいなどの理由から８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。下限は、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましい。

　本発明の光硬化性組成物は、カラーフィルタ、赤外線透過フィルタ、遮光膜などに用いることができる。カラーフィルタとしては、赤色、青色、緑色、シアン色、マゼンタ色および黄色から選ばれる色相の画素（パターン）を有するフィルタが挙げられる。

　赤外線透過フィルタとしては、波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である分光特性を満たしているフィルタなどが挙げられる。

また、赤外線透過フィルタは、以下の（１）～（４）のいずれかの分光特性を満たしているフィルタであることも好ましい。

　（１）：波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長８００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。

　（２）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長９００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。

　（３）：波長４００～８３０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。

　（４）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。

　本発明の光硬化性組成物を赤外線透過フィルタ用の組成物として用いる場合、本発明の光硬化性組成物は、波長４００～６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎと、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘとの比であるＡｍｉｎ／Ｂｍａｘが５以上である分光特性を満たしていることが好ましい。Ａｍｉｎ／Ｂｍａｘは、７．５以上であることがより好ましく、１５以上であることが更に好ましく、３０以上であることが特に好ましい。

　ある波長λにおける吸光度Ａλは、以下の式（１）により定義される。

Ａλ＝－ｌｏｇ（Ｔλ／１００）　　　・・・（１）

Ａλは、波長λにおける吸光度であり、Ｔλは、波長λにおける透過率（％）である。

　本発明において、吸光度の値は、溶液の状態で測定した値であってもよく、光硬化性組成物を用いて製膜した膜での値であってもよい。膜の状態で吸光度を測定する場合は、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜の厚さが所定の厚さとなるように光硬化性組成物を塗布し、ホットプレートを用いて１００℃、１２０秒間乾燥して調製した膜を用いて測定することが好ましい。

　本発明の光硬化性組成物を赤外線透過フィルタ用の組成物として用いる場合、本発明の光硬化性組成物は、以下の（１１）～（１４）のいずれかの分光特性を満たしていることがより好ましい。

　（１１）：波長４００～６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ１と、波長８００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ１との比であるＡｍｉｎ１／Ｂｍａｘ１が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～６４０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長７２０ｎｍ以上の光を透過可能なフィルタを形成することができる。

　（１２）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ２と、波長９００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ２との比であるＡｍｉｎ２／Ｂｍａｘ２が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～７５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長８５０ｎｍ以上の光を透過可能なフィルタを形成することができる。

　（１３）：波長４００～８５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ３と、波長１０００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ３との比であるＡｍｉｎ３／Ｂｍａｘ３が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～８５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９４０ｎｍ以上の光を透過可能なフィルタを形成することができる。

　（１４）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎ４と、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂｍａｘ４との比であるＡｍｉｎ４／Ｂｍａｘ４が５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０４０ｎｍ以上の光を透過可能なフィルタを形成することができる。

　以下、本発明の光硬化性組成物に用いられる各成分について説明する。

＜＜色材＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、色材を含む。色材としては、有彩色着色剤、黒色着色剤、赤外線吸収色素などが挙げられる。本発明の光硬化性組成物に用いられる色材は、有彩色着色剤を少なくとも含むことが好ましい。

（有彩色着色剤）

　有彩色着色剤としては、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤、オレンジ色着色剤などが挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。好ましくは、現像時において、分散剤等の樹脂と共に除去されて、残渣として残りづらいという理由から顔料である。顔料の平均粒径（ｒ）は、２０ｎｍ≦ｒ≦３００ｎｍであることが好ましく、２５ｎｍ≦ｒ≦２５０ｎｍであることがより好ましく、３０ｎｍ≦ｒ≦２００ｎｍであることが更に好ましい。ここでいう「平均粒径」とは、顔料の一次粒子が集合した二次粒子についての平均粒径を意味する。また、使用しうる顔料の二次粒子の粒径分布（以下、単に「粒径分布」ともいう。）は、平均粒径±１００ｎｍの範囲に含まれる二次粒子が全体の７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。

　顔料は、有機顔料であることが好ましい。有機顔料としては以下のものが挙げられる。

　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２３１等（以上、黄色顔料）、

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９等（以上、赤色顔料）、

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３等（以上、緑色顔料）、

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２等

（以上、紫色顔料）、

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０等（以上、青色顔料）。

　これら有機顔料は、単独で若しくは種々組合せて用いることができる。

　また、黄色顔料として、下記式（Ｉ）で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも１種のアニオンと、２種以上の金属イオンと、メラミン化合物とを含む金属アゾ顔料を用いることもできる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立して、－ＯＨまたは－ＮＲ5Ｒ6であり、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立して、＝Ｏまたは＝ＮＲ7であり、Ｒ5～Ｒ7はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基である。Ｒ5～Ｒ7が表すアルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐および環状のいずれであってもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シアノ基およびアミノ基が好ましい。

　式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ2は－ＯＨであることが好ましい。また、Ｒ3およびＲ4は＝Ｏであることが好ましい。

　金属アゾ顔料におけるメラミン化合物は、下記式（ＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　式中Ｒ11～Ｒ13は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基である。アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐および環状のいずれであってもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基はヒドロキシ基が好ましい。Ｒ11～Ｒ13の少なくとも一つは水素原子であることが好ましく、Ｒ11～Ｒ13の全てが水素原子であることがより好ましい。

　上記の金属アゾ顔料は、上述した式（Ｉ）で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも１種のアニオンと、Ｚｎ2+およびＣｕ2+を少なくとも含む金属イオンと、メラミン化合物とを含む態様の金属アゾ顔料であることが好ましい。この態様においては、金属アゾ顔料の全金属イオンの１モルを基準として、Ｚｎ2+およびＣｕ2+を合計で９５～１００モル％含有することが好ましく、９８～１００モル％含有することがより好ましく、９９．９～１００モル％含有することが更に好ましく、１００モル％であることが特に好ましい。また、金属アゾ顔料中のＺｎ2+とＣｕ2+とのモル比は、Ｚｎ2+：Ｃｕ2+＝１９９：１～１：１５であることが好ましく、１９：１～１：１であることがより好ましく、９：１～２：１であることが更に好ましい。また、この態様において、金属アゾ顔料は、更にＺｎ2+およびＣｕ2+以外の二価もしくは三価の金属イオン（以下、金属イオンＭｅ１ともいう）を含んでいてもよい。金属イオンＭｅ１としては、Ｎｉ2+、Ａｌ3+、Ｆｅ2+、Ｆｅ3+、Ｃｏ2+、Ｃｏ3+、Ｌａ3+、Ｃｅ3+、Ｐｒ3+、Ｎｄ2+、Ｎｄ3+、Ｓｍ2+、Ｓｍ3+、Ｅｕ2+、Ｅｕ3+、Ｇｄ3+、Ｔｂ3+、Ｄｙ3+、Ｈｏ3+、Ｙｂ2+、Ｙｂ3+、Ｅｒ3+、Ｔｍ3+、Ｍｇ2+、Ｃａ2+、Ｓｒ2+、Ｍｎ2+、Ｙ3+、Ｓｃ3+、Ｔｉ2+、Ｔｉ3+、Ｎｂ3+、Ｍｏ2+、Ｍｏ3+、Ｖ2+、Ｖ3+、Ｚｒ2+、Ｚｒ3+、Ｃｄ2+、Ｃｒ3+、Ｐｂ2+、Ｂａ2+が挙げられ、Ａｌ3+、Ｆｅ2+、Ｆｅ3+、Ｃｏ2+、Ｃｏ3+、Ｌａ3+、Ｃｅ3+、Ｐｒ3+、Ｎｄ3+、Ｓｍ3+、Ｅｕ3+、Ｇｄ3+、Ｔｂ3+、Ｄｙ3+、Ｈｏ3+、Ｙｂ3+、Ｅｒ3+、Ｔｍ3+、Ｍｇ2+、Ｃａ2+、Ｓｒ2+、Ｍｎ2+およびＹ3+から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、Ａｌ3+、Ｆｅ2+、Ｆｅ3+、Ｃｏ2+、Ｃｏ3+、Ｌａ3+、Ｃｅ3+、Ｐｒ3+、Ｎｄ3+、Ｓｍ3+、Ｔｂ3+、Ｈｏ3+およびＳｒ2+から選ばれる少なくとも１種であることが更に好ましく、Ａｌ3+、Ｆｅ2+、Ｆｅ3+、Ｃｏ2+およびＣｏ3+から選ばれる少なくとも１種であることが特に好ましい。金属イオンＭｅ１の含有量は、金属アゾ顔料の全金属イオンの１モルを基準として、５モル％以下であることが好ましく、２モル％以下であることがより好ましく、０．１モル％以下であることが更に好ましい。

　上記の金属アゾ顔料については、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　また、赤色顔料として、芳香族環に酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。このような化合物としては、式（ＤＰＰ１）で表される化合物であることが好ましく、式（ＤＰＰ２）で表される化合物であることがより好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

　上記式中、Ｒ11およびＲ13はそれぞれ独立して置換基を表し、Ｒ12およびＲ14はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、ｎ１１およびｎ１３はそれぞれ独立して０～４の整数を表し、Ｘ12およびＸ14はそれぞれ独立して酸素原子、硫黄原子または窒素原子を表し、Ｘ12が酸素原子または硫黄原子の場合は、ｍ１２は１を表し、Ｘ12が窒素原子の場合は、ｍ１２は２を表し、Ｘ14が酸素原子または硫黄原子の場合は、ｍ１４は１を表し、Ｘ14が窒素原子の場合は、ｍ１４は２を表す。Ｒ11およびＲ13が表す置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アミド基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、スルホキシド基、スルホ基などが好ましい具体例として挙げられる。

　また、緑色顔料として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子が平均８～１２個であり、塩素原子が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開ＷＯ２０１５／１１８７２０号公報に記載の化合物が挙げられる。

　また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落００４７に記載の化合物などが挙げられる。

　染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が挙げられる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開２０１５－０２８１４４号公報、特開２０１５－３４９６６号公報に記載の染料を用いることもできる。

　黄色着色剤として、国際公開ＷＯ２０１２／１２８２３３号公報、特開２０１７－２０１００３号公報に記載されている色素を用いることができる。また、赤色着色剤として、国際公開ＷＯ２０１２／１０２３９９号公報、国際公開ＷＯ２０１２／１１７９６５号公報および特開２０１２－２２９３４４号公報に記載されている色素を用いることができる。また、緑色着色剤として、国際公開ＷＯ２０１２／１０２３９５号公報に記載されている色素を用いることができる。その他、ＷＯ２０１１／０３７１９５号公報に記載されている造塩型染料を用いることもできる。

（黒色着色剤）

　黒色着色剤としては、カーボンブラック、金属酸窒化物（チタンブラック等）、金属窒化物（チタンナイトライド等）などの無機黒色着色剤や、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などの有機黒色着色剤が挙げられる。有機黒色着色剤は、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平１－１７０６０１号公報、特開平２－３４６６４号公報などに記載のものが挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。ビスベンゾフラノン化合物は、下記式のいずれかで表される化合物またはこれらの混合物であることが好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立して置換基を表し、ａおよびｂはそれぞれ独立して０～４の整数を表し、ａが２以上の場合、複数のＲ3は、同一であってもよく、異なってもよく、複数のＲ3は結合して環を形成していてもよく、ｂが２以上の場合、複数のＲ4は、同一であってもよく、異なってもよく、複数のＲ4は結合して環を形成していてもよい。

　Ｒ1～Ｒ4が表す置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲ301、－ＣＯＲ302、－ＣＯＯＲ303、－ＯＣＯＲ304、－ＮＲ305Ｒ306、－ＮＨＣＯＲ307、－ＣＯＮＲ308Ｒ309、－ＮＨＣＯＮＲ310Ｒ311、－ＮＨＣＯＯＲ312、－ＳＲ313、－ＳＯ2Ｒ314、－ＳＯ2ＯＲ315、－ＮＨＳＯ2Ｒ316または－ＳＯ2ＮＲ317Ｒ318を表し、Ｒ301～Ｒ318は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。

　ビスベンゾフラノン化合物の詳細については、特表２０１０－５３４７２６号公報の段落番号００１４～００３７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

（赤外線吸収色素）

　赤外線吸収色素としては、波長７００～１３００ｎｍの範囲、より好ましくは波長７００～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましい。赤外線吸収色素は、顔料であってもよく、染料であってもよい。

　本発明において、赤外線吸収色素としては、単環または縮合環の芳香族環を含むπ共役平面を有する化合物を好ましく用いることができる。赤外線吸収色素が有するπ共役平面を構成する水素以外の原子数は、１４個以上であることが好ましく、２０個以上であることがより好ましく、２５個以上であることが更に好ましく、３０個以上であることが特に好ましい。上限は、例えば、８０個以下であることが好ましく、５０個以下であることがより好ましい。赤外線吸収色素が有するπ共役平面は、単環または縮合環の芳香族環を２個以上含むことが好ましく、前述の芳香族環を３個以上含むことがより好ましく、前述の芳香族環を４個以上含むことが更に好ましく、前述の芳香族環を５個以上含むことが特に好ましい。上限は、１００個以下が好ましく、５０個以下がより好ましく、３０個以下が更に好ましい。前述の芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、クアテリレン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、キノキサリン環、ピリミジン環、キナゾリン環、ピリダジン環、トリアジン環、ピロール環、インドール環、イソインドール環、カルバゾール環、および、これらの環を有する縮合環が挙げられる。

　赤外線吸収色素は、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物及びジベンゾフラノン化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびジイモニウム化合物から選ばれる少なくとも１種がより好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物およびスクアリリウム化合物から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、ピロロピロール化合物が特に好ましい。

　ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１５／１６６８７３号公報の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１６／１８１９８７号公報の段落番号００４０に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１３／１３３０９９号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１４／０８８０６３号公報に記載の化合物、特開２０１４－１２６６４２号公報に記載の化合物、特開２０１６－１４６６１９号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、特開２０１７－２５３１１号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１６／１５４７８２号公報に記載の化合物、特許５８８４９５３号公報に記載の化合物、特許６０３６６８９号公報に記載の化合物、特許５８１０６０４号公報に記載の化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－８８４２６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　ジイモニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。フタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２－７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２－７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　本発明において、赤外線吸収色素は市販品を用いることもできる。例えば、ＳＤＯ－Ｃ３３（有本化学工業（株）製）、イーエクスカラーＩＲ－１４、イーエクスカラーＩＲ－１０Ａ、イーエクスカラーＴＸ－ＥＸ－８０１Ｂ、イーエクスカラーＴＸ－ＥＸ－８０５Ｋ（（株）日本触媒製）、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８０４１、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８０４２、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８１４、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８２０、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８３９（ハッコーケミカル社製）、ＥｐｏｌｉｔｅＶ－６３、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３８０１、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３０３６（ＥＰＯＬＩＮ社製）、ＰＲＯ－ＪＥＴ８２５ＬＤＩ（富士フイルム（株）製）、ＮＫ－３０２７、ＮＫ－５０６０（（株）林原製）、ＹＫＲ－３０７０（三井化学（株）製）などが挙げられる。

　光硬化性組成物の全固形分中における色材の含有量は得られる膜の薄膜化の観点から４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。色材の含有量が４０質量％以上であれば、薄膜で分光特性の良い膜を形成し易い。上限は、製膜性の観点から８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下が更に好ましい。

　本発明の光硬化性組成物に用いられる色材は、有彩色着色剤および黒色着色剤から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。また、色材の全質量中における有彩色着色剤および黒色着色剤の含有量は、３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、９０質量％以下とすることもできる。

　また、本発明の光硬化性組成物に用いられる色材は、緑色着色剤を少なくとも含むことが好ましい。また、色材の全質量中における緑色着色剤の含有量は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、７５質量％以下とすることもできる。

　本発明の光硬化性組成物に用いられる色材は、色材の全質量中における顔料の含有量が５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが更に好ましい。色材の全質量中における顔料の含有量が上記範囲であれば、熱による分光変動が抑制された膜が得られやすい。

　本発明の光硬化性組成物をカラーフィルタ用の組成物として用いる場合においては、光硬化性組成物の全固形分中における有彩色着色剤の含有量は４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。また、色材の全質量中における有彩色着色剤の含有量は、２５質量％以上であることが好ましく、４５質量％以上であることがより好ましく、６５質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、７５質量％以下とすることもできる。また、上記色材は、緑色着色剤を少なくとも含むことが好ましい。また、上記色材の全質量中における緑色着色剤の含有量は、３５質量％以上であることが好ましく、４５質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、８０質量％以下とすることもできる。

　本発明の光硬化性組成物を遮光膜の形成用の組成物として用いる場合においては、光硬化性組成物の全固形分中における黒色着色剤（好ましくは無機黒色着色剤）の含有量は４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。また、色材の全質量中における黒色着色剤の含有量は、３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、９０質量％以下とすることもできる。

　本発明の光硬化性組成物を赤外線透過フィルタ用の組成物として用いる場合、本発明で用いられる色材は、以下の（１）～（３）の少なくとも一つの要件を満たすことが好ましい。

（１）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。赤色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤および緑色着色剤から選ばれる２種類以上の着色剤の組み合わせで黒色を形成していることが好ましい。

（２）：有機黒色着色剤を含む。

（３）：上記（１）または（２）において、更に赤外線吸収色素を含む。

　上記（１）の態様の好ましい組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。

（１－１）赤色着色剤と青色着色剤とを含有する態様。

（１－２）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤とを含有する態様。

（１－３）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤とを含有する態様。

（１－４）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。

（１－５）赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。

（１－６）赤色着色剤と青色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。

（１－７）黄色着色剤と紫色着色剤とを含有する態様。

　上記の（２）の態様においては、更に有彩色着色剤を含有することも好ましい。有機黒色着色剤と有彩色着色剤とを併用することで、優れた分光特性が得られ易い。有機黒色着色剤と組み合わせて用いる有彩色着色剤としては、例えば、赤色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤などが挙げられ、赤色着色剤および青色着色剤が好ましい。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、有彩色着色剤と有機黒色着色剤との混合割合は、有機黒色着色剤１００質量部に対して、有彩色着色剤が１０～２００質量部が好ましく、１５～１５０質量部がより好ましい。

　上記の（３）の態様においては、色材の全質量中における赤外線吸収色素の含有量は、５～４０質量％であることが好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。

＜＜樹脂＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、樹脂を含有する。なお、本発明において樹脂とは、色材以外の有機化合物であって、分子量が３０００以上の有機化合物のことを言う。樹脂は、例えば、顔料などの粒子を組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などの粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で使用することもできる。

　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。

　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。なかでも、より優れた現像性が得られやすいという理由から（メタ）アクリル樹脂が好ましい。

　樹脂の溶解度パラメータは、１８～２４ＭＰａ0.5であることが好ましい。下限は１９ＭＰａ0.5以上が好ましく、２０ＭＰａ0.5以上がより好ましい。上限は、２３ＭＰａ0.5以上が好ましく、２２ＭＰａ0.5以上がより好ましい。樹脂の溶解度パラメータが上記範囲であれば、未露光部の感光性組成物層が現像液によって除去され易く、優れたパターン形成性が得られやすい。更には、現像残渣の発生をより効果的に抑制し易い。なお、樹脂の溶解度パラメータは、沖津法にて計算した値である。

　また、樹脂のＣＬｏｇＰ値は、０～１０であることが好ましい。下限は１以上が好ましく、２以上がより好ましい。上限は、８以下が好ましく、６以下がより好ましい。樹脂のＣＬｏｇＰ値が上記範囲であれば、未露光部の感光性組成物層が現像液によって除去され易く、優れたパターン形成性が得られやすい。更には、現像残渣の発生をより効果的に抑制し易い。なお、本明細書において、樹脂のＣｌｏｇＰ値は、以下のように算出した値である。樹脂が、繰り返し単位Ｄ１、Ｄ２・・・Ｄｎから構成され、繰り返し単位Ｄ１、Ｄ２、・・・、Ｄｎに対応する単量体（モノマー）のＣｌｏｇＰ値を、それぞれ、ＣｌｏｇＰ１、ＣｌｏｇＰ２、・・・、ＣｌｏｇＰｎとし、繰り返し単位Ｄ１、Ｄ２、・・・、Ｄｎの樹脂中のモル分率を、それぞれ、ω１、ω２、・・・、ωｎとした場合、以下の計算式により算出した。

　樹脂のＣｌｏｇＰ値＝Σ［（ω１×ＣｌｏｇＰ１）＋（ω２×ＣｌｏｇＰ２）＋・・・（ωｎ×ＣｌｏｇＰｎ）］

　なお、繰り返し単位Ｄ１、Ｄ２、・・・Ｄｎに対応する単量体（モノマー）のＣｌｏｇＰ値（ＣｌｏｇＰ１、ＣｌｏｇＰ２、・・・、ＣｌｏｇＰｎ）は、ＣｈｅｍｉＢｉｏＤｒａｗ　Ｕｌｔｒａ　ｖｅｒ．１３．０．２．３０２１（Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ　ｓｏｆｔ社製）を用いて予測計算して求めた値である。

　本発明において、樹脂として酸基を有する樹脂を用いてもよい。酸基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。

　酸基を有する樹脂は、側鎖に酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましく、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を樹脂の全繰り返し単位中５～８０モル％含むことがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の上限は、７０モル％以下であることが好ましく、５０モル％以下であることがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の下限は、１０モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることがより好ましい。

　酸基を有する樹脂については、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２－３２７６７号公報の段落番号００２９～００６３に記載の共重合体（Ｂ）および実施例で用いられているアルカリ可溶性樹脂、特開２０１２－２０８４７４号公報の段落番号００８８～００９８に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２－１３７５３１号公報の段落番号００２２～００３２に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１３－０２４９３４号公報の段落番号０１３２～０１４３に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１１－２４２７５２号公報の段落番号００９２～００９８および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２－０３２７７０号公報の段落番号００３０～００７２に記載のバインダー樹脂を用いることもできる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　酸基を有する樹脂の酸価は、５～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。

　酸基を有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０００～１０００００が好ましい。また、酸基を有する樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、１０００～２００００が好ましい。

　本発明で用いられる樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分に由来する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008

　式（ＥＤ１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の詳細については、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　本発明で用いられる樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式（Ｘ）中、Ｒ1は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ3は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。

　本発明の光硬化性組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。分散剤は、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、１～８０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、７～６０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１２～４０ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。

　分散剤として用いる樹脂は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料の分散性、及び、経時後の分散安定性に優れる。グラフト共重合体の詳細は、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、グラフト共重合体の具体例は、下記の樹脂が挙げられる。以下の樹脂は酸基を有する樹脂（アルカリ可溶性樹脂）でもある。また、グラフト共重合体としては特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００７２～００９４に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011

　また、本発明において、樹脂（分散剤）として、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系共重合体を用いることも好ましい。オリゴイミン系共重合体としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１０，０００の側鎖を含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。オリゴイミン系共重合体については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。オリゴイミン系共重合体としては、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１６８～０１７４に記載の樹脂を用いることができる。

　分散剤は市販品を用いることもできる。例えば、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品を分散剤として用いることもできる。例えば、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ（たとえば、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６１など）などが挙げられる。なお、上記分散剤として説明した樹脂は、分散剤以外の用途で使用することもできる。例えば、バインダーとして用いることもできる。

　光硬化性組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、１０～４０質量％が好ましい。下限は、１５質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は、３５質量％以下が好ましく、３２質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。また、光硬化性組成物の全固形分中における酸基を有する樹脂の含有量は、５～３８質量％が好ましい。下限は、８質量％以上が好ましく、１３質量％以上がより好ましい。上限は、３３質量％以下が好ましく、２８質量％以下がより好ましく、２５質量％以下が更に好ましい。

　また、本発明の光硬化性組成物は、上述した現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとの差の絶対値が３．５ＭＰａ0.5以下（好ましくは３ＭＰａ0.5以下、より好ましくは２．５ＭＰａ0.5以下、更に好ましくは２ＭＰａ0.5以下）の溶解度パラメータを有する樹脂（以下、樹脂Ａともいう）を含むことが好ましい。この態様によれば、より優れたパターン形成性が得られやすい。更には、現像残渣の発生をより効果的に抑制し易い。また、樹脂Ａは、更に、上述したリンス液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとの差の絶対値が５．５ＭＰａ0.5以下（好ましくは５ＭＰａ0.5以下、更に好ましくは４ＭＰａ0.5以下）の溶解度パラメータを有するものであることがより好ましい。この態様によれば、リンス工程時において、リンス液によるパターンの膨潤などを抑制しつつ、現像残渣をより効果的に除去することができる。

　光硬化性組成物の全固形分中における酸基を有する樹脂Ａの含有量は、３～３６質量％が好ましい。下限は、４質量％以上が好ましく、６質量％以上がより好ましい。上限は、３３質量％以下が好ましく、２７質量％以下がより好ましく、２４質量％以下が更に好ましい。また、樹脂全量中における樹脂Ａの含有量は３０～１００質量％であることが好ましく、５０～１００質量％であることがより好ましく、７０～１００質量％であることが更に好ましい。

　また、本発明の光硬化性組成物は、上述した現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値との差の絶対値が２以下（好ましくは１．５以下、更に好ましくは１以下）のＣＬｏｇＰ値を有する樹脂（以下、樹脂Ｂともいう）を含むことが好ましい。この態様によれば、より優れたパターン形成性が得られやすい。更には、現像残渣の発生をより効果的に抑制し易い。また、樹脂Ｂは、更に、上述したリンス液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値との差の絶対値が０．５～３（好ましくは１～２．５、更に好ましくは１．５～２）のＣＬｏｇＰ値を有するものであることがより好ましい。この態様によれば、リンス工程時において、リンス液によるパターンの膨潤などを抑制しつつ、現像残渣をより効果的に除去することができる。また、樹脂Ｂは、さらに上述した樹脂Ａの要件を満たすものであることが特に好ましい。

　光硬化性組成物の全固形分中における酸基を有する樹脂Ｂの含有量は、１～３７質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。上限は、３４質量％以下が好ましく、２９質量％以下がより好ましく、２３質量％以下が更に好ましい。また、樹脂全量中における樹脂Ｂの含有量は４０～１００質量％であることが好ましく、６０～１００質量％であることがより好ましく、８０～１００質量％であることが更に好ましい。

　本発明の光硬化性組成物に含まれる樹脂全体の酸価は、色材の分散安定性およびパターン形成性の観点から２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、１２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。下限は、色材の分散安定性およびパターン形成性の観点から２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。また、光硬化性組成物に含まれる樹脂全体のアミン価は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、７ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。下限は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。

＜＜重合性モノマー＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、重合性モノマーを含有することができる。重合性モノマーは、ラジカルの作用により重合可能な化合物が好ましい。すなわち、重合性モノマーは、ラジカル重合性モノマーであることが好ましい。重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合基を１個以上有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合基を２個以上有する化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合基を３個以上有する化合物であることが更に好ましい。エチレン性不飽和結合基の個数の上限は、たとえば、１５個以下が好ましく、６個以下がより好ましい。エチレン性不飽和結合基としては、ビニル基、スチレン基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。重合性モノマーは、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。

　重合性モノマーの分子量は、２０００未満であることが好ましい。上限は、１５００以下が好ましく、１０００以下が更に好ましい。下限は、１００以上が好ましく、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。

　重合性モノマーの溶解度パラメータは、１８～２４ＭＰａ0.5であることが好ましい。下限は１９ＭＰａ0.5以上が好ましく、２０ＭＰａ0.5以上がより好ましい。上限は、２３ＭＰａ0.5以上が好ましく、２２ＭＰａ0.5以上がより好ましい。重合性モノマーの溶解度パラメータが上記範囲であれば、より優れたパターン形成性が得られやすい。更には、現像残渣の発生をより効果的に抑制し易い。

　重合性モノマーの重合性基価は、１ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、６ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、１０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが更に好ましい。上限は３０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましい。なお、重合性モノマーの重合性基価は、重合性モノマーの１分子中に含まれる重合性基の数を重合性モノマーの分子量で割ることで算出した。また、重合性モノマーのエチレン性不飽和結合基価（以下、Ｃ＝Ｃ価という）は、１ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、６ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、硬化性の観点から１０ｍｏｌ／ｇ以上であることが更に好ましい。上限は３０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましい。重合性モノマーのＣ＝Ｃ価は、重合性モノマーの１分子中に含まれるエチレン性不飽和結合基の数を重合性モノマーの分子量で割ることで算出した。

　重合性モノマーとしては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基が、エチレングリコール残基および／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物が好ましい。また、重合性モノマーとしては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、重合性モノマーとしては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、Ａ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）などを用いることもできる。

　本発明で用いられる重合性モノマーは、膜の疎水性を高めて現像性をより向上させ易いという理由から酸基および水酸基を有さない化合物であることが好ましい。

　重合性モノマーとしてカプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する化合物としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。

　重合性モノマーとして、エチレン性不飽和結合基とアルキレンオキシ基を有する化合物を用いることもできる。エチレン性不飽和結合基とアルキレンオキシ基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合基と、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基とを有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基とエチレンオキシ基とを有する化合物がより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物がさらに好ましい。エチレン性不飽和結合基とアルキレンオキシ基を有する化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、イソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。

　重合性モノマーは、フルオレン骨格を有する重合性モノマーを用いることも好ましい。フルオレン骨格を有する重合性モノマーの市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。

　重合性モノマーとして、特公昭４８－４１７０８号公報、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報に記載されているウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平１－１０５２３８号公報に記載されている分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることができる。市販品としては、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００（共栄社化学（株））製などが挙げられる。

　また、重合性モノマーとしては、特開２０１７－４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報に記載されている化合物を用いることもできる。

　また、重合性モノマーとしては、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることも好ましい。

　本発明の光硬化性組成物が重合性モノマーを含有する場合、本発明の光硬化性組成物の全固形分中の重合性モノマーの含有量は、０．１～３０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。

　また、光硬化性組成物の全固形分中における重合性モノマーと樹脂との合計含有量は、１７～５７質量％が好ましい。下限は、２２質量％以上が好ましく、２７質量％以上がより好ましく、３２質量％以上が更に好ましい。上限は、５２質量％以下が好ましく、４７質量％以下がより好ましく、４２質量％以下が更に好ましい。また、樹脂の１００質量部に対して重合性モノマーを１０～１００質量部含有することが好ましい。下限は３０質量部以上が好ましく、５０質量部以上がより好ましい。上限は８０質量部以下が好ましく、７０質量部以下がより好ましい。

　本発明の光硬化性組成物において、重合性モノマーは１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜光重合開始剤＞＞

　本発明の光硬化性組成物は光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。

　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。光重合開始剤については、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ－１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９、ＤＡＲＯＣＵＲ－ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。

　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１５／１５２１５３号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１７／０５１６８０号公報に記載の化合物などがあげられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。

　本発明において、光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　本発明において、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　本発明において、光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

　本発明において、光重合開始剤として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開ＷＯ２０１５／０３６９１０号公報に記載されるＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。

　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013

　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１,０００～３００，０００であることがより好ましく、２,０００～３００，０００であることが更に好ましく、５,０００～２００，０００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

　本発明は、光重合開始剤として、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開ＷＯ２０１５／００４５６５号公報、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４１７～０４１２、国際公開ＷＯ２０１７／０３３６８０号公報の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開ＷＯ２０１６／０３４９６３号公報に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）などが挙げられる。

　本発明の光硬化性組成物が光重合開始剤を含有する場合、本発明の光硬化性組成物の全固形分中の光重合開始剤の含有量は０．１～３０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。本発明の光硬化性組成物において、光重合開始剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

　また、光硬化性組成物の全固形分中における重合性モノマーと光重合開始剤との合計含有量は、３～２５質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましく、９質量％以上が更に好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１８質量％以下がより好ましく、１６質量％以下が更に好ましい。また、重合性モノマーの１００質量部に対して光重合開始剤を２５～３００質量部含有することが好ましい。下限は５０質量部以上が好ましく、７５質量部以上がより好ましい。上限は２００質量部以下が好ましく、１５０質量部以下がより好ましい。

＜＜環状エーテル基を有する化合物＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、環状エーテル基を有する化合物を含有することができる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物であることが好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられ、エポキシ基を２つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は、１分子内に１～１００個有することが好ましい。エポキシ基の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の下限は、２個以上が好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。

　エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。

　エポキシ基を有する化合物としては、エポキシ樹脂を好ましく用いることができる。エポキシ樹脂としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、３１０～３３００ｇ／ｅｑであることが好ましく、３１０～１７００ｇ／ｅｑであることがより好ましく、３１０～１０００ｇ／ｅｑであることが更に好ましい。

　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（以上、日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）等が挙げられる。

　本発明の光硬化性組成物が環状エーテル基を有する化合物を含有する場合、光硬化性組成物の全固形分中における環状エーテル基を有する化合物の含有量は、０．１～２０質量％が好ましい。下限は、例えば０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、例えば、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。環状エーテル基を有する化合物は１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜シランカップリング剤＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。この態様によれば、得られる膜の支持体との密着性を向上させることができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　光硬化性組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．１～５質量％が好ましい。上限は、３質量％以下が好ましく、２質量％以下がより好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。シランカップリング剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜顔料誘導体＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、顔料誘導体を含有することができる。特に色材として顔料を用いた場合においては、本発明の光硬化性組成物は、更に顔料誘導体を含有することが好ましい。顔料誘導体としては、顔料の一部を、酸基、塩基性基、塩構造を有する基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体としては、式（Ｂ１）で表される化合物が好ましい。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　式（Ｂ１）中、Ｐは色素構造を表し、Ｌは単結合または連結基を表し、Ｘは酸基、塩基性基、塩構造を有する基またはフタルイミドメチル基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＬおよびＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なっていてもよい。

　Ｐが表す色素構造としては、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造、アントラキノン色素構造、ジアントラキノン色素構造、ベンゾイソインドール色素構造、チアジンインジゴ色素構造、アゾ色素構造、キノフタロン色素構造、フタロシアニン色素構造、ナフタロシアニン色素構造、ジオキサジン色素構造、ペリレン色素構造、ペリノン色素構造、ベンゾイミダゾロン色素構造、ベンゾチアゾール色素構造、ベンゾイミダゾール色素構造およびベンゾオキサゾール色素構造から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造およびベンゾイミダゾロン色素構造から選ばれる少なくとも１種が更に好ましい。

　Ｌが表す連結基としては、炭化水素基、複素環基、－ＮＲ－、－ＳＯ2－、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＣＯ－もしくはこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。Ｒは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。

　Ｘが表す酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基等が挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲX1で表される基が好ましい。スルホン酸アミド基としては、－ＮＨＳＯ2ＲX2で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ2ＮＨＳＯ2ＲX3、－ＣＯＮＨＳＯ2ＲX4、－ＣＯＮＨＣＯＲX5または－ＳＯ2ＮＨＣＯＲX6で表される基が好ましい。ＲX1～ＲX6は、それぞれ独立に、炭化水素基または複素環基を表す。ＲX1～ＲX6が表す、炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。さらなる置換基としては、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。Ｘが表す塩基性基としてはアミノ基が挙げられる。Ｘが表す塩構造としては、上述した酸基または塩基性基の塩が挙げられる。

　顔料誘導体としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平１－２１７０７７号公報、特開平３－９９６１号公報、特開平３－２６７６７号公報、特開平３－１５３７８０号公報、特開平３－４５６６２号公報、特開平４－２８５６６９号公報、特開平６－１４５５４６号公報、特開平６－２１２０８８号公報、特開平６－２４０１５８号公報、特開平１０－３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開ＷＯ２０１１／０２４８９６号公報の段落番号００８６～００９８、国際公開ＷＯ２０１２／１０２３９９号公報の段落番号００６３～００９４、国際公開ＷＯ２０１７／０３８２５２号公報の段落番号００８２等に記載の化合物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015

　顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、顔料の分散性を高めて、顔料の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜溶剤＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミドなどが挙げられる。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。

　本発明においては、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。

　溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。

　溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。

　本発明において、有機溶剤は、過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。

　光硬化性組成物中における溶剤の含有量は、１０～９５質量％であることが好ましく、２０～９０質量％であることがより好ましく、３０～９０質量％であることが更に好ましい。

　また、本発明の光硬化性組成物は、環境規制の観点から環境規制物質を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明において、環境規制物質を実質的に含有しないとは、光硬化性組成物中における環境規制物質の含有量が５０質量ｐｐｍ以下であることを意味し、３０質量ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０質量ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、１質量ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。環境規制物質は、例えばベンゼン；トルエン、キシレン等のアルキルベンゼン類；クロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン類等が挙げられる。これらは、ＲＥＡＣＨ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ　Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ　Ａｕｔｈｏｒｉｚａｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｒｅｓｔｒｉｃｔｉｏｎ　ｏｆ　ＣＨｅｍｉｃａｌｓ）規則、ＰＲＴＲ（Ｐｏｌｌｕｔａｎｔ　Ｒｅｌｅａｓｅ　ａｎｄ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｒｅｇｉｓｔｅｒ）法、ＶＯＣ（Ｖｏｌａｔｉｌｅ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）規制等のもとに環境規制物質として登録されており、使用量や取り扱い方法が厳しく規制されている。これらの化合物は、本発明の光硬化性組成物に用いられる各成分などを製造する際に溶媒として用いられることがあり、残留溶媒として光硬化性組成物中に混入することがある。人への安全性、環境への配慮の観点よりこれらの物質は可能な限り低減することが好ましい。環境規制物質を低減する方法としては、系中を加熱や減圧して環境規制物質の沸点以上にして系中から環境規制物質を留去して低減する方法が挙げられる。また、少量の環境規制物質を留去する場合においては、効率を上げる為に該当溶媒と同等の沸点を有する溶媒と共沸させることも有用である。また、ラジカル重合性を有する化合物を含有する場合、減圧留去中にラジカル重合反応が進行して分子間で架橋してしまうことを抑制するために重合禁止剤等を添加して減圧留去してもよい。これらの留去方法は、原料の段階、原料を反応させた生成物（例えば重合した後の樹脂溶液や多官能モノマー溶液）の段階、またはこれらの化合物を混ぜて作製した組成物の段階いずれの段階でも可能である。

＜＜重合禁止剤＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。光硬化性組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．００１～５質量％が好ましい。

＜＜界面活性剤＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤については、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２３８～０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　本発明において、界面活性剤はフッ素系界面活性剤であることが好ましい。光硬化性組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性（特に、流動性）がより向上し、省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。

　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。

　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。

　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。

　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１－８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００～５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。

　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。

　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。

　シリコン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。また、シリコン系界面活性剤は、下記構造の化合物を用いることもできる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017

　光硬化性組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜紫外線吸収剤＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の具体例としては、下記構造の化合物などが挙げられる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018

　光硬化性組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。本発明において、紫外線吸収剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜酸化防止剤＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。

フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ）などが挙げられる。

　光硬化性組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜その他成分＞＞

　本発明の光硬化性組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の光硬化性組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開ＷＯ２０１４／０２１０２３号公報、国際公開ＷＯ２０１７／０３０００５号公報、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

　本発明の光硬化性組成物の粘度（２３℃）は、例えば、塗布により膜を形成する場合、１～１００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。下限は、２ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、３ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましい。上限は、５０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下が更に好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。

＜収容容器＞

　本発明の光硬化性組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。

＜光硬化性組成物の調製方法＞

　本発明の光硬化性組成物は、前述の成分を混合して調製できる。光硬化性組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して光硬化性組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して光硬化性組成物として調製してもよい。

　また、本発明の光硬化性組成物が顔料などの粒子を含む場合は、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。

　本発明の光硬化性組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で光硬化性組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１～３．０μｍ程度であり、更に好ましくは０．０５～０．５μｍ程度である。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジが挙げられる。フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。

＜膜＞

　次に、本発明の膜について説明する。

　本発明の膜は、色材と、樹脂とを含み、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである膜であって、膜に純水を８μＬ滴下した後、３０００ｍｓ経過後の膜表面の純水に対する接触角が７０～１２０°である。

　本発明の膜について、上記接触角の上限は１１０°以下であることが好ましく、１００°以下であることがより好ましく、９０°以下であることが更に好ましい。また、接触角下限は、７３°以上であることが好ましく、７６°以上であることがより好ましく、７９°以上であることが更に好ましい。

　本発明の膜は、上述した本発明の光硬化性組成物を用いて得られた膜であることが好ましい。

＜光学フィルタの製造方法＞

　次に、本発明の光学フィルタの製造方法について説明する。本発明の光学フィルタの製造方法は、上述した本発明のパターンの製造方法を含む。

　光学フィルタの種類としては、カラーフィルタ、赤外線透過フィルタなどが挙げられる。カラーフィルタとしては、赤色、青色、緑色、シアン色、マゼンタ色および黄色から選ばれる色相の画素（パターン）を有するフィルタが挙げられる。また、赤外線透過フィルタとしては、波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である分光特性を満たしているフィルタなどが挙げられる。

　複数種類の画素（パターン）を有する光学フィルタを製造する場合、少なくとも１種類の画素（パターン）を上述した本発明のパターンの製造方法を用いて形成すればよく、すべての画素（パターン）について、上述した本発明のパターンの製造方法を用いて形成しなくてもよい。

＜固体撮像素子の製造方法＞

　本発明の固体撮像素子の製造方法は、上述した本発明のパターンの製造方法を含む。固体撮像素子の構成としては、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。

　基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤ（電荷結合素子）イメージセンサ、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）イメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上にカラーフィルタを有する構成が挙げられる。更に、デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下（基板に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。固体撮像素子を備えた撮像装置は、デジタルカメラや、撮像機能を有する電子機器（携帯電話等）の他、車載カメラや監視カメラ用としても用いることができる。

＜画像表示装置の製造方法＞

　本発明の画像表示装置の製造方法は、上述した本発明のパターンの製造方法を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木　昭夫著、（株）工業調査会　１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹　順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田　龍男編集、（株）工業調査会　１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。

　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

＜樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）の測定＞

　樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により、以下の条件で測定した。

カラムの種類：ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺＭ－Ｈと、ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺ４０００と、ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺ２０００とを連結したカラム展開溶媒：テトラヒドロフランカラム温度：４０℃流量（サンプル注入量）：１．０μＬ（サンプル濃度：０．１質量％）

装置名：東ソー社製　ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ検出器：ＲＩ（屈折率）検出器検量線ベース樹脂：ポリスチレン樹脂

＜光硬化性組成物の調製＞

　下記表に記載の原料を混合した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、固形分濃度２０質量％の光硬化性組成物（組成物１～４３、Ｒ１、Ｒ２）を調製した。なお、組成物１～２２、２４～４３、Ｒ１、Ｒ２の光硬化性組成物の固形分濃度はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）の配合量を変えることで調整した。また、組成物２３の光硬化性組成物の固形分濃度はＰＧＭＥＡとハイモールＰＭ（ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、分子量２２０、東邦化学製）との混合溶剤（ＰＧＭＥＡ：ハイモールＰＭ＝５：１（質量比））の配合量を変えることで調整した。

Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019

　上記表に記載の原料は以下の通りである。

　（顔料分散液）

　Ａ１：以下の方法で調製した顔料分散液

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　５８の９質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１８５の６質量部、顔料誘導体Ｙ１の２．５質量部、分散剤Ｄ２の５質量部、および、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）の７７．５質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ１を調製した。この顔料分散液Ａ１は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１５質量％であった。

　顔料誘導体Ｙ１：下記構造の化合物。

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020

　Ａ２：以下の方法で調製した顔料分散液

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　３６の９質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１５０の６質量部、顔料誘導体Ｙ１の２．５質量部、分散剤Ｄ２の５質量部、および、ＰＧＭＥＡの７７．５質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ２を調製した。この顔料分散液Ａ２は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１５質量％であった。

　Ａ３：以下の方法で調製した顔料分散液

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　５８の９質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３９の６質量部、顔料誘導体Ｙ１の２．５質量部、分散剤Ｄ２の５質量部、および、ＰＧＭＥＡの７７．５質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ３を調製した。この顔料分散液Ａ３は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１５質量％であった。

　Ａ４：以下の方法で調製した顔料分散液

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２５４の１０．５質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３９の４．５質量部、顔料誘導体Ｙ１の２．０質量部、分散剤Ｄ２の５．５質量部、および、ＰＧＭＥＡの７７．５質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ４を調製した。この顔料分散液Ａ４は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１５質量％であった。

　Ａ５：以下の方法で調製した顔料分散液

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１７７の１０．５質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３９の４．５質量部、顔料誘導体Ｙ１の２．０質量部、分散剤Ｄ２の５．５質量部、および、ＰＧＭＥＡの７７．５質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ５を調製した。この顔料分散液Ａ５は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１５質量％であった。

　Ａ６：以下の方法で調製した顔料分散液

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６の１２質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３の３質量部、顔料誘導体Ｙ１の２．７質量部、分散剤Ｄ２の４．８質量部、および、ＰＧＭＥＡの７７．５質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ６を調製した。この顔料分散液Ａ６は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１５質量％であった。

　Ａ７：以下の方法で調製した顔料分散液

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６の１２質量部、特開２０１５－０４１０５８号公報の段落番号０２９２に記載のＶ染料２（酸価＝７．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）の３質量部、顔料誘導体Ｙ１の２．７質量部、分散剤Ｄ２の４．８質量部、および、ＰＧＭＥＡの７７．５質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ７を調製した。この顔料分散液Ａ７は、固形分濃度が２２．５質量％であり、色材含有量（顔料と染料の合計量）が１５質量％であった。

　Ａ８：以下の方法で調製した顔料分散液

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６の１５質量部、顔料誘導体Ｙ１の２．７質量部、分散剤Ｄ２の４．８質量部、および、ＰＧＭＥＡの７７．５質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ８を調製した。この顔料分散液Ａ６は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１５質量％であった。

　Ａ９：顔料分散液Ａ１において、分散剤Ｄ２のかわりに、同量の分散剤Ｄ３を用いた以外は顔料分散液Ａ１と同様にして、顔料分散液Ａ９を調製した。この顔料分散液Ａ９は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１５質量％であった。

　Ａ１０：顔料分散液Ａ１において、分散剤Ｄ２のかわりに、同量の分散剤Ｄ４を用いた以外は顔料分散液Ａ１と同様にして、顔料分散液Ａ１０を調製した。この顔料分散液Ａ１０は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１５質量％であった。

　Ａ１１：顔料分散液Ａ１において、分散剤Ｄ２のかわりに、同量の分散剤Ｄ５を用いた以外は顔料分散液Ａ１と同様にして、顔料分散液Ａ１１を調製した。この顔料分散液Ａ１１は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１５質量％であった。

　Ａ１２：以下の方法で調製した顔料分散液

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　５８の１０．１３質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１８５の６．７５質量部、顔料誘導体Ｙ１の２．８１質量部、分散剤Ｄ１の２．８１質量部、および、ＰＧＭＥＡの７７．５質量部を混合した混合液に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて３時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して顔料分散液Ａ１２を調製した。この顔料分散液Ａ１２は、固形分濃度が２２．５質量％であり、顔料含有量が１６．６８質量％であった。

　（分散剤）

　分散剤Ｄ１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝１００００、酸価＝２４．４ｍｇＫＯＨ／ｇ、溶解度パラメータ＝２０．９ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝１１．３）

　分散剤Ｄ２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝１００００、酸価＝５２．５ｍｇＫＯＨ／ｇ、溶解度パラメータ＝２１．１ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝７．６）

　分散剤Ｄ３：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝１００００、酸価＝７９．４ｍｇＫＯＨ／ｇ、溶解度パラメータ＝２１．０ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝６．２）

　分散剤Ｄ４：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝１００００、酸価＝１２２．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、溶解度パラメータ＝２２．４ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝１０．０）

　分散剤Ｄ５：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝１００００、酸価＝１５０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、溶解度パラメータ＝２２．３ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝１１．１）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021

　（染料）

　Ｓ１：国際公開ＷＯ２０１７／０３８３３９号公報の段落番号０４４４に記載の染料（Ａ）（酸価＝５６．６６ｍｇＫＯＨ／ｇ）

　（樹脂）

　Ｂ１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１００００、酸価＝３０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ、溶解度パラメータ＝２１．２ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝２．１）

　Ｂ２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１００００、酸価：９５ｍｇＫＯＨ／ｇ、溶解度パラメータ＝１９．６ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝１．６）

　Ｂ３：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１００００、酸価：６５．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、溶解度パラメータ＝２３．４ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝１．０）

　Ｂ４：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１００００、酸価：６５．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、溶解度パラメータ＝２１ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝２．７）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　Ｂ５：：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６１（ビックケミー社製、酸価＝０ｍｇＫＯＨ／ｇ）

（重合性モノマー）

　Ｍ１：オグソールＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー、Ｃ＝Ｃ価：２．１ｍｍｏｌ／ｇ）

　Ｍ２：下記構造の化合物（Ｃ＝Ｃ価：１０．４ｍｍｏｌ／ｇ）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　Ｍ３：オグソールＥＡ－０２００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー、Ｃ＝Ｃ価：３．５５ｍｍｏｌ／ｇ）

　Ｍ４：下記構造の化合物（Ｃ＝Ｃ価：６．２４ｍｍｏｌ／ｇ）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024

（開始剤）

　Ｉ１～Ｉ５：下記構造の化合物

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025

（界面活性剤）

　Ｗ１：下記構造の化合物

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　Ｗ２：下記構造の化合物（Ｍｗ＝１４０００、繰り返し単位の割合を示す％の数値はモル％である）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027

　（添加剤）

　Ｔ１：ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製、エポキシ樹脂）

　Ｔ２：下記構造の化合物（シランカップリング剤）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　Ｔ３：下記構造の化合物（紫外線吸収剤）

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029

［パターン形成性および残渣の評価］

　８インチ（２０．３２ｃｍ）シリコンウエハに、ＣＴ－４０００Ｌ（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）をポストベーク後に厚さが０．１μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて２２０℃で３００秒間加熱して下塗り層を形成し、下塗り層付シリコンウエハ（支持体）を得た。

　次いで、各光硬化性組成物をポストベーク後の膜厚が下記表に記載の膜厚となるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用い、１００℃で２分間ポストベークした。次いで、下記表に記載の条件にて、画素（パターン）サイズが１μｍ四方で形成されるベイヤーパターンを有するマスクを介して光を照射して露光を行った。

　次いで、下記表に記載の現像液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。

　次いで、下記表に記載のリンス液を用い、スピンシャワーにてリンスを行った。

　次いで、ホットプレートを用い、２００℃で５分間加熱することで、画素（パターン）

を形成した。

（露光条件）

　露光１：ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、画素（パターン）サイズが１μｍ四方で形成されるベイヤーパターンを有するマスクを介して２００ｍＪ／ｃｍ2の露光量にてｉ線で露光した。

　露光２：ＫｒＦスキャナ露光機を用い、画素（パターン）サイズが１μｍ四方で形成されるベイヤーパターンを有するマスクを介して２００ｍＪ／ｃｍ2の露光量にてＫｒＦ線でパルス露光した（最大瞬間照度：２５０００００００Ｗ／ｍ2（平均照度：３００００Ｗ／ｍ2）、パルス幅：３０ナノ秒、周波数：４ｋＨｚ）。

（現像液）

　現像液１：シクロペンタノン（溶解度パラメータ＝２２．１ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝０．３０６、沸点＝１３０℃）

　現像液２：シクロヘキサノン（溶解度パラメータ＝２０．３ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝０．８６５、沸点＝１５５℃）

　現像液３：シクロペンタノンとシクロヘキサノンとの混合溶液（シクロペンタノン５０質量％、シクロヘキサノン５０質量％）（溶解度パラメータ＝２１．２ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝０．５８５５、沸点＝１４２．５℃）

（リンス液）

　リンス液１：ＰＧＭＥＡ（溶解度パラメータ＝１７．８ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝０．６０、沸点＝１４５℃）

　リンス液２：水（溶解度パラメータ＝４６．８ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝－１．３２、沸点＝１００℃）

　リンス液３：ＥＥＰ（溶解度パラメータ＝１８．０ＭＰａ0.5、ＣＬｏｇＰ値＝１．２１、沸点＝１２６℃）

（パターン形成性の評価方法）

　得られた画素を、高分解能ＦＥＢ（Ｆｉｅｌｄ　Ｅｍｉｓｓｉｏｎ　Ｂｅａｍ）測長装置（ＨＩＴＡＣＨＩ　ＣＤ－ＳＥＭ）Ｓ９３８０ＩＩ（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、画像部（パターン）を観察した。

　Ａ：狙いの線幅のパターンが歪み無く形成されており、パターン中心の線幅と端の線幅の差が５％未満であった。

　Ｂ：ほぼ狙いの線幅のパターンが形成されているが、パターン中心の線幅と端の線幅の差が５％以上１０％未満であった。

　Ｃ：ほぼ狙いの線幅のパターンが形成されているが、パターン中心の線幅と端の線幅の差が１０％以上３０％未満であった。

　Ｄ：Ａ～Ｃ以外である、もしくは、パターンを形成できなかった。

（残渣の評価方法）

　得られた画素を、高分解能ＦＥＢ（Ｆｉｅｌｄ　Ｅｍｉｓｓｉｏｎ　Ｂｅａｍ）測長装置（ＨＩＴＡＣＨＩ　ＣＤ－ＳＥＭ）Ｓ９３８０ＩＩ（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、非画像部（画素間）の残渣を観察した。

　Ａ：残渣が全く見られない。

　Ｂ：非画像部の０％を超え５％未満の領域に残渣が見られた。

　Ｃ：非画像部の５％以上１０％未満の領域に残渣が見られた。

　Ｄ：非画像部の１０％以上の領域に残渣が見られた。

（最小密着線幅の評価）

　各試験例において、画素バターンが０．７μｍ四方、０．８μｍ四方、０．９μｍ四方、１．０μｍ四方、１．１μｍ四方、１．２μｍ四方、１．３μｍ四方、１．４μｍ四方、１．５μｍ四方、１．７μｍ四方、２．０μｍ四方、３．０μｍ四方、５．０μｍ四方、１０．０μｍ四方で形成されるベイヤーパターンを有するマスクを使用する以外は、パターン形成性および残渣の評価を行うために画素（パターン）を形成した手順と同様の手順で画素（パターン）を形成した。高分解能ＦＥＢ測長装置（ＨＩＴＡＣＨＩ　ＣＤ－ＳＥＭ）Ｓ９３８０ＩＩ（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、０．７μｍ四方、０．８μｍ四方、０．９μｍ四方、１．０μｍ四方、１．１μｍ四方、１．２μｍ四方、１．３μｍ四方、１．４μｍ四方、１．５μｍ四方、１．７μｍ四方、２．０μｍ四方、３．０μｍ四方、５．０μｍ四方、１０．０μｍ四方のパターンを観察し、剥離無くパターンが形成されている最小のパターンサイズを最小密着線幅とした。

（接触角の測定）

　ガラス基板上に、各光硬化性組成物を、スピンコートで塗布し、１００℃で２分加熱して下記表に記載の膜厚の膜を形成した。形成した膜に純水を８μＬ滴下し、３０００ｍｓ経過後の膜表面の純水に対する接触角を測定した。なお、接触角は協和界面科学株式会社製ＤＭ－７０１を用いて測定した。

Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030

　上記表に示す通り、固形分の酸価が２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である組成物１～４３の光硬化性組成物を用い、有機溶剤を含む現像液１～３を用いて現像を行った試験例１～４８は、パターン形成性および残渣の評価が良好であった。

　なお、試験例Ｒ１、Ｒ２においては、パターンを形成できなかったため残渣および最小密着線幅の評価は行えなかった。

　組成物１において、顔料分散液Ａ１のかわりに、顔料分散液Ａ１のＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　５８を同量のＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　６２またはＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　６３に置き換えて調製した顔料分散液を用いて場合でも同様の効果が得られる。

　組成物１において、顔料分散液Ａ１のかわりに顔料分散液Ａ１のＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１５０を同量のＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　２３１に置き換えて調製した顔料分散液を用いて場合でも同様の効果が得られる。

Claims (22)


  1. 　色材と、樹脂とを含む光硬化性組成物であって、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである光硬化性組成物を用いて支持体上に光硬化性組成物層を形成する工程と、

    　前記光硬化性組成物層をパターン状に露光する工程と、

    　未露光部の前記光硬化性組成物層を、有機溶剤を含む現像液を用いて処理して現像する工程と、

    　を含むパターンの製造方法。

  2. 　前記現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータが１８～２４ＭＰａ0.5である、請求項１に記載のパターンの製造方法。

  3. 　前記現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値が０～１である、請求項１または２に記載のパターンの製造方法。

  4. 　前記光硬化性組成物は、前記現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとの差の絶対値が３．５ＭＰａ0.5以下の溶解度パラメータを有する樹脂を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  5. 　前記光硬化性組成物は、前記現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値との差の絶対値が２以下のＣＬｏｇＰ値を有する樹脂を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  6. 　前記現像液に含まれる有機溶剤がケトン系溶剤およびアルコール系溶剤から選ばれる少なくとも１つである、請求項１～５のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  7. 　前記現像液に含まれる有機溶剤が、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコールおよび乳酸エチルから選ばれる少なくとも１つである、請求項１～６のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  8. 　前記色材が顔料である、請求項１～７のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  9. 　前記現像する工程の後に、更に有機溶剤を含むリンス液でリンスする工程を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  10. 　前記リンス液に含まれる有機溶剤の沸点が前記現像液に含まれる有機溶剤の沸点よりも低い、請求項９に記載のパターンの製造方法。

  11. 　前記リンス液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータが１７～２１ＭＰａ0.5である、請求項９または１０に記載のパターンの製造方法。

  12. 　前記リンス液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値が０．３～２．０である、請求項９～１１のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  13. 　前記リンス液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータと前記現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとの差の絶対値が３．５ＭＰａ0.5以下である、請求項９～１２のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  14. 　前記リンス液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値と前記現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値との差の絶対値が１．０以下である、請求項９～１３のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  15. 　前記光硬化性組成物は、前記現像液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとの差の絶対値が３．５ＭＰａ0.5以下の溶解度パラメータを有し、かつ、前記リンス液に含まれる有機溶剤の溶解度パラメータとの差の絶対値が５．５ＭＰａ0.5以下の溶解度パラメータを有する樹脂を含む、請求項９～１４のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  16. 　前記光硬化性組成物は、前記現像液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値との差の絶対値が２以下のＣＬｏｇＰ値を有し、かつ、前記リンス液に含まれる有機溶剤のＣＬｏｇＰ値との差の絶対値が０．５～３のＣＬｏｇＰ値を有する樹脂を含む、請求項９～１５のいずれか１項に記載のパターンの製造方法。

  17. 　請求項１～１６のいずれか１項に記載のパターンの製造方法を含む光学フィルタの製造方法。

  18. 　請求項１～１６のいずれか１項に記載のパターンの製造方法を含む固体撮像素子の製造方法。

  19. 　請求項１～１６のいずれか１項に記載のパターンの製造方法を含む画像表示装置の製造方法。

  20. 　請求項１～１６のいずれか１項に記載のパターンの製造方法に用いられる光硬化性組成物であって、

    　色材と、樹脂とを含み、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである光硬化性組成物。

  21. 　色材と、樹脂とを含み、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである光硬化性組成物であって、下記の条件１を満たす光硬化性組成物；

    　条件１：ガラス基板上に光硬化性組成物を塗布し１００℃で２分加熱して膜を形成した際に、前記膜に純水を８μＬ滴下した後、３０００ｍｓ経過後の前記膜表面の純水に対する接触角が７０～１２０°である。

  22. 　色材と、樹脂とを含み、固形分の酸価が１～２５ｍｇＫＯＨ／ｇである膜であって、

    　前記膜に純水を８μＬ滴下した後、３０００ｍｓ経過後の前記膜表面の純水に対する接触角が７０～１２０°である、膜。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021085072A1 (ja) * 2019-10-28 2021-05-06 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、感光性樹脂組成物、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法
JP2021096360A (ja) * 2019-12-17 2021-06-24 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性着色組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置
WO2022044616A1 (ja) * 2020-08-31 2022-03-03 富士フイルム株式会社 感光性組成物、光学フィルタの製造方法および固体撮像素子の製造方法
JP7655077B2 (ja) 2021-05-21 2025-04-02 ａｒｔｉｅｎｃｅ株式会社 感光性着色組成物、カラーフィルタ、画像表示装置、及び固体撮像素子

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007047247A (ja) * 2005-08-08 2007-02-22 Toray Ind Inc 感光性ペースト組成物およびそれを用いたフィールドエミッションディスプレイ部材
JP2015011330A (ja) * 2013-07-02 2015-01-19 日本電子精機株式会社 改良された赤外線アブレーション層を有するフレキソ印刷版用感光性樹脂積層体
US20160187781A1 (en) * 2014-12-31 2016-06-30 Jihoon Kang Method for forming pattern using anti-reflective coating composition comprising photoacid generator
JP2017126044A (ja) * 2016-01-15 2017-07-20 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜の製造方法、遮光膜、カラーフィルタおよび固体撮像素子

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4640505B2 (ja) * 2006-09-12 2011-03-02 日立化成工業株式会社 黒色感光性樹脂組成物、ブラックマトリクスの形成方法、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ
WO2008133312A1 (ja) * 2007-04-25 2008-11-06 Asahi Glass Company, Limited 感光性組成物、隔壁、ブラックマトリックス、カラーフィルタの製造方法
JP5109903B2 (ja) * 2007-10-19 2012-12-26 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタ及び液晶表示素子
CN102770809A (zh) * 2009-07-02 2012-11-07 东友精细化工有限公司 用于制备利用300nm以下超短波长曝光器的固体摄像元件的彩色滤光片的着色感光性树脂组合物、利用其的彩色滤光片以及含有该彩色滤光片的固体摄像元件
WO2011071133A1 (en) * 2009-12-11 2011-06-16 Fujifilm Corporation Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device
CN103249571A (zh) * 2011-09-30 2013-08-14 Dic株式会社 受容层形成用树脂组合物以及使用它得到的受容基材、印刷物、导电性图案及电路
JP6115471B2 (ja) * 2011-11-11 2017-04-19 旭硝子株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁、ブラックマトリックス及び光学素子
JP6054798B2 (ja) 2013-03-29 2016-12-27 富士フイルム株式会社 カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP2014215548A (ja) * 2013-04-26 2014-11-17 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いる電子デバイス及びその製造方法
JP6071816B2 (ja) * 2013-09-09 2017-02-01 富士フイルム株式会社 樹脂硬化物の製造方法、これを用いた固体撮像素子および液晶表示装置の製造方法
WO2016092989A1 (ja) * 2014-12-09 2016-06-16 富士フイルム株式会社 シロキサン樹脂組成物、これを用いた透明硬化物、透明画素、マイクロレンズ、固体撮像素子、およびマイクロレンズの製造方法
JP2018124298A (ja) * 2015-05-29 2018-08-09 富士フイルム株式会社 パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
JPWO2016208299A1 (ja) * 2015-06-24 2018-04-05 富士フイルム株式会社 処理液及びパターン形成方法
JP6419342B2 (ja) * 2015-08-19 2018-11-07 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
KR102079525B1 (ko) * 2015-08-31 2020-02-20 후지필름 가부시키가이샤 착색층의 제조 방법, 컬러 필터, 차광막, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치
JPWO2017056831A1 (ja) * 2015-09-29 2018-08-09 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、硬化膜の製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、固体撮像素子の製造方法および赤外線センサの製造方法
KR102121343B1 (ko) * 2015-09-30 2020-06-10 도레이 카부시키가이샤 네가티브형 감광성 수지 조성물, 경화막, 경화막을 구비하는 소자 및 표시 장치, 및 그의 제조 방법
JP6868359B2 (ja) * 2016-09-16 2021-05-12 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用色材分散液、カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007047247A (ja) * 2005-08-08 2007-02-22 Toray Ind Inc 感光性ペースト組成物およびそれを用いたフィールドエミッションディスプレイ部材
JP2015011330A (ja) * 2013-07-02 2015-01-19 日本電子精機株式会社 改良された赤外線アブレーション層を有するフレキソ印刷版用感光性樹脂積層体
US20160187781A1 (en) * 2014-12-31 2016-06-30 Jihoon Kang Method for forming pattern using anti-reflective coating composition comprising photoacid generator
JP2017126044A (ja) * 2016-01-15 2017-07-20 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜の製造方法、遮光膜、カラーフィルタおよび固体撮像素子

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021085072A1 (ja) * 2019-10-28 2021-05-06 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、感光性樹脂組成物、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法
JPWO2021085072A1 (ja) * 2019-10-28 2021-05-06
KR20220052342A (ko) * 2019-10-28 2022-04-27 후지필름 가부시키가이샤 패턴 형성 방법, 감광성 수지 조성물, 적층체의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스의 제조 방법
JP7367049B2 (ja) 2019-10-28 2023-10-23 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、感光性樹脂組成物、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法
KR102740861B1 (ko) * 2019-10-28 2024-12-12 후지필름 가부시키가이샤 패턴 형성 방법, 감광성 수지 조성물, 적층체의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스의 제조 방법
JP2021096360A (ja) * 2019-12-17 2021-06-24 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性着色組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置
JP7521892B2 (ja) 2019-12-17 2024-07-24 ａｒｔｉｅｎｃｅ株式会社 感光性着色組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置
WO2022044616A1 (ja) * 2020-08-31 2022-03-03 富士フイルム株式会社 感光性組成物、光学フィルタの製造方法および固体撮像素子の製造方法
JP7655077B2 (ja) 2021-05-21 2025-04-02 ａｒｔｉｅｎｃｅ株式会社 感光性着色組成物、カラーフィルタ、画像表示装置、及び固体撮像素子

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