WO2019013231A1 - 導電性接着剤組成物 - Google Patents
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Definitions
- the conductive adhesive composition of the present invention further contains particles (B) of a thermoplastic resin which is solid at 25 ° C. (hereinafter, also simply referred to as “particles of thermoplastic resin (B)”).
- the conductive adhesive composition of the present invention can be obtained by mixing and stirring the above (A) and (B) and other components in any order.
- a dispersion method for example, a system such as two rolls, three rolls, a sand mill, a roll mill, a ball mill, a colloid mill, a jet mill, a bead mill, a kneader, a homogenizer, and a propellerless mixer can be adopted.
- the thermal conductivity of the conductive adhesive cured product of the present invention is preferably 20 W / m ⁇ K or more, more preferably 35 W / m ⁇ K or more, in order to ensure the heat radiation of the material to be bonded. Preferably, it is 50 W / m ⁇ K or more.
- the thermal conductivity of the conductive adhesive cured product can be calculated using the method described later in the section of the examples.
- Copper particles spherical shape, average particle diameter d50: 5 ⁇ m, tap density: 5.0 g / cm 3 , manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.
- the obtained conductive adhesive composition is applied to a 10 mm ⁇ 10 mm silver-plated copper lead frame, and a 5 mm ⁇ 5 mm silver sputtering silicon chip is placed on the coated surface, and then 60 at 250 ° C. in a nitrogen atmosphere.
- a metal joint (hereinafter, also simply referred to as a “metal joint”) in which a silver lead-plated copper lead frame and a silver-sputtered silicon chip were bonded by a conductive adhesive cured product was produced.
- the thermal conductivity of the obtained metal bonded body is shown in Table 1.
- the metal bonded body obtained in the example had a smaller peeled area after the thermal cycle test compared to the metal bonded body obtained in the comparative example.
- the thermal conductivity was also a good value. From this result, it was confirmed that the conductive adhesive composition of the present invention can achieve adhesion which is excellent in thermal conductivity and is less likely to peel off the adherend material even when subjected to repeated temperature changes.
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Abstract
Description
本発明における導電性フィラー(A)は、平均粒径0.5~10μmの金属粒子(a1)と、平均粒径10~200nmの銀粒子(a2)とを含むものである。
本発明における金属粒子(a1)の平均粒径は0.5~10μmであり、好ましくは0.6~8μmであり、より好ましくは0.7~7μm、さらに好ましくは0.8~6μmである。金属粒子(a1)の平均粒子径が0.5μm未満であると、導電性接着剤組成物の硬化後の収縮が抑制されなくなるため被接着材料との密着性が低下してしまう。金属粒子(a1)の平均粒子径が10μmを超えると金属粒子(a1)の焼結が進みにくく被接着材料との密着性が低下してしまう。
コーティング剤に含まれるカルボン酸は2種以上の混合物であってもよい。また、炭素数12~24の飽和脂肪酸または不飽和脂肪酸である高級脂肪酸が好ましい。
本発明における銀粒子(a2)の平均粒径は10~200nmであり、好ましくは20~180nmであり、より好ましくは30~170nm、更に好ましくは40~160nmである。銀粒子(a2)の平均粒子径が10nm未満であると、銀粒子を被覆する有機物の除去が難しくなり焼結が進みにくい。銀粒子(a2)の平均粒子径が200nmを超えると比表面積が小さくなり銀粒子の焼結が進みにくい。
本発明の導電性接着剤組成物は、25℃において固体状の熱可塑性樹脂の粒子(B)(以下、単に「熱可塑性樹脂の粒子(B)」ともいう)をさらに含有する。
しかし、熱可塑性樹脂の粒子(B)を含有する本発明の導電性接着剤組成物では、熱を加えて硬化させる際に、熱可塑性樹脂の粒子(B)が溶融し、導電性接着剤硬化物内の空隙を充填する。このことにより、導電性接着剤硬化物内での金属の移動が妨げられ、上記のように、金属の成長によって応力による被接着材料の剥離が生じやすくなることを防いでいるものと考えられる。
他にも、導電性接着剤硬化物内の空隙に充填された熱可塑性樹脂が弾性変形することによって応力を緩和することが可能となり、導電性接着剤硬化物の応力緩和性能が向上すること、また、熱可塑性樹脂が導電性接着剤硬化物と被接着材料の接着界面に存在する空隙を充填することにより、接着強度が向上することも、繰り返しの温度変化による剥離の抑制に寄与していると考えられる。
導電性接着剤硬化物内の空隙への充填性を向上させるために、これらの中でも、融点が50~300℃の範囲の樹脂の粒子が好ましく、融点が80~250℃の範囲の樹脂の粒子がより好ましく、融点が100~225℃の範囲の樹脂の粒子がさらに好ましく、100~220℃の範囲の樹脂の粒子が最適である。融点が50~300℃の範囲の樹脂としては、例えばナイロン12、ナイロン11、ナイロン6、ポリエチレン、ポリプロピレン、酢酸ビニル樹脂、飽和ポリエステル樹脂などが挙げられる。中でも、ナイロン12、ナイロン11、ナイロン6、ポリエチレンが好ましく用いられ、ナイロン12、ナイロン11、ナイロン6がより好ましく用いられ、ナイロン12、ナイロン11が更に好ましく用いられる。
また、本発明における熱可塑性樹脂の粒子(B)の平均粒径は、導電性接着剤硬化物の応力緩和性能を担保するために1μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましく、5μm以上であることがさらに好ましい。
<バインダ樹脂>
本発明の導電性接着剤組成物において、導電性フィラー(A)、及び熱可塑性樹脂の粒子(B)は、バインダ樹脂中に分散されてもよい。バインダ樹脂は特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂又はポリイミド樹脂等を用いることができ、これらを単独で用いても、複数種類組み合わせて用いてもよい。作業性の観点から本発明におけるバインダ樹脂は熱硬化性樹脂であることが好ましく、エポキシ樹脂であることが特に好ましい。
また、本発明の導電性接着剤組成物は、上記成分のほかにも、例えば、硬化剤を含有していてもよい。硬化剤としては、例えば、三級アミン、アルキル尿素、イミダゾール等のアミン系硬化剤や、フェノール系硬化剤等が挙げられる。
本発明の導電性接着剤組成物には硬化促進剤を配合することもできる。硬化促進剤としては、例えば、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4―メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、2―メチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノ-2-エチル-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール類、第3級アミン類、トリフェニルフォスフィン類、尿素系化合物、フェノール類、アルコール類、カルボン酸類等が例示される。硬化促進剤は1種類だけ使用しても2種類以上を併用してもよい。
本発明の導電性接着剤組成物には、さらに導電性接着剤組成物をペースト状にするために溶剤を含んでいてもよい。溶剤を含む場合は、ペースト中において熱可塑性樹脂の粒子(B)の形状を維持するために、これを溶解しない性質の溶剤を用いる。その他は特に限定されないが、導電性接着剤組成物の硬化の際に溶剤が揮発しやすいことから沸点350℃以下のものが好ましく、沸点300℃以下のものがより好ましい。具体的にはアセテート、エーテル、炭化水素等が挙げられ、より具体的には、ジブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート等が好ましく用いられる。
溶剤の含有率は、導電性接着剤組成物に対して通常15質量%以下であり、作業性の観点から好ましくは10質量%以下である。
また、導電性フィラー(A)同士の結合が過度に進行し導電性フィラー(A)間のネッキングが生じて強固に結合し、硬すぎる状態となることを避けるために300℃以下であることが好ましく、275℃以下であることがより好ましく、250℃以下であることがさらに好ましい。
表1に記載された各材料を三本ロールにて混練し、表1に示す組成の導電性接着剤組成物を調製した(各材料の数値は導電性接着剤組成物の総質量に対する質量%を表す)。使用した材料は下記の通りである。なお、混練の順番は、金属粒子(a1)、銀粒子(a2)、熱可塑性樹脂の粒子(B)、バインダ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、溶剤の順である。
<金属粒子(a1)>
・銀粒子(1):フレーク状、平均粒子径d50:5.5μm、タップ密度:7.0g/cm3、田中貴金属工業社製
・銀粒子(2):フレーク状、平均粒子径d50:4μm、タップ密度:6.7g/cm3、田中貴金属工業社製
・銀粒子(3):球状、平均粒子径d50:0.8μm、タップ密度:5.5g/cm3、田中貴金属工業社製・銅粒子:球状、平均粒子径d50:5μm、タップ密度:5.0g/cm3、三井金属鉱業社製
<銀粒子(a2)>
・銀粒子(4):球状、平均粒子径d50:0.09μm、田中貴金属工業社製
・熱可塑性樹脂粒子(1):「SP-500」(商品名)、東レ社製、ナイロン12製、平均粒子径d50:5μm、球状、融点:165~171℃
・熱可塑性樹脂粒子(2):「SP-10」(商品名)、東レ社製、ナイロン12製、平均粒子径d50:10μm、球状、融点:165~171℃
・熱可塑性樹脂粒子(3):「PM-200」(商品名)、三井化学社製、ポリエチレン製、平均粒子径d50:10μm、球状、融点:136℃
・エポキシ樹脂(1):「EPICLON 830-S」(商品名)、大日本インキ化学工業社製、室温で液状、エポキシ当量:169g/eq
・エポキシ樹脂(2):「ERISYS GE-21」(商品名)、CVC社製、室温で液状、エポキシ当量:125g/eq
・硬化剤:フェノール系硬化剤(MEH8000H、明和化成社製)
・硬化剤促進:2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール(2PHZ、四国化成社製)
・溶剤(1):ジブチルカルビトール(東京化成工業社製)
・溶剤(2):ブチルカルビトールアセテート(東京化成工業社製)
得られた導電性接着剤組成物を10mm×10mmの銀メッキした銅リードフレームに塗布し、塗布面に5mm×5mmの銀スパッタリングシリコンチップを戴置後、窒素雰囲気下、250℃で60分加熱し、銀メッキした銅リードフレームと銀スパッタリングしたシリコンチップが導電性接着剤硬化物により接合された金属接合体(以下、単に「金属接合体」ともいう)を作製した。
得られた金属接合体の熱伝導率を表1に示す。
なお、熱伝導率λ(W/m・K)は、レーザーフラッシュ法熱定数測定装置 (「TC-7000」(商品名)、ULVAC-RIKO社製)を用いてASTM-E1461に準拠して熱拡散aを測定し、ピクノメーター法により室温での比重dを算出し、また、示差走査熱量測定装置(「DSC7020」(商品名)、セイコー電子工業社製)を用いてJIS-K7123 2012に準拠して室温での比熱Cpを測定して、関係式λ=a×d×Cpにより算出した。
なお、剥離面積の割合は、2000サイクル後の超音波映像・検査装置「Fine SAT」(商品名)で得られた剥離状態の画像を二値化ソフト「image J」で濃淡を白と黒の二階調に画像変換し、以下の関係式で求めた。
剥離面積の割合(%)=剥離面積(黒色画素数)÷チップ面積(黒色画素数+白色画素数)×100
この結果から、本発明の導電性接着剤組成物によれば、熱伝導性に優れ、さらに繰り返し温度変化を受けた場合にも被接着材料の剥離が生じにくい接着を達成できることが確認された。
Claims (9)
- 平均粒径0.5~10μmの金属粒子(a1)と平均粒径10~200nmの銀粒子(a2)とを含む導電性フィラー(A)と、
25℃において固体状の熱可塑性樹脂の粒子(B)と、
を含有する導電性接着剤組成物。 - 前記金属粒子(a1)の主成分が銀である請求項1に記載の導電性接着剤組成物。
- 前記導電性接着剤組成物の全体量に対して、前記金属粒子(a1)を35~85質量%、前記銀粒子(a2)を5~50質量%の範囲で含有する請求項1または2に記載の導電性接着剤組成物。
- 前記金属粒子(a1)と前記銀粒子(a2)との含有比率が、質量比で95:5~40:60の範囲である請求項1~3のいずれか1項に記載の導電性接着剤組成物。
- 前記熱可塑性樹脂の融点が、50~300℃の範囲である請求項1~4のいずれか1項に記載の導電性接着剤組成物。
- 前記熱可塑性樹脂の粒子(B)の平均粒径が1~30μmである請求項1~5のいずれか1項に記載の導電性接着剤組成物。
- 前記導電性接着剤組成物の全体量に対して、前記熱可塑性樹脂の粒子(B)を0.1~10質量%の範囲で含有する請求項1~6のいずれか1項に記載の導電性接着剤組成物。
- 請求項1~7のいずれか1項に記載の導電性接着剤組成物を硬化した、導電性接着剤硬化物。
- 請求項1~7のいずれか1項に記載の導電性接着剤組成物を部品の接着に使用した電子機器。
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