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WO2013140952A1 - 欠陥検査方法 - Google Patents

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Publication number
WO2013140952A1
WO2013140952A1 PCT/JP2013/054754 JP2013054754W WO2013140952A1 WO 2013140952 A1 WO2013140952 A1 WO 2013140952A1 JP 2013054754 W JP2013054754 W JP 2013054754W WO 2013140952 A1 WO2013140952 A1 WO 2013140952A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
subject
light
line sensor
light shielding
shielding plate
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/054754
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
一平 高橋
明大 江口
Original Assignee
富士フイルム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士フイルム株式会社 filed Critical 富士フイルム株式会社
Publication of WO2013140952A1 publication Critical patent/WO2013140952A1/ja

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/892Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
    • G01N21/896Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/06Illumination; Optics
    • G01N2201/064Stray light conditioning
    • G01N2201/0642Light traps; baffles

Definitions

  • the present invention relates to a defect inspection method.
  • Whether or not there is a defect in a transparent web-like or sheet-like specimen can be inspected online without contact.
  • a defect in a transparent web-like or sheet-like specimen can be inspected online without contact.
  • the online inspection such a subject is continuously moved, light is scanned in the width direction, or a line-shaped light that crosses the width direction is irradiated, and the level fluctuation of the transmitted light from the subject is photoelectrically detected. Done by monitoring.
  • defects to be checked such as pinholes, mixing of granular materials, scratches, and optical distortion, depending on the material and quality level of the product or its application.
  • the inspection apparatus known from Japanese Patent No. 4132046 uses a moving web-like transparent sheet as an object, an illumination device having a light emitting surface elongated in the width direction on the lower surface side, and a line sensor camera on the upper surface side. is doing.
  • the illuminating device includes a light shielding plate, and the light emitting surface is partially shielded with respect to the moving direction of the subject so that the edge thereof is parallel to the longitudinal direction of the light emitting surface.
  • the line sensor incorporated in the line sensor camera the direction of the pixel arrangement is aligned with the edge of the light shielding plate.
  • the optical axis of the camera is adjusted to coincide with the edge of the light shielding plate.
  • the focus of the line sensor camera is adjusted to the vicinity of the surface of the subject.
  • the border of light and darkness due to the edge of the light shielding plate becomes blurred and unclear, and when the subject is a normal transparent body, 50% gray light in the middle between the light and dark parts of the light shielding plate is lined. Incident on the sensor.
  • a photoelectric signal corresponding to 50% gray light is obtained from the line sensor over the entire width of the subject.
  • the photoelectric signal obtained from the line sensor changes due to light absorption or light scattering.
  • a density pattern corresponding to the type of defect appears in the moving direction and the width direction of the subject.
  • a change in inspection light obtained in the process of passing through the defect portion can be obtained as two-dimensional pattern information, and can be used as information for determining the type of defect. And it has been required to increase the resolution per pixel of the line sensor so that the pattern information of the intensity change of the inspection light in the width direction can be obtained with high accuracy.
  • the line sensor camera it is normal to use the line sensor camera with a standard setting in which the optical axis of the line sensor camera coincides with the edge of the light shielding plate.
  • some of the configuration of the inspection device such as the frame and brackets that support the lighting device and line sensor camera, change the ambient temperature. It may be deformed by such as.
  • the optical axis of the line sensor camera may deviate from the edge of the light shielding plate, or the parallel of the direction of the pixel array of the line sensor and the edge may be broken.
  • the photoelectric output obtained from the line sensor is increased or decreased according to the shifted direction. For this reason, there exists a possibility that the precision of a defect inspection may deteriorate.
  • the pixel size is reduced in order to increase the resolution per pixel of the line sensor, the sensitivity to spatial displacement becomes sensitive accordingly. It becomes impossible to detect, and it becomes difficult to maintain the inspection accuracy stably.
  • the light quantity can be stabilized by general feedback control against fluctuations in the light quantity of the lighting device itself.
  • the variation in the amount of light accompanying the change in the relative position between the optical axis of the camera and the edge of the light shielding plate cannot be handled by the light amount control of the illumination device.
  • the present invention irradiates light on one surface of a subject such as a transparent sheet while continuously moving the inspection light transmitted from the other surface over the edge of the light shielding plate.
  • a subject such as a transparent sheet
  • the inspection accuracy is kept stable. It is to provide a defect inspection method.
  • the defect inspection method of the present invention includes a continuous movement step, an irradiation step, an installation step, a light receiving step, and an evaluation step.
  • the continuous movement step the transparent web-like or sheet-like subject is continuously moved.
  • the irradiation step light is irradiated from the light emitting surface of the illumination device having a rectangular light emitting surface toward one surface of the subject that is continuously moving.
  • the long side of the light emitting surface is longer than the width of the subject.
  • the long side direction of the light emitting surface is arranged at a predetermined angle with respect to the moving direction of the subject.
  • the installation step is provided between the light emitting surface and the subject with the light shielding plate positioned.
  • the light shielding plate has a central area and an end area.
  • the central area entirely covers the light emitting surface in the width direction of the subject, and partially covers the moving direction of the subject with a straight edge that intersects the moving direction at a predetermined angle as a boundary.
  • a through hole having a predetermined pattern is formed in a light shielding region that covers the end of the light emitting surface in the moving direction of the subject.
  • the light shielding plate is positioned so that the edge coincides with the optical axis of the line sensor camera.
  • the line sensor of the line sensor camera receives the edge light from the edge of the light emitting surface that has passed outside the width of the subject together with the inspection light transmitted through the subject.
  • the line sensor camera faces the other surface of the subject and is arranged so that the arrangement direction of the pixels of the line sensor is parallel to the long side direction of the light emitting surface.
  • the presence or absence of a defect in the subject is evaluated based on the photoelectric signal in the center area obtained from the line sensor camera, and the relative position of the light shielding plate with respect to the line sensor camera is evaluated based on the photoelectric signal in the end area.
  • the relative position of the light shielding plate with respect to the line sensor camera is determined by referring to both the photoelectric signal in the center area and the photoelectric signal in the end area, and the moving direction of the subject from the standard position with respect to the optical axis of the line sensor camera. It is preferable to make an evaluation based on whether or not there is a difference.
  • the light-shielding plate and the optical axis are adjusted using an adjusting means that mechanically or optically adjusts the edge of the light-shielding plate to match the optical axis of the line sensor camera Are preferably matched.
  • the adjustment means for optical adjustment rotate a transparent member having a uniform refractive index and thickness provided so as to cover the entire width direction of the subject. It is preferable that a concave cylindrical lens is provided on the optical path of the end light between the subject and the light shielding plate. It is preferable to adjust the amount of light emitted from the lighting device so that the photoelectric signal intensity in the central area is substantially constant.
  • the present invention it is possible to evaluate the presence / absence of a defect in the subject based on the photoelectric signal obtained from the central area, and to determine the relative position of the light shielding plate with respect to the line sensor camera based on the photoelectric signal obtained from the end area. Can be detected. For this reason, it is possible to prevent the edge of the light shielding plate from shifting or tilting around the optical axis with respect to the optical axis of the line sensor camera, and to maintain stable inspection accuracy.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view of a defect inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. It is sectional drawing of the defect inspection apparatus of FIG. It is explanatory drawing of the defect inspection example of the defect inspection apparatus which concerns on embodiment of this invention. It is a figure explaining 1st Embodiment of the light shielding member used for the defect inspection apparatus which concerns on embodiment of this invention. It is a figure explaining the change of the signal of the line sensor with respect to the change of an optical-axis surface about 1st Embodiment of the light shielding member used for the defect inspection apparatus which concerns on embodiment of this invention. It is a figure explaining 2nd Embodiment of the light shielding member used for the defect inspection apparatus which concerns on embodiment of this invention.
  • the defect inspection apparatus 2 irradiates light on one surface of the subject 3 while continuously moving the transparent web-like or sheet-like subject 3. Based on the transmitted inspection light, the object is inspected for defects.
  • Examples of the subject 3 include a film and glass.
  • the defect inspection apparatus 2 includes an illumination device 4, a line sensor camera 6, and a plate-shaped light shielding member 8.
  • the illumination device 4 is provided on one side (the lower side in the figure) of the subject 3 and irradiates the subject 3 with light.
  • the line sensor camera 6 is provided on the opposite side of the subject 3 from the illumination device 4 (upper side in the drawing) and receives the inspection light.
  • the light blocking member 8 is provided between the subject 3 and the illumination device 4 and partially blocks light emitted from the illumination device 4.
  • the illumination device 4 includes a rectangular light emitting surface 4A having a length exceeding the width of the subject 3, and the long side direction of the light emitting surface 4A is arranged orthogonal to the moving direction X of the subject 3.
  • the light emitting surface 4A is parallel to the subject 3 passing through.
  • the width of the subject 3 is a length in a direction orthogonal to the moving direction of the subject 3.
  • the lighting device 4 is provided with a plurality of light emitting diodes 4B arranged in parallel in the long side direction of the light emitting surface 4A so as to face the light emitting surface 4A, and a diffusion plate 4C is provided on the light emitting surface 4A side. It has been. Therefore, the illuminating device 4 irradiates light from the light emitting surface 4A with extremely little coordinate dependency of the light emission intensity. Note that another light emitting element may be used instead of the light emitting diode 4B.
  • the line sensor camera 6 includes a lens 6A and a line sensor 6B.
  • the line sensor 6B includes a plurality of sensors (not shown) arranged in a line in the width direction of the subject 3, and receives light from a line-shaped examination area having a certain width.
  • the lens 6A of the line sensor camera 6 is disposed to face the light emitting surface 4A, and the optical axis of the lens 6A and the optical axis 10 of the line sensor camera 6 pass through the approximate center of the light emitting surface 4A in the moving direction X of the subject 3.
  • the light emitted from the illumination device 4 to the subject 3 is transmitted through the subject 3 and received by the respective sensors of the line sensor 6B via the lens 6A and converted into a photoelectric signal.
  • the focus of the line sensor camera 6 is matched to the surface of the subject 3.
  • the light shielding member 8 entirely covers the light emitting surface 4A in the width direction of the subject 3.
  • the light shielding member 8 is entirely covered with a central area partially covering the linear edge 8A orthogonal to the movement direction X as a boundary and a light emitting surface end in the movement direction of the subject. And an end area formed with a predetermined pattern of through holes in the light shielding area. Details of the central area and the end area will be described later with reference to another drawing.
  • the light shielding member 8 is positioned so that the edge 8A coincides with the optical axis 10 of the line sensor camera 6.
  • the light shielding member 8 includes, for example, a light shielding plate 30 (see FIGS.
  • FIGS. 6 and 7 a light shielding plate 40 (see FIGS. 6 and 7) according to the second embodiment, and a third.
  • the light-shielding plate 50 (refer FIG. 8, FIG. 9) which is this embodiment is used.
  • the first, second, and third embodiments will be specifically described later.
  • the subject 3 is a web-like transparent film
  • the subject 3 may be other if it satisfies a desired condition, such as a transparent film or a transparent glass plate that is not web-shaped.
  • the web-like transparent film supply roller, its take-up roller, and its carrying roller are used for transporting the subject 3 stably in one direction.
  • a system is provided.
  • the defect inspection apparatus 2 includes a system controller 11, a light intensity adjustment unit 12, a camera operation unit 14, a signal processing unit 16, a defect determination unit 18, And a defect display unit 19.
  • the system controller 11 controls the entire system of the defect inspection apparatus 2.
  • the light intensity adjusting unit 12 adjusts the light intensity irradiated from the illumination device 4.
  • the camera operating unit 14 operates the line sensor camera 6.
  • the signal processing unit 16 processes the photoelectric signal acquired by the line sensor 6 ⁇ / b> B of the line sensor camera 6.
  • the defect determination unit 18 determines the defect of the subject 3 from the processing result of the photoelectric signal in the central area.
  • the defect display unit 19 displays the defect of the subject 3 determined by the defect determination unit 18. As shown in FIG.
  • the defect inspection apparatus 2 includes a light shielding plate position detection unit 21, an alarm unit 22, a light shielding plate position adjustment unit 23, and a recording unit 25.
  • the light shielding plate position detection unit 21 detects the position of the light shielding member 8 from the processing result of the photoelectric signal in the end area.
  • the alarm unit 22 issues an alarm indicating that the edge 8A of the light shielding member 8 does not match when the edge 8A does not match the optical axis 10 of the line sensor camera 6.
  • the light shielding plate position adjusting unit 23 mechanically or optically adjusts the light shielding member 8 and the line sensor camera 6 so that the edge 8A of the light shielding member 8 matches the optical axis 10 of the line sensor camera 6.
  • the light shielding plate position adjusting unit 23 adjusts at least one of the posture of the light shielding member 8 and the inspection area by the line sensor camera 6 so that the edge 8A is parallel to the line-shaped inspection area.
  • the state where the edge 8A matches the inspection area means that the edge 8A enters the inspection area when the light shielding member 8 is viewed from the line sensor camera 6.
  • the recording unit 25 records the signal-processed photoelectric signal, the light intensity information of the illumination device 4, the position information of the light shielding member 8, and the like.
  • the alarm issued by the alarm unit 22 may be anything such as a sound or light.
  • a photoelectric signal in the central area when the subject 3 has bright defects 3A and 3D and dark defects 3B and 3C will be described with reference to FIG.
  • the bright defects 3A and 3D are portions where an intensity stronger than the intensity of the photoelectric signal obtained by transmitting through the portion of the subject 3 that does not have a defect is obtained.
  • the dark defects 3 ⁇ / b> B and 3 ⁇ / b> C are sites where an intensity that is weaker than the intensity of the photoelectric signal obtained by transmitting through a portion having no defect is obtained.
  • the photoelectric signals in the central area in the measurement lines (A), (B), (C), (D), and (E) crossing the defect are respectively shown in (A), (B), (C), and (D of FIG. ), (E).
  • the photoelectric signal in the central area in the measurement line (F) that does not cross the defect becomes a straight line of a certain level without a peak or the like as shown in FIG. More specifically, when the bright part sandwiching the edge 8A of the light shielding member 8 is white having a density of 0% and the dark part is black having a density of 100%, the subject 3 is normal without defects. A normal signal P maintained at a normal signal level over the entire width of the subject 3 is obtained. This normal signal level corresponds to a gray photoelectric signal having a density of 50% obtained from the line sensor 6B. On the other hand, when the subject 3 has a defect, as shown in FIGS. 3A to 3E, respective defect signals Q are obtained at the corresponding portions.
  • these photoelectric signals are processed and expressed as a two-dimensional pattern or line scan image having a density distribution to detect bright defects 3A and 3D and dark defects 3B and 3C in the subject 3. Is done.
  • the measurement line is the aforementioned inspection area.
  • the light shielding plate 30 which is the first embodiment of the light shielding member 8 includes a central area 30B having an edge 30A and end areas 30C provided at both ends of the light shielding plate 30 in the width direction. And having.
  • the width direction of the light shielding plate 30 is a direction that coincides with the long side direction of the light emitting surface 4A, and the same applies to the light shielding plates 40 and 50 described later.
  • Each of the end areas 30C includes a light shielding region and a slit 30D having a certain width and having a certain length straddling the extension line of the edge 30A.
  • the measurement line 27A is a measurement line when the edge 30A is orthogonal to the moving direction X of the subject 3 and coincides with the optical axis 10 of the line sensor camera 6, that is, when the light shielding plate 30 is at an appropriate position in the inspection. The measurement line is shown.
  • the line sensor camera 6 obtains a photoelectric signal as shown in FIG.
  • This photoelectric signal has a signal intensity of 32A in the center area 30B where there is no defect, a photoelectric signal stronger than the signal intensity 32A is obtained where there are bright defects 3A and 3D, and where there are dark defects 3B and 3C.
  • a photoelectric signal weaker than the signal intensity 32A is obtained.
  • no photoelectric signal is obtained in the light shielding region, and a photoelectric signal 32B much stronger than the signal intensity 32A is obtained in the region having the slit 30D.
  • the light shielding plate 40 which is the second embodiment of the light shielding member 8 includes a central area 40B having an edge 40A and end areas provided at both ends of the light shielding plate 40 in the width direction. 40C.
  • Each of the end areas 40C has a light shielding region and a wedge-shaped gap 40D in which the gap width continuously changes in the moving direction X of the subject 3 across the extension line of the edge 40A.
  • the measurement line 27A is a measurement line when the edge 40A is orthogonal to the moving direction X of the subject 3 and coincides with the optical axis 10 of the line sensor camera 6, that is, the light shielding plate 40. The measurement line when it is in an appropriate position for measurement is shown.
  • the line sensor camera 6 obtains a photoelectric signal as shown in FIG.
  • the signal intensity in the central area 40B in a place where there is no defect is 42A
  • a photoelectric signal stronger than the signal intensity 42A is obtained where the bright defects 3A and 3D are present, and where the dark defects 3B and 3C are present.
  • a photoelectric signal weaker than the signal intensity 42A is obtained.
  • no photoelectric signal is obtained in the light shielding area, and a signal intensity 42B having a signal width 42C that is much stronger than the signal intensity 42A is obtained in the area having the wedge-shaped gap 40D.
  • a light shielding plate 50 which is a third embodiment of the light shielding member 8 includes a central area 50B having an edge 50A and end areas 50C provided at both ends of the light shielding plate 50 in the width direction. And having.
  • Each end area 50C is provided with a light-shielding region and slits 50D1, 50D2, 50D3, and 50D4 having a certain width and having a certain length in the moving direction X of the subject 3.
  • the slits 50D1, 50D2, 50D3, and 50D4 are provided in this order from the central area 50B side, and the length of the subject 3 in the moving direction changes in this order.
  • the slits 50D1 and 50D2 are designed to have a length that extends over the extension line of the edge 50A, and the slits 50D3 and 50D4 are designed to be short enough not to cross the extension line of the edge 50A.
  • the measurement line 27A is a measurement line when the edge 50A is orthogonal to the moving direction of the subject 3 and coincides with the optical axis 10 of the line sensor camera 6, that is, a light shielding plate. The measurement line when 50 is in an appropriate position for measurement is shown.
  • the line sensor camera 6 obtains a photoelectric signal as shown in FIG.
  • the signal intensity in a place where there is no defect is 52A in the central area 50B, and a photoelectric signal stronger than the signal intensity 52A is obtained where the bright defects 3A and 3D are present, and where the dark defects 3B and 3C are present.
  • a photoelectric signal weaker than the signal intensity 52A is obtained.
  • no photoelectric signal is obtained in the light shielding area, and a signal intensity 52B much stronger than the signal intensity 52A is obtained in the area having the slits 50D1 and 50D2.
  • a photoelectric signal cannot be obtained as in the light shielding region.
  • the web-like transparent film that is the subject 3 is stably moved in the longitudinal direction by the transport system provided in the defect inspection apparatus 2 according to the present invention.
  • a web-like transparent film that is the subject 3 moves from the lower right direction to the upper left direction in FIG. 1 at a constant speed, and passes between the defect inspection apparatuses 2 at a constant speed.
  • the illumination device 8 when the light shielding member 8 is disposed at a relatively appropriate position with respect to the line sensor camera 6 so that the edge 8 ⁇ / b> A overlaps the optical axis 10, the illumination device The light is emitted from one light emitting surface 4A to the one surface of the subject 3 through the light shielding member 8 and the inspection light transmitted through the subject 3 is passed through the lens 6A disposed in the line sensor camera 6 to the line sensor.
  • the light is received by 6B, converted into a photoelectric signal, and acquired.
  • the illumination intensity of the illumination device 4 is controlled by the light intensity adjustment unit 12 controlled by the system controller 11 so that the signal intensities 32A, 42A, and 52A are always constant.
  • the line sensor camera 6 is received, converted, and acquired by a camera operating unit 14 controlled by a system controller 11.
  • the photoelectric signal acquired by the line sensor 6B is processed by the signal processing unit 16 so as to become plane distribution data, and the processing result is recorded by the recording unit 25.
  • a waveform corresponding to a bright defect for example, reference numerals 3A and 3D in FIG. 3
  • a dark defect for example, reference numerals 3B and 3C in FIG. 3
  • the defect display unit 19 displays the portion determined to be a defect and the type of the defect on the display.
  • the relative positions of the light shielding plates 30, 40, 50 with respect to the optical axis 10 of the line sensor camera 6 are detected by the light shielding plate position detection unit 21 from the photoelectric signals of the end areas 30C, 40C, 50C. If the relative position is not appropriate for the inspection, the alarm unit 22 issues an alarm, and the light shielding plate position adjusting unit 23 adjusts the relative position mechanically or optically.
  • the position adjustment method for example, the light shielding plates 30, 40, and 50 are moved to a relative position suitable for inspection to be an appropriate relative position, or the optical axis 10 is suitable for inspection using an optical member. There are optical methods for positioning. Hereinafter, a method for detecting the positions of the respective light shielding plates 30, 40, 50 will be described.
  • the measurement line 27B shown in FIG. 5, FIG. 7 and FIG. 9 is a measurement line when the edge 30A is shifted parallel to the side where the light shielding plate 30 is located from the measurement line 27A, and the measurement line 27C is the measurement line 27A.
  • the measurement line 27B is a measurement line when shifted to the opposite side.
  • the measurement line 27D is a measurement line when the measurement line 27A is deviated counterclockwise around the midpoint (the center in the horizontal direction of the drawing) of the edge 30A.
  • the measurement lines 27B, 27C, and 27D are all measurement lines when they do not coincide with the optical axis 10 of the line sensor camera 6.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27A is as shown in FIG.
  • the signal intensity 34A in the central area 30B decreases compared to the signal intensity 32A
  • the signal intensity 34B in the end area 30C remains the signal intensity 32B.
  • the light intensity adjustment unit 12 adjusts the illumination intensity of the illumination device 4 in a direction in which the illumination intensity of the illumination device 4 is increased so that the signal intensity 34A becomes equal to the signal intensity 32A.
  • the signal strength 34B becomes smaller than the signal strength 32.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27B is as shown in FIG.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27C changes in the opposite direction to that in the case of the measurement line 27B, and the illumination intensity of the illuminating device 4 is weakened so that the signal intensity 36A of the central area 30B becomes equal to the signal intensity 32A. Adjusted. Correspondingly, the signal intensity 36B of the end area 30C becomes larger than the signal intensity 32. As a result, the photoelectric signal in the case of the measurement line 27C is as shown in FIG.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27D has a width direction coordinate dependency on the signal intensity 38A of the central area 30B. Further, if the average of the coordinate in the width direction of the signal intensity 38 is taken, it becomes equal to the signal intensity 38A, so the illumination intensity of the illumination device 4 is not particularly adjusted. Therefore, the signal intensity 38B of the end area 30C does not change from the signal intensity 32B. As a result, the photoelectric signal in the case of the measurement line 27D is as shown in FIG.
  • the direction and size of the shift due to the parallel movement of the measurement line with respect to the optical axis 10 is read by the magnitude of the signal intensity 32B when the measurement line of the signal intensity of the end area 30C is 27A. It is done.
  • the signal intensity is less than 32B, it can be read that the measurement line is displaced in the direction of 27B, and when it is greater, it can be read that the measurement line is displaced in the direction of the measurement line 27C.
  • the displacement due to the rotational movement of the measurement line with respect to the optical axis is read from the width direction coordinate dependency of the signal intensity in the central area 30B. In this way, the deviation due to the parallel movement and the rotational movement with respect to the optical axis of the measurement line is read from the photoelectric signal.
  • the change in the photoelectric signal accompanying the change in the measurement line will be described with reference to FIG.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27A is as shown in FIG.
  • the signal intensity 44A in the central area 40B decreases compared to the signal intensity 42A
  • the signal intensity 44B in the end area 40C remains the signal intensity 42B.
  • the signal widths 44C and 44D in the end area are wider than the signal widths 42C and 42D, respectively.
  • the light intensity adjustment unit 12 adjusts the illumination intensity of the illumination device 4 so that the signal intensity 44A becomes equal to the signal intensity 42A, and the signal intensity 44B becomes smaller than the signal intensity 42B accordingly.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27B is as shown in FIG.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27C changes in the opposite direction to that in the case of the measurement line 27B, and the illumination intensity of the illumination device 4 decreases in such a direction that the signal intensity 46A in the central area 40B becomes equal to the signal intensity 42A.
  • the signal strength 46B of the end area 40C is greater than the signal strength 42B.
  • the signal widths 46C and 46D in the end area are narrower than the signal widths 42C and 42D, respectively.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27D has a width direction coordinate dependency on the signal intensity 48A in the central area 40B. Further, if the average of the width direction coordinates of the signal intensity 48A is taken, it becomes equal to the signal intensity 42A. Therefore, the illumination intensity of the illumination device 4 is not particularly adjusted. Therefore, the signal intensity 48B of the end area 40C does not change from the signal intensity 42B. On the other hand, regarding the signal width of the end area, on the one hand, the signal width 48C is wider than the signal width 42C, and on the other hand, the signal width 48D is narrower than the signal width 42D.
  • the direction and size of the shift due to the parallel movement of the measurement line with respect to the optical axis 10 can be read by the following two elements.
  • One is the magnitude of the signal intensity in the end area 40C relative to the signal intensity 42B when the measurement line is at 27A, and the other is the signal width in the end area 40C when the measurement line is at 27A.
  • the signal widths 42C and 42D are large and small. When the signal intensity is smaller than 42B, it can be read that the measurement line is displaced in the direction of 27B, and when it is larger, the measurement line is displaced in the direction of 27C, and the deviation width can be read from the intensity difference from the signal intensity 42B.
  • the signal width is larger than the signal widths 42C and 42D, it can be read that the measurement line is displaced in the direction of 27B, and when it is smaller, the measurement line is displaced in the direction of 27C. it can.
  • the shift due to the rotational movement of the measurement line with respect to the optical axis 10 is read from the width direction coordinate dependency of the signal intensity in the central area 40B. In addition, it is also read from the difference in signal width between the end areas 40C. In this way, the deviation due to the parallel movement and the rotational movement of the measurement line with respect to the optical axis 10 is read from the photoelectric signal.
  • the deviation can be read with higher accuracy than in the first embodiment.
  • the change in the photoelectric signal accompanying the change in the measurement line will be described with reference to FIG.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27A is as shown in FIG. 9A as described above.
  • the signal intensity 54A in the central area 50B decreases compared to the signal intensity 52A, and the signal intensity 54B in the end area 50C remains the signal intensity 52B.
  • the measurement line 27B crosses 50D3 in addition to the slits 50D1 and 50D2
  • the number of signals in the end area increases from two to three.
  • the light intensity adjusting unit 12 adjusts the illumination intensity of the illumination device 4 so that the signal intensity 54A becomes equal to the signal intensity 52A, and accordingly, the signal intensity 54B becomes smaller than the signal intensity 52B.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27B is as shown in FIG.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27C changes in the opposite direction to that in the case of the measurement line 27B, and the illumination intensity of the illumination device 4 decreases in such a direction that the signal intensity 56A of the central area 50B becomes equal to the signal intensity 52A.
  • the signal strength 56B of the end area 50C is greater than the signal strength 52B.
  • the measurement line 27C crosses only the slit 50D1 and does not cross 50D2, the number of signals in the end area decreases from two to one.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27C is as shown in FIG.
  • the photoelectric signal in the case of the measurement line 27D has a width direction coordinate dependency on the signal intensity 58A of the central area 50B. Further, if the average of the width direction coordinates of the signal intensity 58A is taken, it becomes equal to the signal intensity 52A, so the illumination intensity of the illumination device 4 is not particularly adjusted. Therefore, the signal intensity 58B of the end area 50C does not change from the signal intensity 52B. On the other hand, since the measurement line 27D only crosses the slit 50D1 and does not cross 50D2 in one end area 50C, the number of signals in the end area decreases from two to one. Since the other end portion 50C crosses 50D3 in addition to slits 50D1 and 50D2, the number of signals in the end area increases from two to three.
  • the direction and size of the displacement due to the parallel movement of the measurement line with respect to the optical axis can be read by the following two elements.
  • One is the magnitude of the signal intensity in the end area 50C with respect to the signal intensity 52B when the measurement line is at 27A, and the other is the number of the signal in the end area 50C, which is at 27A. It is an increase or decrease with respect to the number of signals at the time.
  • the signal intensity is smaller than 52B, it can be read that the measurement line is displaced in the direction of 27B, and when it is greater, the measurement line is displaced in the direction of 27C, and the deviation width can be read from the intensity difference from the signal intensity 52B.
  • the measurement line can be read as 27B, and when it decreases, the measurement line can be read as being shifted in the direction of 27C, and the shift width can be read from the difference in the number of signals.
  • the shift due to the rotational movement of the measurement line with respect to the optical axis 10 is read from the width direction coordinate dependency of the signal intensity in the central area 50B.
  • it is also read from the difference in the number of signals in the end area 50C.
  • the deviation due to the parallel movement and the rotational movement of the measurement line with respect to the optical axis 10 is read from the photoelectric signal.
  • the third embodiment as in the second embodiment, there are two types of information from which the deviation of the measurement line with respect to the optical axis can be read. Therefore, the deviation is read with higher accuracy than in the first embodiment. Can do.
  • the defect inspection apparatus 60 is a first modification of the defect inspection apparatus 2.
  • the defect inspection apparatus 60 is a transparent member having a uniform refractive index and thickness so as to cover the entire area in the width direction of the subject 3 between the subject 3 and the line sensor camera 6. 62 is provided.
  • the transparent member 62 is rotatably installed and acts as an optical axis refraction mechanism that refracts the optical axis 10 by controlling the rotation angle as shown in FIG.
  • symbol as FIG. 1 is attached
  • the example shown in FIG. 10 is transparent without causing the light shielding member 8 and the light shielding plates 30, 40, 50 described in the defect inspection apparatus 2 to move in parallel with respect to the optical axis surface with respect to the displacement caused by the parallel movement of the optical axis surface.
  • the optical axis 10 is translated by adjusting the rotation of the member 62.
  • the position adjustment of the light shielding member 8 and the light shielding plates 30, 40, 50 is performed only for the movement corresponding to the displacement due to the rotational movement.
  • a defect inspection apparatus 70 is a second modification of the defect inspection apparatus 2.
  • the defect inspection apparatus 70 is provided with a concave cylindrical lens 72 in addition to the defect inspection apparatus 2.
  • the concave cylindrical lens 72 is provided between the subject 3 and the light shielding member 8 on the optical path of the end light that is irradiated to the end area of the light shielding member 8 and detected.
  • symbol as FIG. 1 is attached
  • the concave cylindrical lens 72 has a function of spatially enlarging it when an optical axis shift occurs. Thereby, the amount of optical axis deviation is detected with higher accuracy, and high sensitivity is maintained for minute defects. Moreover, you may use combining a 1st modification and a 2nd modification.
  • the above embodiment describes a method and an apparatus for inspecting a defect such as a surface of the subject 3 while moving the film on the assumption that the subject 3 is a web-like transparent film.
  • the present invention is not limited to this.
  • a method and an apparatus for inspecting a defect such as a surface of a transparent glass plate while moving the glass plate are also within the scope of the present invention.
  • the defect inspection device is designed to be movable in consideration of its large mass. It is within the scope of the present invention to inspect defects while moving.
  • the light passing ratio of the light emitted from the lighting device is changed by moving the light shielding plate and the optical axis. It is also within the scope of the present invention to make design changes as appropriate.
  • the focus of the line sensor camera 6 is adjusted to the surface of the subject 3, but the present invention is not limited to this. For example, even if the edge 8A of the light shielding member 8 is focused, it is possible to perform the same inspection. Further, the focusing position may be in the vicinity of the surface of the subject 3 and the edge 8A, and it is practically possible to perform the same examination even when the subject 3 is placed between the subject 3 and the edge 8A. .
  • the illumination light is irradiated from the illumination device 4 to the subject 3 through the light shielding member 8, and the inspection light transmitted through the subject 3 and the end light that has passed outside the width of the subject 3. Is received by the line sensor camera 6.
  • the reflected light is used as the inspection light instead of the transmitted light, the total reflection mirror is placed outside the width of the subject, and the reflected light from the total reflection mirror is at the end. It is also within the scope of the present invention to change the design to be received by the line sensor camera 6 as light.
  • the angle between the moving direction of the subject 3 and the long side direction of the light emitting surface 4A of the illumination device 4 and the angle between the moving direction of the subject 3 and the edge 8A of the light shielding member 8 are vertical. In some cases, this is not a limitation. For example, even when these angles are predetermined angles other than 90 degrees, such as 60 degrees and 45 degrees, they are also within the scope of the present invention.
  • the present invention is not limited to this, and the case where a plurality of cameras are arranged in the measurement width direction is also within the scope of the present invention.
  • the line sensor camera in the present specification and the claims of the present application includes an aspect in which a plurality of cameras are arranged in the measurement width direction.

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Abstract

 被検体(3)の欠陥の有無を欠陥検査装置(2)により検査する。欠陥検査装置(2)は、照明装置(4)と、ラインセンサカメラ(6)と、プレート状の遮光部材(8)とを備える。遮光部材(8)には、中央エリアと端部エリアとが設けられている。中央エリアは、被検体(3)の移動方向Xにおいて、被検体(3)の移動方向と所定の角度で交わる直線状のエッジ(8A)を境界にして発光面(4A)を部分的に覆う。端部エリアには、発光面(4A)の端部を被検体(3)の移動方向で全体的に覆う遮光領域に所定パターンの透孔が形成されている。中央エリアで被検体(3)の欠陥の有無を評価し、端部エリアでラインセンサカメラ(6)に対する遮光部材(8)の相対位置を検出する。

Description

欠陥検査方法
 本発明は、欠陥検査方法に関するものである。
 透明なウェブ状またはシート状の被検体に欠陥が存在するか否かについては、非接触でオンライン検査することができる。オンライン検査は、このような被検体を連続移動させ、その幅方向に光をスキャンし、又は幅方向を横切るようなライン状の光を照射し、被検体からの透過光のレベル変動を光電的に監視することによって行われる。チェック対象となる欠陥には、製品の材質や品質レベルあるいはその用途などに応じ、ピンホール、粒状物の混入、スリ傷、光学歪みなど様々なものがある。
 特許第4132046号公報で知られる検査装置は、移動するウェブ状の透明シートを被検体とし、その下面側に幅方向に細長い発光面を有する照明装置を配置し、上面側にラインセンサカメラを配置している。照明装置は遮光プレートを備え、そのエッジが発光面の長手方向と平行となるように発光面を被検体の移動方向に関して部分的に遮光している。ラインセンサカメラに組み込まれたラインセンサは、その画素配列の方向が遮光プレートのエッジと平行に合わせられる。カメラの光軸は遮光プレートのエッジと一致するように調整される。またラインセンサカメラのピントは被検体の表面近傍に合わせられる。したがってラインセンサ上では遮光プレートのエッジによる明暗の境界はぼやけて不鮮明になり、被検体が正常な透明体である場合には遮光プレートによる明部と暗部の中間の50%濃度の灰色光がラインセンサに入射する。
 遮光プレートを併用した上記検査装置によれば、被検体になんら欠陥がなければ、被検体の全幅にわたってラインセンサからは50%濃度の灰色光に相当する光電信号が得られる。これに対し、被検体に何らかの欠陥が含まれている場合には、光吸収や光散乱などによりラインセンサから得られる光電信号が変化する。そして、欠陥部が遮光プレートのエッジを通過する過程では、被検体の移動方向及び幅方向で欠陥の種類に応じた濃度パターンが現れる。この手法によれば、欠陥部が通過する過程で得られる検査光の変化が二次元のパターン情報として得られるようになり、欠陥の種類を判別する情報としても利用可能となる。そして、幅方向における検査光の強度変化のパターン情報を高精度で得ることができるように、ラインセンサ一画素あたりの分解能を高くすることが求められてきている。
 一方、上述の検査装置では、ラインセンサカメラの光軸を遮光プレートのエッジに一致させた標準設定で使用するのが通常である。ところが、当初は標準設定にしておいたとしても、繰り返し使用している間に、検査装置の構成の一部、例えば照明装置やラインセンサカメラを支持しているフレームやブラケット類が周囲温度の変化などによって変形してしまうことがある。この結果、ラインセンサカメラの光軸が遮光プレートのエッジから外れ、あるいはラインセンサの画素配列の方向とエッジとの平行が崩れたりすることがある。
 こうして遮光プレートのエッジによる明暗の境界線がラインセンサに対してずれてしまうと、ずれた方向に応じてラインセンサから得られる光電出力が増減する結果となる。このため、欠陥検査の精度が劣化するおそれがある。特に、ラインセンサの一画素あたりの分解能を高くするために画素サイズを小さくすると、これに応じて空間的な位置ずれに対する感度が敏感になるため標準設定では適正レベルに検出できていた光電信号が検出できなくなり、検査精度を安定に維持することが困難になる。なお、照明装置自体の光量変動に対しては、一般的なフィードバック制御で光量の安定化は図ることができる。しかし、上述のカメラの光軸と遮光プレートのエッジとの相対位置の変化に伴う光量変動に対しては、照明装置の光量制御では対応することができない。
 そこで、本発明は、透明なシートなどの被検体を連続的に移動させながらその一方の面に光を照射し、他方の面から透過してくる検査光を遮光プレートのエッジ越しにラインセンサカメラで受光して欠陥の有無を検査するにあたり、ラインセンサカメラの光軸に対して遮光プレートのエッジがずれたり、あるいは光軸回りに傾いたりすることを防ぎ、検査精度が安定に保たれるようにした欠陥検査方法を提供することにある。
 上記目的を達成するために、本発明の欠陥検査方法は、連続移動ステップと、照射ステップと、設置ステップと、受光ステップと、評価ステップとを備える。連続移動ステップは、透明なウェブ状またはシート状の被検体を連続移動させる。照射ステップは、矩形の発光面を備える照明装置の発光面から、連続移動中の被検体の一方の面に向けて光を照射する。発光面の長辺は、被検体の幅を超える長さである。照明装置は、発光面の長辺方向が被検体の移動方向に所定の角度で配置される。設置ステップは、遮光プレートを位置決めした状態で発光面と被検体との間に設ける。遮光プレートは、中央エリアと端部エリアとを有する。中央エリアは、発光面を被検体の幅方向では全体的に覆い、被検体の移動方向では移動方向と所定の角度で交わる直線状のエッジを境界にして部分的に覆う。端部エリアは、発光面の端部を被検体の移動方向で全体的に覆う遮光領域に所定パターンの透孔が形成されている。遮光プレートは、エッジがラインセンサカメラの光軸と合致するように位置決めされる。受光ステップは、ラインセンサカメラのラインセンサにより、被検体を透過してきた検査光と共に被検体の幅外を通過した発光面端部からの端部光を受光する。ラインセンサカメラは、被検体の他方の面に対面し、ラインセンサの画素の配列方向が発光面の長辺方向と平行になるように配置される。評価ステップは、ラインセンサカメラから得られる中央エリアの光電信号に基づいて被検体の欠陥の有無を評価し、端部エリアの光電信号に基づいてラインセンサカメラに対する遮光プレートの相対位置を評価する。
 ラインセンサカメラに対する遮光プレートの相対位置を、中央エリアの光電信号と端部エリアの光電信号との双方を参照し、ラインセンサカメラの光軸に対して遮光プレートが標準位置から被検体の移動方向にずれているか否かで評価することが好ましい。
 ラインセンサカメラに対する遮光プレートの相対位置を、端部エリアの各々の光電信号を対照し、ラインセンサカメラの画素の配列方向と遮光プレートのエッジとの相対的な平行度で評価することが好ましい。
 ラインセンサカメラに対する遮光プレートの相対位置の評価結果に基づき、遮光プレートのエッジがラインセンサカメラの光軸と合致していないときに合致していないことの警告を発することが好ましい。
 ラインセンサカメラに対する遮光プレートの相対位置の評価結果に基づき、遮光プレートのエッジがラインセンサカメラの光軸と合致するように機械的又は光学的に調整する調整手段を用いて遮光プレートと光軸とを合致させることが好ましい。
 光学的に調整する調整手段は、被検体の幅方向に全体に覆うように設けられた屈折率及び厚みが均一な透明部材を回転することが好ましい。被検体と遮光プレートの間の端部光の光路上に、それぞれ凹シリンドリカルレンズが設けられていることが好ましい。中央エリアの光電信号強度が略一定となるように、照明装置から照射される光量を調整することが好ましい。
 本発明によれば、中央エリアから得られる光電信号に基づいて被検体の欠陥の有無を評価することができ、端部エリアから得られる光電信号に基づいてラインセンサカメラに対する遮光プレートの相対位置を検出することができるようになる。このため、ラインセンサカメラの光軸に対して遮光プレートのエッジがずれたり、あるいは光軸回りに傾いたりすることを防ぎ、検査精度を安定に保つことができる。
本発明の実施形態に係る欠陥検査装置の概略斜視図である。 図1の欠陥検査装置の断面図である。 本発明の実施形態に係る欠陥検査装置の欠陥検査例の説明図である。 本発明の実施形態に係る欠陥検査装置に用いられる遮光部材の第1の実施形態を説明する図である。 本発明の実施形態に係る欠陥検査装置に用いられる遮光部材の第1の実施形態について、光軸面の変化に対するラインセンサの信号の変化を説明する図である。 本発明の実施形態に係る欠陥検査装置に用いられる遮光部材の第2の実施形態を説明する図である。 本発明の実施形態に係る欠陥検査装置に用いられる遮光部材の第2の実施形態について、光軸面の変化に対するラインセンサの信号の変化を説明する図である。 本発明の実施形態に係る欠陥検査装置に用いられる遮光部材の第3の実施形態を説明する図である。 本発明の実施形態に係る欠陥検査装置に用いられる遮光部材の第3の実施形態について、光軸面の変化に対するラインセンサの信号の変化を説明する図である。 本発明の実施形態に係る別の欠陥検査装置の断面図である。 本発明の実施形態に係る別の欠陥検査装置の概略斜視図である。 図11の欠陥検査装置の断面図である。
 図1に示すように、本発明に係る欠陥検査装置2は、透明なウェブ状またはシート状の被検体3を連続移動させながら被検体3の一方の面に光を照射し、被検体3を透過してきた検査光に基づいて被検体の欠陥の有無を検査する。被検体3としては、例えばフィルムやガラスなどがある。欠陥検査装置2は、照明装置4と、ラインセンサカメラ6と、プレート状の遮光部材8とを有する。照明装置4は、被検体3の一方側(図の下側)に設けられ、被検体3に光を照射させる。ラインセンサカメラ6は、被検体3に対して照明装置4と反対側(図の上側)に設けられ、検査光を受光する。遮光部材8は、被検体3と照明装置4との間に設けられ、照明装置4から照射される光を部分的に遮断する。
 照明装置4は、被検体3の幅を超える長さの矩形状の発光面4Aを備え、発光面4Aの長辺方向が被検体3の移動方向Xに直交して配置される。発光面4Aは、通過する被検体3と平行にされている。被検体3の幅とは、被検体3の移動方向に直交する方向における長さである。また、図2に示すように、照明装置4には、発光面4Aを向いて発光ダイオード4Bが発光面4Aの長辺方向に複数並列して設けられ、発光面4A側に拡散板4Cが設けられている。ゆえに照明装置4は、発光面4Aから発光強度の座標依存性が極めて少ない光を照射する。なお、発光ダイオード4Bの代わりに他の発光素子を用いてもかまわない。
 図2に示すように、ラインセンサカメラ6は、レンズ6Aと、ラインセンサ6Bとを備える。ラインセンサ6Bは、被検体3の幅方向でライン状に複数並んだセンサ(図示無し)等で構成されており、一定の幅をもつライン状の検査エリアからの光を受光する。ラインセンサカメラ6のレンズ6Aは発光面4Aと対向して配置され、レンズ6Aの光軸及びラインセンサカメラ6の光軸10が被検体3の移動方向Xにおける発光面4Aの略中心を通る。照明装置4から被検体3に照射された光は、被検体3を透過してレンズ6Aを介して、ラインセンサ6Bのそれぞれのセンサに受光されて、光電信号に変換される。また、ラインセンサカメラ6のピントは、被検体3の表面に合わせている。
 また、遮光部材8は、発光面4Aを被検体3の幅方向では全体的に覆う。遮光部材8は、被検体3の移動方向Xではその移動方向Xと直交する直線状のエッジ8Aを境界にして部分的に覆う中央エリアと、発光面端部を被検体の移動方向で全体的に覆う遮光領域に所定パターンの透孔を形成した端部エリアとを有する。中央エリアと端部エリアとの詳細については、別の図面を用いて後述する。遮光部材8は、エッジ8Aがラインセンサカメラ6の光軸10と合致する状態に位置決めされる。遮光部材8には、例えば、第1の実施形態である遮光プレート30(図4,図5参照)や、第2の実施形態である遮光プレート40(図6,図7参照)や、第3の実施形態である遮光プレート50(図8,図9参照)が、用いられる。第1,第2,第3の実施形態については、具体的にそれぞれ後述する。
 ここでは、被検体3をウェブ状の透明フィルムとする場合を例にして説明をする。しかし、被検体3は、ウェブ状でない透明フィルムや透明なガラス板など、所望の条件を満たすものであれば他のものであってもかまわない。被検体3がウェブ状の透明フィルムである場合には、被検体3が安定して一方向に移動するために、例えばウェブ状の透明フィルムの供給ローラ及びその巻取ローラ及びその搬送ローラといった搬送系が設けられる。
 加えて、本発明に係る欠陥検査装置2は、図1に示すように、システムコントローラ11と、光強度調整部12と、カメラ作動部14と、信号処理部16と、欠陥判定部18と、欠陥表示部19とを有する。システムコントローラ11は、欠陥検査装置2の全体のシステムを制御する。光強度調整部12は、照明装置4から照射される光強度を調整する。カメラ作動部14は、ラインセンサカメラ6を作動させる。信号処理部16は、ラインセンサカメラ6のラインセンサ6Bに取得された光電信号を処理する。欠陥判定部18は、中央エリアにおける光電信号の処理結果から被検体3の欠陥を判定する。欠陥表示部19は、欠陥判定部18により判定された被検体3の欠陥を表示する。また、欠陥検査装置2は、図1に示すように、遮光プレート位置検出部21と、警報部22と、遮光プレート位置調整部23と、記録部25とを有する。遮光プレート位置検出部21は、端部エリアにおける光電信号の処理結果から遮光部材8の位置を検出する。警報部22は、遮光部材8のエッジ8Aがラインセンサカメラ6の光軸10と合致していない時に合致していないことを示す警報を発する。遮光プレート位置調整部23は、遮光部材8のエッジ8Aがラインセンサカメラ6の光軸10と合致する状態に遮光部材8やラインセンサカメラ6を機械的又は光学的に調整する。この調整においては、遮光プレート位置調整部23は、エッジ8Aがライン状の検査エリアと平行な状態に、遮光部材8の姿勢とラインセンサカメラ6による検査エリアとの少なくともいずれか一方を調整する。エッジ8Aが検査エリアと合致する状態とは、遮光部材8をラインセンサカメラ6からみたときに、エッジ8Aが検査エリア内に入る状態であることを意味する。記録部25は、信号処理された光電信号及び照明装置4の光強度情報及び遮光部材8の位置情報などを記録する。なお、警報部22が発する警報は音によるものや光によるものなど、どのようなものであってもかまわない。
 被検体3が明欠陥3A,3Dと、暗欠陥3B,3Cとを有する場合の中央エリアにおける光電信号について、図3を用いて説明する。明欠陥3A,3Dは、被検体3の欠陥を有しない部分を透過して得られる光電信号の強度よりも強い強度が得られる部位である。暗欠陥3B,3Cは、欠陥を有しない部分を透過して得られる光電信号の強度よりも弱い強度が得られる部位である。欠陥を横切る測定ライン(A),(B),(C),(D),(E)における中央エリアの光電信号は、それぞれ図3の(A),(B),(C),(D),(E)のようになる。欠陥を横切らない測定ライン(F)における中央エリアの光電信号は、図3(F)に示す通り、ピーク等が無い一定のレベルの直線になる。より具体的には、遮光部材8のエッジ8Aを挟む明部を濃度0%の白、暗部を濃度100%の黒とするとき、被検体3が欠陥のない正常なものである場合には、被検体3の全幅に渡って正常信号レベルに保たれた正常信号Pが得られる。この正常信号レベルは、ラインセンサ6Bから得られる濃度50%の灰色の光電信号に相当する。一方、被検体3に欠陥がある場合には、図3の(A)~(E)に示すように、その該当箇所にそれぞれの欠陥信号Qが得られる。本発明に係る欠陥検査装置2では、これらの光電信号が処理され、濃度分布を持つ二次元パターンやラインスキャン画像として表現され、被検体3における明欠陥3A,3D及び暗欠陥3B,3Cが検出される。なお、測定ラインは、前述の検査エリアである。
 図4(A)に示すように、遮光部材8の第1の実施形態である遮光プレート30は、エッジ30Aを有する中央エリア30Bと、遮光プレート30の幅方向両端に設けられた端部エリア30Cと、を有する。遮光プレート30の幅方向とは、発光面4Aの長辺方向に一致する方向であり、後述の各遮光プレート40,50についても同様である。端部エリア30Cはそれぞれ、遮光領域と、エッジ30Aの延長線を跨ぐ一定の長さを持つ一定幅のスリット30Dを有する。
 遮光プレート30の幅方向において、エッジ30Aが設けられた中央エリア30Bにて被検体3の欠陥の有無を評価し、端部エリア30Cにてラインセンサカメラ6に対する遮光プレート30の相対位置を評価する。また、測定ライン27Aは、エッジ30Aが被検体3の移動方向Xに直交しラインセンサカメラ6の光軸10と合致する時の測定ライン、つまり遮光プレート30が検査に際し適切な位置にある場合の測定ラインを示している。
 第1の実施形態において測定ラインが測定ライン27Aであるとき、ラインセンサカメラ6は図4(B)に示すような光電信号を得る。この光電信号では、中央エリア30Bでは欠陥のない場所における信号強度が32Aであり、明欠陥3A,3Dのあるところでは信号強度32Aより強い光電信号が得られ、暗欠陥3B,3Cのあるところでは信号強度32Aより弱い光電信号が得られる。また、端部エリア30Cでは、遮光領域においては光電信号は得られず、スリット30Dを有する領域においては信号強度32Aよりもはるかに強い光電信号32Bが得られる。
 図6の(A)に示すように、遮光部材8の第2の実施形態である遮光プレート40は、エッジ40Aを有する中央エリア40Bと、遮光プレート40の幅方向両端に設けられた端部エリア40Cと、を有する。端部エリア40Cはそれぞれ、遮光領域と、エッジ40Aの延長線を跨ぎ被検体3の移動方向Xに空隙幅が連続的に変化する楔形状の空隙40Dを有する。
 遮光プレート40の幅方向において、エッジ40Aが設けられた中央エリア40Bにて被検体3の欠陥の有無を評価し、端部エリア40Cにてラインセンサカメラ6に対する遮光プレート40の相対位置を評価する。また、測定ライン27Aは、第1の実施形態と同様に、エッジ40Aが被検体3の移動方向Xに直交しラインセンサカメラ6の光軸10と合致する時の測定ライン、つまり遮光プレート40が測定に際し適切な位置にある場合の測定ラインを示している。
 第2の実施形態において測定ラインが27Aであるとき、ラインセンサカメラ6は図6(B)に示すような光電信号を得る。この光電信号では、中央エリア40Bでは欠陥のない場所における信号強度が42Aであり、明欠陥3A,3Dのあるところでは信号強度42Aより強い光電信号が得られ、暗欠陥3B,3Cのあるところでは信号強度42Aより弱い光電信号が得られる。また、端部エリア40Cでは、遮光領域においては光電信号は得られず、楔形状の空隙40Dを有する領域においては信号強度42Aよりもはるかに強く信号幅が42Cである信号強度42Bが得られる。
 図8(A)に示すように、遮光部材8の第3の実施形態である遮光プレート50は、エッジ50Aを有する中央エリア50Bと、遮光プレート50の幅方向両端に設けられた端部エリア50Cと、を有する。端部エリア50Cにはそれぞれ、遮光領域と、被検体3の移動方向Xに一定の長さを持つ一定幅のスリット50D1,50D2,50D3,50D4が設けられている。スリット50D1,50D2,50D3,50D4は、この順番に中央エリア50B側から設けられており、この順番に被検体3の移動方向の長さが変化する。スリット50D1,50D2がエッジ50Aの延長線を跨ぐ長さに設計されており、スリット50D3,50D4は、エッジ50Aの延長線を跨がない程度に短く設計されている。
 遮光プレート50の幅方向において、エッジ50Aが設けられた中央エリア50Bにて被検体3の欠陥の有無を評価し、端部エリア50Cにてラインセンサカメラ6に対する遮光プレート50の相対位置を評価する。また、測定ライン27Aは、第1及び第2の実施形態と同様に、エッジ50Aが被検体3の移動方向に直交しラインセンサカメラ6の光軸10と合致する時の測定ライン、つまり遮光プレート50が測定に際し適切な位置にある場合の測定ラインを示している。
 第3の実施形態において測定ラインが27Aであるとき、ラインセンサカメラ6は図8(B)に示すような光電信号を得る。この光電信号では、中央エリア50Bでは欠陥のない場所における信号強度が52Aであり、明欠陥3A,3Dのあるところでは信号強度52Aより強い光電信号が得られ、暗欠陥3B,3Cのあるところでは信号強度52Aより弱い光電信号が得られる。また、端部エリア50Cでは、遮光領域においては光電信号は得られず、スリット50D1,50D2を有する領域においては信号強度52Aよりもはるかに強い信号強度52Bが得られる。一方、スリット50D3,50D4を有する領域においては遮光領域と同様に光電信号は得られない。
 以下、本発明の作用について説明する。まず、被検体3であるウェブ状の透明フィルムが、本発明に係る欠陥検査装置2に設けられた搬送系によって安定して長手方向に移動する。例えば、図1における右下方向から左上方向に向かって被検体3であるウェブ状の透明フィルムが等速で移動し、欠陥検査装置2の間を等速で通過する。
 図1及び図2に示すように、エッジ8Aが光軸10に重なるように遮光部材8がラインセンサカメラ6に対して検査に際し相対的に適切な位置に配されている場合には、照明装置4の発光面4Aから遮光部材8を介して被検体3の一方の面に光が照射され、被検体3を透過した検査光がラインセンサカメラ6内に配されたレンズ6Aを介してラインセンサ6Bに受光され、光電信号に変換され取得される。なお、照明装置4はシステムコントローラ11により制御されている光強度調整部12により信号強度32A,42A,52Aが常に一定になるように照射強度が制御されている。また、ラインセンサカメラ6はシステムコントローラ11により制御されているカメラ作動部14により受光,変換,及び取得が行われている。
 ラインセンサ6Bにより取得された光電信号は、信号処理部16にて平面分布のデータとなるよう処理され、その処理結果が記録部25にて記録される。また、中央エリア30B,40B,50Bの光電信号から明欠陥(例えば図3における符号3A,3D)及び暗欠陥(例えば図3における符号3B,3C)に該当する波形を検出し、欠陥判定部18により欠陥であるか否かを判定する。そして、欠陥表示部19にて、欠陥と判定された部分及びその欠陥の種類などがディスプレイに表示される。
 また、端部エリア30C,40C,50Cの光電信号から、遮光プレート位置検出部21によりラインセンサカメラ6の光軸10に対する遮光プレート30,40,50の相対位置を検出する。その相対位置が検査に適切な位置でなければ警報部22により警報が発せられ、遮光プレート位置調整部23により機械的又は光学的にその相対位置が調整される。位置調整の方法としては、例えば遮光プレート30,40,50を検査に適切な相対位置に移動させて適切な相対位置にする機械的方法や、光学部材を用いて光軸10を検査に適切な位置にする光学的方法などがある。以下、それぞれの遮光プレート30,40,50の位置の検出方法について説明する。
 ここで、図5,図7及び図9に示した測定ライン27Bは測定ライン27Aからエッジ30Aが遮光プレート30のある側に平行にずれた時の測定ラインであり、測定ライン27Cは測定ライン27Aに対して測定ライン27Bとは逆側にずれた時の測定ラインである。また、測定ライン27Dは、測定ライン27Aに対してエッジ30Aの中点(図面の横方向における中央)を中心にして反時計回りにずれた時の測定ラインである。測定ライン27B,27C,27Dはいずれも、ラインセンサカメラ6の光軸10と合致しない時の測定ラインである。
 遮光部材8に第1の実施形態である遮光プレート30を用いている場合について、図5を用いて、測定ラインの変化に伴う光電信号の変化について説明する。測定ライン27Aの場合の光電信号は、先に説明したように図5(A)のようになる。測定ラインが27Aから27Bにずれた瞬間には中央エリア30Bの信号強度34Aが信号強度32Aと比較して減少し、端部エリア30Cの信号強度34Bは信号強度32Bのまま変化しない。その直後に光強度調整部12により信号強度34Aが信号強度32Aと等しくなるように照明装置4の照明強度が強くなる方向に調整される。それに呼応して信号強度34Bは信号強度32より小さくなる。その結果、測定ライン27Bの場合の光電信号は図5(B)のようになる。
 測定ライン27Cの場合の光電信号は、測定ライン27Bのときとは全く逆に変化し、中央エリア30Bの信号強度36Aが信号強度32Aと等しくなるように照明装置4の照明強度が弱くなる方向に調整される。それに呼応して端部エリア30Cの信号強度36Bは信号強度32より大きくなる。その結果、測定ライン27Cの場合の光電信号は図5(C)のようになる。
 測定ライン27Dの場合の光電信号は、中央エリア30Bの信号強度38Aに幅方向座標依存性が生じる。また、信号強度38について幅方向座標の平均を取れば信号強度38Aと等しくなるため、照明装置4の照明強度は特に調整されない。そのため、端部エリア30Cの信号強度38Bは信号強度32Bから変化しない。その結果、測定ライン27Dの場合の光電信号は図5(D)のようになる。
 これらより、測定ラインの光軸10に対する平行移動によるずれについては、その方向及び大きさは、端部エリア30Cの信号強度の測定ラインが27Aにあるときの信号強度32Bに対する大小で以って読み取られる。信号強度32Bより小さいときには測定ラインは27Bの方向に、大きいときには測定ライン27Cの方向にずれていると読み取ることができ、信号強度32Bとの強度差からずれ幅を読み取ることができる。また、測定ラインの光軸に対する回転移動によるずれについては、中央エリア30Bにおける信号強度の幅方向座標依存性から読み取られる。このようにして、光電信号から測定ラインの光軸に対する平行移動及び回転移動によるずれが読み取られる。
 遮光部材8に第2の実施形態である遮光プレート40を用いている場合について、図7を用いて、測定ラインの変化に伴う光電信号の変化について説明する。測定ライン27Aの場合の光電信号は、先に説明したように図7(A)のようになる。測定ラインが27Aから27Bにずれた瞬間には中央エリア40Bの信号強度44Aが信号強度42Aと比較して減少し、端部エリア40Cの信号強度44Bは信号強度42Bのまま変化しない。一方で、端部エリアの信号幅44C,44Dはそれぞれ信号幅42C,42Dと比較して広くなる。その直後に光強度調整部12により信号強度44Aが信号強度42Aと等しくなるように照明装置4の照明強度が強くなる方向に調整され、それに呼応して信号強度44Bは信号強度42Bより小さくなる。その結果、測定ライン27Bの場合の光電信号は図7(B)のようになる。
 測定ライン27Cの場合の光電信号は、測定ライン27Bのときとは全く逆に変化し、中央エリア40Bの信号強度46Aが信号強度42Aと等しくなるように照明装置4の照明強度が弱くなる方向に調整され、それに呼応して端部エリア40Cの信号強度46Bは信号強度42Bより大きくなる。一方で、端部エリアの信号幅46C,46Dはそれぞれ信号幅42C,42Dと比較して狭くなる。その結果、測定ライン27Cの場合の光電信号は図7(C)のようになる。
 測定ライン27Dの場合の光電信号は、中央エリア40Bの信号強度48Aに幅方向座標依存性が生じる。また、信号強度48Aについて幅方向座標の平均を取れば信号強度42Aと等しくなるため、照明装置4の照明強度は特に調整されない。そのため、端部エリア40Cの信号強度48Bは信号強度42Bから変化しない。一方で、端部エリアの信号幅については、一方では信号幅48Cは信号幅42Cと比較して広くなり、他方では信号幅48Dは信号幅42Dと比較して狭くなる。つまり、測定ラインが光軸に対して回転移動によるずれを起こした場合には、端部エリア40Cのそれぞれの信号幅48C,48Dに差が生じる。その結果、測定ライン27Dの場合の光電信号は図7(D)のようになる。
 これらより、測定ラインの光軸10に対する平行移動によるずれについては、その方向及び大きさは、次の二つの要素で読み取られる。一つは、端部エリア40Cの信号強度の、測定ラインが27Aにあるときの信号強度42Bに対する大小であり、もう一つは、端部エリア40Cの信号幅の、測定ラインが27Aにあるときの信号幅42C,42Dに対する大小である。信号強度42Bより小さいときには測定ラインは27Bの方向に、大きいときには測定ラインは27Cの方向にずれていると読み取ることができ、信号強度42Bとの強度差からずれ幅を読み取ることができる。また、信号幅42C,42Dより大きいときには測定ラインは27Bの方向に、小さい時には測定ラインは27Cの方向にずれていると読み取ることができ、信号強度42Bとの強度差からずれ幅を読み取ることができる。また、測定ラインの光軸10に対する回転移動によるずれについては、中央エリア40Bにおける信号強度の幅方向座標依存性から読み取られる。加えて、端部エリア40Cのそれぞれの信号幅の差からも読み取られる。このようにして、光電信号から測定ラインの光軸10に対する平行移動及び回転移動によるずれが読み取られる。なお、第2の実施形態においては、測定ラインの光軸10に対するずれを読み取られる情報が2種類あるため、第1の実施形態よりも高い精度でずれを読み取ることができる。
 遮光部材8に第3の実施形態である遮光プレート50を用いている場合について、図9を用いて、測定ラインの変化に伴う光電信号の変化について説明する。測定ライン27Aの場合の光電信号は、先に説明したように図9(A)のようになる。測定ラインが27Aから27Bにずれた瞬間には中央エリア50Bの信号強度54Aが信号強度52Aと比較して減少し、端部エリア50Cの信号強度54Bは信号強度52Bのまま変化しない。一方で、測定ライン27Bはスリット50D1,50D2に加えて50D3も横切るため、端部エリアの信号の本数は、2本から3本に増加する。その直後に光強度調整部12により信号強度54Aが信号強度52Aと等しくなるように照明装置4の照明強度が強くなる方向に調整され、それに呼応して信号強度54Bは信号強度52Bより小さくなる。その結果、測定ライン27Bの場合の光電信号は図9(B)のようになる。
 測定ライン27Cの場合の光電信号は、測定ライン27Bのときとは全く逆に変化し、中央エリア50Bの信号強度56Aが信号強度52Aと等しくなるように照明装置4の照明強度が弱くなる方向に調整され、それに呼応して端部エリア50Cの信号強度56Bは信号強度52Bより大きくなる。一方で、測定ライン27Cはスリット50D1しか横切らず50D2を横切らないため、端部エリアの信号の本数は、2本から1本に減少する。その結果、測定ライン27Cの場合の光電信号は図9(C)のようになる。
 測定ライン27Dの場合の光電信号は、中央エリア50Bの信号強度58Aに幅方向座標依存性が生じる。また、信号強度58Aについて幅方向座標の平均を取れば信号強度52Aと等しくなるため、照明装置4の照明強度は特に調整されない。そのため、端部エリア50Cの信号強度58Bは信号強度52Bから変化しない。一方で、測定ライン27Dは端部エリア50Cの一方ではスリット50D1しか横切らず50D2を横切らないため、端部エリアの信号の本数は、2本から1本に減少する。端部エリア50Cの他方ではスリット50D1,50D2に加えて50D3も横切るため、端部エリアの信号の本数は、2本から3本に増加する。つまり、測定ラインが光軸に対して回転移動によるずれを起こした場合には、端部エリア50Cのそれぞれの信号の本数に差が生じる。その結果、測定ライン27Dの場合の光電信号は図9(D)のようになる。
 これらより、測定ラインの光軸に対する平行移動によるずれについては、その方向及び大きさは、次の二つの要素で読み取られる。一つは、端部エリア50Cの信号強度の、測定ラインが27Aにあるときの信号強度52Bに対する大小であり、もう一つは、端部エリア50Cの信号の本数の、測定ラインが27Aにあるときの信号の本数に対する増減である。信号強度52Bより小さいときには測定ラインは27Bの方向に、大きいときには測定ラインは27Cの方向にずれていると読み取ることができ、信号強度52Bとの強度差からずれ幅を読み取ることができる。また、信号の本数が増加した時には測定ラインは27Bの方向に、減少した時には測定ラインは27Cの方向にずれていると読み取ることができ、信号の本数の差からずれ幅を読み取ることができる。また、測定ラインの光軸10に対する回転移動によるずれについては、中央エリア50Bにおける信号強度の幅方向座標依存性から読み取られる。加えて、端部エリア50Cのそれぞれの信号の本数の差からも読み取られる。このようにして、光電信号から測定ラインの光軸10に対する平行移動及び回転移動によるずれが読み取られる。なお、第3の実施形態においては、第2の実施形態と同様に、測定ラインの光軸に対するずれを読み取られる情報が2種類あるため、第1の実施形態よりも高い精度でずれを読み取ることができる。
 図10を用いて、本発明の実施形態に係る欠陥検査装置60について説明する。欠陥検査装置60は、欠陥検査装置2の第1変形例である。欠陥検査装置60は、欠陥検査装置2に加えて、被検体3とラインセンサカメラ6との間に、被検体3の幅方向に全体的に覆うように、屈折率及び厚みが均一な透明部材62が設けられている。透明部材62は、回転自在に設置されており、図10に示すように、その回転角度を制御することで光軸10を屈折させる光軸屈折機構として作用する。なお、欠陥検査装置2と同様の機能を示すものについては、図10にて図1と同じ符号を付し、説明は省略する。
 図10に示す例は、光軸面の平行移動によるずれについて、欠陥検査装置2のところで説明する遮光部材8及び遮光プレート30,40,50を光軸面に対して平行移動させることなく、透明部材62の回転によって光軸10を平行移動させて調整する例である。この場合、遮光部材8及び遮光プレート30,40,50の位置調整は回転移動によるずれに対応する移動のみが行われる。
 図11及び図12を用いて、本発明の実施形態に係る欠陥検査装置70について説明する。欠陥検査装置70は、欠陥検査装置2の第2変形例である。図11に示すように、欠陥検査装置70は、欠陥検査装置2に加えて、凹シリンドリカルレンズ72が設けられたものである。凹シリンドリカルレンズ72は、被検体3と遮光部材8との間の、遮光部材8の端部エリアに照射され検出される端部光の光路上に、それぞれ設けられている。なお、欠陥検査装置2と同様の機能を示すものについては、図11,図12にて図1と同じ符号を付し、説明は省略する。
 図12に示すように、凹シリンドリカルレンズ72は、光軸ずれが生じた場合にそれを空間的に拡大する機能を有する。これにより、光軸ずれ量がより高精度に検知され、微細な欠陥に対して高い感度が保持される。また、第1の変形例と第2の変形例を組み合わせて用いてもかまわない。
 なお、本発明に係る実施形態として、上記実施形態では、被検体3をウェブ状の透明フィルムであるとしてそのフィルムを移動させながらその表面などの欠陥を検査する方法及びその装置について説明している。しかし、本発明はこれに限ることはない。例えば、透明なガラス板を移動させながらその表面などの欠陥を検査する方法及びその装置についても本発明の範囲内である。また、水族館の水槽や潜水艦などに用いられるような非常に厚く透明なガラスブロックを検査する場合において、その大きな質量を考慮して、欠陥検査装置の方を移動可能に設計し、欠陥検査装置を移動させながら欠陥を検査することについても本発明の範囲内である。
 また、本発明に係る実施形態において、どのタイプの欠陥をより感度よく検査したいかという使用者の需要に合わせて、遮光プレート及び光軸を移動させて照明装置より発せられる光の通過割合を変更するように適宜設計変更を行うことも、本発明の範囲内である。また、本発明に係る実施形態では、ラインセンサカメラ6のピントを被検体3の表面に合わせることとしたが、これに限ることはない。例えば、遮光部材8のエッジ8Aにピントを合わせても、同等の検査を行うことは可能である。さらに、ピントの合わせる位置は、被検体3の表面及びエッジ8Aの近傍であればよく、実用的には被検体3とエッジ8Aとの間に合わせても、同等の検査を行うことも可能である。
 また、本発明に係る実施形態では、照明装置4から遮光部材8を介して被検体3に光を照射し、被検体3を透過した検査光及び被検体3の幅外を通過した端部光をラインセンサカメラ6により受光する。しかし、被検体3が反射性を強く有する場合においては、透過光の変わりに反射光を検査光とし、被検体の幅外に全反射ミラーを置いてその全反射ミラーからの反射光を端部光として、ラインセンサカメラ6により受光するように設計を変更して実施することも、本発明の範囲内である。
 また、上記実施形態では、被検体3の移動方向と照明装置4の発光面4Aの長辺方向との角度、及び被検体3の移動方向と遮光部材8のエッジ8Aとの角度が、垂直である場合であるが、これに限ることはない。例えば、これらの角度が60度や45度などといった90度以外の所定の角度である場合も、本発明の範囲内とする。
 また、本発明に係る実施形態では、ラインセンサカメラ6が一台のみ設けられた場合について説明したが、これに限ることなく、カメラが測定幅方向に複数台並べられる場合も、本発明の範囲内とする。つまり、本願明細書及び本願請求項におけるラインセンサカメラは、カメラが測定幅方向に複数台並べられた様相を含むものと解する。

Claims (8)

  1.  透明なウェブ状またはシート状の被検体を連続移動させるステップと、
     長辺が前記被検体の幅を超える長さの矩形状の発光面を備え、前記発光面の長辺方向が前記被検体の移動方向に所定の角度で配置された照明装置の前記発光面から、連続移動中の前記被検体の一方の面に向けて光を照射するステップと、
     前記発光面を前記被検体の幅方向では全体的に覆い、前記被検体の移動方向では前記移動方向と所定の角度で交わる直線状のエッジを境界にして部分的に覆う中央エリアと、前記発光面端部を前記被検体の移動方向で全体的に覆う遮光領域に所定パターンの透孔を形成した端部エリアとを有する遮光プレートを、前記エッジがラインセンサカメラの光軸と合致するように位置決めされた状態で前記発光面と前記被検体との間に設けるステップと、
     前記被検体の他方の面に対面し、ラインセンサの画素の配列方向が前記発光面の長辺方向と平行になるように配置された前記ラインセンサカメラの前記ラインセンサにより、前記被検体を透過してきた検査光と共に前記被検体の幅外を通過した発光面端部からの端部光を受光するステップと、
     前記ラインセンサカメラから得られる前記中央エリアの光電信号に基づいて前記被検体の欠陥の有無を評価し、前記端部エリアの光電信号に基づいて前記ラインセンサカメラに対する前記遮光プレートの相対位置を評価するステップとを備えることを特徴とする欠陥検査方法。
  2.  前記相対位置を、前記中央エリアの光電信号と前記端部エリアの光電信号との双方を参照し、前記ラインセンサカメラの光軸に対して前記遮光プレートが標準位置から前記被検体の移動方向にずれているか否かで評価することを特徴とする請求の範囲第1項記載の欠陥検査方法。
  3.  前記相対位置を、前記端部エリアの各々の光電信号を対照し、前記ラインセンサカメラの画素の配列方向と前記遮光プレートの前記エッジとの相対的な平行度で評価することを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項記載の欠陥検査方法。
  4.  前記相対位置の評価結果に基づき、前記遮光プレートのエッジが前記ラインセンサカメラの光軸と合致していないときに合致していないことの警告を発することを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項記載の欠陥検査方法。
  5.  前記相対位置の評価結果に基づき、前記遮光プレートのエッジが前記ラインセンサカメラの光軸と合致するように機械的又は光学的に調整する調整手段を用いて前記遮光プレートと前記光軸とを合致させることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項記載の欠陥検査方法。
  6.  光学的に調整する前記調整手段は、前記被検体の幅方向に全体に覆うように設けられた屈折率及び厚みが均一な透明部材を回転することを特徴とする請求の範囲第5項記載の欠陥検査方法。
  7.  前記被検体と前記遮光プレートの間の前記端部光の光路上に、それぞれ凹シリンドリカルレンズが設けられていることを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項記載の欠陥検査方法。
  8.  前記中央エリアの光電信号強度が略一定となるように、前記照明装置から照射される光量を調整することを特徴とする請求の範囲第1項又は第2項記載の欠陥検査方法。
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