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WO2019026546A1 - 共重合体及びカラーフィルター用感光性樹脂組成物 - Google Patents

共重合体及びカラーフィルター用感光性樹脂組成物 Download PDF

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WO2019026546A1
WO2019026546A1 PCT/JP2018/025725 JP2018025725W WO2019026546A1 WO 2019026546 A1 WO2019026546 A1 WO 2019026546A1 JP 2018025725 W JP2018025725 W JP 2018025725W WO 2019026546 A1 WO2019026546 A1 WO 2019026546A1
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WO
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structural unit
meth
copolymer
acrylate
group
Prior art date
Application number
PCT/JP2018/025725
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
英理 永井
健宏 木下
恭章 川口
正義 柳
拓樹 倉本
Original Assignee
昭和電工株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Priority to JP2019534000A priority patent/JP7189875B2/ja
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    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Definitions

  • the present invention relates to a novel copolymer, a photosensitive resin composition for a color filter containing the same, a color filter, an image display device having the same, and a method for producing a color filter.
  • photosensitive resin compositions that can be cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams are widely used in the fields of various coatings, printing, paints, adhesives and the like. Also in the field of electronic materials such as printed wiring boards, photosensitive resin compositions that can be cured by active energy rays are used as solder resists, resists for color filters, and the like. Furthermore, although the required characteristics for the curable photosensitive resin composition are becoming increasingly diverse and sophisticated, among them, short-time curing considering productivity, low-temperature curing which suppresses thermal damage of applied members Is required.
  • the color filter generally includes a transparent substrate such as a glass substrate, red (R), green (G) and blue (B) pixels formed on the transparent substrate, and a black matrix formed at the boundary of the pixels. It comprises a pixel and a protective film formed on the black matrix.
  • a color filter having such a configuration is usually manufactured by sequentially forming a black matrix, pixels and a protective film on a transparent substrate.
  • Various methods have been proposed as methods for forming the pixel and the black matrix (hereinafter, the pixel and the black matrix are referred to as “colored pattern”).
  • the pigment / dye dispersion method manufactured by the photolithography method using the photosensitive resin composition as a resist and repeating coating, exposure, development and baking is excellent in durability and colored with few defects such as pinholes. It is currently mainstream because it gives patterns.
  • the photosensitive resin composition used in the photolithography method contains an alkali-soluble resin, a reactive diluent, a photopolymerization initiator, a colorant and a solvent.
  • the pigment / dye dispersion method while having the above advantages, since a pattern of black matrix, R, G, B is repeatedly formed, high heat resistance is required, and as a coloring agent which can withstand high baking temperature It is often a problem that there are limitations such as the limited types of colorants that can be used.
  • Patent Document 1 enables low-temperature curing by using a compound such as an alkali-soluble resin, a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a radiation-sensitive polymerization initiator, a colorant, and ethyl 3-aminobenzenesulfonate. Disclosed is a coloring composition having improved storage stability.
  • Patent Document 2 discloses a polymer precursor whose reaction to a final product is promoted by a basic substance or by heating in the presence of a basic substance, and a specific base generating a base by irradiation of electromagnetic waves and heating. Low temperature curing is enabled by using a photosensitive resin composition containing an agent.
  • the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is a photosensitive material for color filters which is excellent in developability and storage stability and gives a colored pattern excellent in solvent resistance even when cured at low temperature. It is an object of the present invention to provide a functional resin composition and a copolymer useful for the preparation of the photosensitive resin composition. Another object of the present invention is to provide a color filter having a coloring pattern excellent in solvent resistance, a method for producing the same, and an image display device having the color filter.
  • a copolymer (A) comprising a structural unit (a) having a block isocyanato group, a structural unit (b) having an acid group, and a structural unit (c) having an epoxy group.
  • the constituent unit (a) having a block isocyanato group is a constituent unit derived from a block isocyanato group-containing (meth) acrylate, and dissociation of the block isocyanato group of the block isocyanato group-containing (meth) acrylate
  • the copolymer according to [1] which has a rate of 5 to 99% by mass when heated at 100 ° C. for 30 minutes.
  • the blocking agent of the structural unit (a) having a block isocyanato group is diethyl malonate, 3,5-dimethylpyrazole, methyl ethyl ketoxime, methyl 2-hydroxybenzoate, methyl 4-hydroxybenzoate and 3,
  • the copolymer according to any one of [1] to [3], wherein the structural unit (b) having an acid group is a structural unit derived from an unsaturated carboxylic acid.
  • the copolymer (A) comprises 1 to 60 mol% of the structural unit (a) having the block isocyanato group, 5 to 65 mol% of the structural unit (b) having the acid group, and the epoxy
  • the molar ratio of the structural unit (a) having the block isocyanato group to the structural unit (c) having the epoxy in the copolymer (A) is 10: 90 to 75: 25 [1] The copolymer according to any one of [6] to [6].
  • the copolymer (A) is 2- (3,5-dimethylpyrazol-1-yl) carbonylaminoethyl methacrylate, 2- [O- (1'-methylpropylideneamino) carboxyamino methacrylate Ethyl, malonic acid 2-[[[[2-methyl-1-oxo-2-propenyl] oxy] ethyl] amino] carbonyl] -1,3 diethyl ester, benzoic acid 4-[[[[[2- [ (2-Methyl-1-oxo-2-propen-1-yl) oxy] ethyl] amine] carbonyl] oxy] methyl ester, benzoic acid 2-[[[[[[[2-[(2-methyl-1-oxy) -2-propen-1-yl) oxy] ethyl] amine] carbonyl] oxy] methyl ester and 2-methyl-2-propenoic acid-2- [l-[[(3,5-dimethylphenoxy
  • the copolymer (A) is 2- (3,5-dimethylpyrazol-1-yl) carbonylaminoethyl methacrylate, 2- [O- (1′-methylpropylideneamino) carboxyamino methacrylate Ethyl, malonic acid 2-[[[[[[2-methyl-1-oxo-2-propenyl] oxy] ethyl] amino] carbonyl] -1,3 diethyl ester, benzoic acid 4-[[[[[2- [ (2-Methyl-1-oxo-2-propen-1-yl) oxy] ethyl] amine] carbonyl] oxy] methyl ester, benzoic acid 2-[[[[[[[[2-[(2-methyl-1-oxy) -2-propen-1-yl)
  • the copolymer (A) is a structural unit (a) derived from 2- [O- (1′-methylpropylideneamino) carboxyamino] ethyl methacrylate, and a structural unit derived from (meth) acrylic acid
  • the copolymer (A) is a constituent unit (a) derived from 2- (3,5-dimethylpyrazol-1-yl) carbonylaminoethyl methacrylate, and a constituent unit derived from (meth) acrylic acid
  • the copolymer (A) is a constituent unit (a) derived from 2- (3,5-dimethylpyrazol-1-yl) carbonylaminoethyl methacrylate, and a constituent unit derived from (meth) acrylic acid b) a glycidyl (meth) acrylate-derived structural unit (c), a 2-hydroxyethyl methacrylate-derived structural unit (d), and a dicyclopentanyl (meth) acrylate-derived structural unit (e) The copolymer as described in [10].
  • the above-mentioned copolymer (A) is a structural unit derived from malonic acid 2-[[[2-methyl-1-oxo-2-propenyl] oxy] ethyl] amino] carbonyl] -1,3 diethyl ester (A), (meth) acrylic acid-derived structural unit (b), glycidyl (meth) acrylate-derived structural unit (c), and dicyclopentanyl (meth) acrylate-derived structural unit (e)
  • the copolymer (A) further contains a structural unit (d) having a hydroxyl group and a structural unit (e) other than the structural units (a) to (d),
  • the copolymer (A) contains 1 to 40 mol% of the structural unit (a) having the block isocyanato group, 1 to 60 mol% of the structural unit (b) having the acid group, and the epoxy group 1 to 70 mol% of the structural unit (c), more than 0 to 50 mol% of the structural unit (d) having the hydroxyl group, and more than 0 to 80 mol% of the structural unit (e) [1 ]
  • the copolymer (A) further contains a structural unit (d) having a hydroxyl group and a structural unit (e) other than the structural units (a) to (d),
  • the copolymer (A) contains 3 to 20 mol% of the structural unit (a) having the block isocyanato group, 20 to 50 mol% of the structural unit (b) having the acid group, and the epoxy group 20-40 mol% of the structural unit (c), more than 0 mol% to 20 mol% of the structural unit (d) having the hydroxyl group, and 20-40 mol% of the structural unit (e) [1] to [4]
  • a polymer comprising the copolymer (A) according to any one of [1] to [16], and at least one of a solvent (B) and a reactive diluent (C). Composition.
  • Photosensitive resin composition a copolymer (A) according to any one of [1] to [16], a solvent (B), a reactive diluent (C) and a photopolymerization initiator (D).
  • a color filter having a colored pattern comprising a cured product of the photosensitive resin composition for a color filter according to any one of [19] to [22].
  • the photosensitive resin composition for a color filter according to any one of [19] to [22] is coated on a substrate, exposed to light, alkali-developed, and then baked at a temperature of 160 ° C. or less to obtain a colored pattern
  • a method of manufacturing a color filter comprising the step of forming.
  • a photosensitive resin composition for a color filter which is excellent in developability and storage stability and gives a colored pattern excellent in solvent resistance even when cured at low temperature
  • the photosensitive resin composition Copolymers useful for the preparation of it is possible to provide a color filter having a coloring pattern excellent in solvent resistance, a method for producing the same, and an image display device having the color filter.
  • the copolymer (A) of the present invention is characterized by containing a structural unit (a) having a block isocyanato group, a structural unit (b) having an acid group, and a structural unit (c) having an epoxy group. .
  • the structural unit (a) which has a block isocyanato group which a copolymer (A) contains is a structural unit derived from a block isocyanato group containing monomer.
  • a monomer having an ethylenically unsaturated bond and a blocked isocyanato group, etc. for example, the isocyanato group in an isocyanate compound having a vinyl group, a (meth) acryloyloxy group or the like in the molecule is blocked with a blocking agent Compounds are included.
  • the reaction of the isocyanate compound with the blocking agent can be carried out with or without the presence of a solvent.
  • a solvent it is necessary to use a solvent inert to the isocyanato group.
  • an organic metal salt such as tin, zinc or lead, a tertiary amine or the like may be used as a catalyst.
  • the reaction can generally be carried out at -20 to 150 ° C, but is preferably carried out at 0 to 100 ° C.
  • the compound represented by following formula (1) can be mentioned.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 is, -CO -, - COOR 3 - (wherein, R 3 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms) Or -COO-R 4 O-CONH-R 5- (wherein, R 4 is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and R 5 is preferably having 2 to 12 carbon atoms which may have a substituent. And an alkylene group having 6 to 12 carbon atoms).
  • R 2 is preferably —COOR 3 —, wherein R 3 is preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.
  • isocyanate compound represented by the said Formula (1) 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate, 2-isocyanatopropyl (meth) acrylate, 3-isocyanatopropyl (meth) acrylate, 2 And -isocyanato-1-methylethyl (meth) acrylate, 2-isocyanato-1,1-dimethylethyl (meth) acrylate, 4-isocyanatocyclohexyl (meth) acrylate, methacryloyl isocyanate and the like.
  • an equimolar (1 mol: 1 mol) reaction product of 2-hydroxyalkyl (meth) acrylate and a diisocyanate compound can be used.
  • the alkyl group of the above-mentioned 2-hydroxyalkyl (meth) acrylate is preferably an ethyl group or an n-propyl group, more preferably an ethyl group.
  • diisocyanate compounds described above include hexamethylene diisocyanate, 2,4- (or 2,6-)-tolylene diisocyanate (TDI), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 3,5,5-trimethyl- Examples include 3-isocyanatomethylcyclohexyl isocyanate (IPDI), m- (or p-) xylene diisocyanate, 1,3- (or 1,4-) bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, lysine diisocyanate and the like.
  • IPDI 3-isocyanatomethylcyclohexyl isocyanate
  • m- (or p-) xylene diisocyanate 1,3- (or 1,4-) bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, lysine diisocyanate and the like.
  • (meth) acrylate in the present specification means that any of acrylate and methacrylate may be used, and the expression of (meth) acrylic acid may be any of acrylic acid and methacrylic acid. Means.
  • phenolic compounds dimethyl malonate, diethyl malonate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetylacetone Active methylenes such as butyl mercaptan such as butyl mercaptan, thiophenol and tert-dodecyl mercaptan; amines such as diphenylamine, phenyl naphthylamine, aniline and carbazole; acid amides such as acetanilide, acetanisidide, acetic acid amide and benzamide; succinic acid Acid imides such as imide and maleimide; imidazoles such as imidazole, 2-methylimidazole and 2-ethylimidazole; Pyrazo such as pyrazole and 3,5-dimethylpyrazole Urea system such as urea, thiourea, ethylene urea etc.
  • Active methylenes such as butyl mercaptan such
  • carbamate system such as phenyl N-phenylcarbamate, 2-oxazolidone etc. imine system such as ethyleneimine, polyethyleneimine etc. formalmadoxime, acetoaldoxime And oximes such as acetoxime, methyl ethyl ketoxime, methyl isobutyl ketoxime, cyclohexanone oxime; and bisulfite such as sodium bisulfite and potassium bisulfite.
  • These blocking agents may be used alone or in combination of two or more.
  • the blocking agent protects the highly reactive isocyanato group, but heating causes the block isocyanato group to dissociate to regenerate the isocyanato group.
  • the isocyanato group is reacted with a reactive functional group contained in the copolymer (A) or the reactive diluent (C), that is, an acid group, an optionally contained hydroxy group, an amino group, etc. Form a cured product with high crosslink density.
  • a block isocyanato group-containing (meth) acrylate is used as a monomer for giving the structural unit (a) having a block isocyanato group.
  • the block isocyanato group having a dissociation rate of preferably 5 to 99% by mass, more preferably 8 to 97% by mass, most preferably 10 to 95% by mass, when heat treated at 100 ° C. for 30 minutes. It is more preferable to use a contained (meth) acrylate.
  • the dissociation rate of the blocked isocyanato group of the blocked isocyanato group-containing (meth) acrylate was determined by preparing an n-octanol solution having a concentration of 20% by mass of the blocked isocyanato group-containing (meth) acrylate. Analysis of mass loss of the blocked isocyanato group-containing (meth) acrylate after heating at 100 ° C.
  • a blocking agent for block isocyanato group-containing (meth) acrylates having such a dissociation rate diethyl malonate, 3,5-dimethylpyrazole, methyl ethyl ketoxime, methyl 2-hydroxybenzoate, methyl 4-hydroxybenzoate, 3,5-xylenol, ⁇ -butyrolactam, 1-methoxy-2-propanol, 2,6-dimethylphenol and diisopropylamine.
  • diethyl malonate, 3,5-dimethylpyrazole, methyl ethyl ketoxime, methyl 2-hydroxybenzoate, methyl 4-hydroxybenzoate and 3,5-xylenol are more preferable from the viewpoint of low-temperature curing. .
  • the block isocyanato group containing (meth) acrylate whose dissociation temperature of the block isocyanato group of block isocyanato group containing (meth) acrylate is 80 degreeC or more.
  • a block isocyanato group-containing (meth) acrylate having a dissociation temperature of 80 ° C. or higher the stability of the copolymer during synthesis can be sufficiently ensured, and unintended crosslinking in the modification reaction described later The reaction can be reduced.
  • the dissociation temperature of the block isocyanato group is 160 ° C. or less, the baking temperature can be sufficiently lowered, and the solvent resistance of the cured coating film can be sufficiently ensured.
  • the dissociation temperature of the block isocyanato group of block isocyanato group containing (meth) acrylate prepares n-octanol solution whose density
  • Reaction product Showa Denko Co., Ltd., dissociation temperature of block isocyanato group: 110 ° C., dissociation rate: 70% by mass
  • karen MOI-BM metalhacroyloxyethyl isocyanate and methyl ethyl ketoxime represented by the following formula (4)
  • Product of reaction with water, manufactured by Showa Denko KK, solution of blocked isocyanato group Temperature: 130 ° C., the dissociation constant: including 18 methacrylate and the corresponding acrylates to these, such as mass%) can be mentioned.
  • These block isocyanato group-containing (meth) acrylates may be used alone or in combination of two or more.
  • the proportion of the structural unit (a) having a block isocyanato group contained in the copolymer (A) is not particularly limited, but is preferably 1 to 40 mol%, more preferably 2 to 30 mol%, and most preferably It is 3 to 25 mol%.
  • the proportion of the structural unit (a) having a block isocyanato group is 1 to 40 mol%, the solvent resistance of the cured coating is improved, and the storage stability of the copolymer (A) is also maintained.
  • the constituent unit (b) having an acid group contained in the copolymer (A) is a constituent unit derived from an acid group-containing monomer (however, the unit corresponding to the constituent unit (a) having a block isocyanato group) except).
  • the acid group include a carboxyl group, a sulfo group, a phospho group and the like, and among these, a carboxyl group is preferable in terms of availability.
  • a monomer having a polymerizable unsaturated bond and an acid group for example, unsaturated carboxylic acid or its anhydride, unsaturated sulfonic acid, unsaturated phosphonic acid etc. It can be mentioned.
  • preferable monomers include (meth) acrylic acid, ⁇ -bromo (meth) acrylic acid, ⁇ -furyl (meth) acrylic acid, crotonic acid, propiolic acid, cinnamic acid, ⁇ -cyanocinnamic acid and maleic acid
  • Maleic anhydride monomethyl maleate, monoethyl maleate, monoisopropyl maleate, fumaric acid, itaconic acid, itaconic acid, itaconic acid, citraconic acid, unsaturated carboxylic acids such as citraconic acid or anhydrides thereof; 2-acrylamido-2 -Unsaturated sulfonic acids such as methyl propane sulfonic acid, tert-butyl acrylamido sulfonic acid, p-styrene sulfonic acid; unsaturated phosphonic acids such as vinyl phosphonic acid; and the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more. Among these, unsaturated
  • the alkali developability at the time of using the copolymer (A) as a photosensitive material is greatly improved.
  • the proportion of the structural unit (b) having an acid group contained in the copolymer (A) is not particularly limited, but is preferably 1 to 60 mol%, more preferably 10 to 50 mol%, and most preferably 15 to It is 40 mol%.
  • the proportion of the structural unit (b) having an acid group is 1 to 60 mol%, an appropriate rate of alkali development can be obtained, and a fine pattern can be formed.
  • the structural unit (c) having an epoxy group contained in the copolymer (A) is a structural unit derived from an epoxy group-containing monomer (however, the structural unit (a) having the block isocyanato group, the acid group Except for those corresponding to the structural unit (b).
  • the monomer which has a polymerizable unsaturated bond and an epoxy group for example, oxiranyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-methyl glycidyl (meth) acrylate 2-ethylglycidyl (meth) acrylate, 2-oxiranylethyl (meth) acrylate, 2-glycidyloxyethyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxypropyl (meth) acrylate, glycidyloxyphenyl (meth) acrylate, etc.
  • oxiranyl (meth) acrylate for example, oxiranyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-methyl glycidyl (meth) acrylate 2-ethylglycidyl (meth) acrylate, 2-oxiranylethyl (meth) acrylate, 2-glycidyl
  • the inclusion of the structural unit (c) having an epoxy group in the copolymer (A) greatly improves the solvent resistance when the copolymer (A) is used as a photosensitive material.
  • the proportion of the structural unit (c) having an epoxy group contained in the copolymer (A) is not particularly limited, but is preferably 1 to 60 mol%, more preferably 5 to 50 mol%, and most preferably 10 to It is 40 mol%.
  • the proportion of the structural unit (c) having an epoxy group is 1 to 60 mol%, the solvent resistance of the cured coating and the storage stability of the copolymer (A) are compatible.
  • the molar ratio of the structural unit (a) having a block isocyanato group to the structural unit (c) having an epoxy can be, for example, 1:99 to 99: 1, and curing From the viewpoint of the solvent resistance of the coating film and the storage stability of the copolymer (A), the ratio is preferably 5:95 to 85:15, and more preferably 10:90 to 75:25.
  • the copolymer (A) may further contain a structural unit (d) having a hydroxyl group.
  • the structural unit (d) having a hydroxyl group contained in the copolymer (A) is a structural unit derived from a hydroxyl group-containing monomer (however, a structural unit (a) having the block isocyanato group, a structure having the acid group A unit (b) and the thing applicable to the structural unit (c) which has the said epoxy group are remove
  • a monomer having a polymerizable unsaturated bond and a hydroxyl group for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl Examples include (meth) acrylate, 2,3-dihydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate and the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2,3-dihydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate from the viewpoint of polymerizability Preferred are (meth) acrylic acid ester derivatives containing a hydroxyl group such as hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate and 4-hydroxybutyl acrylate, and more preferred is 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.
  • the structural unit (d) having a hydroxyl group is not essential, when the structural unit (d) having a hydroxyl group is contained in the copolymer (A), the copolymer (A) is used as a photosensitive material. The solvent resistance upon use is greatly improved.
  • the proportion of the structural unit (d) having an acid group contained in the copolymer (A) is not particularly limited, but is preferably more than 0 mol% to 50 mol%, more preferably more than 0 mol% to 40 mol% Most preferably, it is more than 0 mol% to 30 mol%.
  • the proportion of the structural unit (d) having a hydroxyl group is more than 0 mol% to 50 mol%, the solvent resistance of the cured coating and the storage stability of the copolymer (A) are compatible.
  • a constituent unit (a) having a block isocyanato group a constituent unit having an acid group (b), a constituent unit (c) having an epoxy group and Along with the structural unit (d) having a hydroxyl group, other structural units (e) copolymerizable therewith may be contained (however, the structural unit (a) having the above-mentioned block isocyanato group, having the above-mentioned acid group
  • the structural unit (b), the structural unit (c) having an epoxy group, and the structural unit (d) having a hydroxyl group are excluded.
  • the monomer giving the other structural unit (e) include styrene, ⁇ -methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p- Aromatic vinyl compounds such as chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, p-nitrostyrene, p-cyanostyrene, p-acetylaminostyrene and the like; norbornene (bicyclo [2.2.1] Hept-2-ene), 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .
  • pentadeca-3-ring having a norbornene structure such as ene-olefin; butadiene, isoprene, dienes such as chloroprene; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n- propyl (meth) acrylate, iso - Propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, iso-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, neopentyl (meth) Acrylate, benzyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, do
  • (Meth) acrylic acid amide (meth) acrylic acid anilide, (meth) acrylonitrile, acrolein, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl fluoride, vinylidene fluoride, N-vinyl pyrrolidone, vinyl pyridine, vinyl acetate, vinyl toluene, etc.
  • unsaturated dicarboxylic acid diesters N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-laurylmaleimide, N- (4-hydroxyphenyl) Things such as maleimide Reimido; and the like.
  • (meth) acrylic acid esters are preferable, and methyl (meth) acrylate and dicyclopentanyl (meth) acrylate are particularly preferable.
  • These monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • the proportion of the other structural unit (e) contained in the copolymer (A) is not particularly limited, but is preferably more than 0 mol% to 80 mol%, more preferably 5 to 70 mol%, and most preferably 10 It is up to 60 mol%.
  • the other structural unit (e) is not essential, but the other structural unit (e) is included in the copolymer (A) to appropriately improve the properties of the solvent resistance and the coating film. Can.
  • the proportions of the block isocyanato group-containing monomer (a0), the acid group-containing monomer (b0) and the epoxy group-containing monomer (c0) used in the production of the copolymer (A) are not particularly limited, but preferably (A0) 1 to 60 mol%, (b0) 5 to 65 mol% and (c0) 5 to 65 mol%, more preferably (a0) 5 to 50 mol%, (b0) 15 to 55 mol% and c0) 15 to 55 mol%, most preferably 10 to 40 mol% of (a0), 25 to 45 mol% of (b0) and 25 to 45 mol% of (c0).
  • the copolymer (A) further contains a structural unit (d) having a hydroxyl group and another structural unit (e), a block isocyanato group-containing monomer (a0) used in the production of the copolymer (A)
  • the ratio of the acid group-containing monomer (b0), the epoxy group-containing monomer (c0), the hydroxyl group-containing monomer (d0) and the other monomers (e0) is preferably (a0) 1 to 40 mol%, (b0) 1 -60 mol%, (c0) 1 to 70 mol%, (d0) more than 0 mol% to 50 mol% and (e0) more than 0 mol% to 80 mol%, more preferably (a0) 2 to 30 mol% (B0) 10 to 55 mol%, (c0) 10 to 60 mol%, (d0) more than 0 mol% to 30 mol% and (e0) 5 to 60 mol%, most preferably (a0) 3 to 20 Mol
  • the copolymerization reaction of the block isocyanato group-containing monomer (a0), the acid group-containing monomer (b0), the epoxy group-containing monomer (c0), the hydroxyl group-containing monomer (d0) and the other monomer (e0) is known in the art. It can be carried out in the presence or absence of a polymerization solvent according to the radical polymerization method of For example, after these monomers are optionally dissolved in a solvent, a polymerization initiator may be added to the solution, and a polymerization reaction may be performed at 50 to 100 ° C. for 1 to 20 hours.
  • the block isocyanato group dissociates and the resulting isocyanato group reacts with the acid group to form a gel. It is preferable to carry out the polymerization at a temperature below the dissociation temperature of the blocked isocyanato group, preferably at a temperature about 20 to 50 ° C. below the dissociation temperature of the blocked isocyanate group.
  • the solvent that can be used for this copolymerization reaction is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, and, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono -N-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, Dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether and tripropylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol
  • ether solvents are preferable, and propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ethyl ether and ethylene glycol monomethyl ether are more preferable.
  • the amount of the solvent used for the copolymerization reaction is not particularly limited, but generally 30 to 1,000 parts by mass, preferably 50 to 800 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the monomers charged.
  • the amount of the solvent is controlled to 1,000 parts by mass or less, the decrease in molecular weight of the copolymer (A) due to the chain transfer action is suppressed, and the viscosity of the copolymer (A) is controlled within an appropriate range. can do.
  • the amount of the solvent to 30 parts by mass or more, the abnormal polymerization reaction can be prevented, the polymerization reaction can be stably performed, and the coloration or gelation of the copolymer (A) can be prevented. You can also.
  • the polymerization initiator that can be used for this copolymerization reaction is not particularly limited, and examples thereof include azobisisobutyronitrile, azobisisovaleronitrile, benzoyl peroxide, and t-butylperoxy-2- Ethyl hexanoate etc. are mentioned. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the polymerization initiator used is generally 0.5 to 20 parts by mass, preferably 1.0 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of monomers.
  • the weight average molecular weight in terms of polystyrene of the copolymer (A) is not particularly limited, but preferably 1,000 to 50,000, more preferably 3,000 to 40,000 according to the above-mentioned production method.
  • the copolymer (A) can be obtained.
  • the weight average molecular weight of the copolymer (A) is 1,000 or more, chipping of a colored pattern is less likely to occur after alkali development when used as a photosensitive resin composition.
  • the weight average molecular weight of the copolymer (A) is 50,000 or less, the development time becomes appropriate, and practicability is secured.
  • the acid value (JIS K6901 5.3) of a copolymer (A) can be selected suitably, When it mix
  • the alkali developability at the time of using as a photosensitive resin composition becomes favorable for the acid value of a copolymer (A) to be 20 KOHmg / g or more.
  • the acid value of the copolymer (A) is 300 KOHmg / g or less, the exposed portion (photocured portion) is difficult to dissolve in the alkali developer, so the pattern shape becomes good.
  • the epoxy equivalent of the copolymer (A) is not particularly limited, but is preferably in the range of 200 to 2,000 g / mol, more preferably 300 to 1,500 g / mol, and most preferably 480 to 900 g / mol.
  • the epoxy equivalent of the copolymer (A) is 200 g / mol or more, the stability is good.
  • the epoxy equivalent is 2,000 g / mol or less, sufficient solvent resistance is secured.
  • the epoxy equivalent is the mass of the polymer per mole of epoxy group of the polymer, and can be determined by dividing the mass of the polymer by the amount of epoxy group of the polymer (g / mol) .
  • the epoxy equivalent is a theoretical value calculated from the amount of raw materials used to introduce the epoxy group.
  • the copolymer (A) of the present invention contains a blocked isocyanato group in the molecule.
  • the content of the blocked isocyanato group may be appropriately selected, but in general, it is selected in such a range that the blocked isocyanate group equivalent is 400 to 6,000, preferably 1,000 to 5,000.
  • the block isocyanato group equivalent is the mass of the polymer per mole of the blocked isocyanato group contained in the polymer, and is determined by dividing the mass of the polymer by the number of moles of the blocked isocyanato group contained in the polymer. Is possible (g / mol).
  • the blocked isocyanato group equivalent is a theoretical value calculated from the charged amount of the blocked isocyanato group-containing monomer.
  • a polymer composition comprising at least one of a solvent (B) and a reactive diluent (C) in addition to the above-mentioned copolymer (A) is provided.
  • the solvent (B) is not particularly limited as long as it is an inert solvent which does not react with the copolymer (A), and the solvent in the same category as the solvent used in producing the copolymer (A) may be used it can.
  • Preferred solvents (B) are hydroxyl group-containing organic solvents such as propylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol from the viewpoint of preventing abnormal polymerization and stably performing the polymerization reaction.
  • the polymer composition of the present invention can be prepared by appropriately mixing the desired solvent (B) with the copolymer (A) isolated from the polymerization system, but the copolymer (A) is not necessarily polymerized. It is not necessary to isolate from the above, and the solvent contained at the end of the copolymerization reaction can be used as it is, and at that time, the desired solvent can be further added as needed. Moreover, the solvent contained in the other component used when preparing a polymer composition can also be used as a component of a solvent (B).
  • the reactive diluent (C) is a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group as a polymerizable functional group in the molecule, and a compound having a plurality of polymerizable functional groups is preferable among them.
  • Examples of monofunctional monomers used as the reactive diluent (C) include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethoxy Methyl (meth) acrylamide, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2- hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) Acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, glycerol Mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate,
  • ethylene glycol di (meth) acrylate As a polyfunctional monomer used as a reactive diluent (C), ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol Di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) Acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol Hexa (meth
  • (meth) acrylate such as tri (meth) acrylate of tris (hydroxyethyl) isocyanurate; aromatic vinyl compounds such as divinylbenzene, diallyl phthalate, diallyl benzene phosphonate; adipic acid
  • aromatic vinyl compounds such as divinylbenzene, diallyl phthalate, diallyl benzene phosphonate; adipic acid
  • dicarboxylic esters such as divinyl; triallyl cyanurate, methylene bis (meth) acrylamide, (meth) acrylamide methylene ether, and condensates of polyhydric alcohol and N-methylol (meth) acrylamide.
  • These monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • the compounding amounts of the copolymer (A), the solvent (B) and the reactive diluent (C) in the polymer composition may be appropriately adjusted according to the purpose of use.
  • the polymer composition contains the copolymer (A), the solvent (B) and the reactive diluent (C)
  • a photosensitive resin composition which contains a copolymer (A), a solvent (B), a reactive diluent (C) and a photopolymerization initiator (D).
  • a copolymer (A) a copolymer (A)
  • a solvent (B) a reactive diluent (C)
  • a photopolymerization initiator (D) a photopolymerization initiator
  • the solvent (B) and the reactive diluent (C) those described above can be used.
  • the photopolymerization initiator (D) is not particularly limited, and examples thereof include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin butyl ether; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1 -Dichloroacetophenone, 4- (1-t-butyldioxy-1-methylethyl) acetophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2-benzyl-2 Acetophenones such as -dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1; anthraquinones such as 2-methyl anthraquinone, 2-amyl anthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, etc .; xanthone, thioxan
  • a photosensitive resin composition for a color filter comprising a copolymer (A), a solvent (B), a reactive diluent (C), a photopolymerization initiator (D) and a colorant (E) Provided.
  • a copolymer (A) a copolymer
  • B a solvent
  • C a reactive diluent
  • D a photopolymerization initiator
  • E a colorant
  • the solvent (B), the reactive diluent (C) and the photopolymerization initiator (D) those described above can be used.
  • the colorant (E) is not particularly limited as long as it dissolves or disperses in the solvent (B), and examples thereof include dyes and pigments.
  • the dye is an acid having an acidic group such as carboxylic acid or sulfonic acid from the viewpoint of solubility in the solvent (B) or alkaline developer, interaction with other components in the photosensitive resin composition, heat resistance, etc. It is preferable to use a dye, a salt of an acid dye with a nitrogen compound, a sulfonamide of an acid dye, or the like.
  • dyes examples include: acid alizarin violet N; acid black 1, 2, 24, 48; acid blue 1, 7, 9, 25, 29, 40, 45, 62, 70, 74, 80, 83, 90, 92, 112, 113, 120, 129, 147; acid chrome violet K; acid green 1, 3, 5, 25, 27, 50; acid orange 6, 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 56, 63, 74, 95; acid red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 69, 73 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216, 217, 249, 252, 257, 260, 266, 274; acid violet 6B, 7, 9, 17, 19; acid yellow 1, 3, 9, 11, 17, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 42, 54,
  • an azo-based, xanthene-based, anthraquinone-based or phthalocyanine-based acid dye is preferable. These dyes may be used alone or in combination of two or more, depending on the color of the target pixel.
  • pigments examples include C.I. I. Pigment yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, Yellow pigments such as 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214; I. Orange pigments such as C.I. pigment oranges 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73; I.
  • colorants (E) may be used alone or in combination of two or more, depending on the color of the target pixel. In addition, according to the color of the pixel made into the objective, it can also be used combining said dye and a pigment.
  • a known dispersant may be added to the photosensitive resin composition from the viewpoint of improving the dispersibility of the pigment.
  • a dispersing agent it is preferable to use the polymeric dispersing agent which is excellent in the dispersion stability over time.
  • polymer dispersants include urethane dispersants, polyethyleneimine dispersants, polyoxyethylene alkyl ether dispersants, polyoxyethylene glycol diester dispersants, sorbitan aliphatic ester dispersants, aliphatic modified esters A system dispersant etc. are mentioned.
  • EFKA manufactured by F-KA Chemical's BV (EFKA) Co., Ltd.
  • Disperbyk manufactured by BIC Chemie Co., Ltd.
  • Disperon manufactured by Kushimoto Chemical Co., Ltd.
  • the compounding amount of the dispersant may be appropriately set according to the type of the pigment to be used.
  • the blending amounts of the copolymer (A), the solvent (B), the reactive diluent (C), the photopolymerization initiator (D) and the colorant (E) are the same as in the copolymer (A) in the photosensitive resin composition. 10 to 100 parts by mass of the copolymer (A) and 30 to 1,000 parts by mass of the solvent (B) based on 100 parts by mass of the total amount of the organic solvent and the reactive diluent (C), the reactive diluent
  • the copolymer (C) is more than 0 parts by mass to 90 parts by mass
  • the photopolymerization initiator (D) is 0.1 to 30 parts by mass
  • the colorant (E) is 3 to 80 parts by mass.
  • the coloring agent (E) is 5 to 70 parts by mass, more preferably 30 to 75 parts by mass of the copolymer (A), 100 to 700 parts by mass of the solvent (B), the reactive diluent (C) There 25-70 parts by weight, the photopolymerization initiator (D) 1 to 15 parts by mass, the colorant (E) is 10 to 60 parts by weight. If it is a compounding quantity of this range, it will become a photosensitive resin composition which has a suitable viscosity.
  • the blending amounts of the copolymer (A), the solvent (B), the reactive diluent (C) and the photopolymerization initiator (D) are The above numerical range is applicable.
  • the polymer composition and the photosensitive resin composition of the present invention have, in addition to the above-described components, known additives such as known coupling agents, leveling agents, and thermal polymerization inhibitors in order to impart predetermined characteristics. May be blended.
  • the blending amount of these additives is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the photosensitive resin composition of the present invention can be produced by mixing the above-mentioned components using a known mixing apparatus. Moreover, after preparing the polymer composition containing a copolymer (A) and a solvent (B) previously according to need, a reactive diluent (C), a photoinitiator (D), and a coloring agent (E) It is also possible to mix and manufacture.
  • the photosensitive resin composition obtained as described above is suitable as a resist since it has alkali developability. Curing of the photosensitive resin composition may be appropriately selected at a baking temperature of 250 ° C. or less, but since the copolymer (A) of the present invention is excellent in curability at a low temperature, it can be used for conventional materials. In comparison, the baking temperature can be lowered. When a pigment is used as the colorant (E) in the photosensitive resin composition, sufficient curability can be obtained even at a baking temperature of 160 ° C. or less.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is advantageous in terms of energy consumption because the crosslinking reaction proceeds sufficiently even if the baking temperature is lowered.
  • the baking temperature is preferably 210 ° C. or less, more preferably 180 ° C. or less, and most preferably 160 ° C. or less.
  • the lower limit of the baking temperature is not necessarily uniform depending on the kind of block isocyanato group contained in the copolymer (A), but it is required to be equal to or higher than the dissociation temperature of the block isocyanato group, usually 80 ° C.
  • the temperature is preferably 90 ° C. or more, more preferably 100 ° C. or more. If the baking temperature is too low, it will be difficult to sufficiently improve the solvent resistance of the coating.
  • the baking time can be selected as appropriate, but is usually 10 minutes to 4 hours, preferably 20 minutes to 2 hours.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is a resist used to manufacture various resists, in particular, color filters to be incorporated into organic EL displays (for black PDL), liquid crystal displays, solid-state imaging devices such as CCDs and CMOS, etc. Is preferred.
  • the photosensitive resin composition of this invention gives the cured coating film excellent in the solvent resistance, the hardening characteristic in low temperature, etc., it can also be used for various coatings, an adhesive agent, the binder for printing inks, etc.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is excellent in developability and storage stability, and can form a colored pattern excellent in solvent resistance even when the baking temperature at the time of pattern formation is lowered. It is very useful as a photosensitive material for filters.
  • the photosensitive resin composition of the present invention can also contribute to the development of the flexible display with low temperature curing, the reduction of the energy consumption in the manufacturing process, and the alleviation of the restriction of the colorant used.
  • the color filter of the present invention has a colored pattern formed using the above-mentioned photosensitive resin composition.
  • the color filter is usually composed of a substrate, RGB pixels formed thereon, a black matrix formed at the boundary of each pixel, and a protective film formed on the pixels and the black matrix. In this configuration, other than the pixel and the black matrix (coloring pattern) formed using the photosensitive resin composition described above, other configurations can be adopted.
  • a colored pattern is formed on a substrate. Specifically, black matrix and RGB pixels are sequentially formed on the substrate.
  • the material of the substrate is not particularly limited, and a glass substrate, a silicon substrate, a polycarbonate substrate, a polyester substrate, a polyamide substrate, a polyamide imide substrate, a polyimide substrate, an aluminum substrate, a printed wiring substrate, an array substrate, etc. may be used appropriately. it can.
  • the colored pattern can be formed by photolithography. Specifically, after the above-mentioned photosensitive resin composition is applied on a substrate to form a coating film, the coating film is exposed through a photomask of a predetermined pattern to photocure the exposed portion. Then, after developing the unexposed portion with an aqueous alkaline solution, baking can be performed to form a predetermined colored pattern.
  • the method for applying the photosensitive resin composition is not particularly limited, but screen printing, roll coating, curtain coating, spray coating, spin coating, etc. can be used.
  • coating of the photosensitive resin composition you may volatilize a solvent (B) by heating using heating means, such as a circulation type oven, an infrared heater, a hotplate, as needed.
  • the heating conditions are not particularly limited, and may be appropriately set according to the type of photosensitive resin composition to be used. Generally, heating may be performed at a temperature of 50 ° C. to 120 ° C. for 30 seconds to 30 minutes.
  • the formed coating film is partially exposed by irradiation with active energy rays such as ultraviolet light and excimer laser light through a negative mask.
  • active energy rays such as ultraviolet light and excimer laser light through a negative mask.
  • the energy dose to be irradiated may be appropriately selected according to the composition of the photosensitive resin composition, and for example, preferably 30 to 2000 mJ / cm 2 .
  • the light source used for exposure is not particularly limited, and a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp and the like can be used.
  • the aqueous alkaline solution used for development is not particularly limited, but aqueous solutions of sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like; aqueous solutions of amine compounds such as ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine and the like; Methyl ammonium, 3-methyl-4-amino-N, N-diethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N- ⁇ -hydroxyethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl- N- ⁇ -methanesulfonamidoethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N- ⁇ -methoxyethylaniline and p-phenylenediamines such as sulfates, hydrochlorides or p-toluenesulfonates thereof An aqueous solution of a compound of the series can be used.
  • the conditions for baking are not particularly limited, and heat treatment may be performed depending on the type of photosensitive resin composition to be used.
  • the baking temperature is 200 ° C. or less, the solvent resistance of the coloring pattern is insufficient, but in the photosensitive resin composition of the present invention, the baking is performed at a temperature of 120 ° C. or less It is also possible to form a colored pattern showing sufficient solvent resistance. Therefore, the baking temperature can be lowered, and in the case of baking at high temperature, the processing time can be shortened, which is a great advantage in manufacturing.
  • the baking temperature is usually 210 ° C. or less, preferably 160 ° C. or less, more preferably 120 ° C. or less, and the baking time is usually 10 minutes to 4 hours, preferably 20 minutes to 2 hours. To be done.
  • a desired colored pattern can be obtained by sequentially repeating application, exposure, development and baking as described above using a photosensitive resin composition for a black matrix and photosensitive resin compositions for red, green and blue pixels. It can be formed.
  • the formation method of the coloring pattern by photocuring was demonstrated above, if it uses the photosensitive resin composition which mix
  • a protective film is formed on the coloring pattern (each pixel of RGB and a black matrix).
  • the protective film is not particularly limited, and may be formed using a known one.
  • the color filter produced in this manner is excellent in sensitivity and developability, and is produced using a photosensitive resin composition capable of curing at low temperature and giving a colored pattern excellent in solvent resistance. It has an excellent colored pattern with little color change.
  • the image display element of the present invention is an image display element provided with the above-mentioned color filter, and specific examples thereof include liquid crystal display elements, organic EL display elements, solid-state imaging elements such as CCD elements and CMOS elements.
  • the image display device of the present invention may be produced according to a conventional method except using the above color filter. For example, in the case of manufacturing a liquid crystal display element, the color filter is formed on a substrate, and then an electrode, a spacer, and the like are sequentially formed. Then, an electrode or the like may be formed over another substrate, and both may be attached to each other to inject and seal a predetermined amount of liquid crystal.
  • the measuring method of an acid value and a weight average molecular weight is as follows.
  • Acid value the acid value of the copolymer (A) measured according to JIS K 6901 5.3, which is the water required to neutralize the acidic component contained in 1 g of the copolymer (A) The number of mg of potassium oxide is meant.
  • Weight average molecular weight (Mw) means standard polystyrene equivalent weight average molecular weight measured under the following conditions using gel permeation chromatography (GPC).
  • Example 1 In a flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a condenser, a thermometer and a gas inlet tube, 257.3 g of diethylene glycol methyl ethyl ether was added, and the mixture was stirred while being purged with nitrogen and heated to 78 ° C.
  • the mixture was stirred at 78 ° C. for 3 hours to carry out a copolymerization reaction to form a copolymer.
  • the polymer composition of 1 (component concentration other than solvent concentration 40 mass%) was obtained.
  • the weight average molecular weight of the copolymer in the obtained polymer composition was 7,500, and the acid value was 102.3 KOHmg / g.
  • Examples 2 to 12 and Comparative Examples 1 to 3 The copolymerization reaction was carried out under the same conditions as in Example 1 except that the raw materials listed in Table 1 were used. 2 to 15 polymer compositions (concentration of components other than solvent: 40% by mass) were obtained. The weight average molecular weight and the acid value of the copolymer in the obtained polymer composition are shown in Table 1.
  • 2- (3,5-dimethylpyrazol-1-yl) carbonylaminoethyl methacrylate is manufactured by Showa Denko KK, Karenz MOI-BP, and the dissociation rate of the blocked isocyanato group is 70% by mass.
  • malonic acid 2-[[[2-methyl-1-oxo-2-propenyl] oxy] ethyl] amino] carbonyl] -1,3 diethyl ester is manufactured by Showa Denko KK, Karenz MOI-DEM, block Dissociation rate of isocyanato group: 90% by mass, and benzoic acid 4-[[[[2-[(2-methyl-1-oxo-2-propen-1-yl] oxy] ethyl] amine] carbonyl] Oxy] methyl ester has a dissociation rate of the block isocyanato group: 40% by mass, and benzoic acid 2-[[[[[[[2-[(2-methyl-1-oxy-2-prope] -1-yl) oxy] ethyl] amine] carbonyl] oxy] methyl ester has a dissociation rate of the blocked isocyanato group: 75% by mass, and 2-propenoic acid-2-methyl-2-[[((3,5) -Dimethyl
  • This green pigment dispersion was mixed with other compounding components shown in Table 3 (that is, polymer composition, reactive diluent, photopolymerization initiator and solvent) to prepare a photosensitive resin composition.
  • the blending amounts of the respective components are as shown in Table 3.
  • the photosensitive resin composition of Examples 13-24 is prepared using each of the polymer composition of Examples 1-12 (sample No. 1-12), and the photosensitive resin composition of Comparative Examples 4-6 is prepared.
  • the product was prepared using each of the polymer compositions of Comparative Examples 1 to 3 (Samples Nos. 13 to 15). Further, the amount of the polymer composition includes the solvent contained at the end of the copolymer reaction, and the amount of the solvent contained in each sample is also added to the solvent as the compounding component.
  • the unexposed area is dissolved and developed by spraying an aqueous solution containing 0.1% by mass of sodium carbonate at a temperature of 23 ° C. and a pressure of 0.3 MPa, followed by baking at 100 ° C. for 20 minutes.
  • a predetermined pattern was formed.
  • the residue after alkali development was confirmed by observing the pattern after alkali development using an electron microscope S-3400 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. The criteria for this evaluation are as follows. ⁇ : no residue ⁇ : residue present Table 4 shows the evaluation results of alkali developability.
  • sample nos. The photosensitive resin compositions of Examples 13 to 24 using the polymer compositions of 1 to 12 were good in alkali developability and solvent resistance. Furthermore, since the storage stability of the copolymer correlates with the storage stability of the photosensitive resin composition to which it was blended, from the results of Table 5, sample No. 1 was obtained. It can be said that the photosensitive resin compositions of Examples 13 to 24 using the polymer compositions of 1 to 12 have good storage stability. On the other hand, for sample no. The photosensitive resin compositions of Comparative Examples 4 to 6 using the polymer compositions of 13 to 15 have good storage stability but do not have sufficient solvent resistance, and the photosensitive resin of Comparative Example 6 The composition was also insufficient in alkali developability.
  • the present invention it is possible to provide a photosensitive resin composition which is excellent in developability and excellent in solvent resistance and storage stability. Further, according to the present invention, a copolymer useful for the preparation of a photosensitive resin composition having the above-mentioned properties can be provided.

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Abstract

ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）と酸基を有する構成単位（ｂ）とエポキシ基を有する構成単位（ｃ）とを含有する共重合体（Ａ）、溶剤（Ｂ）、反応性希釈剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び着色剤（Ｅ）を含有するカラーフィルター用感光性樹脂組成物。

Description

共重合体及びカラーフィルター用感光性樹脂組成物
　本発明は、新規な共重合体、それを含有するカラーフィルター用感光性樹脂組成物、カラーフィルター、それを具備する画像表示素子及びカラーフィルターの製造方法に関する。
　近年、省資源や省エネルギーの観点から、各種コーティング、印刷、塗料、接着剤などの分野において、紫外線や電子線などの活性エネルギー線により硬化可能な感光性樹脂組成物が広く使用されている。また、プリント配線基板などの電子材料の分野においても、活性エネルギー線により硬化可能な感光性樹脂組成物が、ソルダーレジストやカラーフィルター用レジストなどに使用されている。さらに、硬化可能な感光性樹脂組成物に対する要求特性は、益々多様かつ高度になってきているが、中でも、生産性を考慮した短時間硬化性、適用する部材の熱的ダメージを抑える低温硬化性が要求されている。
　カラーフィルターは、一般に、ガラス基板などの透明基板と、透明基板上に形成された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の画素と、画素の境界に形成されるブラックマトリックスと、画素及びブラックマトリックス上に形成される保護膜とから構成される。このような構成を有するカラーフィルターは、通常、透明基板上にブラックマトリックス、画素及び保護膜を順次形成することによって製造される。画素及びブラックマトリックス（以下、画素及びブラックマトリックスのことを「着色パターン」という。）の形成方法としては、様々な方法が提案されている。その中で、感光性樹脂組成物をレジストとして用い、塗布、露光、現像及びベーキングを繰り返すフォトリソグラフィ工法で作製される顔料／染料分散法は、耐久性に優れ、ピンホールなどの欠陥が少ない着色パターンを与えるため、現在の主流となっている。
　一般に、フォトリソグラフィ工法に用いられる感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、反応性希釈剤、光重合開始剤、着色剤及び溶剤を含有する。顔料／染料分散法では、上記の利点を有している反面、ブラックマトリックス、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンを繰り返し形成することから、高い耐熱性が求められ、高いベーキング温度に耐え得る着色剤として、使用できる着色剤の種類が限られるなどの制限があることが、しばしば問題となる。
　特許文献１は、アルカリ可溶性樹脂、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、感放射線性重合開始剤、着色剤及び３－アミノベンゼンスルホン酸エチル等の化合物を用いることで、低温硬化が可能で保存安定性を向上させた着色組成物を開示している。
　特許文献２は、塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体と、電磁波の照射及び加熱により塩基を発生する特定の塩基発生剤を含む感光性樹脂組成物を用いることで低温硬化を可能にしている。
特開２０１３－６８８４３号公報 特開２０１４－７０１４８号公報
　近年では、電子ペーパー等のフレキシブルディスプレイが普及している。このフレキシブルディスプレイの基板としては、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック基板が検討されている。この基板はベーキング時に伸張又は収縮する性質があり、ベーキング工程の低温化が必要とされている。しかし、特許文献１で達成されるレベルでは、上記の要求を満たすには不十分である。また、特許文献２では、低温硬化性を向上させた反面、保存安定性が低く、実用化は困難である。
　本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、現像性及び保存安定性が良好であると共に、低温で硬化させても耐溶剤性に優れた着色パターンを与えるカラーフィルター用感光性樹脂組成物、及び該感光性樹脂組成物の調製に有用な共重合体を提供することを目的とする。
　また、本発明は、耐溶剤性に優れた着色パターンを有するカラーフィルター及びその製造方法並びに該カラーフィルターを具備する画像表示素子を提供することを目的とする。
　即ち、本発明は、以下の［１］～［２５］で示される。
　［１］ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）、酸基を有する構成単位（ｂ）及びエポキシ基を有する構成単位（ｃ）を含有することを特徴とする共重合体（Ａ）。
　［２］前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）が、ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレート由来の構成単位であり、前記ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートのブロックイソシアナト基の解離率が１００℃で３０分加熱した際、５～９９質量％である［１］に記載の共重合体。
　［３］前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）のブロック剤が、マロン酸ジエチル、３，５－ジメチルピラゾール、メチルエチルケトオキシム、２－ヒドロキシ安息香酸メチル、４－ヒドロキシ安息香酸メチル及び３，５－キシレノールからなる群から選択される１種以上である［１］又は［２］に記載の共重合体。
　［４］前記酸基を有する構成単位（ｂ）が、不飽和カルボン酸由来の構成単位である［１］～［３］のいずれかに記載の共重合体。
　［５］前記エポキシ基を有する構成単位（ｃ）が、エポキシ基含有（メタ）アクリレート由来の構成単位である［１］～［４］のいずれかに記載の共重合体。
　［６］前記共重合体（Ａ）が、前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）を１～６０モル％、前記酸基を有する構成単位（ｂ）を５～６５モル％及び前記エポキシ基を有する構成単位（ｃ）を５～６５モル％含有する［１］～［５］のいずれかに記載の共重合体。
　［７］前記共重合体（Ａ）における前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）と前記エポキシを有する構成単位（ｃ）とのモル比率が、１０：９０～７５：２５である［１］～［６］のいずれかに記載の共重合体。
　［８］前記共重合体（Ａ）が、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾール－１－イル）カルボニルアミノエチル、メタクリル酸２－［Ｏ－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチル、マロン酸－２－［［［２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル］オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３ジエチルエステル、安息香酸－４－［［［［２－［（２－メチル－１－オキソ－２－プロペン－１－イル）オキシ］エチル］アミン］カルボニル］オキシ］メチルエステル、安息香酸－２－［［［［２－［（２－メチル－１－オキシ－２－プロペン－１－イル）オキシ］エチル］アミン］カルボニル］オキシ］メチルエステル及び２－プロペン酸－２－メチルｌ－２－［［（３，５－ジメチルフェノキシ）カルボニル］アミン］エチルエステルからなる群から選択される少なくとも１種由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート及びメチル（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１種由来の構成単位（ｅ）とを含有する［１］～［７］のいずれかに記載の共重合体。
　［９］前記共重合体（Ａ）が、水酸基を有する構成単位（ｄ）をさらに含有する［１］～［８］のいずれかに記載の共重合体。
　［１０］前記共重合体（Ａ）が、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾール－１－イル）カルボニルアミノエチル、メタクリル酸２－［Ｏ－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチル、マロン酸－２－［［［２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル］オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３ジエチルエステル、安息香酸－４－［［［［２－［（２－メチル－１－オキソ－２－プロペン－１－イル）オキシ］エチル］アミン］カルボニル］オキシ］メチルエステル、安息香酸－２－［［［［２－［（２－メチル－１－オキシ－２－プロペン－１－イル）オキシ］エチル］アミン］カルボニル］オキシ］メチルエステル及び２－プロペン酸－２－メチルｌ－２－［［（３，５－ジメチルフェノキシ）カルボニル］アミン］エチルエステルからなる群から選択される少なくとも１種由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、２－ヒドロキシエチルメタクリレート由来の構成単位（ｄ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート及びメチル（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１種由来の構成単位（ｅ）とを含有する［９］に記載の共重合体。
　［１１］前記共重合体（Ａ）が、メタクリル酸２－［Ｏ－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチル由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｅ）とを含有する［８］に記載の共重合体。
　［１２］前記共重合体（Ａ）が、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾール－１－イル）カルボニルアミノエチル由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｅ）とを含有する［８］に記載の共重合体。
　［１３］前記共重合体（Ａ）が、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾール－１－イル）カルボニルアミノエチル由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、２－ヒドロキシエチルメタクリレート由来の構成単位（ｄ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｅ）とを含有する［１０］に記載の共重合体。
　［１４］前記共重合体（Ａ）が、マロン酸－２－［［［２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル］オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３ジエチルエステル由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｅ）とを含有する［８］に記載の共重合体。
　［１５］前記共重合体（Ａ）が、水酸基を有する構成単位（ｄ）及び前記構成単位（ａ）～（ｄ）以外の構成単位（ｅ）をさらに含有し、
　前記共重合体（Ａ）が、前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）を１～４０モル％、前記酸基を有する構成単位（ｂ）を１～６０モル％、前記エポキシ基を有する構成単位（ｃ）を１～７０モル％、前記水酸基を有する構成単位（ｄ）を０モル％超～５０モル％及び前記構成単位（ｅ）を０モル％超～８０モル％含有する［１］～［５］のいずれかに記載の共重合体。
　［１６］前記共重合体（Ａ）が、水酸基を有する構成単位（ｄ）及び前記構成単位（ａ）～（ｄ）以外の構成単位（ｅ）をさらに含有し、
　前記共重合体（Ａ）が、前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）を３～２０モル％、前記酸基を有する構成単位（ｂ）を２０～５０モル％、前記エポキシ基を有する構成単位（ｃ）を２０～４０モル％、前記水酸基を有する構成単位（ｄ）を０モル％超～２０モル％及び前記構成単位（ｅ）を２０～４０モル％含有する［１］～［５］のいずれかに記載の共重合体。
　［１７］［１］～［１６］のいずれかに記載の共重合体（Ａ）と、溶剤（Ｂ）及び反応性希釈剤（Ｃ）の少なくとも一方とを含有することを特徴とする重合体組成物。
　［１８］［１］～［１６］のいずれかに記載の共重合体（Ａ）、溶剤（Ｂ）、反応性希釈剤（Ｃ）及び光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
　［１９］［１］～［１６］のいずれかに記載の共重合体（Ａ）、溶剤（Ｂ）、反応性希釈剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び着色剤（Ｅ）を含有することを特徴とするカラーフィルター用感光性樹脂組成物。
　［２０］前記共重合体（Ａ）と前記反応性希釈剤（Ｃ）との合計量１００質量部に対して、前記共重合体（Ａ）が１０～１００質量部、前記溶剤（Ｂ）が３０～１，０００質量部、前記反応性希釈剤（Ｃ）が０質量部超～９０質量部、前記光重合開始剤（Ｄ）が０．１～３０質量部、前記着色剤（Ｅ）が３～８０質量部含有される［１９］に記載のカラーフィルター用感光性樹脂組成物。
　［２１］前記溶剤（Ｂ）が、水酸基含有有機溶剤を含む［１９］又は［２０］に記載のカラーフィルター用感光性樹脂組成物。
　［２２］前記着色剤（Ｅ）が、顔料を含む［１９］～［２１］のいずれかに記載のカラーフィルター用感光性樹脂組成物。
　［２３］［１９］～［２２］のいずれかに記載のカラーフィルター用感光性樹脂組成物の硬化物からなる着色パターンを有することを特徴とするカラーフィルター。
　［２４］［２３］に記載のカラーフィルターを具備することを特徴とする画像表示素子。
　［２５］［１９］～［２２］のいずれかに記載のカラーフィルター用感光性樹脂組成物を基板に塗布し、露光し、アルカリ現像した後、１６０℃以下の温度でベーキングして着色パターンを形成する工程を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
　本発明によれば、現像性及び保存安定性が良好であると共に、低温で硬化させても耐溶剤性に優れた着色パターンを与えるカラーフィルター用感光性樹脂組成物、及び該感光性樹脂組成物の調製に有用な共重合体を提供することができる。
　また、本発明によれば、耐溶剤性に優れた着色パターンを有するカラーフィルター及びその製造方法並びに該カラーフィルターを具備する画像表示素子を提供することができる。
＜共重合体（Ａ）＞
　本発明の共重合体（Ａ）は、ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）、酸基を有する構成単位（ｂ）及びエポキシ基を有する構成単位（ｃ）を含有することを特徴とする。
＜ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）＞
　共重合体（Ａ）が含有するブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）は、ブロックイソシアナト基含有モノマー由来の構成単位である。該モノマーとしては、エチレン性不飽和結合とブロックイソシアナト基とを有するモノマー等、例えば、分子中にビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等を有するイソシアネート化合物におけるイソシアナト基を、ブロック剤でブロック化した化合物が挙げられる。イソシアネート化合物とブロック剤との反応は、溶剤の存在の有無に関わらず行うことができる。溶剤を用いる場合、イソシアナト基に対して不活性な溶剤を用いる必要がある。ブロック化反応に際して、錫、亜鉛、鉛等の有機金属塩、３級アミン等を触媒として用いてもよい。反応は、一般に－２０～１５０℃で行うことができるが、０～１００℃で行うことが好ましい。上記したイソシアネート化合物の例としては、下記式（１）で表される化合物を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　上記式（１）中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は、－ＣＯ－、－ＣＯＯＲ3－（ここで、Ｒ3は炭素原子数１～６のアルキレン基である）又は－ＣＯＯ－Ｒ4Ｏ－ＣＯＮＨ－Ｒ5－（ここで、Ｒ4は炭素原子数２～６のアルキレン基であり、Ｒ5は置換基を有していてもよい炭素原子数２～１２のアルキレン基又は炭素原子数６～１２のアリーレン基である）を示す。Ｒ2は、好ましくは－ＣＯＯＲ3－であり、ここで、Ｒ3は、好ましくは炭素原子数１～４のアルキレン基である。
　上記式（１）で表されるイソシアネート化合物としては、具体的には、２－イソシアナトエチル（メタ）アクリレート、２－イソシアナトプロピル（メタ）アクリレート、３－イソシアナトプロピル（メタ）アクリレート、２－イソシアナト－１－メチルエチル（メタ）アクリレート、２－イソシアナト－１，１－ジメチルエチル（メタ）アクリレート、４－イソシアナトシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メタクリロイルイソシアネート等が挙げられる。また、２－ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとジイソシアネート化合物との等モル（１モル：１モル）反応生成物も使用できる。上記した２－ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのアルキル基としては、エチル基又はｎ－プロピル基が好ましく、エチル基がより好ましい。上記したジイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４－（又は２，６－）トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、３，５，５－トリメチル－３－イソシアナトメチルシクロヘキシルイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ｍ－（又はｐ－）キシレンジイソシアネート、１，３－（又は１，４－）ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、リジンジイソシアネート等が挙げられる。
　これらのイソシアネート化合物の中でも、２－イソシアナトエチル（メタ）アクリレート、２－イソシアナトプロピル（メタ）アクリレート、３－イソシアナトプロピル（メタ）アクリレート、２－イソシアナト－１－メチルエチル（メタ）アクリレート、２－イソシアナト－１，１－ジメチルエチル（メタ）アクリレート、４－イソシアナトシクロヘキシル（メタ）アクリレート及びメタクリロイルイソシアネートが好ましく、２－イソシアナトエチル（メタ）アクリレート及び２－イソシアナトプロピル（メタ）アクリレートがより好ましい。
　なお、本明細書において（メタ）アクリレートと表記したものは、アクリレート及びメタクリレートのいずれでもよいことを意味しており、また、（メタ）アクリル酸の表記はアクリル酸及びメタクリル酸のいずれでもよいことを意味している。
　イソシアネート化合物におけるイソシアナト基をブロック化するブロック剤としては、例えば、ε－カプロラクタム、δ－バレロラクタム、γ－ブチロラクタム、β－プロピオラクタム等のラクタム系；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ベンジルアルコール、フェニルセロソルブ、フルフリルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール系；フェノール、クレゾール、２，６－キシレノール、３，５－キシレノール、エチルフェノール、ｏ－イソプロピルフェノール、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール等のブチルフェノール、ｐ－ｔｅｒｔ－オクチルフェノール、ノニルフェノール、ジノニルフェノール、スチレン化フェノール、２－ヒドロキシ安息香酸メチル、４－ヒドロキシ安息香酸メチル、チモール、ｐ－ナフトール、ｐ－ニトロフェノール、ｐ－クロロフェノール等のフェノール系；マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等の活性メチレン系；ブチルメルカプタン、チオフェノール、ｔｅｒｔ－ドデシルメルカプタン等のメルカプタン系；ジフェニルアミン、フェニルナフチルアミン、アニリン、カルバゾール等のアミン系；アセトアニリド、アセトアニシジド、酢酸アミド、ベンズアミド等の酸アミド系；コハク酸イミド、マレイン酸イミド等の酸イミド系；イミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチルイミダゾール等のイミダゾール系；ピラゾール、３，５－ジメチルピラゾール等のピラゾール系；尿素、チオ尿素、エチレン尿素等の尿素系；Ｎ－フェニルカルバミン酸フェニル、２－オキサゾリドン等のカルバミド酸塩系：エチレンイミン、ポリエチレンイミン等のイミン系；ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、メチルイソブチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等のオキシム系；重亜硫酸ソーダ、重亜硫酸カリウム等の重亜硫酸塩系などが挙げられる。これらのブロック剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　ブロック剤は反応性の高いイソシアナト基を保護しているが、加熱によりブロックイソシアナト基が解離してイソシアナト基が再生される。本発明では、そのイソシアナト基が共重合体（Ａ）や反応性希釈剤（Ｃ）に含まれる反応性の官能基、すなわち、酸基や所望により含まれるヒドロキシ基、アミノ基などと反応して、架橋密度の高い硬化物を形成する。
　後述のカラーフィルター用感光性樹脂組成物の低温硬化性や保存安定性の観点から、ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）を与えるモノマーとしては、ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。１００℃で３０分加熱処理した場合の該ブロックイソシアナト基の解離率が好ましくは５～９９質量％、より好ましくは８～９７質量％、最も好ましくは１０～９５質量％となるブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートを用いることがより好ましい。なお、ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートのブロックイソシアナト基の解離率は、該ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートの濃度が２０質量％のｎ－オクタノール溶液を調製し、その溶液に１質量％相当のジブチルスズラウレート及び３質量％相当のフェノチアジン（重合防止剤）を加えた後、１００℃で３０分加熱した後の該ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートの質量減少割合をＨＰＬＣ分析により測定した値とする。解離率が上記範囲のブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートを用いると、合成の際の共重合体の安定性を十分に確保することができ、硬化塗膜作製の際のベーキング温度を十分に下げることができ硬化塗膜の耐溶剤性も十分に確保できる。このような解離率を有するブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートのブロック剤としては、マロン酸ジエチル、３，５－ジメチルピラゾール、メチルエチルケトオキシム、２－ヒドロキシ安息香酸メチル、４－ヒドロキシ安息香酸メチル、３，５－キシレノール、γ－ブチロラクタム、１－メトキシ－２－プロパノール、２，６－ジメチルフェノール及びジイソプロピルアミンが挙げられる。これらのブロック剤の中でも、低温硬化性の観点から、マロン酸ジエチル、３，５－ジメチルピラゾール、メチルエチルケトオキシム、２－ヒドロキシ安息香酸メチル、４－ヒドロキシ安息香酸メチル及び３，５－キシレノールがより好ましい。
　また、ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートのブロックイソシアナト基の解離温度が８０℃以上であるブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートを用いることも好ましい。解離温度が８０℃以上であるブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートを用いると、合成の際の共重合体の安定性を十分に確保することができ、後述する変性反応の際に意図しない架橋反応を低減することができる。一方、ブロックイソシアナト基の解離温度が１６０℃以下であると、ベーキング温度を十分に下げることができ硬化塗膜の耐溶剤性も十分に確保できる。なお、ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートのブロックイソシアナト基の解離温度は、該ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートの濃度が２０質量％のｎ－オクタノール溶液を調製し、その溶液に１質量％相当のジブチルスズラウレート及び３質量％相当のフェノチアジン（重合防止剤）を加えた後、所定の温度で加熱して、３０分後の該ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートの質量減少割合をＨＰＬＣ分析により測定し、その質量減少割合が８０質量％以上となる温度をブロックイソシアナト基の解離温度とする。
　上記したブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートの例としては、下記式（２）で示されるカレンズ（登録商標）ＭＯＩ－ＤＥＭ（メタクロイルオキシエチルイソシアネートとマロン酸ジエチルとの反応生成物、昭和電工株式会社製、ブロックイソシアナト基の解離温度：９０℃、解離率：９０質量％）、下記式（３）で示されるカレンズＭＯＩ－ＢＰ（メタクロイルオキシエチルイソシアネートと３，５－ジメチルピラゾールとの反応生成物、昭和電工株式会社製、ブロックイソシアナト基の解離温度：１１０℃、解離率：７０質量％）、下記式（４）で示されるカレンズＭＯＩ－ＢＭ（メタクロイルオキシエチルイソシアネートとメチルエチルケトオキシムとの反応生成物、昭和電工株式会社製、ブロックイソシアナト基の解離温度：１３０℃、解離率：１８質量％）のようなメタクリレート及びこれらに対応するアクリレートなどが挙げられる。これらのブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　共重合体（Ａ）が含有するブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）の割合は、特に制限はないが、好ましくは１～４０モル％、より好ましくは２～３０モル％、最も好ましくは３～２５モル％である。ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）の割合が１～４０モル％であると、硬化塗膜の耐溶剤性が改善され、共重合体（Ａ）の保存安定性も保持される。
＜酸基を有する構成単位（ｂ）＞
　共重合体（Ａ）が含有する酸基を有する構成単位（ｂ）は、酸基含有モノマー由来の構成単位である（ただし、前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）に該当するものは除く）。酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、ホスホ基等が挙げられ、これらの中でも、入手しやすさの面からカルボキシル基が好ましい。酸基を有する構成単位（ｂ）を与えるモノマーとしては、重合性不飽和結合と酸基とを有するモノマー、例えば、不飽和カルボン酸又はその無水物、不飽和スルホン酸、不飽和ホスホン酸等が挙げられる。好ましいモノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸、α－ブロモ（メタ）アクリル酸、β－フリル（メタ）アクリル酸、クロトン酸、プロピオール酸、ケイ皮酸、α－シアノケイ皮酸、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸又はその無水物；２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ－ブチルアクリルアミドスルホン酸、ｐ－スチレンスルホン酸などの不飽和スルホン酸；ビニルホスホン酸などの不飽和ホスホン酸；などが挙げられる。これらのモノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、アルカリ現像性に優れること及び入手の容易性の観点から、不飽和カルボン酸が好ましく、（メタ）アクリル酸がより好ましい。
　本発明では、酸基を有する構成単位（ｂ）が共重合体（Ａ）に含まれることにより、共重合体（Ａ）を感光性材料として使用する際のアルカリ現像性が大きく改善される。
　共重合体（Ａ）が含有する酸基を有する構成単位（ｂ）の割合は、特に制限はないが、好ましくは１～６０モル％、より好ましくは１０～５０モル％、最も好ましくは１５～４０モル％である。酸基を有する構成単位（ｂ）の割合が１～６０モル％であると、適当なアルカリ現像の速度となり、精緻なパターンの形成が可能となる。
＜エポキシ基を有する構成単位（ｃ）＞
　共重合体（Ａ）が含有するエポキシ基を有する構成単位（ｃ）は、エポキシ基含有モノマー由来の構成単位である（ただし、前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）、前記酸基を有する構成単位（ｂ）に該当するものは除く）。エポキシ基を有する構成単位（ｃ）を与えるモノマーとしては、重合性不飽和結合とエポキシ基とを有するモノマー、例えば、オキシラニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－エチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－オキシラニルエチル（メタ）アクリレート、２－グリシジルオキシエチル（メタ）アクリレート、３－グリシジルオキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジルオキシフェニル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を含む（メタ）アクリル酸エステル誘導体；３，４－エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、３－（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルオキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの３，４－エポキシシクロヘキサン環等のエポキシ基含有脂環式炭素環を含む（メタ）アクリル酸エステル誘導体；エポキシ基を含むビニルエーテル化合物；エポキシ基を含むアリルエーテル化合物等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、重合性及び入手の容易性の観点から、オキシラニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－エチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－オキシラニルエチル（メタ）アクリレート、２－グリシジルオキシエチル（メタ）アクリレート、３－グリシジルオキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジルオキシフェニル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有（メタ）アクリレートが好ましく、グリシジル（メタ）アクリレートがより好ましい。
　本発明では、エポキシ基を有する構成単位（ｃ）が共重合体（Ａ）に含まれることにより、共重合体（Ａ）を感光性材料として使用する際の耐溶剤性が大きく改善される。
　共重合体（Ａ）が含有するエポキシ基を有する構成単位（ｃ）の割合は、特に制限はないが、好ましくは１～６０モル％、より好ましくは５～５０モル％、最も好ましくは１０～４０モル％である。エポキシ基を有する構成単位（ｃ）の割合が１～６０モル％であると、硬化塗膜の耐溶剤性と共重合体（Ａ）の保存安定性が両立される。
　共重合体（Ａ）において、ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）とエポキシを有する構成単位（ｃ）とのモル比率は、例えば、１：９９～９９：１であることができ、硬化塗膜の耐溶剤性及び共重合体（Ａ）の保存安定性の観点から、５：９５～８５：１５であることが好ましく、１０：９０～７５：２５であることがより好ましい。
＜水酸基を有する構成単位（ｄ）＞
　共重合体（Ａ）は、水酸基を有する構成単位（ｄ）をさらに含有してもよい。共重合体（Ａ）が含有する水酸基を有する構成単位（ｄ）は、水酸基含有モノマー由来の構成単位である（ただし、前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）、前記酸基を有する構成単位（ｂ）、前記エポキシ基を有する構成単位（ｃ）に該当するものは除く）。水酸基を有する構成単位（ｄ）を与えるモノマーとしては、重合性不飽和結合と水酸基とを有するモノマー、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレートなどが挙げられる。これらのモノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、重合性の観点から、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート等の水酸基を含む（メタ）アクリル酸エステル誘導体が好ましく、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートがより好ましい。
　本発明では、水酸基を有する構成単位（ｄ）は必須ではないが、水酸基を有する構成単位（ｄ）が共重合体（Ａ）に含まれることにより、共重合体（Ａ）を感光性材料として使用する際の耐溶剤性が大きく改善される。
　共重合体（Ａ）が含有する酸基を有する構成単位（ｄ）の割合は、特に制限はないが、好ましくは０モル％超～５０モル％、より好ましくは０モル％超～４０モル％、最も好ましくは０モル％超～３０モル％である。水酸基を有する構成単位（ｄ）の割合が０モル％超～５０モル％であると、硬化塗膜の耐溶剤性と共重合体（Ａ）の保存安定性が両立される。
＜その他構成単位（ｅ）＞
　本発明においては、共重合体（Ａ）が含有する構成単位として、ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）、酸基を有する構成単位（ｂ）、エポキシ基を有する構成単位（ｃ）及び水酸基を有する構成単位（ｄ）と共に、これらと共重合可能なその他の構成単位（ｅ）が含有されてもよい（ただし、前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）、前記酸基を有する構成単位（ｂ）、前記エポキシ基を有する構成単位（ｃ）、水酸基を有する構成単位（ｄ）に該当するものは除く）。その他の構成単位（ｅ）を与えるモノマーの具体例としては、スチレン、α－メチルスチレン、ｏ－ビニルトルエン、ｍ－ビニルトルエン、ｐ－ビニルトルエン、ｏ－クロロスチレン、ｍ－クロロスチレン、ｐ－クロロスチレン、ｏ－メトキシスチレン、ｍ－メトキシスチレン、ｐ－メトキシスチレン、ｐ－ニトロスチレン、ｐ－シアノスチレン、ｐ－アセチルアミノスチレンなどの芳香族ビニル化合物；ノルボルネン（ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン）、５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ－３－エン、８－メチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ－３－エン、８－エチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ－３－エン、ジシクロペンタジエン、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカ－８－エン、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカ－３－エン、トリシクロ［４．４．０．１2,5］ウンデカ－３－エン、トリシクロ［６．２．１．０1,8］ウンデカ－９－エン、トリシクロ［６．２．１．０1,8］ウンデカ－４－エン、テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10．０1,6］ドデカ－３－エン、８－メチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10．０1,6］ドデカ－３－エン、８－エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,12］ドデカ－３－エン、８－エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10．０1,6］ドデカ－３－エン、ペンタシクロ［６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13］ペンタデカ－４－エン、ペンタシクロ［７．４．０．１2,5．１9,12．０8,13］ペンタデカ－３－エンなどのノルボルネン構造を有する環状オレフィン；ブタジエン、イソプレン、クロロプレンなどのジエン；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソ－プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリルレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、イソ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリルレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ネオペンチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、ロジン（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、５－メチルノルボルニル（メタ）アクリレート、５－エチルノルボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ－トイソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、１，１，１－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロ－ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロ－イソプロピル（メタ）アクリレート、３－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）プロピル（メタ）アクリレート、トリフェニルメチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、クミル（メタ）アクリレート、４－フェノキシフェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ビフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ナフタレン（メタ）アクリレート、アントラセン（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸アミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ－ジメチルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ－ジエチルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ－ジプロピルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ－ジ－イソプロピルアミド、（メタ）アクリル酸アントラセニルアミドなどの（メタ）アクリル酸アミド；（メタ）アクリル酸アニリド、（メタ）アクリロニトリル、アクロレイン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、Ｎ－ビニルピロリドン、ビニルピリジン、酢酸ビニル、ビニルトルエンなどのビニル化合物；シトラコン酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの不飽和ジカルボン酸ジエステル；Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－ラウリルマレイミド、Ｎ－（４－ヒドロキシフェニル）マレイミドなどのモノマレイミド；などが挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸エステルが好ましく、メチル（メタ）アクリレート及びジシクロペンタニル（メタ）アクリレートが特に好ましい。これらのモノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　共重合体（Ａ）が含有するその他の構成単位（ｅ）の割合は、特に制限はないが、好ましくは０モル％超～８０モル％、より好ましくは５～７０モル％、最も好ましくは１０～６０モル％である。本発明では、その他の構成単位（ｅ）は必須ではないが、その他の構成単位（ｅ）が共重合体（Ａ）に含まれることにより、耐溶剤性、塗膜の特性を適宜向上させることができる。
＜共重合体（Ａ）の製造方法＞
　共重合体（Ａ）の製造に際して使用されるブロックイソシアナト基含有モノマー（ａ０）、酸基含有モノマー（ｂ０）及びエポキシ基含有モノマー（ｃ０）の割合は、特に制限はないが、好ましくは、（ａ０）１～６０モル％、（ｂ０）５～６５モル％及び（ｃ０）５～６５モル％、より好ましくは、（ａ０）５～５０モル％、（ｂ０）１５～５５モル％及び（ｃ０）１５～５５モル％、最も好ましくは、（ａ０）１０～４０モル％、（ｂ０）２５～４５モル％及び（ｃ０）２５～４５モル％である。共重合体（Ａ）が水酸基を有する構成単位（ｄ）及びその他の構成単位（ｅ）をさらに含有する場合、共重合体（Ａ）の製造に際して使用されるブロックイソシアナト基含有モノマー（ａ０）、酸基含有モノマー（ｂ０）、エポキシ基含有モノマー（ｃ０）、水酸基含有モノマー（ｄ０）及びその他のモノマー（ｅ０）の割合は、好ましくは、（ａ０）１～４０モル％、（ｂ０）１～６０モル％、（ｃ０）１～７０モル％、（ｄ０）０モル％超～５０モル％及び（ｅ０）０モル％超～８０モル％、より好ましくは、（ａ０）２～３０モル％、（ｂ０）１０～５５モル％、（ｃ０）１０～６０モル％、（ｄ０）０モル％超～３０モル％及び（ｅ０）５～６０モル％、最も好ましくは、（ａ０）３～２０モル％、（ｂ０）２０～５０モル％、（ｃ０）２０～４０モル％、（ｄ０）０モル％超～２０モル％及び（ｅ０）２０～４０モル％である。
　ブロックイソシアナト基含有モノマー（ａ０）、酸基含有モノマー（ｂ０）、エポキシ基含有モノマー（ｃ０）、水酸基含有モノマー（ｄ０）及びその他のモノマー（ｅ０）の共重合反応は、当該技術分野において公知のラジカル重合方法に従って重合溶剤の存在下又は不存在下で行うことができる。例えば、これらのモノマーを所望により溶剤に溶解した後、その溶液に重合開始剤を添加し、５０～１００℃で１～２０時間にわたり重合反応を行えばよい。この際、ブロックイソシアナト基含有モノマー（ａ０）のブロックイソシアナト基が解離する温度で重合反応を行うと、ブロックイソシアナト基が解離して生ずるイソシアナト基が酸基と反応してゲルが生ずるので、ブロックイソシアナト基の解離温度を下回る温度、好ましくは、ブロックイソシアナト基の解離温度を２０～５０℃程度下回る温度で重合を行うことが好ましい。
　この共重合反応に用いることが可能な溶剤としては、反応に不活性であれば特に限定されないが、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等のケトン類；２－ヒドロキシプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチル酪酸メチル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸ｉ－プロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸ｉ－ブチル、酢酸ｎ－アミル、酢酸ｉ－アミル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ－プロピル、酪酸ｉ－プロピル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ－プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソ酪酸エチル等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のカルボン酸アミド類；ジエチレングリコール等を挙げることができる。これらの溶剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤が好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル及びエチレングリコールモノメチルエーテルがより好ましい。
　共重合反応に用いる溶剤の量は、特に限定されないが、モノマーの仕込み量の合計を１００質量部とした場合に、一般に３０～１，０００質量部、好ましくは５０～８００質量部である。特に、溶剤の量を１，０００質量部以下とすることで、連鎖移動作用による共重合体（Ａ）の分子量の低下を抑制し、且つ共重合体（Ａ）の粘度を適切な範囲に制御することができる。また、溶剤の量を３０質量部以上とすることで、異常な重合反応を防止し、重合反応を安定して行うことができると共に、共重合体（Ａ）の着色やゲル化を防止することもできる。
　また、この共重合反応に用いることが可能な重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、過酸化ベンゾイル、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエートなどが挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。重合開始剤の使用量は、モノマーの全仕込み量を１００質量部とした場合に、一般に０．５～２０質量部、好ましくは１．０～１０質量部である。
　共重合体（Ａ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、特に制限されないが、上記した製造方法により、好ましくは１，０００～５０，０００、より好ましくは３，０００～４０，０００の重量平均分子量を有する共重合体（Ａ）を得ることができる。共重合体（Ａ）の重量平均分子量が１，０００以上であると、感光性樹脂組成物として用いる際のアルカリ現像後に着色パターンの欠けが発生し難くなる。一方、共重合体（Ａ）の重量平均分子量が５０，０００以下であると、現像時間が適切になり、実用性が確保される。
　また、共重合体（Ａ）の酸価（ＪＩＳ　Ｋ６９０１　５．３）は、適宜選択できるが、感光性樹脂組成物に配合する場合には、好ましくは２０～３００ＫＯＨｍｇ／ｇ、より好ましくは３０～２００ＫＯＨｍｇ／ｇの範囲である。共重合体（Ａ）の酸価が２０ＫＯＨｍｇ／ｇ以上であると、感光性樹脂組成物として用いる際のアルカリ現像性が良好となる。一方、共重合体（Ａ）の酸価が３００ＫＯＨｍｇ／ｇ以下であると、アルカリ現像液に対して露光部分（光硬化部分）が溶解し難いため、パターン形状が良好となる。
　さらに、共重合体（Ａ）のエポキシ当量は、特に制限されないが、好ましくは２００～２，０００ｇ／ｍｏｌ、より好ましくは３００～１５００ｇ／ｍｏｌ、最も好ましくは４８０～９００ｇ／ｍｏｌの範囲である。共重合体（Ａ）のエポキシ当量が２００ｇ／ｍｏｌ以上であると、安定性が良好となる。一方、エポキシ当量が２，０００ｇ／ｍｏｌ以下であれば、耐溶剤性が十分に確保される。なお、エポキシ当量とは、重合体のエポキシ基１モル当たりの重合体の質量であり、重合体の質量を重合体のエポキシ基量で除することにより求めることが可能である（ｇ／ｍｏｌ）。本発明において、エポキシ当量は、エポキシ基を導入するために用いられる原料の仕込み量から計算した理論値である。
　本発明の共重合体（Ａ）は、分子中にブロックイソシアナト基を含んでいる。ブロックイソシアナト基の含有量は、適宜選択すればよいが、通常、ブロックイソシアナト基当量が４００～６，０００、好ましくは１，０００～５，０００となるような範囲で選択される。ブロックイソシアナト基当量は、重合体に含まれるブロックイソシアナト基１モル当たりの重合体の質量であり、重合体の質量を重合体に含まれるブロックイソシアナト基のモル数で除することにより求めることが可能である（ｇ／ｍｏｌ）。本発明において、ブロックイソシアナト基当量は、ブロックイソシアナト基含有モノマーの仕込み量から計算した理論値である。
＜重合体組成物＞
　本発明においては、上記した共重合体（Ａ）に加えて、溶剤（Ｂ）及び反応性希釈剤（Ｃ）の少なくとも一方を含む重合体組成物が提供される。溶剤（Ｂ）は、共重合体（Ａ）と反応しない不活性な溶剤であれば特に限定されず、共重合体（Ａ）を製造する際に用いた溶剤と同じ範疇のものを用いることができる。好ましい溶剤（Ｂ）は、異常な重合を防止し、重合反応を安定して行うことができるという観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール等の水酸基含有有機溶剤である。
　本発明の重合体組成物は、重合系から単離した共重合体（Ａ）に所望の溶剤（Ｂ）を適宜混合して調製することもできるが、必ずしも共重合体（Ａ）を重合系から単離する必要はなく、共重合反応終了時に含まれている溶剤をそのまま用いることができ、その際に必要に応じて所望の溶剤をさらに追加することもできる。また、重合体組成物を調製する際に用いられるその他の成分に含まれている溶剤を、溶剤（Ｂ）の成分として用いることもできる。
　反応性希釈剤（Ｃ）は、分子内に重合性官能基として少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物であり、中でも重合性官能基を複数有する化合物が好ましい。このような反応性希釈剤（Ｃ）を共重合体（Ａ）と併用することにより、粘度を調整したり、形成される硬化物の強度や、基材に対する密着性を向上させることができる。
　反応性希釈剤（Ｃ）として用いられる単官能モノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルへキシル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－フェノキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリレート類；スチレン、α－メチルスチレン、α－クロロメチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル化合物類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸エステル類などが挙げられる。また、これらのモノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　反応性希釈剤（Ｃ）として用いられる多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－へキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネート等と２－ビドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのトリ（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリレート類；ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルベンゼンホスホネートなどの芳香族ビニル化合物類；アジピン酸ジビニルなどのジカルボン酸エステル類；トリアリルシアヌレート、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ－メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物などが挙げられる。これらのモノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　重合体組成物における共重合体（Ａ）、溶剤（Ｂ）及び反応性希釈剤（Ｃ）の配合量は、使用目的に応じて適宜調整すればよい。重合体組成物が、共重合体（Ａ）と溶剤（Ｂ）と反応性希釈剤（Ｃ）とを含む場合、通常は、共重合体（Ａ）と反応性希釈剤（Ｃ）との合計量１００質量部に対して、共重合体（Ａ）が１０～９０質量部、溶剤（Ｂ）が３０～１，０００質量部、反応性希釈剤（Ｃ）が１０～９０質量部であり、好ましくは、共重合体（Ａ）が２０～８０質量部、溶剤（Ｂ）が５０～８００質量部、反応性希釈剤（Ｃ）が２０～８０質量部であり、より好ましくは、共重合体（Ａ）が３０～７５質量部、溶剤（Ｂ）が１００～７００質量部、反応性希釈剤（Ｃ）が２５～７０質量部である。この範囲の配合量であれば、適切な粘度を有する重合体組成物となり、後述するカラーフィルター用感光性樹脂組成物を調製するために用いることができる他、各種コーティング、接着剤、印刷インキ用バインダーなどに使用することも可能である。
＜感光性樹脂組成物＞
　本発明においては、共重合体（Ａ）、溶剤（Ｂ）、反応性希釈剤（Ｃ）及び光重合開始剤（Ｄ）を含有する感光性樹脂組成物が提供される。溶剤（Ｂ）及び反応性希釈剤（Ｃ）としては、上記したものを用いることができる。
　光重合開始剤（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテルなどのベンゾイン類；アセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１，１－ジクロロアセトフェノン、４－（１－ｔ－ブチルジオキシ－１－メチルエチル）アセトフェノン、２－メチル－１－[４－（メチルチオ）フェニル]－２－モルホリノ－プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタノン－１などのアセトフェノン類；２－メチルアントラキノン、２－アミルアントラキノン、２－ｔ－ブチルアントラキノン、１－クロロアントラキノンなどのアントラキノン類；キサントン、チオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、２－クロロチオキサントンなどのチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類；ベンゾフェノン、４－（１－ｔ－ブチルジオキシ－１－メチルエチル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラキス（ｔ－ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；アシルホスフィンオキサイド類；などが挙げられる。これらの光重合開始剤（Ｄ）は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
＜カラーフィルター用感光性樹脂組成物＞
　本発明においては、共重合体（Ａ）、溶剤（Ｂ）、反応性希釈剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び着色剤（Ｅ）を含有するカラーフィルター用感光性樹脂組成物が提供される。溶剤（Ｂ）、反応性希釈剤（Ｃ）及び光重合開始剤（Ｄ）としては、上記したものを用いることができる。
　着色剤（Ｅ）は、溶剤（Ｂ）に溶解又は分散するものであれば特に限定されず、例えば、染料や顔料などが挙げられる。染料としては、溶剤（Ｂ）やアルカリ現像液に対する溶解性、感光性樹脂組成物中の他の成分との相互作用、耐熱性などの観点から、カルボン酸やスルホン酸などの酸性基を有する酸性染料、酸性染料の窒素化合物との塩、酸性染料のスルホンアミド体などを用いることが好ましい。
　このような染料の例としては、ａｃｉｄ ａｌｉｚａｒｉｎ ｖｉｏｌｅｔ Ｎ；ａｃｉｄ ｂｌａｃｋ１、２、２４、４８；ａｃｉｄ ｂｌｕｅ１、７、９、２５、２９、４０、４５、６２、７０、７４、８０、８３、９０、９２、１１２、１１３、１２０、１２９、１４７；ａｃｉｄ ｃｈｒｏｍｅ ｖｉｏｌｅｔ Ｋ；ａｃｉｄ Ｆｕｃｈｓｉｎ；ａｃｉｄ ｇｒｅｅｎ１、３、５、２５、２７、５０；ａｃｉｄ ｏｒａｎｇｅ６、７、８、１０、１２、５０、５１、５２、５６、６３、７４、９５；ａｃｉｄ ｒｅｄ１、４、８、１４、１７、１８、２６、２７、２９、３１、３４、３５、３７、４２、４４、５０、５１、５２、５７、６９、７３、８０、８７、８８、９１、９２、９４、９７、１０３、１１１、１１４、１２９、１３３、１３４、１３８、１４３、１４５、１５０、１５１、１５８、１７６、１８３、１９８、２１１、２１５、２１６、２１７、２４９、２５２、２５７、２６０、２６６、２７４；ａｃｉｄ ｖｉｏｌｅｔ ６Ｂ、７、９、１７、１９；ａｃｉｄ ｙｅｌｌｏｗ１、３、９、１１、１７、２３、２５、２９、３４、３６、４２、５４、７２、７３、７６、７９、９８、９９、１１１、１１２、１１４、１１６; ｆｏｏｄ ｙｅｌｌｏｗ３及びこれらの誘導体などが挙げられる。これらの中でも、アゾ系、キサンテン系、アンスラキノン系もしくはフタロシアニン系の酸性染料が好ましい。これらの染料は、目的とする画素の色に応じて、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、３、１２、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２４、３１、５３、８３、８６、９３、９４、１０９、１１０、１１７、１２５、１２８、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５３、１５４、１６６、１７３、１９４、２１４などの黄色顔料；Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、３１、３６、３８、４０、４２、４３、５１、５５、５９、６１、６４、６５、７１、７３などの橙色顔料；Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、９７、１０５、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７６、１７７、１８０、１９２、２０９、２１５、２１６、２２４、２４２、２５４、２５５、２６４、２６５などの赤色顔料；Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：３、１５：４、１５：６、６０などの青色顔料；Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１９、２３、２９、３２、３６、３８などのバイオレット色顔料；Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、５８、５９などの緑色顔料；Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、２５などの茶色顔料；Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、７、カーボンブラック、チタンブラック、酸化鉄などの黒色顔料などが挙げられる。
　これらの着色剤（Ｅ）は、目的とする画素の色に応じて、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、目的とする画素の色に応じて、上記の染料及び顔料を組み合わせて用いることもできる。
　着色剤（Ｅ）として顔料を用いる場合、顔料の分散性を向上させる観点から、公知の分散剤を感光性樹脂組成物に配合してもよい。分散剤としては、経時の分散安定性に優れる高分子分散剤を用いることが好ましい。高分子分散剤の例としては、ウレタン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリオキシエチレングリコールジエステル系分散剤、ソルビタン脂肪族エステル系分散剤、脂肪族変性エステル系分散剤などが挙げられる。このような高分子分散剤として、ＥＦＫＡ（エフカーケミカルズビーブイ（ＥＦＫＡ）社製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（ビックケミー社製）、ディスパロン（楠本化成株式会社製）、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ（ゼネカ社製）などの商品名で市販されているものを用いてもよい。分散剤の配合量は、使用する顔料などの種類に応じて適宜設定すればよい。
　共重合体（Ａ）、溶剤（Ｂ）、反応性希釈剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び着色剤（Ｅ）の配合量は、感光性樹脂組成物中の共重合体（Ａ）と反応性希釈剤（Ｃ）との合計量１００質量部に対して、共重合体（Ａ）が１０～１００質量部、溶剤（Ｂ）が３０～１，０００質量部、反応性希釈剤（Ｃ）が０質量部超～９０質量部、光重合開始剤（Ｄ）が０．１～３０質量部、着色剤（Ｅ）が３～８０質量部であり、好ましくは、共重合体（Ａ）が２０～８０質量部、溶剤（Ｂ）が５０～８００質量部、反応性希釈剤（Ｃ）が２０～８０質量部、光重合開始剤（Ｄ）が０．５～２０質量部、着色剤（Ｅ）が５～７０質量部であり、より好ましくは、共重合体（Ａ）が３０～７５質量部、溶剤（Ｂ）が１００～７００質量部、反応性希釈剤（Ｃ）が２５～７０質量部、光重合開始剤（Ｄ）が１～１５質量部、着色剤（Ｅ）が１０～６０質量部である。この範囲の配合量であれば、適切な粘度を有する感光性樹脂組成物となる。また、着色剤（Ｅ）を含まない感光性樹脂組成物の場合でも、共重合体（Ａ）、溶剤（Ｂ）、反応性希釈剤（Ｃ）及び光重合開始剤（Ｄ）の配合量は、上記の数値範囲が適用可能である。
　本発明の重合体組成物及び感光性樹脂組成物は、上記の成分に加えて、所定の特性を付与するために、公知のカップリング剤、レベリング剤、熱重合禁止剤などの公知の添加剤を配合してもよい。これらの添加剤の配合量は、本発明の効果を阻害しない範囲であれば特に限定されない。
　本発明の感光性樹脂組成物は、公知の混合装置を用い、上記の成分を混合することによって製造することができる。また、所望により、先に共重合体（Ａ）及び溶剤（Ｂ）を含む重合体組成物を調製した後、反応性希釈剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び着色剤（Ｅ）を混合して製造することも可能である。
　上記のようにして得られる感光性樹脂組成物は、アルカリ現像性を有しているので、レジストとして好適なものである。感光性樹脂組成物の硬化は、ベーキング温度を２５０℃以下の範囲で適宜選択すればよいが、本発明の共重合体（Ａ）は低温での硬化性に優れているので、従来の材料に比較してベーキング温度を低くすることができる。感光性樹脂組成物において着色剤（Ｅ）として顔料を用いた場合、ベーキング温度は１６０℃以下においても十分な硬化性が得られる。本発明の感光性樹脂組成物は、ベーキング温度を低くしても架橋反応が十分に進行するため、エネルギー消費の面で有利である。また、耐熱性が劣る着色剤（Ｅ）や基板であっても使用することが可能になり、着色剤本来の特性が得られたり、様々な基板への応用も可能となる。そのような見地から、ベーキング温度は、２１０℃以下とすることが好ましく、より好ましくは１８０℃以下、最も好ましくは１６０℃以下である。ベーキング温度の下限は、共重合体（Ａ）に含まれるブロックイソシアナト基の種類によって必ずしも一様ではないが、該ブロックイソシアナト基の解離温度以上であることが必要であり、通常は８０℃以上、好ましくは９０℃以上、より好ましくは１００℃以上である。ベーキング温度が低くなり過ぎると、塗膜の耐溶剤性を十分に改善し難くなる。また、ベーキング時間は適宜選択できるが、通常は１０分～４時間、好ましくは２０分～２時間である。
　本発明の感光性樹脂組成物は、各種レジスト、特に、有機ＥＬディスプレイ(ブラックＰＤＬ用)、液晶表示装置、ＣＣＤやＣＭＯＳなどの固体撮像素子などに組み込まれるカラーフィルターを製造するために用いられるレジストとして好適である。また、本発明の感光性樹脂組成物は、耐溶剤性、低温での硬化特性などに優れた硬化塗膜を与えるので、各種コーティング、接着剤、印刷インキ用バインダーなどに用いることもできる。
　本発明の感光性樹脂組成物は、現像性及び保存安定性が良好であると共に、パターン形成時のベーキング温度を低くしても耐溶剤性に優れた着色パターンを形成することができるので、カラーフィルター用の感光性材料として極めて有用である。また、本発明の感光性樹脂組成物は、低温硬化に伴いフレキシブルディスプレイの発展、製造工程におけるエネルギー消費の低減、そして、使用する着色剤の制限緩和についても貢献できる。
＜カラーフィルター＞
　次に、本発明の感光性樹脂組成物の硬化物からなる着色パターンを有するカラーフィルターについて説明する。本発明のカラーフィルターは、上記の感光性樹脂組成物を用いて形成される着色パターンを有する。カラーフィルターは、通常、基板と、その上に形成されるＲＧＢの画素、それぞれの画素の境界に形成されるブラックマトリックス及び画素とブラックマトリックスの上に形成される保護膜とから構成される。この構成において、画素及びブラックマトリックス（着色パターン）が上記の感光性樹脂組成物を用いて形成されることを除けば、その他の構成は公知のものを採用することができる。
　次に、カラーフィルターの製造方法の一実施形態について説明する。まず、基板上に着色パターンを形成する。具体的には、基板上に、ブラックマトリックス及びＲＧＢの画素を順次形成する。基板の材質は、特に限定されるものではなく、ガラス基板、シリコン基板、ポリカーボネート基板、ポリエステル基板、ポリアミド基板、ポリアミドイミド基板、ポリイミド基板、アルミニウム基板、プリント配線基板、アレイ基板などを適宜用いることができる。
　着色パターンは、フォトリソグラフィ法により形成することができる。具体的には、上記の感光性樹脂組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成した後、所定のパターンのフォトマスクを介して塗布膜を露光して露光部分を光硬化させる。そして、未露光部分をアルカリ水溶液で現像した後、ベーキングすることにより、所定の着色パターンを形成することができる。
　感光性樹脂組成物の塗布方法としては、特に限定されないが、スクリーン印刷法、ロールコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、スピンコート法などを用いることができる。また、感光性樹脂組成物の塗布後、必要に応じて、循環式オーブン、赤外線ヒーター、ホットプレートなどの加熱手段を用いて加熱することにより溶剤（Ｂ）を揮発させてもよい。加熱条件は、特に限定されず、使用する感光性樹脂組成物の種類に応じて適宜設定すればよい。一般には、５０℃～１２０℃の温度で３０秒～３０分加熱すればよい。
　次いで、形成された塗膜にネガ型のマスクを介して紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射して部分的に露光する。照射するエネルギー線量は、感光性樹脂組成物の組成に応じて適宜選択すればよく、例えば、３０～２０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましい。露光に用いられる光源としては、特に限定されないが、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなどを用いることができる。
　現像に用いられるアルカリ水溶液としては、特に限定されないが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水溶液；エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミンなどのアミン系化合物の水溶液；テトラメチルアンモニウム、３－メチル－４－アミノ－Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、３－メチル－４－アミノ－Ｎ－エチル－Ｎ－β－ヒドロキシエチルアニリン、３－メチル－４－アミノ－Ｎ－エチル－Ｎ－β－メタンスルホンアミドエチルアニリン、３－メチル－４－アミノ－Ｎ－エチル－Ｎ－β－メトキシエチルアニリン及びこれらの硫酸塩、塩酸塩又はｐ－トルエンスルホン酸塩などのｐ－フェニレンジアミン系化合物の水溶液などを用いることができる。なお、これらの水溶液には、必要に応じて消泡剤や界面活性剤を添加してもよい。また、上記のアルカリ水溶液による現像の後、水洗して乾燥させることが好ましい。
　ベーキングの条件は、特に限定されず、使用する感光性樹脂組成物の種類に応じて加熱処理を行えばよい。従来の感光性樹脂組成物では、ベーキング温度が２００℃以下になると着色パターンの耐溶剤性が不足するが、本発明の感光性樹脂組成物では、１２０℃以下の温度でベーキングした場合であっても十分な耐溶剤性を示す着色パターンを形成することができる。そのため、ベーキング温度を低くすることができ、また、高温でベーキングする場合には処理時間を短縮することができ、製造上の大きな利点となる。このような見地から、ベーキング温度を、通常は２１０℃以下、好ましくは１６０℃以下、より好ましくは１２０℃以下とし、ベーキング時間を、通常は１０分～４時間、好ましくは２０分～２時間として行われる。
　上記のような塗布、露光、現像及びベーキングを、ブラックマトリックス用の感光性樹脂組成物、及び赤色、緑色、青色の画素用感光性樹脂組成物を用いて順次繰り返すことにより、所望の着色パターンを形成することができる。なお、上記では、光硬化による着色パターンの形成方法を説明したが、光重合開始剤（Ｄ）の代わりに、硬化促進剤及び公知のエポキシ樹脂を配合した感光性樹脂組成物を用いれば、インクジェット法により塗布した後、加熱することにより、所望の着色パターンを形成することもできる。次に、着色パターン（ＲＧＢの各画素及びブラックマトリックス）上に保護膜を形成する。保護膜としては、特に限定されず、公知のものを用いて形成すればよい。
　このようにして製造されるカラーフィルターは、感度や現像性に優れると共に、低温での硬化が可能で耐溶剤性に優れた着色パターンを与える感光性樹脂組成物を用いて製造しているため、色変化の少ない優れた着色パターンを有する。
＜画像表示素子＞
　本発明の画像表示素子は、上記のカラーフィルターを備えた画像表示素子であり、その具体例として、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、ＣＣＤ素子やＣＭＯＳ素子などの固体撮像素子などが挙げられる。本発明の画像表示素子の製造は、上記のカラーフィルターを使用すること以外、常法に従って行えばよい。例えば、液晶表示素子を製造する場合には、基板上に、上記カラーフィルターを形成し、次いで、電極、スペーサー等を順次形成する。そして、もう一枚の基板上に電極等を形成し、両者を張り合わせて所定量の液晶を注入、封止すればよい。
　以下、実施例を参照して本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されない。なお、この実施例において、部及びパーセントとあるのは特に断らない限り、全て質量基準である。また、酸価、重量平均分子量の測定法は以下のとおりである。
　（１）酸価：ＪＩＳ　Ｋ６９０１　５．３に従って測定された共重合体（Ａ）の酸価であって、該共重合体（Ａ）１ｇ中に含まれる酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ数を意味する。
　（２）重量平均分子量（Ｍｗ）とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて、下記条件にて測定した標準ポリスチレン換算重量平均分子量を意味する。
　カラム：ショウデックス（登録商標）　ＬＦ－８０４＋ＬＦ－８０４（昭和電工株式会社製）
　カラム温度：４０℃
　試料：共重合体の０．２％テトラヒドロフラン溶液
　展開溶媒：テトラヒドロフラン
　検出器：示差屈折計（ショウデックス　ＲＩ－７１Ｓ）（昭和電工株式会社製）
　流速：１ｍＬ／ｍｉｎ
［実施例１］
　攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えたフラスコに、２５７．３ｇのジエチレングリコールメチルエチルエーテルを入れた後、窒素置換しながら攪拌し、７８℃に昇温した。次に、１１０．０ｇのジシクロペンタニルメタクリレート、１７．０ｇのグリシジルメタクリレート、２８．４ｇのメタクリル酸及び１２．１ｇのメタクリル酸２－［Ｏ－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチル（カレンズＭＯＩ－ＢＭ、昭和電工株式会社製、ブロックイソシアナト基の解離率：１８質量％）からなる単量体混合物と、１３．４ｇの２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル)（重合開始剤）を７８．７ｇのジエチレングリコールメチルエチルエーテルに添加し溶解させたものをそれぞれ滴下ロートからフラスコ中に滴下した。滴下終了後、７８℃で３時間攪拌して共重合反応を行い、共重合体を生成させ、試料Ｎｏ．１の重合体組成物（溶剤以外の成分濃度４０質量％）を得た。得られた重合体組成物中の共重合体の重量平均分子量は７，５００であり、酸価は１０２．３ＫＯＨｍｇ／ｇであった。
［実施例２～１２及び比較例１～３］
　表１に記載の原料を用いる以外は実施例１と同様の条件で共重合反応を行い、試料Ｎｏ．２～１５の重合体組成物（溶剤以外の成分濃度４０質量％）を得た。得られた重合体組成物中の共重合体の重量平均分子量及び酸価を表１に示す。なお、表１において、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾール－１－イル）カルボニルアミノエチルは、昭和電工株式会社製、カレンズＭＯＩ－ＢＰ、ブロックイソシアナト基の解離率：７０質量％であり、マロン酸－２－［［［２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル］オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３ジエチルエステルは、昭和電工株式会社製、カレンズＭＯＩ－ＤＥＭ、ブロックイソシアナト基の解離率：９０質量％であり、安息香酸－４－［［［［２－［（２－メチル－１－オキソ－２－プロペン－１－イル）オキシ］エチル］アミン］カルボニル］オキシ］メチルエステルは、ブロックイソシアナト基の解離率：４０質量％であり、安息香酸－２－［［［［２－［（２－メチル－１－オキシ－２－プロペン－１－イル）オキシ］エチル］アミン］カルボニル］オキシ］メチルエステルは、ブロックイソシアナト基の解離率：７５質量％であり、２－プロペン酸－２－メチル－２－［［（３，５－ジメチルフェノキシ）カルボニル］アミン］エチルエステルは、ブロックイソシアナト基の解離率：２８質量％である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
［実施例１３～２４及び比較例４～６］
＜感光性樹脂組成物（顔料タイプ）の調製＞
　直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ２００質量部を充填したステンレス製容器に、Ｃ．Ｉピグメントグリーン３６（着色剤）を１００質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを４４．９８質量部、分散剤（ビッグケミー・ジャパン株式会社製Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１６１）を２５質量部投入して、ペイントシェーカーで２時間混合して分散させることにより、緑色顔料分散液を調製した。
　この緑色顔料分散液を、表３に示すその他の配合成分（即ち、重合体組成物、反応性希釈剤、光重合開始剤及び溶剤）と混合して感光性樹脂組成物を調製した。それぞれの成分の配合量は、表３に示すとおりである。なお、実施例１３～２４の感光性樹脂組成物は、実施例１～１２（試料Ｎｏ．１～１２）の重合体組成物それぞれを用いて調製し、比較例４～６の感光性樹脂組成物は、比較例１～３（試料Ｎｏ．１３～１５）の重合体組成物それぞれを用いて調製した。また、重合体組成物の量は共重合体反応終了時に含まれる溶剤を含み、各試料に含まれる溶剤の量も、配合成分としての溶剤の中に合算されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
＜感光性樹脂組成物の評価＞
（１）アルカリ現像性
　実施例１３～２４及び比較例４～６の感光性樹脂組成物それぞれを、５ｃｍ角のガラス基板（無アルカリガラス基板）上に、露光後の厚さが２．５μｍとなるようにスピンコートした後、９０℃で３分間加熱することで溶剤を揮発させた。次に、塗布膜から１００μｍの距離に所定のパターンのフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介して塗布膜を露光（露光量：１５０ｍＪ／ｃｍ2）し、露光部分を光硬化させた。次に、０．１質量％の炭酸ナトリウムを含む水溶液を２３℃の温度及び０．３ＭＰａの圧力でスプレーすることによって未露光部分を溶解して現像した後、１００℃で２０分間ベーキングすることで所定のパターンを形成した。アルカリ現像後の残渣は、アルカリ現像後のパターンを、（株）日立ハイテクノロジーズ製電子顕微鏡Ｓ－３４００を用いて観察することにより確認した。この評価の基準は以下の通りである。
　　○：残渣なし
　　×：残渣あり
　アルカリ現像性の評価結果を表４に示す。
（２）耐溶剤性の評価
　５ｃｍ角のガラス基板（無アルカリガラス基板）上に、実施例１３～２４及び比較例４～６の感光性樹脂組成物それぞれを、ベーキング後の厚さが２．５μｍとなるようにスピンコートした後、９０℃で３分間加熱して溶剤を揮発させた。次に、塗布膜に波長３６５ｎｍの光を露光し、露光部分を光硬化させたのち、ベーキング温度１００℃の乾燥器中に２０分間放置して硬化塗膜を作製した。容量５００ｍＬの蓋付きガラス瓶に２００ｍＬのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを入れ、８０℃の条件下に静置した。その中に上記の硬化塗膜付き試験片を浸漬した後、８０℃に維持した状態で、５分静置した。試験片をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートへ浸漬させる前後の色変化（ΔＥ*ａｂ）を分光光度計ＵＶ－１６５０ＰＣ（株式会社島津製作所製）にて測定した。ΔＥ*ａｂの測定結果を表４に示す。ΔＥ*ａｂが１．５以下であれば耐溶剤性に優れているといえる。
（３）保存安定性の評価
　実施例１～１２及び比較例１～３の共重合体を、ガラス容器に等量ずつ計り取り、ほこりなどが入らないようにアルミニウム箔で口を閉じた。次に、これらのサンプルをそれぞれ２３℃に保った恒温器の中に静置し、サンプルの１ヶ月後の重量平均分子量（Ｍｗ）を測定した。１ヶ月後のＭｗの変化率を表５に示す。１ヶ月後のＭｗの変化率が２０％以内であれば、共重合体の保存安定性が優れているといえる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
　表４の結果から分かるように、試料Ｎｏ．１～１２の重合体組成物を用いた実施例１３～２４の感光性樹脂組成物は、アルカリ現像性及び耐溶剤性が良好であった。更に、共重合体の保存安定性は、それを配合した感光性樹脂組成物の保存安定性と相関があるので、表５の結果から、試料Ｎｏ．１～１２の重合体組成物を用いた実施例１３～２４の感光性樹脂組成物は保存安定性も良好であるといえる。これに対して、試料Ｎｏ．１３～１５の重合体組成物を用いた比較例４～６の感光性樹脂組成物は、保存安定性が良好であるものの、耐溶剤性が十分でなく、また、比較例６の感光性樹脂組成物は、アルカリ現像性も十分でなかった。
　以上の結果から分かるように、本発明によれば、現像性が良好であると共に、耐溶剤性及び保存安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供することができる。また、本発明によれば、上記のような特性を有する感光性樹脂組成物の調製に有用な共重合体を提供することができる。
　なお、本国際出願は、２０１７年８月３日に出願した日本国特許出願第２０１７－１５０５０１号に基づく優先権を主張するものであり、この日本国特許出願の全内容を本国際出願に援用する。

Claims (25)

  1. 　ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）、酸基を有する構成単位（ｂ）及びエポキシ基を有する構成単位（ｃ）を含有することを特徴とする共重合体（Ａ）。
  2. 　前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）が、ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレート由来の構成単位であり、前記ブロックイソシアナト基含有（メタ）アクリレートのブロックイソシアナト基の解離率が１００℃で３０分加熱した際、５～９９質量％である請求項１に記載の共重合体。
  3. 　前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）のブロック剤が、マロン酸ジエチル、３，５－ジメチルピラゾール、メチルエチルケトオキシム、２－ヒドロキシ安息香酸メチル、４－ヒドロキシ安息香酸メチル及び３，５－キシレノールからなる群から選択される１種以上である請求項１又は２に記載の共重合体。
  4. 　前記酸基を有する構成単位（ｂ）が、不飽和カルボン酸由来の構成単位である請求項１～３のいずれか一項に記載の共重合体。
  5. 　前記エポキシ基を有する構成単位（ｃ）が、エポキシ基含有（メタ）アクリレート由来の構成単位である請求項１～４のいずれか一項に記載の共重合体。
  6. 　前記共重合体（Ａ）が、前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）を１～６０モル％、前記酸基を有する構成単位（ｂ）を５～６５モル％及び前記エポキシ基を有する構成単位（ｃ）を５～６５モル％含有する請求項１～５のいずれか一項に記載の共重合体。
  7. 　前記共重合体（Ａ）における前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）と前記エポキシを有する構成単位（ｃ）とのモル比率が、１０：９０～７５：２５である請求項１～６のいずれか一項に記載の共重合体。
  8. 　前記共重合体（Ａ）が、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾール－１－イル）カルボニルアミノエチル、メタクリル酸２－［Ｏ－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチル、マロン酸－２－［［［２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル］オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３ジエチルエステル、安息香酸－４－［［［［２－［（２－メチル－１－オキソ－２－プロペン－１－イル）オキシ］エチル］アミン］カルボニル］オキシ］メチルエステル、安息香酸－２－［［［［２－［（２－メチル－１－オキシ－２－プロペン－１－イル）オキシ］エチル］アミン］カルボニル］オキシ］メチルエステル及び２－プロペン酸－２－メチル－２－［［（３，５－ジメチルフェノキシ）カルボニル］アミン］エチルエステルからなる群から選択される少なくとも１種由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジルメタクリレート由来の構成単位（ｃ）と、ジシクロペンタニルメタクリレート及びメチル（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１種由来の構成単位（ｅ）とを含有する請求項１～７のいずれか一項に記載の共重合体。
  9. 　前記共重合体（Ａ）が、水酸基を有する構成単位（ｄ）をさらに含有する請求項１～８のいずれか一項に記載の共重合体。
  10. 　前記共重合体（Ａ）が、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾール－１－イル）カルボニルアミノエチル、メタクリル酸２－［Ｏ－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチル、マロン酸－２－［［［２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル］オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３ジエチルエステル、安息香酸－４－［［［［２－［（２－メチル－１－オキソ－２－プロペン－１－イル）オキシ］エチル］アミン］カルボニル］オキシ］メチルエステル、安息香酸－２－［［［［２－［（２－メチル－１－オキシ－２－プロペン－１－イル）オキシ］エチル］アミン］カルボニル］オキシ］メチルエステル及び２－プロペン酸－２－メチル－２－［［（３，５－ジメチルフェノキシ）カルボニル］アミン］エチルエステルからなる群から選択される少なくとも１種由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、２－ヒドロキシエチルメタクリレート由来の構成単位（ｄ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート及びメチル（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１種由来の構成単位（ｅ）とを含有する請求項９に記載の共重合体。
  11. 　前記共重合体（Ａ）が、メタクリル酸２－［Ｏ－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチル由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｅ）とを含有する請求項８に記載の共重合体。
  12. 　前記共重合体（Ａ）が、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾール－１－イル）カルボニルアミノエチル由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｅ）とを含有する請求項８に記載の共重合体。
  13. 　前記共重合体（Ａ）が、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾール－１－イル）カルボニルアミノエチル由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、２－ヒドロキシエチルメタクリレート由来の構成単位（ｄ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｅ）とを含有する請求項１０に記載の共重合体。
  14. 　前記共重合体（Ａ）が、マロン酸－２－［［［２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル］オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３ジエチルエステル由来の構成単位（ａ）と、（メタ）アクリル酸由来の構成単位（ｂ）と、グリシジル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｃ）と、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート由来の構成単位（ｅ）とを含有する請求項８に記載の共重合体。
  15. 　前記共重合体（Ａ）が、水酸基を有する構成単位（ｄ）及び前記構成単位（ａ）～（ｄ）以外の構成単位（ｅ）をさらに含有し、
    　前記共重合体（Ａ）が、前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）を１～４０モル％、前記酸基を有する構成単位（ｂ）を１～６０モル％、前記エポキシ基を有する構成単位（ｃ）を１～７０モル％、前記水酸基を有する構成単位（ｄ）を０モル％超～５０モル％及び前記構成単位（ｅ）を０モル％超～８０モル％含有する請求項１～５のいずれか一項に記載の共重合体。
  16. 　前記共重合体（Ａ）が、水酸基を有する構成単位（ｄ）及び前記構成単位（ａ）～（ｄ）以外の構成単位（ｅ）をさらに含有し、
    　前記共重合体（Ａ）が、前記ブロックイソシアナト基を有する構成単位（ａ）を３～２０モル％、前記酸基を有する構成単位（ｂ）を２０～５０モル％、前記エポキシ基を有する構成単位（ｃ）を２０～４０モル％、前記水酸基を有する構成単位（ｄ）を０モル％超～２０モル％及び前記構成単位（ｅ）を２０～４０モル％含有する請求項１～５のいずれか一項に記載の共重合体。
  17. 　請求項１～１６のいずれか一項に記載の共重合体（Ａ）と、溶剤（Ｂ）及び反応性希釈剤（Ｃ）の少なくとも一方とを含有することを特徴とする重合体組成物。
  18. 　請求項１～１６のいずれか一項に記載の共重合体（Ａ）、溶剤（Ｂ）、反応性希釈剤（Ｃ）及び光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
  19. 　請求項１～１６のいずれか一項に記載の共重合体（Ａ）、溶剤（Ｂ）、反応性希釈剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び着色剤（Ｅ）を含有することを特徴とするカラーフィルター用感光性樹脂組成物。
  20. 　前記共重合体（Ａ）と前記反応性希釈剤（Ｃ）との合計量１００質量部に対して、前記共重合体（Ａ）が１０～１００質量部、前記溶剤（Ｂ）が３０～１，０００質量部、前記反応性希釈剤（Ｃ）が０質量部超～９０質量部、前記光重合開始剤（Ｄ）が０．１～３０質量部、前記着色剤（Ｅ）が３～８０質量部含有される請求項１９に記載のカラーフィルター用感光性樹脂組成物。
  21. 　前記溶剤（Ｂ）が、水酸基含有有機溶剤を含む請求項１９又は２０に記載のカラーフィルター用感光性樹脂組成物。
  22. 　前記着色剤（Ｅ）が、顔料を含む請求項１９～２１のいずれか一項に記載のカラーフィルター用感光性樹脂組成物。
  23. 　請求項１９～２２のいずれか一項に記載のカラーフィルター用感光性樹脂組成物の硬化物からなる着色パターンを有することを特徴とするカラーフィルター。
  24. 　請求項２３に記載のカラーフィルターを具備することを特徴とする画像表示素子。
  25. 　請求項１９～２２のいずれか一項に記載のカラーフィルター用感光性樹脂組成物を基板に塗布し、露光し、アルカリ現像した後、１６０℃以下の温度でベーキングして着色パターンを形成する工程を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113009784A (zh) * 2019-12-20 2021-06-22 Jsr株式会社 着色组合物、着色硬化膜及其制法、彩色滤光片、显示元件、光接收元件以及硬化性组合物
JP2022077361A (ja) * 2020-11-11 2022-05-23 昭和電工株式会社 共重合体の製造方法
WO2023120364A1 (ja) * 2021-12-21 2023-06-29 株式会社レゾナック 重合体エマルジョンおよびその保管方法、該重合体エマルジョンを用いた二液系熱硬化性樹脂組成物、樹脂硬化膜、ならびに塗膜
WO2024142675A1 (ja) * 2022-12-28 2024-07-04 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜、感光性転写材料、膜、及び積層体

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116529268A (zh) * 2020-12-24 2023-08-01 株式会社力森诺科 共聚物及该共聚物的制造方法
KR102755806B1 (ko) * 2021-02-26 2025-01-21 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 표시장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009074045A (ja) * 2007-08-30 2009-04-09 Daicel Chem Ind Ltd 共重合体
JP2009275068A (ja) * 2008-05-12 2009-11-26 Daicel Chem Ind Ltd 共重合体
JP2010197567A (ja) * 2009-02-24 2010-09-09 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3017537A1 (de) * 1980-05-08 1981-11-12 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verkappte isocyanatgruppen enthaltende copolymere und ihre verwendung fuer die anodische elektrotauchlackierung
JP2011081117A (ja) 2009-10-06 2011-04-21 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、それを具備する液晶表示装置並びにエレクトロルミネッセンス表示装置
JP2011170011A (ja) 2010-02-17 2011-09-01 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法
JP5736718B2 (ja) * 2010-10-18 2015-06-17 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法
JP2012168364A (ja) * 2011-02-15 2012-09-06 Seiko Epson Corp カラーフィルター用インク、カラーフィルター、画像表示装置および電子機器
KR101852528B1 (ko) * 2011-07-07 2018-04-27 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 수지 조성물
JP5857578B2 (ja) 2011-09-22 2016-02-10 Jsr株式会社 カラーフィルタ、液晶表示素子およびカラーフィルタの製造方法
JP6016918B2 (ja) * 2012-06-28 2016-10-26 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物の製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機ｅｌ表示装置、並びに、タッチパネル表示装置
JP6107030B2 (ja) 2012-09-28 2017-04-05 大日本印刷株式会社 成形体の製造方法、及び感光性樹脂組成物の硬化方法
JP6240147B2 (ja) 2013-02-13 2017-11-29 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、これを用いた硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機ｅｌ表示装置
TWI511986B (zh) * 2013-03-13 2015-12-11 Showa Denko Kk 含封端異氰酸根基之聚合物，包含該聚合物之組成物及其用途
JP6157193B2 (ja) * 2013-04-22 2017-07-05 昭和電工株式会社 （メタ）アクリレート系ポリマー、該ポリマーを含む組成物及びその用途
JP2016084464A (ja) 2014-10-24 2016-05-19 昭和電工株式会社 硬化性樹脂組成物、カラーフィルター、画像表示素子及びカラーフィルターの製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009074045A (ja) * 2007-08-30 2009-04-09 Daicel Chem Ind Ltd 共重合体
JP2009275068A (ja) * 2008-05-12 2009-11-26 Daicel Chem Ind Ltd 共重合体
JP2010197567A (ja) * 2009-02-24 2010-09-09 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113009784A (zh) * 2019-12-20 2021-06-22 Jsr株式会社 着色组合物、着色硬化膜及其制法、彩色滤光片、显示元件、光接收元件以及硬化性组合物
JP2021102759A (ja) * 2019-12-20 2021-07-15 Jsr株式会社 着色組成物、着色硬化膜及びその製造方法、カラーフィルタ、表示素子、受光素子、並びに硬化性組成物
JP2023164445A (ja) * 2019-12-20 2023-11-10 Jsr株式会社 着色組成物、着色硬化膜及びその製造方法、カラーフィルタ、表示素子、受光素子、並びに硬化性組成物
JP7539010B2 (ja) 2019-12-20 2024-08-23 株式会社レゾナック 着色組成物、着色硬化膜及びその製造方法、カラーフィルタ、表示素子、受光素子、並びに硬化性組成物
JP7589776B2 (ja) 2019-12-20 2024-11-26 株式会社レゾナック 着色組成物、着色硬化膜及びその製造方法、カラーフィルタ、表示素子、受光素子、並びに硬化性組成物
CN113009784B (zh) * 2019-12-20 2025-02-18 株式会社力森诺科 着色组合物、着色硬化膜及其制法、彩色滤光片、显示元件、光接收元件以及硬化性组合物
JP2022077361A (ja) * 2020-11-11 2022-05-23 昭和電工株式会社 共重合体の製造方法
WO2023120364A1 (ja) * 2021-12-21 2023-06-29 株式会社レゾナック 重合体エマルジョンおよびその保管方法、該重合体エマルジョンを用いた二液系熱硬化性樹脂組成物、樹脂硬化膜、ならびに塗膜
WO2024142675A1 (ja) * 2022-12-28 2024-07-04 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜、感光性転写材料、膜、及び積層体

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