アダプター装置およびその製造方法並びに回路装置の電気的検査装置 技術分野 Technical field of adapter device, manufacturing method thereof, and electrical inspection device for circuit device
[0001] 本発明は、例えばプリント回路基板などの回路装置の電気的検査に用いられるァ ダブター装置およびその製造方法、並びにこのアダプター装置を具えた回路装置の 電気的検査装置に関するものである。 The present invention relates to an adapter device used for electrical inspection of a circuit device such as a printed circuit board, a method for manufacturing the same, and an electrical inspection device for a circuit device including the adapter device.
背景技術 Background art
[0002] 一般に集積回路装置、その他の電子部品などを構成するまたは搭載するための回 路基板にっ 、ては、電子部品などを組み立てる以前に或 、は電子部品などを搭載 する以前に、当該回路基板の配線パターンが所期の性能を有することを確認するた めにその電気的特性を検査することが必要である。 [0002] Generally, a circuit board for constituting or mounting an integrated circuit device or other electronic components is not suitable before assembling the electronic components or before mounting the electronic components. In order to confirm that the circuit board wiring pattern has the expected performance, it is necessary to inspect its electrical characteristics.
従来、回路基板の電気的検査を実行する方法としては、縦横に並ぶ格子点位置に 従って複数の検査電極が配置されてなる検査電極装置と、この検査電極装置の検 查電極に検査対象である回路基板の被検査電極を電気的に接続するアダプターと を組み合わせて用いる方法などが知られて 、る。この方法にぉ 、て用いられるァダプ ターは、ピッチ変換ボードと称されるプリント配線板よりなるものである。 Conventionally, as a method of performing an electrical inspection of a circuit board, an inspection electrode device in which a plurality of inspection electrodes are arranged according to the grid point positions arranged in the vertical and horizontal directions, and the inspection electrode of this inspection electrode device are inspection targets. A method of using a combination with an adapter for electrically connecting an electrode to be inspected on a circuit board is known. In this method, the adapter used is a printed wiring board called a pitch conversion board.
このアダプタ一としては、一面に検査対象である回路基板の被検査電極に対応す るパターンに従って配置された複数の接続用電極を有し、他面に検査電極装置の検 查電極と同一のピッチの格子点位置に配置された複数の端子電極を有するもの、一 面に検査対象である回路基板の被検査電極に対応するパターンに従って配置され た、電流供給用接続用電極および電圧測定用接続用電極よりなる複数の接続用電 極対を有し、他面に検査電極装置の検査電極と同一のピッチの格子点位置に配置 された複数の端子電極を有するものなどが知られており、前者のアダプタ一は、例え ば回路基板における各回路のオープン 'ショート試験などに用いられ、後者のァダプ ターは、回路基板における各回路の電気抵抗測定試験に用いられている。 This adapter has a plurality of connection electrodes arranged on one side according to a pattern corresponding to the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected, and has the same pitch as the inspection electrodes of the inspection electrode device on the other side. Having a plurality of terminal electrodes arranged at the grid point positions of the current supply connection electrodes and voltage measurement connection electrodes arranged according to a pattern corresponding to the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected on one side The former has a plurality of connection electrode pairs made of electrodes, and has a plurality of terminal electrodes arranged on the other surface at lattice point positions having the same pitch as the inspection electrodes of the inspection electrode device. This adapter is used for, for example, an open / short test of each circuit on a circuit board, and the latter adapter is used for an electric resistance measurement test of each circuit on the circuit board.
而して、回路基板の電気的検査においては、一般に、検査対象である回路基板と アダプターとの安定な電気的接続を達成するために、検査対象である回路基板とァ
ダブターとの間に、異方導電性エラストマ一シートを介在させることが行われている。 Therefore, in the electrical inspection of a circuit board, in general, in order to achieve a stable electrical connection between the circuit board to be inspected and the adapter, the circuit board to be inspected and the An anisotropic conductive elastomer sheet is interposed between the doveter.
[0003] この異方導電性エラストマ一シートは、厚さ方向にのみ導電性を示すもの、ある ヽ は加圧されたときに厚さ方向にのみ導電性を示す多数の加圧導電性導電部を有す るものである。 [0003] This anisotropically conductive elastomer sheet has conductivity only in the thickness direction, or there are a number of pressure-conducting conductive portions that exhibit conductivity only in the thickness direction when pressed. It has something.
このような異方導電性エラストマ一シートとしては、従来、種々の構造のものが知ら れており、その代表的な例としては、金属粒子をエラストマ一中に均一に分散して得 られるもの(例えば特許文献 1参照。)、導電性磁性金属粒子をエラストマ一中に不均 一に分散させることにより、厚み方向に伸びる多数の導電路形成部と、これらを相互 に絶縁する絶縁部とが形成されてなるもの (例えば特許文献 2参照。)、導電路形成 部の表面と絶縁部との間に段差が形成されたもの (例えば特許文献 3参照。)などが 挙げられる。 Such anisotropically conductive elastomer sheets are conventionally known in various structures, and typical examples thereof are those obtained by uniformly dispersing metal particles in an elastomer ( For example, refer to Patent Document 1.) By disperse the conductive magnetic metal particles unevenly in the elastomer, many conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate them from each other are formed. (For example, see Patent Document 2), and those in which a step is formed between the surface of the conductive path forming portion and the insulating portion (for example, see Patent Document 3).
そして、ピッチの小さい被検査電極を有する回路基板に対しては、当該回路基板 の被検査電極のパターンに対応するパターンに従って導電路形成部が形成されて なる異方導電性エラストマ一シートが、高 、接続信頼性が得られる点で好まし 、。 For a circuit board having an inspection electrode with a small pitch, an anisotropic conductive elastomer sheet in which a conductive path forming portion is formed according to a pattern corresponding to the pattern of the inspection electrode on the circuit board is high. It is preferable in terms of connection reliability.
[0004] 然るに、このような異方導電性エラストマ一シートは、それ自体が単独の製品として 製造され、また単独で取り扱われるものであって、電気的接続作業においてはァダプ ターおよび回路基板に対して特定の位置関係をもって保持固定することが必要であ る。 [0004] However, such an anisotropically conductive elastomer sheet is manufactured as a single product and handled alone, and is used for an adapter and a circuit board in electrical connection work. Therefore, it is necessary to hold and fix with a specific positional relationship.
しカゝしながら、独立した異方導電性エラストマ一シートを利用して回路基板の電気 的接続を達成する手段においては、検査対象である回路基板における被検査電極 のピッチ、すなわち互いに隣接する被検査電極の中心間距離が小さくなるに従って 異方導電性エラストマ一シートの位置合わせおよび保持固定が困難となる、という問 題点がある。 However, in the means for achieving the electrical connection of the circuit board by using an independent anisotropic conductive elastomer sheet, the pitch of the electrodes to be inspected in the circuit board to be inspected, that is, the objects adjacent to each other. As the distance between the centers of the inspection electrodes decreases, it becomes difficult to align and hold the anisotropic conductive elastomer sheet.
また、ー且は所望の位置合わせおよび保持固定が実現された場合においても、温 度変化による熱履歴を受けた場合などには、熱膨張および熱収縮による応力の程度 力 検査対象である回路基板を構成する材料と異方導電性エラストマ一シートを構 成する材料との間で大きく異なるため、電気的接続状態が変化して安定な接続状態 が維持されない、という問題点がある。
[0005] 従来、以上のような問題を解決するために、表面に検査対象である回路基板の被 検査電極に対応するパターンに従って配置された接続用電極を有し、裏面に格子点 位置に従って配置された端子電極を有するアダプター本体と、このアダプター本体 の表面上に一体的に設けられた異方導電性エラストマ一シートとよりなるアダプター 装置が提案されて ヽる (例えば特許文献 4および特許文献 5参照。 )。 In addition, even when the desired alignment and holding / fixing is realized, the degree of stress due to thermal expansion and contraction when a thermal history is received due to temperature changes, etc. Therefore, there is a problem that the electrical connection state is changed and a stable connection state is not maintained because the material constituting the material and the material constituting the anisotropic conductive elastomer sheet are greatly different. [0005] Conventionally, in order to solve the above-described problems, a connection electrode arranged according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected on a circuit board to be inspected is provided on the surface, and arranged on a back surface according to a grid point position There has been proposed an adapter device comprising an adapter body having a terminal electrode formed thereon and an anisotropic conductive elastomer sheet integrally provided on the surface of the adapter body (for example, Patent Document 4 and Patent Document 5). See).
[0006] そして、このようなアダプター装置の製造にぉ 、て、異方導電性エラストマ一シート は例えば次のようにして形成される。 [0006] In manufacturing such an adapter device, the anisotropic conductive elastomer sheet is formed as follows, for example.
先ず、図 38に示すように、接続用電極 91が形成されたアダプター本体 90の表面( 図 38において上面)に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料中 に導電性磁性体粒子が分散されてなる異方導電性エラストマ一用材料を例えばスク リーン印刷によって塗布することにより、異方導電性エラストマ一用材料層 95Aを形 成する。 First, as shown in FIG. 38, the surface of the adapter main body 90 on which the connection electrode 91 is formed (the upper surface in FIG. 38) is hardened into a polymer substance forming material that becomes an elastic polymer substance. An anisotropic conductive elastomer material layer 95A is formed by applying an anisotropic conductive elastomer material in which particles are dispersed, for example, by screen printing.
[0007] 次いで、図 39に示すように、例えば検査対象である回路基板の被検査電極と同一 のパターンに従って強磁性体部 81が配置されると共に、当該強磁性体部 81以外の 部分に非磁性体部 82が配置されてなる一方の型板 (以下、「上型」という。)80と、検 查対象である回路基板の被検査電極と対掌のパターンに従って強磁性体部 86が配 置されると共に、当該強磁性体部 86以外の部分に非磁性体部 87が配置されてなる 他方の型板 (以下、「下型」という。)85とを用い、上型 80と下型 85との間に、異方導 電性エラストマ一用材料層 95Aが形成されたアダプター本体 90を、その接続用電極 91が当該上型 80の強磁性体部 81と下型 85の強磁性体部 86との間に位置するよう 配置し、更に、上型 80の上面および下型 85の下面に一対の電磁石 83, 88を配置 する。 Next, as shown in FIG. 39, for example, the ferromagnetic part 81 is arranged according to the same pattern as the inspected electrode of the circuit board to be inspected, and non-ferromagnetic part 81 is non-exposed. A ferromagnetic body 86 is arranged in accordance with a pattern of one template (hereinafter referred to as “upper mold”) 80 on which the magnetic body portion 82 is arranged, and the inspection target electrode and the palm of the circuit board to be inspected. And the other mold plate (hereinafter referred to as the “lower mold”) 85 in which the non-magnetic body part 87 is disposed in a part other than the ferromagnetic part 86, and the upper mold 80 and the lower mold. The adapter main body 90 in which the anisotropic conductive elastomer material layer 95A is formed between the adapter body 90 and the connecting electrode 91 is the ferromagnetic part 81 of the upper mold 80 and the ferromagnetic body of the lower mold 85. In addition, a pair of electromagnets 83 and 88 are disposed on the upper surface of the upper mold 80 and the lower surface of the lower mold 85. .
[0008] そして、電磁石 83, 88を作動させること〖こより、上型 80の強磁性体部 81からこれに 対応する下型 85の強磁性体部 86に向力 方向に平行磁場を作用させる。このとき、 上型 80の強磁性体部 81および下型 85の強磁性体部 86の各々が磁極として作用す るため、上型 80の強磁性体部 81と下型 85の強磁性体部 86との間の領域には、そ れ以外の領域よりも大きい強度の磁場が作用する。その結果、異方導電性エラストマ 一用材料層 95Aにおいては、当該異方導電性エラストマ一用材料層 95A中に分散
されて ヽた導電性磁性体粒子が、上型 80の強磁性体部 81と下型 85の強磁性体部 86との間に位置する部分すなわちアダプター本体 90の接続用電極 91上に位置す る部分に向力つて移動して当該部分に集合し、更に厚み方向に並ぶよう配向する。 この状態で、異方導電性エラストマ一用材料層 95Aに対して例えば加熱による硬 化処理を行うことにより、図 40に示すように、厚み方向に伸びる多数の導電路形成部 96とこれらを相互に絶縁する絶縁部 97とよりなる異方導電性エラストマ一シート 95が 、当該導電路形成部 96が接続用電極 91上に配置された状態でアダプター本体 90 の上面に一体的に形成され、以てアダプター装置が製造される。 [0008] Then, by operating the electromagnets 83 and 88, a parallel magnetic field is applied in the direction of the force from the ferromagnetic body portion 81 of the upper mold 80 to the corresponding ferromagnetic body 86 of the lower mold 85. At this time, each of the ferromagnet part 81 of the upper mold 80 and the ferromagnet part 86 of the lower mold 85 acts as a magnetic pole, so that the ferromagnet part 81 of the upper mold 80 and the ferromagnet part of the lower mold 85 A magnetic field with a larger intensity acts on the region between the two regions than the other regions. As a result, the anisotropic conductive elastomer material layer 95A is dispersed in the anisotropic conductive elastomer material layer 95A. The thus-obtained conductive magnetic particles are located on the portion located between the ferromagnetic portion 81 of the upper die 80 and the ferromagnetic portion 86 of the lower die 85, that is, on the connection electrode 91 of the adapter body 90. It is directed to move to the part to gather, gather at the part, and further aligned in the thickness direction. In this state, the anisotropic conductive elastomer material layer 95A is hardened by heating, for example, so that a plurality of conductive path forming portions 96 extending in the thickness direction are mutually connected as shown in FIG. An anisotropic conductive elastomer sheet 95 composed of an insulating portion 97 that insulates the electrode body 90 is integrally formed on the upper surface of the adapter body 90 with the conductive path forming portion 96 disposed on the connection electrode 91. The adapter device is manufactured.
[0009] このようなアダプター装置によれば、回路基板の電気的検査において、異方導電 性エラストマ一シートの位置合わせ作業が不要であり、また、温度変化による熱履歴 などの環境の変化に対しても良好な電気的接続状態が安定に維持され、従って高い 接続信頼性が得られる。 [0009] According to such an adapter device, it is not necessary to align the anisotropic conductive elastomer sheet in the electrical inspection of the circuit board, and it is possible to cope with environmental changes such as thermal history due to temperature changes. However, a good electrical connection state is stably maintained, and thus high connection reliability can be obtained.
[0010] し力しながら、上記のアダプター装置においては、以下のような問題がある。 [0010] However, the adapter device has the following problems.
電子部品を構成または搭載するための回路基板としては、その電極が例えば矩形 の四辺に沿って枠状に配置されてなるものが知られており、このような回路基板の電 気的検査を行うためには、図 41に示すように、接続用電極 91が矩形の四辺に沿つ て枠状に配置されてなるアダプター本体 90を有するアダプター装置を用いることが 必要である。このようなアダプター装置においては、図 41において一点鎖線で示す ように、アダプター本体 90の表面における接続用電極 91を含む例えば矩形の領域 に異方導電性エラストマ一シート 95が設けられる。 As a circuit board for configuring or mounting an electronic component, it is known that its electrodes are arranged in a frame shape along, for example, four sides of a rectangle, and an electrical inspection of such a circuit board is performed. For this purpose, as shown in FIG. 41, it is necessary to use an adapter device having an adapter body 90 in which connection electrodes 91 are arranged in a frame shape along four sides of a rectangle. In such an adapter device, as shown by a one-dot chain line in FIG. 41, for example, an anisotropic conductive elastomer sheet 95 is provided in a rectangular region including the connection electrode 91 on the surface of the adapter main body 90.
[0011] 然るに、このような異方導電性エラストマ一シート 95はその中央部分がすべて絶縁 部となるため、当該異方導電性エラストマ一シート 95の形成において、異方導電性 エラストマ一用材料層 95Aの中央部分に存在する導電性粒子についてはその移動 距離が極めて長!ヽものとなる結果、当該導電性粒子を導電路形成部となるべき部分 に確実に集合させることは困難である。そのため、得られる導電路形成部 96には、所 要の量の導電性粒子が充填されず、し力も、絶縁部 97には、相当な量の導電性粒 子が残存するため、所期の異方導電性エラストマ一層を確実に形成することができな い。
[0012] また、現在、集積回路装置においては、その高機能化、高容量化に伴って電極数 が増加し、電極のピッチすなわち隣接する電極の中心間距離力 、さくなつて高密度 化が一層推進される傾向にある。従って、このような集積回路装置を構成または搭載 するための回路基板に対して電気的検査を行う場合には、接続用電極がそのピッチ 力 、さくて高密度に配置されたアダプター装置を用いることが必要である。 [0011] However, since the anisotropic conductive elastomer sheet 95 has an insulating portion at the center of the anisotropic conductive elastomer sheet 95, an anisotropic conductive elastomer material layer is formed in the formation of the anisotropic conductive elastomer sheet 95. As for the conductive particles existing in the central part of 95A, the moving distance becomes extremely long. As a result, it is difficult to reliably gather the conductive particles in the part to be the conductive path forming part. Therefore, the obtained conductive path forming part 96 is not filled with a required amount of conductive particles, and a considerable amount of conductive particles remains in the insulating part 97. An anisotropic conductive elastomer layer cannot be formed reliably. [0012] In addition, in integrated circuit devices, the number of electrodes increases with the increase in functionality and capacity, and the pitch of electrodes, that is, the distance force between the centers of adjacent electrodes, increases the density. It tends to be further promoted. Therefore, when an electrical inspection is performed on a circuit board for configuring or mounting such an integrated circuit device, an adapter device in which connection electrodes are arranged with high pitch force and high density must be used. is required.
而して、このようなアダプター装置の製造において、アダプター本体 90の表面に異 方導電性エラストマ一シート 95を形成する場合には、当然のことながら強磁性体部 8 1, 86が極めて小さいピッチで配置された上型 80および下型 85を用いることが必要 である。 Thus, in the manufacture of such an adapter device, when the anisotropic conductive elastomer sheet 95 is formed on the surface of the adapter body 90, it is natural that the ferromagnetic parts 8 1 and 86 have a very small pitch. It is necessary to use the upper mold 80 and the lower mold 85 arranged in
[0013] 然るに、このような上型 80および下型 85を用い、上述のようにして異方導電性エラ ストマーシート 95を形成する場合には、図 42に示すように、上型 80および下型 85の 各々において、或る強磁性体部 81a, 86aとこれに隣接する強磁性体部 81b, 86bと の離間距離が小さぐし力も、アダプター本体 90が存在することにより、その厚みによ つて上型 80および下型 85の間隔が相当に大きいものとなるため、上型 80の強磁性 体部 81aからこれに対応する下型 85の強磁性体部 86aに向力 方向(矢印 Xで示す )のみならず、例えば上型 80の強磁性体部 8 laからこれに対応する下型 85の強磁 性体部 86aに隣接する強磁性体部 86bに向力 方向(矢印 Yで示す)にも磁場が作 用することとなる。そのため、異方導電性エラストマ一用材料層 95Aにおいて、導電 性磁性体粒子を、上型 80の強磁性体部 81aとこれに対応する下型 85の強磁性体部 86aとの間に位置する部分に集合させることが困難となり、上型 80の強磁性体部 8 la と下型 85の強磁性体部 86bとの間に位置する部分にも導電性磁性体粒子が集合し てしまい、また、導電性磁性体粒子を異方導電性エラストマ一用材料層 95Aの厚み 方向に十分に配向させることが困難となり、その結果、所期の導電路形成部および 絶縁部を有する異方導電性エラストマ一シートが得られない。 However, when such an upper die 80 and lower die 85 are used to form the anisotropic conductive elastomer sheet 95 as described above, as shown in FIG. 42, the upper die 80 and the lower die 85 are formed. In each of the molds 85, the separation distance between a certain ferromagnetic part 81a, 86a and the adjacent ferromagnetic part 81b, 86b is also reduced by the thickness of the adapter body 90 due to the presence of the adapter body 90. Since the distance between the upper die 80 and the lower die 85 is considerably large, the direction of the direction of force (indicated by the arrow X) from the ferromagnetic portion 81a of the upper die 80 to the corresponding ferromagnetic portion 86a of the lower die 85. In addition to the ferromagnetic part 8 la of the upper mold 80, for example, the ferromagnetic part 86 b adjacent to the corresponding ferromagnetic part 86 b of the lower mold 85 has a direction of force (indicated by an arrow Y). In addition, a magnetic field is applied. Therefore, in the anisotropic conductive elastomer material layer 95A, the conductive magnetic particles are located between the ferromagnetic portion 81a of the upper mold 80 and the corresponding ferromagnetic portion 86a of the lower mold 85. It becomes difficult to assemble into the part, and the conductive magnetic particles also gather in the part located between the ferromagnetic part 8 la of the upper mold 80 and the ferromagnetic part 86b of the lower mold 85, and Therefore, it becomes difficult to sufficiently orient the conductive magnetic particles in the thickness direction of the anisotropic conductive elastomer material layer 95A, and as a result, the anisotropic conductive elastomer having the desired conductive path forming portion and insulating portion is obtained. One sheet cannot be obtained.
[0014] また、異方導電性エラストマ一シートの形成においては、前述したように、上型 80お よび下型 85の 2つの型板が必要である。これらの型板は、目的とするアダプター装置 に応じて個別的に製造されるものであり、また、その製造工程が煩雑なものであるた め、アダプター装置の製造コストが極めて高いものとなり、延いては回路装置の検査
コストの増大を招く。 [0014] In addition, in forming the anisotropic conductive elastomer sheet, as described above, two mold plates of the upper mold 80 and the lower mold 85 are necessary. These templates are individually manufactured according to the target adapter device, and the manufacturing process is complicated, so that the manufacturing cost of the adapter device is extremely high, and the length of the template device is increased. Inspect circuit equipment Incurs increased costs.
[0015] このような問題を解決するため、導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で 含有されてなる導電性エラストマ一層をレーザー加工して成形することにより、目的と するパターンに従って配置された複数の導電路形成部を形成し、この導電路形成部 が形成された離型性支持板を、絶縁部用材料層が形成されたアダプター本体上に 重ね合わせることにより、アダプター本体の接続用電極の各々とこれに対応する導電 路形成部とを対接させ、この状態で絶縁部用材料層を硬化処理することにより絶縁 部を形成する方法が提案されている (特許文献 6参照。 )0 [0015] In order to solve such a problem, a conductive elastomer layer containing conductive particles aligned in a thickness direction is formed by laser processing so as to be arranged according to a target pattern. A plurality of conductive path forming portions are formed, and the releasable support plate on which the conductive path forming portions are formed is overlaid on the adapter main body on which the insulating material layer is formed. There has been proposed a method of forming an insulating portion by bringing each electrode and a corresponding conductive path forming portion into contact with each other and curing the insulating material layer in this state (see Patent Document 6). 0
し力しながら、このような方法においては、以下のような問題があることが判明した。 高 、導電性を有する異方導電性エラストマ一シートを得るためには、導電性粒子が 高い割合で含有された導電路形成部を形成することが肝要である。一方、高い凹凸 吸収性を有する異方導電性エラストマ一シートを得るためには、厚みの大きい導電 路形成部を形成することが肝要である。 However, it has been found that such a method has the following problems. In order to obtain an anisotropic conductive elastomer sheet having high conductivity, it is important to form a conductive path forming portion containing a high proportion of conductive particles. On the other hand, in order to obtain an anisotropic conductive elastomer sheet having high unevenness absorbability, it is important to form a conductive path forming portion having a large thickness.
而して、上記の製造方法において、導電性粒子が高い割合で含有された厚みの大 き ヽ導電路形成部を形成するためには、導電性粒子が高 ヽ割合で含有された厚み の大きい導電性エラストマ一層を形成することが必要となる。 Thus, in the manufacturing method described above, in order to form a conductive path forming part with a large thickness containing conductive particles at a high rate, a large thickness containing conductive particles at a high rate is used. It is necessary to form one conductive elastomer layer.
然るに、このような導電性エラストマ一層は、レーザー加工によって成形しにくいも のであるため、所期の導電路形成部を得ることが困難である。 However, since such a conductive elastomer layer is difficult to be formed by laser processing, it is difficult to obtain a desired conductive path forming portion.
[0016] 特許文献 1 :特開昭 51— 93393号公報 Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-93393
特許文献 2:特開昭 53— 147772号公報 Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open No. 53-147772
特許文献 3:特開昭 61 - 250906号公報 Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-250906
特許文献 4:特開平 4 - 151564号公報 Patent Document 4: Japanese Patent Laid-Open No. 4-151564
特許文献 5:特開平 6— 82531号公報 Patent Document 5: JP-A-6-82531
特許文献 6:特開 2004— 342597号公報 Patent Document 6: Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2004-342597
発明の開示 Disclosure of the invention
[0017] 本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その第 1の目的は、 検査対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該回路装置 につ ヽて所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、被検査電極が、
そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置につい て所要の電気的接続を確実に達成することができるアダプター装置およびその製造 方法を提供することにある。 [0017] The present invention has been made based on the above circumstances, and a first object of the present invention is to provide the circuit device regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected. Thus, the required electrical connection can be reliably achieved and the electrode to be inspected An object of the present invention is to provide an adapter device that can reliably achieve a required electrical connection for the circuit device even when the pitch is very small and densely arranged, and a method for manufacturing the adapter device.
本発明の第 2の目的は、検査対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに 関わらず、当該回路装置について所要の電気的検査を確実に実行することができる と共に、検査対象である回路装置の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配 置されている場合であっても、当該回路装置について所要の電気的検査を確実に実 行することができる回路装置の電気的検査装置を提供することにある。 The second object of the present invention is to ensure that a required electrical inspection can be performed on the circuit device regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected, and to be the circuit to be inspected. Even when the electrodes to be inspected of the device are arranged with a small pitch and a high density, the electrical inspection of the circuit device can reliably perform the required electrical inspection of the circuit device. To provide an apparatus.
本発明のアダプター装置の製造方法は、表面に検査すべき回路装置における被 検査電極に対応するパターンに従って複数の接続用電極が形成された接続用電極 領域を有するアダプター本体と、このアダプター本体の接続用電極領域上に一体的 に設けられた、前記接続用電極の各々の表面上に位置された厚み方向に伸びる複 数の導電路形成部およびこれらを相互に絶縁する絶縁部よりなる異方導電性シート と、この異方導電性シートの導電路形成部上に一体的に設けられた金属よりなる接 点部材とよりなるアダプター装置を製造する方法であって、 The method for manufacturing an adapter device according to the present invention includes an adapter body having a connection electrode region in which a plurality of connection electrodes are formed according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface, and the connection between the adapter body Anisotropic conductivity composed of a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction and integrally formed on the surface of each of the connection electrodes, and insulating portions that insulate them from each other. A method of manufacturing an adapter device comprising a conductive sheet and a contact member made of metal integrally provided on a conductive path forming portion of the anisotropic conductive sheet,
金属箔上に、前記接続用電極に係る特定のパターンに従ってそれぞれ磁性を示 す金属よりなる複数の接点部材が形成されてなる接点部材複合体を用意し、 この接点部材複合体上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質 形成材料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマ一用材料 層を形成し、この導電性エラストマ一用材料層上に、それぞれ磁性を示す金属よりな る複数の金属マスクの各々を、当該導電性エラストマ一用材料層を介して前記接点 部材と互いに対向するよう配置し、この状態で、当該導電性エラストマ一用材料層に 対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマ一用材料層 を硬化処理することにより、導電性エラストマ一層を形成し、当該導電性エラストマ一 層をレーザー加工して前記接点部材と前記金属マスクとの間に位置する部分以外の 部分を除去することにより、前記特定のパターンに従って配置された複数の導電路 形成部を形成し、 On the metal foil, a contact member composite is prepared in which a plurality of contact members each made of a metal exhibiting magnetism are formed according to a specific pattern relating to the connection electrode, and the contact member composite is cured on the contact member composite. A liquid polymer substance forming an elastic polymer substance and forming a conductive elastomer material layer containing conductive particles exhibiting magnetism in the forming material, and on each of the conductive elastomer material layers, Each of the plurality of metal masks made of metal exhibiting magnetism is disposed so as to face the contact member with the conductive elastomer material layer interposed therebetween, and in this state, the conductive elastomer material layer is disposed on the conductive elastomer material layer. On the other hand, by applying a magnetic field in the thickness direction and curing the material layer for conductive elastomer, a conductive elastomer layer is formed, and the conductive elastomer layer is formed. The by removing the portion other than the portion located between the contact member and the metal mask by laser machining, by forming a plurality of conductive path-forming parts arranged according to the specific pattern,
各導電路形成部上に配置された金属マスクを除去し、その後、当該導電路形成部
が形成された接点部材複合体を、硬化されて弾性高分子物質となる材料よりなる絶 縁部用材料層が接続用電極領域上に形成されたアダプター本体上に重ね合わせる こと〖こより、当該アダプター本体の接続用電極領域における接続用電極の各々とこ れに対応する導電路形成部とを対接させ、この状態で前記絶縁部用材料層を硬化 処理することにより絶縁部を形成する工程を有することを特徴とする。 The metal mask arranged on each conductive path forming part is removed, and then the conductive path forming part The contact member composite formed with the material is overlapped on the adapter body in which the insulating material layer made of a material that is cured and becomes an elastic polymer substance is formed on the electrode region for connection. Each of the connection electrodes in the connection electrode region of the main body is brought into contact with the corresponding conductive path forming portion, and in this state, the insulating portion material layer is cured to form an insulating portion. It is characterized by that.
また、本発明のアダプター装置の製造方法は、表面に検査すべき回路装置におけ る被検査電極に対応するパターンに従ってそれぞれ電流供給用および電圧測定用 の 2つの接続用電極からなる複数の接続用電極対が形成された接続用電極領域を 有するアダプター本体と、このアダプター本体の接続用電極領域上に一体的に設け られた、前記接続用電極の各々の表面上に位置された厚み方向に伸びる複数の導 電路形成部およびこれらを相互に絶縁する絶縁部よりなる異方導電性シートと、この 異方導電性シートの導電路形成部上に一体的に設けられた金属よりなる接点部材と よりなるアダプター装置を製造する方法であって、 金属箔上に、前記接続用電極に 係る特定のパターンに従ってそれぞれ磁性を示す金属よりなる複数の接点部材が形 成されてなる接点部材複合体を用意し、 The adapter device manufacturing method of the present invention also includes a plurality of connection electrodes each comprising two connection electrodes for current supply and voltage measurement according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface. An adapter body having a connection electrode region in which an electrode pair is formed, and extending in the thickness direction located on the surface of each of the connection electrodes provided integrally on the connection electrode region of the adapter body An anisotropic conductive sheet comprising a plurality of conductive path forming portions and insulating portions that insulate them from each other, and a contact member made of metal integrally provided on the conductive path forming portion of the anisotropic conductive sheet A plurality of contact members made of a metal exhibiting magnetism according to a specific pattern on the connection electrode on the metal foil. It is prepared contact member complex comprising,
この接点部材複合体上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質 形成材料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマ一用材料 層を形成し、この導電性エラストマ一用材料層上に、それぞれ磁性を示す金属よりな る複数の金属マスクの各々を、当該導電性エラストマ一用材料層を介して前記接点 部材と互いに対向するよう配置し、この状態で、当該導電性エラストマ一用材料層に 対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマ一用材料層 を硬化処理することにより、導電性エラストマ一層を形成し、当該導電性エラストマ一 層をレーザー加工して前記接点部材と前記金属マスクとの間に位置する部分以外の 部分を除去することにより、前記特定のパターンに従って配置された複数の導電路 形成部を形成し、 On this contact member composite, a conductive elastomer material layer is formed, in which conductive particles exhibiting magnetism are contained in a liquid polymer material forming material that is cured to become an elastic polymer material. A plurality of metal masks each made of a metal exhibiting magnetism are disposed on the material layer for the conductive elastomer so as to face each other through the conductive elastomer material layer and in this state. A conductive elastomer layer is formed by applying a magnetic field in the thickness direction to the conductive elastomer material layer and curing the conductive elastomer material layer, thereby forming the conductive elastomer layer. Laser processing is performed on one layer to remove portions other than the portion located between the contact member and the metal mask, so that the multiple layers arranged according to the specific pattern are removed. The conductive path forming portion formed,
各導電路形成部上に配置された金属マスクを除去し、その後、当該導電路形成部 が形成された接点部材複合体を、硬化されて弾性高分子物質となる材料よりなる絶 縁部用材料層が接続用電極領域上に形成されたアダプター本体上に重ね合わせる
こと〖こより、当該アダプター本体の接続用電極領域における接続用電極の各々とこ れに対応する導電路形成部とを対接させ、この状態で前記絶縁部用材料層を硬化 処理することにより絶縁部を形成する工程を有することを特徴とする。 The metal mask disposed on each conductive path forming portion is removed, and then the contact member composite having the conductive path forming portion formed thereon is cured to be an insulating material made of a material that becomes an elastic polymer substance. The layer is overlaid on the adapter body formed on the connecting electrode area In particular, each of the connection electrodes in the connection electrode region of the adapter main body is brought into contact with the corresponding conductive path forming portion, and in this state, the insulating material layer is cured to cure the insulating portion. It has the process of forming.
[0020] また、本発明のアダプター装置の製造方法は、表面に検査すべき回路装置におけ る被検査電極に対応するパターンに従って複数の接続用電極が形成された接続用 電極領域を有するアダプター本体と、このアダプター本体の接続用電極領域上に一 体的に設けられた、前記接続用電極の各々の表面上に位置された厚み方向に伸び る複数の導電路形成部およびこれらを相互に絶縁する絶縁部よりなる異方導電性シ ートとよりなるアダプター装置を製造する方法であって、 [0020] Further, the adapter device manufacturing method of the present invention includes an adapter body having a connection electrode region in which a plurality of connection electrodes are formed according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface. And a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction, which are integrally provided on the connection electrode region of the adapter main body and located on the surface of each of the connection electrodes, and insulated from each other A method of manufacturing an adapter device comprising an anisotropic conductive sheet comprising an insulating portion and comprising:
離型性支持板上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材 料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマ一用材料層を形 成し、この導電性エラストマ一用材料層上に、それぞれ磁性を示す金属よりなる複数 の金属マスクを、前記接続用電極に係る特定のパターンに従って配置し、この状態 で、当該導電性エラストマ一用材料層に対して、その厚み方向に磁場を作用させると 共に、当該導電性エラストマ一用材料層を硬化処理することにより、導電性エラストマ 一層を形成し、当該導電性エラストマ一層をレーザー加工して前記金属マスクが配 置された部分以外の部分を除去することにより、前記特定のパターンに従って配置さ れた複数の導電路形成部を形成し、 On the releasable support plate, a conductive elastomer material layer in which conductive particles exhibiting magnetism are contained in a liquid polymer material forming material which is cured to become an elastic polymer material is formed. A plurality of metal masks each made of a metal exhibiting magnetism are disposed on the conductive elastomer material layer according to a specific pattern related to the connection electrode, and in this state, the conductive elastomer material layer is formed on the conductive elastomer material layer. On the other hand, by applying a magnetic field in the thickness direction and curing the material layer for the conductive elastomer, a conductive elastomer layer is formed, and the conductive elastomer layer is laser processed to perform the metal mask. By removing the portion other than the portion where is disposed, a plurality of conductive path forming portions arranged according to the specific pattern are formed,
各導電路形成部上に配置された金属マスクを除去し、その後、当該導電路形成部 が形成された離型性支持板を、硬化されて弾性高分子物質となる材料よりなる絶縁 部用材料層が接続用電極領域上に形成されたアダプター本体上に重ね合わせるこ とにより、当該アダプター本体の接続用電極領域における接続用電極の各々とこれ に対応する導電路形成部とを対接させ、この状態で前記絶縁部用材料層を硬化処 理することにより絶縁部を形成する工程を有することを特徴とする。 The metal mask disposed on each conductive path forming portion is removed, and then the release support plate on which the conductive path forming portion is formed is cured and the insulating portion material is made of a material that becomes an elastic polymer substance. By overlapping the layer on the adapter body formed on the connection electrode region, each of the connection electrodes in the connection electrode region of the adapter body and the corresponding conductive path forming portion are brought into contact with each other. In this state, the insulating portion material layer is cured to form an insulating portion.
[0021] また、本発明のアダプター装置の製造方法は、表面に検査すべき回路装置におけ る被検査電極に対応するパターンに従ってそれぞれ電流供給用および電圧測定用 の 2つの接続用電極からなる複数の接続用電極対が形成された接続用電極領域を 有するアダプター本体と、このアダプター本体の接続用電極領域上に一体的に設け
られた、前記接続用電極の各々の表面上に位置された厚み方向に伸びる複数の導 電路形成部およびこれらを相互に絶縁する絶縁部よりなる異方導電性シートとよりな るアダプター装置を製造する方法であって、 離型性支持板上に、硬化されて弾性 高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に磁性を示す導電性粒子が含有さ れてなる導電性エラストマ一用材料層を形成し、この導電性エラストマ一用材料層上 に、それぞれ磁性を示す金属よりなる複数の金属マスクを、前記接続用電極に係る 特定のパターンに従って配置し、この状態で、当該導電性エラストマ一用材料層を硬 化処理することにより、導電性エラストマ一層を形成し、当該導電性エラストマ一層を レーザー加工して前記金属マスクが配置された部分以外の部分を除去することによ り、前記特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部を形成し、 各導電路形成部上に配置された金属マスクを除去し、その後、当該導電路形成部 が形成された離型性支持板を、硬化されて弾性高分子物質となる材料よりなる絶縁 部用材料層が接続用電極領域上に形成されたアダプター本体上に重ね合わせるこ とにより、当該アダプター本体の接続用電極領域における接続用電極の各々とこれ に対応する導電路形成部とを対接させ、この状態で前記絶縁部用材料層を硬化処 理することにより絶縁部を形成する工程を有することを特徴とする。 [0021] Further, the manufacturing method of the adapter device according to the present invention includes a plurality of connection electrodes each including two connection electrodes for current supply and voltage measurement according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface. An adapter body having a connection electrode area in which a pair of connection electrodes is formed, and an adapter body integrally provided on the connection electrode area of the adapter body Manufactures an adapter device comprising a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction located on the surfaces of each of the connection electrodes and an anisotropic conductive sheet comprising insulating portions that insulate them from each other. A conductive elastomer material comprising a liquid polymer substance-forming material that is cured to become an elastic polymer substance and containing conductive particles exhibiting magnetism on a releasable support plate. A plurality of metal masks each made of a metal exhibiting magnetism are arranged on the conductive elastomer material layer according to a specific pattern related to the connection electrode, and in this state, the conductive elastomer is formed. By hardening the material layer for use, a conductive elastomer layer is formed, and the conductive elastomer layer is laser processed to remove portions other than the portion where the metal mask is disposed. Thus, a plurality of conductive path forming portions arranged according to the specific pattern are formed, the metal mask arranged on each conductive path forming portion is removed, and then the conductive path forming portions are formed. By connecting the releasable support plate on the adapter body formed on the connecting electrode region, the insulating material layer made of a material that is cured to become an elastic polymer substance is used to connect the adapter body. Each of the connection electrodes in the electrode region is brought into contact with the corresponding conductive path forming portion, and in this state, the insulating material layer is cured to form an insulating portion. And
[0022] 本発明のアダプター装置の製造方法においては、レーザー加工としては、炭酸ガ スレーザーまたは紫外線レーザーによるものを好適に用いることができる。 In the method for manufacturing an adapter device of the present invention, laser processing using a carbon dioxide laser or an ultraviolet laser can be preferably used.
[0023] 本発明のアダプター装置は、上記の製造方法によって得られることを特徴とする。 [0023] The adapter device of the present invention is obtained by the manufacturing method described above.
[0024] 本発明の回路装置の電気的検査装置は、上記のアダプター装置を具えてなること を特徴とする。 [0024] An electrical inspection device for a circuit device according to the present invention comprises the adapter device described above.
[0025] 本発明のアダプター装置の製造方法によれば、導電性エラストマ一用材料層上に 、特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置した状態で、当該導電性ェ ラスマー用材料層の厚み方向に磁場を作用させると共に当該導電性エラストマ一用 材料層を硬化処理することにより、得られる導電性エラストマ一層は、金属マスクが配 置された部分すなわち導電路形成部となる部分における導電性粒子が密となると共 に、それ以外の部分における導電性粒子が疎となり、これにより、当該導電性エラスト マー層における導電路形成部となる部分以外の部分をレーザー加工によって除去
することが極めて容易となる。そのため、導電性エラストマ一層をレーザー加工するこ とにより、所期の形態の導電路形成部を確実に形成することができる。そして、特定 のパターンに従って配置された複数の導電路形成部を形成したうえで、これらの導 電路形成部の間に絶縁部用材料層を形成して硬化処理することにより絶縁部を形成 するため、導電性粒子が全く存在しな 、絶縁部を確実に得ることができる。 [0025] According to the method for manufacturing an adapter device of the present invention, the thickness of the conductive elastomer material layer in a state where a metal mask showing magnetism is arranged according to a specific pattern on the conductive elastomer material layer. By applying a magnetic field in the direction and curing the material layer for the conductive elastomer, the conductive elastomer layer obtained is a conductive particle in the portion where the metal mask is arranged, that is, the portion where the conductive path is formed. In addition to becoming dense, the conductive particles in the other part become sparse, so that the part other than the part forming the conductive path in the conductive elastomer layer is removed by laser processing. It becomes extremely easy to do. Therefore, by conducting laser processing on the conductive elastomer layer, it is possible to reliably form the conductive path forming portion of the desired form. Then, after forming a plurality of conductive path forming portions arranged according to a specific pattern, an insulating portion material layer is formed between these conductive path forming portions and cured to form an insulating portion. In the absence of conductive particles, an insulating part can be obtained reliably.
従って、このような方法によって得られる本発明のアダプター装置によれば、検査 対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該回路装置につ いて所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、被検査電極が、その ピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所 要の電気的接続を確実に達成することができる。 Therefore, according to the adapter device of the present invention obtained by such a method, the required electrical connection can be reliably achieved for the circuit device regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected. In addition, even if the electrodes to be inspected are arranged with a small pitch and a high density, it is possible to reliably achieve the necessary electrical connection for the circuit device.
[0026] 本発明の回路装置の電気的検査装置によれば、上記のアダプター装置を具えて なるため、検査対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該 回路装置について所要の電気的検査を確実に実行することができると共に、回路装 置の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、 当該回路装置について所要の電気的検査を確実に実行することができる。 [0026] According to the electrical inspection device for a circuit device of the present invention, the adapter device described above is provided. Therefore, regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected in the circuit device to be inspected, The electrical inspection can be performed reliably, and the required electrical inspection can be performed for the circuit device even when the electrodes to be inspected of the circuit device are arranged with a small pitch and a high density. It can be executed reliably.
図面の簡単な説明 Brief Description of Drawings
[0027] [図 1]本発明に係るアダプター装置の第 1の例における構成を示す説明用断面図で ある。 FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration in a first example of an adapter device according to the present invention.
[図 2]第 1の例のアダプター装置におけるアダプター本体の構成を示す説明用断面 図である。 FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the adapter body in the adapter device of the first example.
[図 3]第 1の例のアダプター装置における異方導電性シートの要部の構成を拡大して 示す説明用断面図である。 FIG. 3 is an explanatory sectional view showing, in an enlarged manner, a configuration of a main part of an anisotropic conductive sheet in the adapter device of the first example.
[図 4]金属箔上に特定のパターンに従って形成された複数の開口を有するレジスト層 が形成された状態を示す説明用断面図である。 FIG. 4 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a resist layer having a plurality of openings formed according to a specific pattern is formed on a metal foil.
[図 5]レジスト層の各開口内に接点部材が形成されて接点部材複合体が形成された 状態を示す説明用断面図である。 FIG. 5 is an explanatory sectional view showing a state in which a contact member is formed in each opening of a resist layer to form a contact member composite.
[図 6]金属箔上に特定のパターンに従って形成された複数の開口を有するレジスト層 が形成された状態を示す説明用断面図である。
[図 7]レジスト層の各開口内に接点部材が形成されて金属マスク複合体が形成された 状態を示す説明用断面図である。 FIG. 6 is an explanatory sectional view showing a state in which a resist layer having a plurality of openings formed according to a specific pattern is formed on a metal foil. FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a contact member is formed in each opening of a resist layer to form a metal mask composite.
[図 8]接点部材複合体上に導電性エラストマ一用材料層が形成された状態を示す説 明用断面図である。 FIG. 8 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a conductive elastomer material layer is formed on a contact member composite.
圆 9]導電性エラストマ一用材料層の表面に金属マスク複合体が配置された状態を 示す説明用断面図である。 [9] FIG. 9 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which the metal mask composite is disposed on the surface of the material layer for conductive elastomer.
圆 10]導電性エラストマ一用材料層にその厚み方向に磁場が作用された状態を示す 説明用断面図である。 [10] FIG. 10 is an explanatory sectional view showing a state in which a magnetic field is applied to the material layer for conductive elastomer in the thickness direction.
[図 11]接点部材複合体上に導電性エラストマ一層が形成された状態を示す説明用 断面図である。 FIG. 11 is an explanatory sectional view showing a state in which a conductive elastomer layer is formed on a contact member composite.
圆 12]金属マスク複合体の金属箔が除去された状態を示す説明用断面図である。 [12] FIG. 12 is an explanatory sectional view showing a state where the metal foil of the metal mask composite is removed.
[図 13]接点部材複合体上に特定のパターンに従って複数の導電路形成部が形成さ れた状態を示す説明用断面図である。 FIG. 13 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a plurality of conductive path forming portions are formed according to a specific pattern on the contact member composite.
圆 14]アダプター本体上に絶縁部用材料層が形成された状態を示す説明用断面図 である。 [14] FIG. 14 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which an insulating material layer is formed on the adapter body.
圆 15]絶縁部用材料層が形成されたアダプター本体上に、導電路形成部が形成さ れた接点部材複合体が重ね合わされた状態を示す説明用断面図である。 FIG. 15 is a cross-sectional view for explaining a state in which a contact member composite having a conductive path forming portion is superimposed on an adapter main body on which an insulating portion material layer is formed.
圆 16]隣接する導電路形成部間に絶縁部が形成された状態を示す説明用断面図で ある。 FIG. 16 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which an insulating portion is formed between adjacent conductive path forming portions.
圆 17]本発明に係るアダプター装置の第 2の例における構成を示す説明用断面図で ある。 FIG. 17 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the adapter device according to the second example of the present invention.
圆 18]第 2の例のアダプター装置におけるアダプター本体の構成を示す説明用断面 図である。 FIG. 18 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the adapter body in the adapter device of the second example.
[図 19]第 2の例のアダプター装置における異方導電性シートの要部の構成を拡大し て示す説明用断面図である。 FIG. 19 is an explanatory cross-sectional view showing, in an enlarged manner, the configuration of the main part of the anisotropic conductive sheet in the adapter device of the second example.
圆 20]本発明に係るアダプター装置の第 3の例における構成を示す説明用断面図で ある。 FIG. 20 is a cross-sectional view illustrating the configuration of a third example of an adapter device according to the present invention.
[図 21]第 3の例のアダプター装置における異方導電性シートの要部の構成を拡大し
て示す説明用断面図である。 [FIG. 21] The configuration of the main part of the anisotropic conductive sheet in the adapter device of the third example is enlarged. FIG.
[図 22]離型性支持板上に導電性エラストマ一用材料層が形成された状態を示す説 明用断面図である。 FIG. 22 is an explanatory sectional view showing a state in which a conductive elastomer material layer is formed on a releasable support plate.
圆 23]導電性エラストマ一用材料層の表面に金属マスク複合体が配置された状態を 示す説明用断面図である。 FIG. 23 is a cross-sectional view for explaining a state in which a metal mask composite is disposed on the surface of the material layer for conductive elastomer.
圆 24]導電性エラストマ一用材料層にその厚み方向に磁場が作用された状態を示す 説明用断面図である。 24] A sectional view for explanation showing a state in which a magnetic field is applied in the thickness direction to the material layer for conductive elastomer.
圆 25]離型性支持板上に導電性エラストマ一層が形成された状態を示す説明用断 面図である。 FIG. 25 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a conductive elastomer layer is formed on a releasable support plate.
圆 26]金属マスク複合体の金属箔が除去された状態を示す説明用断面図である。 FIG. 26 is an explanatory cross-sectional view showing a state where the metal foil of the metal mask composite is removed.
[図 27]離型性支持板上に特定のパターンに従って複数の導電路形成部が形成され た状態を示す説明用断面図である。 FIG. 27 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a plurality of conductive path forming portions are formed on a releasable support plate according to a specific pattern.
圆 28]アダプター本体上に絶縁部用材料層が形成された状態を示す説明用断面図 である。 [28] FIG. 28 is an explanatory sectional view showing a state in which an insulating material layer is formed on the adapter body.
圆 29]絶縁部用材料層が形成されたアダプター本体上に、導電路形成部が形成さ れた離型性支持板が重ね合わされた状態を示す説明用断面図である。 29] A sectional view for explanation showing a state in which a releasable support plate on which a conductive path forming portion is formed is superimposed on an adapter main body on which an insulating portion material layer is formed.
圆 30]隣接する導電路形成部間に絶縁部が形成された状態を示す説明用断面図で ある。 FIG. 30 is an explanatory cross-sectional view showing a state where an insulating portion is formed between adjacent conductive path forming portions.
圆 31]本発明に係るアダプター装置の第 4の例における構成を示す説明用断面図で ある。 [31] FIG. 31 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the adapter device according to the fourth example of the present invention.
[図 32]第 4の例のアダプター装置における異方導電性シートの要部の構成を拡大し て示す説明用断面図である。 FIG. 32 is an explanatory cross-sectional view showing, in an enlarged manner, the configuration of the main part of the anisotropic conductive sheet in the adapter device of the fourth example.
圆 33]本発明に係る回路装置の電気的検査装置の第 1の例における構成を示す説 明図である。 FIG. 33] An explanatory diagram showing the configuration of the first example of the electrical inspection device for a circuit device according to the present invention.
圆 34]本発明に係る回路装置の電気的検査装置の第 2の例における構成を示す説 明図である。 [34] FIG. 34 is an explanatory diagram showing a configuration of the second example of the electrical inspection apparatus for circuit devices according to the present invention.
圆 35]導電性エラストマ一層における導電路形成部となる部分の周辺部分のみが除 去されることにより、導電路形成部が形成された状態を示す説明図である。
[図 36]導電性エラストマ一層における導電路形成部となる部分の周辺部分のみが除 去されることにより、導電路形成部が形成された状態を示す説明用断面図である。 [35] FIG. 35 is an explanatory view showing a state where the conductive path forming portion is formed by removing only the peripheral portion of the conductive elastomer forming layer in the conductive elastomer forming layer. FIG. 36 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a conductive path forming portion is formed by removing only a peripheral portion of a portion that becomes a conductive path forming portion in a conductive elastomer layer.
[図 37]本発明に係るアダプター装置の他の例における要部の構成を拡大して示す 説明用断面図である。 FIG. 37 is an explanatory sectional view showing, in an enlarged manner, the configuration of the main part in another example of the adapter device according to the present invention.
[図 38]従来のアダプター装置の製造にぉ 、て、アダプター本体の表面に異方導電 性エラストマ一用材料層が形成された状態を示す説明用断面図である。 FIG. 38 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which an anisotropic conductive elastomer material layer is formed on the surface of the adapter body in the manufacture of the conventional adapter device.
[図 39]異方導電性エラストマ一用材料層が形成されたアダプター本体が一方の型お よひ他方の型の間に配置された状態を示す説明用断面図である。 FIG. 39 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which the adapter main body on which the anisotropic conductive elastomer material layer is formed is disposed between one mold and the other mold.
[図 40]アダプター本体の表面上に異方導電性シートが形成されてアダプター装置が 製造された状態を示す説明用断面図である。 FIG. 40 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which the anisotropic conductive sheet is formed on the surface of the adapter body and the adapter device is manufactured.
[図 41]アダプター本体の接続用電極の配置状態を示す説明図である。 FIG. 41 is an explanatory view showing an arrangement state of connection electrodes of the adapter body.
[図 42]従来のアダプター装置の製造にぉ 、て、異方導電性エラストマ一用材料層に 作用される磁場の方向を示す説明用断面図である。 FIG. 42 is an explanatory cross-sectional view showing the direction of the magnetic field applied to the anisotropic conductive elastomer material layer in the manufacture of the conventional adapter device.
符号の説明 Explanation of symbols
la 上部側アダプター装置 la Upper adapter device
lb 下部側アダプター装置 lb Lower adapter device
2 ホルダー 2 Holder
3 位置決めピン 3 Positioning pin
5 回路装置 5 Circuit equipment
6, 7 被検査電極 6, 7 Inspected electrode
10 異方導電性シート 10 Anisotropic conductive sheet
11 導電路形成部 11 Conduction path forming part
11A 導電性エラストマ一用材料層 11A Material layer for conductive elastomer
11B 導電性エラストマ一層 11B conductive elastomer layer
12 絶縁部 12 Insulation part
12A 絶縁部用材料層 12A Material layer for insulation
13 接点部材 13 Contact material
13F 接点部材複合体
金属箔 13F contact member composite Metal foil
レジスト層 Resist layer
K 開口 K opening
金属箔 Metal foil
レジスト層 Resist layer
K 開口 K opening
金属マスク Metal mask
F 金属マスク複合体 離型性支持板 F Metal mask composite releasable support plate
アダプター本体 Adapter body
, 21b, 21c 接続用電極a 接続用電極対 , 21b, 21c Connecting electrode a Connecting electrode pair
端子電極 Terminal electrode
内部配線部 Internal wiring section
接続用電極領域 異方導電性シートa 上部側検査ヘッドb 下部側検査ヘッドa, , 51b 検査電極装置a, , 52b 検査電極a, , 53b 電線 Connecting electrode area Anisotropic conductive sheet a Upper inspection head b Lower inspection head a,, 51b Inspection electrode device a,, 52b Inspection electrode a,, 53b
a, , 54b 支柱a, 54b strut
a, 55b 異方導電性シートa 上部側支持板b 下部側支持板a, 57b コネクター a, 55b Anisotropic conductive sheet a Upper support plate b Lower support plate a, 57b Connector
一方の型板 One template
, 81a, 81b 強磁性体部
82 非磁性体部 , 81a, 81b Ferromagnetic part 82 Non-magnetic part
83 電磁石 83 electromagnet
85 他方の型板 85 The other template
86, 86a, 86b 強磁性体部 86, 86a, 86b Ferromagnetic part
87 非磁性体部 87 Non-magnetic part
88 電磁石 88 electromagnet
90 アダプター本体 90 Adapter body
91 接続用電極 91 Connection electrode
95 異方導電性エラストマ一シート 95 Anisotropic conductive elastomer sheet
95A 異方導電性エラストマ一用材料層 95A Material layer for anisotropic conductive elastomer
96 導電路形成部 96 Conduction path forming part
97 絶縁部 97 Insulation
発明を実施するための最良の形態 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
[0029] 以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
〈アダプター装置〉 <Adapter device>
図 1は、本発明に係るアダプター装置の第 1の例における構成を示す説明用断面 図であり、図 2は、図 1に示すアダプター装置におけるアダプター本体を示す説明用 断面図である。このアダプター装置は、例えばプリント回路基板などの回路装置につ いて、例えばオープン 'ショート試験を行うために用いられるものであって、多層配線 板よりなるアダプター本体 20を有する。 FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a first example of an adapter device according to the present invention, and FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view showing an adapter body in the adapter device shown in FIG. This adapter device is used, for example, to perform an open / short test on a circuit device such as a printed circuit board, and has an adapter body 20 made of a multilayer wiring board.
アダプター本体 20の表面(図 1および図 2において上面)には、検査対象である回 路装置の被検査電極のパターンに対応する特定のパターンに従って複数の接続用 電極 21が配置された接続用電極領域 25が形成されている。 A connection electrode in which a plurality of connection electrodes 21 are arranged on the surface of the adapter body 20 (the upper surface in FIGS. 1 and 2) according to a specific pattern corresponding to the pattern of the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected. Region 25 is formed.
アダプター本体 20の裏面には、例えばピッチが 0. 8mm、 0. 75mm, 1. 5mm、 1 . 8mm, 2. 54mmの格子点位置に従って複数の端子電極 22が配置され、端子電 極 22の各々は、内部配線部 23によって接続用電極 21に電気的に接続されている。 A plurality of terminal electrodes 22 are arranged on the back surface of the adapter body 20 according to the grid point positions of pitches of 0.8 mm, 0.75 mm, 1.5 mm, 1.8 mm, and 2.54 mm, for example. Are electrically connected to the connection electrode 21 by the internal wiring portion 23.
[0030] このようなアダプター本体 20の表面には、その接続用電極領域 25上に異方導電 性シート 10がー体的に接着乃至密着した状態で形成されている。図示の例では、ァ
ダブター本体 20の表面全体を覆うよう異方導電性シート 10が形成されている。 この異方導電性シート 10は、アダプター本体 20における接続用電極 21に係る特 定のパターンと同一のパターンに従って配置された、それぞれ厚み方向に伸びる複 数の導電路形成部 11と、隣接する導電路形成部 11の間に当該導電路形成部 11の 各々に一体的に接着した状態で形成された、これらの導電路形成部 11を相互に絶 縁する絶縁部 12とにより構成されており、当該異方導電性シート 10は、導電路形成 部 11の各々がアダプター本体 20の接続用電極 21上に位置されるよう配置されてい る。 On the surface of the adapter main body 20, the anisotropic conductive sheet 10 is formed on the connection electrode region 25 in a state of being physically adhered or closely adhered. In the example shown, An anisotropic conductive sheet 10 is formed so as to cover the entire surface of the doveter body 20. The anisotropic conductive sheet 10 is arranged according to the same pattern as the specific pattern related to the connection electrode 21 in the adapter body 20 and has a plurality of conductive path forming portions 11 extending in the thickness direction and adjacent conductive paths. Between the path forming portions 11, the conductive path forming portions 11 are formed in a state of being integrally bonded to each of the conductive path forming portions 11, and the conductive path forming portions 11 are insulated from each other. The anisotropic conductive sheet 10 is arranged such that each of the conductive path forming portions 11 is positioned on the connection electrode 21 of the adapter body 20.
図 3に拡大して示すように、各導電路形成部 11は、絶縁性の弾性高分子物質中に 磁性を示す導電性粒子 Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されて構成され ている。これに対し、絶縁部 12は、導電性粒子 Pを全く含有しない弾性高分子物質 により構成されている。導電路形成部 11を構成する弾性高分子物質と絶縁部 12を 構成する弾性高分子物質とは、互いに異なる種類のものであっても同じ種類のもの であってもよい。 As shown in an enlarged view in FIG. 3, each conductive path forming portion 11 is configured to be contained in an insulating elastic polymer material in a state where conductive particles P exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction. Yes. On the other hand, the insulating portion 12 is made of an elastic polymer material that does not contain the conductive particles P at all. The elastic polymer material constituting the conductive path forming portion 11 and the elastic polymer material constituting the insulating portion 12 may be of different types or the same type.
図示の例にお 、て、導電路形成部 11は絶縁部 12の表面力 突出するよう形成さ れている。このような例によれば、加圧による圧縮の程度が絶縁部 12より導電路形成 部 11にお 、て大き 、ために十分に抵抗値の低!、導電路が確実に導電路形成部 11 に形成され、これにより、加圧力の変化乃至変動に対して抵抗値の変化を小さくする ことができ、その結果、異方導電性シート 10に作用される加圧力が不均一であっても 、各導電路形成部 11間における導電性のバラツキの発生を防止することができる。 導電路形成部 11および絶縁部 12を構成する弾性高分子物質としては、架橋構造 を有する高分子物質が好まし 、。このような弾性高分子物質を得るために用いること のできる硬化性の高分子物質形成材料としては、種々のものを用いることができ、そ の具体例としては、ポリブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレンーブ タジェン共重合体ゴム、アクリロニトリル ブタジエン共重合体ゴムなどの共役ジェン 系ゴムおよびこれらの水素添カ卩物、スチレン ブタジエン ジェンブロック共重合体 ゴム、スチレン イソプレンブロック共重合体などのブロック共重合体ゴムおよびこれ らの水素添加物、クロ口プレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、ェピクロルヒドリン
ゴム、シリコーンゴム、エチレン一プロピレン共重合体ゴム、エチレン一プロピレン一 ジェン共重合体ゴムなどが挙げられる。 In the illustrated example, the conductive path forming portion 11 is formed so as to protrude the surface force of the insulating portion 12. According to such an example, the degree of compression by pressurization is greater in the conductive path forming section 11 than in the insulating section 12, so that the resistance value is sufficiently low! Thus, the change in the resistance value can be reduced with respect to the change or fluctuation of the applied pressure, and as a result, even if the applied pressure acting on the anisotropic conductive sheet 10 is not uniform, It is possible to prevent the occurrence of conductive variation between the conductive path forming portions 11. As the elastic polymer material constituting the conductive path forming portion 11 and the insulating portion 12, a polymer material having a crosslinked structure is preferable. Various materials can be used as the curable polymer substance-forming material that can be used to obtain such an elastic polymer substance. Specific examples thereof include polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene. Conjugated rubbers such as rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, acrylonitrile butadiene copolymer rubber and their hydrogenated products, block copolymers such as styrene butadiene gen block copolymer rubber, styrene isoprene block copolymer, etc. Combined rubber and hydrogenated products thereof, black mouth plain, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin Examples thereof include rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, and ethylene-propylene copolymer rubber.
以上において、異方導電性シート 10に耐候性が要求される場合には、共役ジェン 系ゴム以外のものを用いることが好ましぐ特に、成形加工性および電気特性の観点 から、シリコーンゴムを用いることが好ましい。 In the above, when the anisotropic conductive sheet 10 is required to have weather resistance, it is preferable to use a rubber other than the conjugated-gen rubber. In particular, silicone rubber is used from the viewpoint of moldability and electrical characteristics. It is preferable.
[0032] シリコーンゴムとしては、液状シリコーンゴムを架橋または縮合したものが好ましい。 [0032] The silicone rubber is preferably one obtained by crosslinking or condensing liquid silicone rubber.
液状シリコーンゴムは、その粘度が歪速度 10— ^ecで 105ポアズ以下のものが好ましく 、縮合型のもの、付加型のもの、ビュル基ゃヒドロキシル基を含有するものなどのいず れであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン生ゴム、メチルビ-ルシリコーン生 ゴム、メチルフエ-ルビ-ルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。 The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10- ^ ec, and is any of a condensation type, an addition type, a bur group or a hydroxyl group-containing one. May be. Specific examples include dimethyl silicone raw rubber, methyl beer silicone raw rubber, and methyl vinyl silicone raw rubber.
また、シリコーンゴムは、その分子量 Mw (標準ポリスチレン換算重量平均分子量を いう。以下同じ。)が 10, 000-40, 000のものであることが好ましい。また、得られる 導電路形成部 11に良好な耐熱性が得られることから、分子量分布指数 (標準ポリス チレン換算重量平均分子量 Mwと標準ポリスチレン換算数平均分子量 Mnとの比 M wZMnの値をいう。以下同じ。)が 2以下のものが好ましい。 The silicone rubber preferably has a molecular weight Mw (standard polystyrene equivalent weight average molecular weight; the same shall apply hereinafter) of 10,000 to 40,000. In addition, since good heat resistance is obtained in the obtained conductive path forming part 11, the molecular weight distribution index (the value of the ratio MwZMn between the standard polystyrene equivalent weight average molecular weight Mw and the standard polystyrene equivalent number average molecular weight Mn). The same shall apply hereinafter) is preferably 2 or less.
[0033] 導電路形成部 11に含有される導電性粒子 Pとしては、後述する方法により当該粒 子を容易に厚み方向に並ぶよう配向させることができることから、磁性を示す導電性 粒子が用いられる。このような導電性粒子の具体例としては、鉄、コバルト、ニッケル などの磁性を有する金属の粒子若しくはこれらの合金の粒子またはこれらの金属を 含有する粒子、またはこれらの粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に金、銀、パラ ジゥム、ロジウムなどの導電性の良好な金属のメツキを施したもの、あるいは非磁性金 属粒子若しくはガラスビーズなどの無機物質粒子またはポリマー粒子を芯粒子とし、 当該芯粒子の表面に、ニッケル、コバルトなどの導電性磁性金属のメツキを施したも のなどが挙げられる。 [0033] As the conductive particles P contained in the conductive path forming part 11, conductive particles exhibiting magnetism are used because the particles can be easily aligned in the thickness direction by a method described later. . Specific examples of such conductive particles include particles of magnetic metals such as iron, cobalt and nickel, particles of alloys thereof, particles containing these metals, or particles containing these metals as core particles. The core particles are made of metal particles with good conductivity such as gold, silver, palladium, rhodium, etc., or inorganic particles such as non-magnetic metal particles or glass beads, or polymer particles. For example, the surface of the core particles may be plated with a conductive magnetic metal such as nickel or cobalt.
これらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面に導電性の良好な金のメッ キを施したものを用いることが好ま 、。 Among these, it is preferable to use a nickel particle as a core particle and a surface with a gold mesh having good conductivity.
芯粒子の表面に導電性金属を被覆する手段としては、特に限定されるものではな いが、例えばィ匕学メツキまたは電解メツキ法、スパッタリング法、蒸着法などが用いら
れている。 The means for coating the surface of the core particles with the conductive metal is not particularly limited, but for example, an electromechanical or electrolytic plating method, a sputtering method, a vapor deposition method or the like is used. It is.
[0034] 導電性粒子 Pとして、芯粒子の表面に導電性金属が被覆されてなるものを用いる場 合には、良好な導電性が得られることから、粒子表面における導電性金属の被覆率( 芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面積の割合)が 40%以上であることが 好ましぐさらに好ましくは 45%以上、特に好ましくは 47〜95%である。 [0034] When the conductive particles P used are those in which the surface of the core particles is coated with a conductive metal, good conductivity can be obtained. The ratio of the covering area of the conductive metal to the surface area of the core particles is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%.
また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の 0. 5〜50質量%であることが好ましぐよ り好ましくは 2〜30質量%、さらに好ましくは 3〜25質量%、特に好ましくは 4〜20質 量%である。被覆される導電性金属が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の 0. 5〜30質量%であることが好ましぐより好ましくは 2〜20質量%、さらに好ましくは 3〜15質量%でぁる。 The coating amount of the conductive metal is preferably 0.5 to 50% by mass of the core particles, more preferably 2 to 30% by mass, further preferably 3 to 25% by mass, and particularly preferably 4%. ~ 20% by mass. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is preferably 0.5 to 30% by mass of the core particles, more preferably 2 to 20% by mass, and still more preferably 3 to 15% by mass.
[0035] また、導電性粒子 Pの粒子径は、 1〜: LOO /z mであることが好ましぐより好ましくは 2 〜50 μ m、さらに好ましくは 3〜30 μ m、特〖こ好ましくは 4〜20 μ mである。 また、 導電性粒子 Pの粒子径分布 (DwZDn)は、 1〜: LOであることが好ましぐより好ましく は 1. 01〜7、さらに好ましくは 1. 05〜5、特に好ましくは 1. 1〜4である。 [0035] The particle size of the conductive particles P is preferably 1 to: LOO / zm, more preferably 2 to 50 μm, still more preferably 3 to 30 μm, particularly preferably 4-20 μm. The particle size distribution (DwZDn) of the conductive particles P is preferably 1 to: LO, more preferably 1.01 to 7, still more preferably 1.05 to 5, particularly preferably 1.1. ~ 4.
このような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、得られる導電路形成部 1 1は、加圧変形が容易なものとなり、また、当該導電路形成部 11において導電性粒 子間に十分な電気的接触が得られる。 By using conductive particles satisfying such conditions, the obtained conductive path forming part 11 can be easily deformed under pressure, and the conductive path forming part 11 has sufficient space between the conductive particles. Electrical contact can be obtained.
また、導電性粒子 Pの形状は、特に限定されるものではないが、高分子物質形成材 料中に容易に分散させることができる点で、球状のもの、星形状のものあるいはこれ らが凝集した 2次粒子であることが好ま 、。 In addition, the shape of the conductive particles P is not particularly limited, but is spherical, star-shaped or aggregated in that they can be easily dispersed in the polymer material-forming material. Preferred to be secondary particles.
また、導電性粒子 Pとして、その表面がシランカップリング剤などのカップリング剤や 潤滑剤で処理されたものを適宜用いることができる。カップリング剤や潤滑剤で粒子 表面を処理することにより、異方導電性シート 10の耐久性が向上する。 Further, as the conductive particles P, those whose surfaces are treated with a coupling agent such as a silane coupling agent or a lubricant can be appropriately used. By treating the particle surface with a coupling agent or a lubricant, the durability of the anisotropic conductive sheet 10 is improved.
[0036] このような導電性粒子 Pは、導電路形成部 11中に体積分率で 15〜45%、好ましく は 20〜40%となる割合で含有されて 、ることが好ま 、。この割合が過小である場 合には、十分に電気抵抗値の小さい導電路形成部 11が得られないことがある。一方 、この割合が過大である場合には、得られる導電路形成部 11は脆弱なものとなりや すく、導電路形成部 11として必要な弾性が得られな ヽことがある。
[0037] 異方導電性シート 10における導電路形成部 11の各々の表面には、金属よりなる平 板状の接点部材 13が当該導電路形成部 11に一体的に設けられて!/、る。 [0036] It is preferable that such conductive particles P are contained in the conductive path forming portion 11 at a volume fraction of 15 to 45%, preferably 20 to 40%. When this ratio is too small, the conductive path forming part 11 having a sufficiently small electric resistance value may not be obtained. On the other hand, if this ratio is excessive, the obtained conductive path forming portion 11 is likely to be fragile, and the necessary elasticity as the conductive path forming portion 11 may not be obtained. [0037] On each surface of the conductive path forming portion 11 in the anisotropic conductive sheet 10, a flat plate contact member 13 made of metal is integrally provided in the conductive path forming portion 11! / .
接点部材 13を構成する金属としては、磁性を示すものが用いられ、その具体例とし ては、ニッケル、コバルトまたはこれらの合金などが挙げられる。 As the metal constituting the contact member 13, a metal exhibiting magnetism is used, and specific examples thereof include nickel, cobalt, and alloys thereof.
また、接点部材 13の厚みは、 1〜: LOO /z mであることが好ましぐより好ましくは 5〜 40 μ mである。。 Further, the thickness of the contact member 13 is preferably 1 to: LOO / z m, more preferably 5 to 40 μm. .
[0038] 本発明において、上記の第 1の例のアダプター装置は、以下の(a)〜(d)の工程を 経由して得られる。 [0038] In the present invention, the adapter device of the first example is obtained through the following steps (a) to (d).
(a)金属箔上に、アダプター本体 20の接続用電極領域 25における接続用電極 21に 係る特定のパターンに従ってそれぞれ磁性を示す金属よりなる複数の接点部材 13 が形成されてなる接点部材複合体を製造する。 (a) A contact member composite formed by forming a plurality of contact members 13 made of metal each exhibiting magnetism according to a specific pattern related to the connection electrode 21 in the connection electrode region 25 of the adapter body 20 on the metal foil. To manufacture.
(b)接点部材複合体上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形 成材料中に磁性を示す導電性粒子 Pが含有されてなる導電性エラストマ一用材料層 を形成し、この導電性エラストマ一用材料層上に、それぞれ磁性を示す金属よりなる 複数の金属マスクの各々を、当該導電性エラストマ一用材料層を介して接点部材 13 と互いに対向するよう配置し、この状態で、導電性エラストマ一用材料層に対して、そ の厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマ一用材料層を硬化処 理することにより、導電性エラストマ一層を形成する。 (b) On the contact member composite, a material layer for a conductive elastomer is formed in which a liquid polymer material forming material that is cured to become an elastic polymer material contains conductive particles P exhibiting magnetism. Then, on the conductive elastomer material layer, a plurality of metal masks each made of a metal exhibiting magnetism are arranged so as to face the contact member 13 with the conductive elastomer material layer interposed therebetween, In this state, a magnetic field is applied to the conductive elastomer material layer in the thickness direction, and the conductive elastomer material layer is cured to form a conductive elastomer layer.
(c)導電性エラストマ一層をレーザー加工して接点部材 13と金属マスクとの間に位置 する部分以外の部分を除去することにより、特定のパターンに従って配置された複数 の導電路形成部 11を形成する。 (c) A plurality of conductive path forming portions 11 arranged according to a specific pattern are formed by removing a portion other than the portion located between the contact member 13 and the metal mask by laser processing the conductive elastomer layer. To do.
(d)各導電路形成部 11上に配置された金属マスクを除去し、その後、導電路形成部 11が形成された接点部材複合体を、硬化されて弾性高分子物質となる材料よりなる 絶縁部用材料層が接続用電極領域 25上に形成されたアダプター本体 20上に重ね 合わせることにより、アダプター本体 20の接続用電極領域 25における接続用電極 2 1の各々とこれに対応する導電路形成部 11とを対接させ、この状態で絶縁部用材料 層を硬化処理することにより、アダプター本体 20の接続用電極領域 25上に絶縁部 1 2を一体的に形成する。
以下、第 1の例のアダプター装置の製造方法を具体的に説明する。 (d) The metal mask disposed on each conductive path forming portion 11 is removed, and then the contact member composite formed with the conductive path forming portion 11 is made of a material that is cured to become an elastic polymer substance. Each of the connection electrodes 21 in the connection electrode region 25 of the adapter body 20 and a corresponding conductive path are formed by superimposing the material layer on the adapter body 20 formed on the connection electrode region 25. The insulating part 12 is integrally formed on the connection electrode region 25 of the adapter body 20 by bringing the insulating part material layer into a hardened state in contact with the part 11. Hereinafter, the manufacturing method of the adapter device of the first example will be specifically described.
[0039] 《接点部材複合体の製造》 <Manufacture of contact member composite>
図 4に示すように、金属箔 14上に、フォトリソグラフィ一の手法により、特定のパター ンに従って開口 15Kが形成されたレジスト層 15を形成する。その後、金属箔 14にお けるレジスト層 15の開口 15Kを介して露出した部分の表面に、磁性を示す金属によ るメツキ処理を施すことにより、図 5に示すように、レジスト層 15の開口 15Kの各々に 接点部材 13を形成する。これにより、金属箔 14上に特定のパターンに従って複数の 接点部材 13が形成されてなる接点部材複合体 13Fが得られる。 As shown in FIG. 4, a resist layer 15 having an opening 15K formed in accordance with a specific pattern is formed on the metal foil 14 by a photolithography technique. After that, the surface of the portion exposed through the opening 15K of the resist layer 15 in the metal foil 14 is subjected to a plating treatment with a metal exhibiting magnetism, thereby forming the opening of the resist layer 15 as shown in FIG. A contact member 13 is formed on each of 15K. Thereby, a contact member composite 13F in which a plurality of contact members 13 are formed on the metal foil 14 according to a specific pattern is obtained.
以上において、金属箔 14としては、銅、ニッケルなどを用いることができる。また、金 属箔 14は、榭脂フィルム上に積層されたものであってもよい。 In the above, as the metal foil 14, copper, nickel or the like can be used. Further, the metal foil 14 may be laminated on a resin film.
金属箔 14の厚みは、 0. 05〜2 111でぁることカ 子ましく、より好ましくは 0. 1〜1 μ mである。この厚みが過小である場合には、均一な薄層が形成されず、メツキ電極と して不適なものとなることがある。一方、この厚みが過大である場合には、例えばエツ チングによって除去することが困難となることがある。 The thickness of the metal foil 14 is preferably 0.05-2111, more preferably 0.1-1 μm. If this thickness is too small, a uniform thin layer may not be formed, which may be inappropriate as a plating electrode. On the other hand, if this thickness is excessive, it may be difficult to remove by, for example, etching.
レジスト層 15の厚みは、形成すべき接点部材 13の厚みに応じて設定される。 The thickness of the resist layer 15 is set according to the thickness of the contact member 13 to be formed.
[0040] 《金属マスク複合体の製造》 [0040] << Manufacture of metal mask composite >>
図 6に示すように、金属箔 16上に、フォトリソグラフィ一の手法により、特定のパター ンに従って開口 17Kが形成されたレジスト層 17を形成する。その後、金属箔 16にお けるレジスト層 17の開口 17Kを介して露出した部分の表面に、磁性を示す金属によ るメツキ処理を施すことにより、図 7に示すように、レジスト層 17の開口 17Kの各々に 金属マスク 18を形成する。これにより、金属箔 16上に特定のパターンに従って複数 の金属マスク 18が形成されてなる金属マスク複合体 18Fが得られる。 As shown in FIG. 6, a resist layer 17 having an opening 17K formed in accordance with a specific pattern is formed on the metal foil 16 by a photolithography technique. After that, the surface of the portion exposed through the opening 17K of the resist layer 17 in the metal foil 16 is subjected to a plating treatment with a metal exhibiting magnetism, thereby forming the opening of the resist layer 17 as shown in FIG. A metal mask 18 is formed on each of 17K. Thereby, a metal mask composite 18F in which a plurality of metal masks 18 are formed on the metal foil 16 according to a specific pattern is obtained.
以上において、金属箔 16としては、銅、ニッケルなどを用いることができる。また、金 属箔 16は、榭脂フィルム上に積層されたものであつてもよい。 In the above, as the metal foil 16, copper, nickel or the like can be used. The metal foil 16 may be laminated on a resin film.
金属箔 16の厚みは、 0. 05〜2 111でぁることカ 子ましく、より好ましくは 0. 1〜1 μ mである。この厚みが過小である場合には、均一な薄層が形成されず、メツキ電極と して不適なものとなることがある。一方、この厚みが過大である場合には、例えばエツ チングによって除去することが困難となることがある。
レジスト層 17の厚みは、形成すべき金属マスク 18の厚みに応じて設定される。 The thickness of the metal foil 16 is preferably 0.05-2111, more preferably 0.1-1 μm. If this thickness is too small, a uniform thin layer may not be formed, which may be inappropriate as a plating electrode. On the other hand, if this thickness is excessive, it may be difficult to remove by, for example, etching. The thickness of the resist layer 17 is set according to the thickness of the metal mask 18 to be formed.
[0041] 《導電性エラストマ一層の形成》 [0041] << Formation of one layer of conductive elastomer >>
硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に磁性を示す導 電性粒子が分散されてなる導電性エラストマ一用材料を調製し、図 8に示すように、 接点部材複合体 13Fにおける接点部材 13が形成された一面上に、導電性エラスト マー用材料を塗布することによって導電性エラストマ一用材料層 11Aを形成する。そ して、図 9に示すように、この導電性エラストマ一用材料層 11 A上に、金属マスク複合 体 18Fを、その金属マスク 18の各々が当該導電性エラストマ一用材料層 11Aを介し て接点部材 13の各々と互いに対向するよう配置する。ここで、導電性エラストマ一用 材料層 11 A中にお ヽては、磁性を示す導電性粒子 Pが分散された状態で含有され ている。 A conductive elastomer material is prepared by dispersing conductive particles exhibiting magnetism in a liquid polymer material-forming material that is cured to become an elastic polymer material. A conductive elastomer material layer 11A is formed by applying a conductive elastomer material on one surface of the body 13F on which the contact member 13 is formed. Then, as shown in FIG. 9, a metal mask composite 18F is placed on the conductive elastomer material layer 11A, and each of the metal masks 18 passes through the conductive elastomer material layer 11A. The contact members 13 are arranged so as to face each other. Here, the conductive elastomer material layer 11A contains the conductive particles P exhibiting magnetism in a dispersed state.
次いで、導電性エラストマ一用材料層 11Aに対し、接点部材 13および金属マスク 1 8を介して当該導電性エラストマ一用材料層 11 Aの厚み方向に磁場を作用させる。こ れにより、接点部材 13および金属マスク 18の各々が磁性を示す金属により形成され ているため、導電性エラストマ一用材料層 11Aにおける接点部材 13と金属マスク 18 との間に位置する部分には、それ以外の部分より大きい強度の磁場が形成される。 その結果、導電性エラストマ一用材料層 11 A中に分散されて!、た導電性粒子 Pは、 図 10に示すように、接点部材 13と金属マスク 18との間に位置する部分に集合し、更 に当該導電性エラストマ一用材料層 11Aの厚み方向に並ぶよう配向する。そして、 導電性エラストマ一用材料層 11 Aに対する磁場の作用を継続しながら、或いは磁場 の作用を停止した後、導電性エラストマ一用材料層 11 Aの硬化処理を行うことにより 、図 11に示すように、弾性高分子物質中に導電性粒子 Pが厚み方向に並ぶよう配向 した状態で含有されてなる導電性エラストマ一層 11Bが、接続部材複合体 13F上に 一体的に形成される。 Next, a magnetic field is applied to the conductive elastomer material layer 11A through the contact member 13 and the metal mask 18 in the thickness direction of the conductive elastomer material layer 11A. As a result, since each of the contact member 13 and the metal mask 18 is formed of a metal exhibiting magnetism, the portion of the conductive elastomer material layer 11A located between the contact member 13 and the metal mask 18 is not provided. A magnetic field having a larger intensity than that of other portions is formed. As a result, the conductive particles P dispersed in the conductive elastomer material layer 11 A are gathered in a portion located between the contact member 13 and the metal mask 18 as shown in FIG. Further, the conductive elastomer material layer 11A is oriented in the thickness direction. Then, while continuing the action of the magnetic field on the conductive elastomer material layer 11A, or after stopping the action of the magnetic field, the conductive elastomer material layer 11A is cured and shown in FIG. As described above, the conductive elastomer layer 11B that is contained in the elastic polymer substance in a state in which the conductive particles P are aligned in the thickness direction is integrally formed on the connecting member composite 13F.
[0042] 以上において、導電性エラストマ一用材料を塗布する方法としては、スクリーン印刷 などの印刷法、ロール塗布法、ブレード塗布法などを利用することができる。 In the above, as a method for applying the conductive elastomer material, a printing method such as screen printing, a roll coating method, a blade coating method, or the like can be used.
導電性エラストマ一用材料層 11Aの厚みは、形成すべき導電路形成部の厚みに 応じて設定される。
導電性エラストマ一用材料層 11Aに磁場を作用させる手段としては、電磁石、永久 磁石などを用いることができる。 The thickness of the conductive elastomer material layer 11A is set according to the thickness of the conductive path forming portion to be formed. As means for applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer 11A, an electromagnet, a permanent magnet, or the like can be used.
導電性エラストマ一用材料層 11 Aに作用させる磁場の強度は、 0. 2〜2. 5テスラと なる大きさが好ましい。 The strength of the magnetic field applied to the conductive elastomer material layer 11A is preferably 0.2 to 2.5 Tesla.
導電性エラストマ一用材料層 11Aの硬化処理は、通常、加熱処理によって行われ る。具体的な加熱温度および加熱時間は、導電性エラストマ一用材料層 11 Aを構成 する高分子物質形成材料の種類、導電性粒子の移動に要する時間などを考慮して 適宜設定される。 The curing process of the conductive elastomer material layer 11A is usually performed by a heating process. The specific heating temperature and heating time are appropriately set in consideration of the type of polymer material forming material constituting the conductive elastomer material layer 11A, the time required for the movement of the conductive particles, and the like.
[0043] 《導電路形成部の形成》 [0043] <Formation of conductive path forming part>
先ず、導電性エラストマ一層 11B上に配置された金属マスク複合体 18Fにおける 金属箔 16に対して、エッチング処理を施して除去することにより、図 12に示すように、 金属マスク 18およびレジスト層 17を露出させる。そして、導電性エラストマ一層 11B およびレジスト層 17に対してレーザー加工を施すことにより、レジスト層 17、導電性ェ ラストマー層 11Bにおける接点部材 13と金属マスク 18との間に位置する部分以外の 部分およびレジスト層 15が除去され、その結果、図 13に示すように、接点部材複合 体 13Fにおける各接点部材 13上に、導電路形成部 11が形成される。その後、導電 路形成部 11の表面力 金属マスク 18を剥離する。 First, as shown in FIG. 12, by removing the metal foil 16 in the metal mask composite 18F disposed on the conductive elastomer layer 11B by etching, the metal mask 18 and the resist layer 17 are removed. Expose. Then, by performing laser processing on the conductive elastomer layer 11B and the resist layer 17, portions other than the portion located between the contact member 13 and the metal mask 18 in the resist layer 17 and the conductive elastomer layer 11B and The resist layer 15 is removed. As a result, as shown in FIG. 13, the conductive path forming portion 11 is formed on each contact member 13 in the contact member composite 13F. Thereafter, the surface force metal mask 18 of the conductive path forming portion 11 is peeled off.
ここで、レーザー加工は、炭酸ガスレーザーまたは紫外線レーザーによるものが好 ましぐこれにより、目的とする形態の導電路形成部 11を確実に形成することができる Here, the laser processing is preferably performed using a carbon dioxide gas laser or an ultraviolet laser, whereby the conductive path forming portion 11 having a desired form can be reliably formed.
[0044] 《絶縁部の形成》 [0044] << Formation of Insulating Portion >>
図 14に示すように、アダプター本体 20の表面に、硬化されて絶縁性の弾性高分子 物質となる液状の高分子物質形成材料を塗布することにより、絶縁部用材料層 12A を形成する。次いで、図 15に示すように、複数の導電路形成部 11が形成された接点 部材複合体 13Fを、絶縁部用材料層 12Aが形成されたアダプター本体 20上に重ね 合わせることにより、当該アダプター本体 20の接続用電極領域 25における接続用電 極 21の各々とこれに対応する導電路形成部 11とを対接させる。これにより、隣接する 導電路形成部 11の間に絶縁部用材料層 12Aが形成された状態となる。その後、こ
の状態で、絶縁部用材料層 12Aの硬化処理を行うことにより、図 16に示すように、隣 接する導電路形成部 11の間にこれらを相互に絶縁する絶縁部 12が、導電路形成部 11およびアダプター本体 20に一体的に形成される。 As shown in FIG. 14, an insulating material layer 12A is formed on the surface of the adapter body 20 by applying a liquid polymer material forming material that is cured to become an insulating elastic polymer material. Next, as shown in FIG. 15, the contact member composite 13F in which the plurality of conductive path forming portions 11 are formed is overlaid on the adapter main body 20 in which the insulating material layer 12A is formed, so that the adapter main body Each of the connection electrodes 21 in the 20 connection electrode regions 25 is brought into contact with the corresponding conductive path forming portion 11. As a result, the insulating material layer 12A is formed between the adjacent conductive path forming portions 11. Then this In this state, the insulating portion material layer 12A is cured, so that the insulating portion 12 that insulates them from each other between the adjacent conductive path forming portions 11 as shown in FIG. 11 and adapter body 20 are integrally formed.
そして、接点部材複合体 13Fにおける金属箔 14を例えばエッチング処理によって 除去することにより、アダプター本体 20の表面に異方導電性シート 10がー体的に形 成されてなる、図 1に示す構成のアダプター装置が得られる。 Then, by removing the metal foil 14 in the contact member composite 13F by, for example, etching, the anisotropic conductive sheet 10 is formed on the surface of the adapter body 20 in a body-like manner. An adapter device is obtained.
[0045] 以上にぉ 、て、高分子物質形成材料を塗布する方法としては、スクリーン印刷など の印刷法、ロール塗布法、ブレード塗布法などを利用することができる。 As described above, as a method for applying the polymer substance-forming material, a printing method such as screen printing, a roll coating method, a blade coating method, or the like can be used.
絶縁部用材料層 12Aの厚みは、形成すべき絶縁部の厚みに応じて設定される。 絶縁部用材料層 12Aの硬化処理は、通常、加熱処理によって行われる。具体的な 加熱温度および加熱時間は、絶縁部用材料層 12Aを構成する高分子物質形成材 料の種類などを考慮して適宜設定される。 The thickness of the insulating part material layer 12A is set according to the thickness of the insulating part to be formed. The curing process of the insulating part material layer 12A is usually performed by heat treatment. The specific heating temperature and heating time are appropriately set in consideration of the type of polymer substance forming material constituting the insulating part material layer 12A.
[0046] 上記の製造方法によれば、それぞれ磁性を示す金属よりなる複数の接点部材 13が 接続用電極 21に係る特定のパターンに従って形成されてなる接点部材複合体 13F 上に導電性エラストマ一用材料層 11Aを形成し、当該導電性エラストマ一用材料層 11 A上に、特定のパターンに従って磁性を示す金属マスク 18を配置した状態で、当 該導電性エラスマー用材料層 11Aの厚み方向に磁場を作用させると共に当該導電 性エラストマ一用材料層 11Aを硬化処理することにより、得られる導電性エラストマ一 層 11Bは、接点部材 13と金属マスク 18との間に位置する部分すなわち導電路形成 部となる部分における導電性粒子 Pが密となると共に、それ以外の部分における導電 性粒子 Pが疎となり、これにより、当該導電性エラストマ一層 11Bにおける導電路形 成部となる部分以外の部分をレーザー加工によって除去することが極めて容易となる 。そのため、導電性エラストマ一層 11Bをレーザー加工することにより、所期の形態の 導電路形成部 11を確実に形成することができる。そして、特定のパターンに従って 配置された複数の導電路形成部 11を形成したうえで、これらの導電路形成部 11の 間に絶縁部用材料層 12Aを形成して硬化処理することにより絶縁部 12を形成するた め、導電性粒子 Pが全く存在しな ヽ絶縁部 12を確実に得ることができる。 [0046] According to the above manufacturing method, a plurality of contact members 13 each made of a metal exhibiting magnetism are formed on the contact member composite 13F formed by following a specific pattern related to the connection electrode 21. A magnetic layer is formed in the thickness direction of the conductive elastomer material layer 11A in a state in which the material layer 11A is formed and a metal mask 18 showing magnetism is arranged on the conductive elastomer material layer 11A according to a specific pattern. And the conductive elastomer material layer 11A obtained by curing the conductive elastomer material layer 11A is a portion located between the contact member 13 and the metal mask 18, that is, a conductive path forming portion. The conductive particle P in the part becomes dense and the conductive particle P in the other part becomes sparse, so that the conductive path shape in the conductive elastomer layer 11B is reduced. It is extremely easy to portions other than the portion to be a part is removed by laser processing. Therefore, by conducting laser processing on the conductive elastomer layer 11B, it is possible to reliably form the conductive path forming portion 11 having the expected form. Then, after forming a plurality of conductive path forming portions 11 arranged according to a specific pattern, an insulating portion material layer 12A is formed between the conductive path forming portions 11 and cured to form the insulating portion 12 Therefore, it is possible to reliably obtain the insulating part 12 without any conductive particles P.
従って、このような方法によって得られる本発明のアダプター装置によれば、検査
対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該回路装置につ いて所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、被検査電極が、その ピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所 要の電気的接続を確実に達成することができる。 Therefore, according to the adapter device of the present invention obtained by such a method, the inspection Regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the target circuit device, the required electrical connection can be reliably achieved for the circuit device, and the electrodes to be inspected have a small pitch and a high density. Even if it is arranged, it is possible to reliably achieve the required electrical connection for the circuit device.
[0047] 図 17は、本発明に係るアダプター装置の第 2の例における構成を示す説明用断面 図であり、図 18は、図 17に示すアダプター装置におけるアダプター本体を示す説明 用断面図である。このアダプター装置は、例えばプリント回路基板などの回路装置に っ 、て、各配線パターンの電気抵抗測定試験を行うために用いられるものであって、 多層配線板よりなるアダプター本体 20を有する。 FIG. 17 is an explanatory cross-sectional view showing the configuration of the adapter device according to the second example of the present invention, and FIG. 18 is an explanatory cross-sectional view showing the adapter main body in the adapter device shown in FIG. . This adapter device is used for, for example, a circuit device such as a printed circuit board to perform an electrical resistance measurement test of each wiring pattern, and has an adapter body 20 made of a multilayer wiring board.
アダプター本体 20の表面(図 17および図 18において上面)には、それぞれ同一の 被検査電極に電気的に接続される互 ヽに離間して配置された電流供給用の接続用 電極 (以下、「電流供給用電極」ともいう。) 21bおよび電圧測定用の接続用電極 (以 下、「電圧測定用電極」ともいう。) 21cよりなる複数の接続用電極対 21aが配置され た接続用電極領域 25が形成されている。これらの接続用電極対 21aは、検査対象で ある回路装置の被検査電極のパターンに対応するパターンに従って配置されている アダプター本体 20の裏面には、例えばピッチが 0. 8mm、 0. 75mm, 1. 5mm、 1 . 8mm、 2. 54mmの格子点位置に従って複数の端子電極 22が配置されている。 そして、電流供給用電極 21bおよび電圧測定用電極 21cの各々は、内部配線部 2 3によって端子電極 22に電気的に接続されて!ヽる。 On the surface of the adapter body 20 (the upper surface in FIGS. 17 and 18), connection electrodes (hereinafter referred to as “the current supply electrodes”) that are spaced apart from each other and are electrically connected to the same electrode to be inspected. Also referred to as “current supply electrode”.) 21b and connection electrode for voltage measurement (hereinafter also referred to as “voltage measurement electrode”) Connection electrode region in which a plurality of connection electrode pairs 21a made of 21c are arranged 25 is formed. These connection electrode pairs 21a are arranged according to a pattern corresponding to the pattern of the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected. For example, the pitch of the adapter body 20 on the back surface is 0.8 mm, 0.75 mm, 1 A plurality of terminal electrodes 22 are arranged according to the grid point positions of 5 mm, 1.8 mm, and 2.54 mm. Each of the current supply electrode 21b and the voltage measurement electrode 21c is electrically connected to the terminal electrode 22 by the internal wiring portion 23.
[0048] このようなアダプター本体 20の表面には、その接続用電極領域 25上に異方導電 性シート 10がー体的に接着乃至密着した状態で形成されている。図示の例では、ァ ダブター本体 20の表面全体を覆うよう異方導電性シート 10が形成されている。 [0048] On the surface of the adapter body 20, the anisotropic conductive sheet 10 is formed on the connection electrode region 25 in a state of being physically adhered or closely adhered. In the illustrated example, the anisotropic conductive sheet 10 is formed so as to cover the entire surface of the adapter body 20.
この異方導電性シート 10は、アダプター本体 20における接続用電極 21b, 21cに 係る特定のパターンと同一のパターンに従って配置された、それぞれ厚み方向に伸 びる複数の導電路形成部 11と、隣接する導電路形成部 11の間に当該導電路形成 部 11の各々に一体的に接着した状態で形成された、これらの導電路形成部 11を相 互に絶縁する絶縁部 12とにより構成されており、当該異方導電性シート 10は、導電
路形成部 11の各々がアダプター本体 20の接続用電極 21b, 21c上に位置されるよ う配置されている。この異方導電性シート 10における導電路形成部 11および絶縁部 12は、第 1の例におけるアダプター装置における異方導電性シート 10と基本的に同 様の構成である。すなわち、図 19に示すように、導電路形成部 11の各々は、絶縁性 の弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子 Pが厚み方向に並ぶよう配向した状 態で含有されて構成されている。これに対し、絶縁部 12は、導電性粒子 Pを全く含有 しない弾性高分子物質により構成されている。図示の例において、導電路形成部 11 の各々は、絶縁部 12の表面力も突出する突出部が形成されている。 This anisotropic conductive sheet 10 is adjacent to a plurality of conductive path forming portions 11 that are arranged according to the same pattern as the specific patterns related to the connection electrodes 21b and 21c in the adapter body 20 and extend in the thickness direction. Between the conductive path forming portions 11, the conductive path forming portions 11 are formed in a state of being integrally bonded to each of the conductive path forming portions 11, and the conductive path forming portions 11 are insulated from each other. The anisotropic conductive sheet 10 is conductive Each of the path forming portions 11 is arranged so as to be positioned on the connection electrodes 21b and 21c of the adapter body 20. The conductive path forming portion 11 and the insulating portion 12 in the anisotropic conductive sheet 10 have basically the same configuration as the anisotropic conductive sheet 10 in the adapter device in the first example. That is, as shown in FIG. 19, each of the conductive path forming portions 11 is configured by containing conductive particles P exhibiting magnetism in an insulating elastic polymer substance so as to be aligned in the thickness direction. ing. On the other hand, the insulating portion 12 is made of an elastic polymer material that does not contain the conductive particles P at all. In the illustrated example, each of the conductive path forming portions 11 is formed with a protruding portion that also protrudes the surface force of the insulating portion 12.
異方導電性シート 10の弾性高分子物質、導電性粒子およびその他の具体的な構 成は、前述の第 1の例に係る異方導電性シート 10と同様である。 The elastic polymer material, conductive particles, and other specific configurations of the anisotropic conductive sheet 10 are the same as those of the anisotropic conductive sheet 10 according to the first example.
異方導電性シート 10における導電路形成部 11の各々の表面には、金属よりなる平 板状の接点部材 13が当該導電路形成部 11に一体的に設けられて!/、る。接点部材 1 3の材質および寸法は、前述の第 1の例に係る異方導電性シート 10と同様の構成で ある。 On each surface of the conductive path forming portion 11 in the anisotropic conductive sheet 10, a flat plate-like contact member 13 made of metal is integrally provided in the conductive path forming portion 11. The material and dimensions of the contact member 13 are the same as those of the anisotropic conductive sheet 10 according to the first example.
本発明において、第 2の例のアダプター装置は、前述の第 1の例のアダプター装置 と同様にして製造することができる。 In the present invention, the adapter device of the second example can be manufactured in the same manner as the adapter device of the first example.
すなわち、第 2の例のアダプター装置は、以下の(a)〜(d)の工程を経由して得ら れる。 That is, the adapter device of the second example is obtained through the following steps (a) to (d).
(a)金属箔上に、アダプター本体 20の接続用電極領域 25における接続用電極 2 lb , 21cに係る特定のパターンに従ってそれぞれ磁性を示す金属よりなる複数の接点 部材 13が形成されてなる接点部材複合体を製造する。 (a) Contact member in which a plurality of contact members 13 each made of a metal exhibiting magnetism are formed on a metal foil according to a specific pattern related to the connection electrodes 2 lb and 21c in the connection electrode region 25 of the adapter body 20 A composite is produced.
(b)接点部材複合体上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形 成材料中に磁性を示す導電性粒子 Pが含有されてなる導電性エラストマ一用材料層 を形成し、この導電性エラストマ一用材料層上に、それぞれ磁性を示す金属よりなる 複数の金属マスクの各々を、当該導電性エラストマ一用材料層を介して接点部材 13 と互いに対向するよう配置し、この状態で、導電性エラストマ一用材料層に対して、そ の厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマ一用材料層を硬化処 理することにより、導電性エラストマ一層を形成する。
(c)導電性エラストマ一層をレーザー加工して接点部材 13と金属マスクとの間に位置 する部分以外の部分を除去することにより、特定のパターンに従って配置された複数 の導電路形成部 11を形成する。 (b) On the contact member composite, a material layer for a conductive elastomer is formed in which a liquid polymer material forming material that is cured to become an elastic polymer material contains conductive particles P exhibiting magnetism. Then, on the conductive elastomer material layer, a plurality of metal masks each made of a metal exhibiting magnetism are arranged so as to face the contact member 13 with the conductive elastomer material layer interposed therebetween, In this state, a magnetic field is applied to the conductive elastomer material layer in the thickness direction, and the conductive elastomer material layer is cured to form a conductive elastomer layer. (c) A plurality of conductive path forming portions 11 arranged according to a specific pattern are formed by removing a portion other than the portion located between the contact member 13 and the metal mask by laser processing the conductive elastomer layer. To do.
(d)各導電路形成部 11上に配置された金属マスクを除去し、その後、導電路形成部 11が形成された接点部材複合体を、硬化されて弾性高分子物質となる材料よりなる 絶縁部用材料層が接続用電極領域 25上に形成されたアダプター本体 20上に重ね 合わせることにより、アダプター本体 20の接続用電極領域 25における接続用電極 2 lb, 21cの各々とこれに対応する導電路形成部 11とを対接させ、この状態で絶縁部 用材料層を硬化処理することにより、アダプター本体 20の接続用電極領域 25上に 絶縁部 12を一体的に形成する。 (d) The metal mask disposed on each conductive path forming portion 11 is removed, and then the contact member composite formed with the conductive path forming portion 11 is made of a material that is cured to become an elastic polymer substance. Each of the connecting electrodes 2 lb and 21c in the connecting electrode region 25 of the adapter main body 20 and the corresponding conductive material layer are superimposed on the adapter main body 20 formed on the connecting electrode region 25. The insulating portion 12 is integrally formed on the connection electrode region 25 of the adapter body 20 by bringing the path forming portion 11 into contact with each other and curing the insulating layer material layer in this state.
そして、このような製造方法によれば、それぞれ磁性を示す金属よりなる複数の接 点部材 13が接続用電極 2 lb , 21 cに係る特定のパターンに従つて形成されてなる接 点部材複合体上に導電性エラストマ一用材料層を形成し、当該導電性エラストマ一 用材料層上に、特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置した状態で、 当該導電性エラスマー用材料層の厚み方向に磁場を作用させると共に当該導電性 エラストマ一用材料層を硬化処理することにより、得られる導電性エラストマ一層は、 接点部材 13と金属マスクとの間に位置する部分すなわち導電路形成部となる部分に おける導電性粒子 Pが密となると共に、それ以外の部分における導電性粒子 Pが疎と なり、これにより、当該導電性エラストマ一層における導電路形成部となる部分以外 の部分をレーザー加工によって除去することが極めて容易となる。そのため、導電性 エラストマ一層をレーザー加工することにより、所期の形態の導電路形成部 11を確 実に形成することができる。そして、特定のパターンに従って配置された複数の導電 路形成部 11を形成したうえで、これらの導電路形成部 11の間に絶縁部用材料層を 形成して硬化処理することにより絶縁部を形成するため、導電性粒子 Pが全く存在し な 、絶縁部 11を確実に得ることができる。 According to such a manufacturing method, the contact member composite in which a plurality of contact members 13 each made of a metal exhibiting magnetism are formed according to a specific pattern related to the connection electrodes 2 lb and 21 c. A conductive elastomer material layer is formed on the conductive elastomer material layer, and a metal mask showing magnetism according to a specific pattern is arranged on the conductive elastomer material layer in the thickness direction of the conductive elastomer material layer. By applying a magnetic field and curing the material layer for the conductive elastomer, the resulting conductive elastomer layer is placed on the portion located between the contact member 13 and the metal mask, that is, the portion that forms the conductive path forming portion. The conductive particles P become dense, and the conductive particles P in other parts become sparse, thereby forming a conductive path forming part in the conductive elastomer layer. To the portion other than the partial removal by laser processing becomes extremely easy. Therefore, the conductive path forming portion 11 having the expected form can be formed reliably by laser processing one layer of the conductive elastomer. Then, after forming a plurality of conductive path forming portions 11 arranged according to a specific pattern, an insulating portion material layer is formed between these conductive path forming portions 11 and cured to form an insulating portion. Therefore, it is possible to reliably obtain the insulating portion 11 without any conductive particles P.
従って、このような方法によって得られる本発明のアダプター装置によれば、検査 対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該回路装置につ いて所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、被検査電極が、その
ピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所 要の電気的接続を確実に達成することができる。 Therefore, according to the adapter device of the present invention obtained by such a method, the required electrical connection can be reliably achieved for the circuit device regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected. And the electrode to be inspected can be Even when the pitch is very small and densely arranged, the required electrical connection can be reliably achieved for the circuit device.
[0051] 図 20は、本発明に係るアダプター装置の第 3の例における構成を示す説明用断面 図である。このアダプター装置は、例えばプリント回路基板などの回路装置について 、例えばオープン 'ショート試験を行うために用いられるものであって、第 1の例のァダ プター装置と同様の構成のアダプター本体 20を有する。 FIG. 20 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration in the third example of the adapter device according to the present invention. This adapter device is used, for example, for performing an open 'short test on a circuit device such as a printed circuit board, and has an adapter main body 20 having the same configuration as the adapter device of the first example. .
このアダプター本体 20の表面には、その接続用電極領域 25上に異方導電性シー ト 10がー体的に接着乃至密着した状態で形成されている。図示の例では、アダプタ 一本体 20の表面全体を覆うよう異方導電性シート 10が形成されている。 On the surface of the adapter main body 20, an anisotropic conductive sheet 10 is formed on the connection electrode region 25 in a state of being physically adhered or closely adhered. In the illustrated example, the anisotropic conductive sheet 10 is formed so as to cover the entire surface of the adapter main body 20.
この異方導電性シート 10は、アダプター本体 20における接続用電極 21に係る特 定のパターンと同一のパターンに従って配置された、それぞれ厚み方向に伸びる複 数の導電路形成部 11と、隣接する導電路形成部 11の間に当該導電路形成部 11の 各々に一体的に接着した状態で形成された、これらの導電路形成部 11を相互に絶 縁する絶縁部 12とにより構成されており、当該異方導電性シート 10は、導電路形成 部 11の各々がアダプター本体 20の接続用電極 21上に位置されるよう配置されてい る。この異方導電性シート 10における導電路形成部 11および絶縁部 12は、第 1の 例におけるアダプター装置における異方導電性シート 10と基本的に同様の構成で ある。すなわち、図 21に示すように、導電路形成部 11の各々は、絶縁性の弾性高分 子物質中に磁性を示す導電性粒子 Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有さ れて構成されている。これに対し、絶縁部 12は、導電性粒子 Pを全く含有しない弾性 高分子物質により構成されている。図示の例において、導電路形成部 11の各々は、 絶縁部 12の表面力 突出する突出部が形成されている。 The anisotropic conductive sheet 10 is arranged according to the same pattern as the specific pattern related to the connection electrode 21 in the adapter body 20 and has a plurality of conductive path forming portions 11 extending in the thickness direction and adjacent conductive paths. Between the path forming portions 11, the conductive path forming portions 11 are formed in a state of being integrally bonded to each of the conductive path forming portions 11, and the conductive path forming portions 11 are insulated from each other. The anisotropic conductive sheet 10 is arranged such that each of the conductive path forming portions 11 is positioned on the connection electrode 21 of the adapter body 20. The conductive path forming portion 11 and the insulating portion 12 in the anisotropic conductive sheet 10 have basically the same configuration as the anisotropic conductive sheet 10 in the adapter device in the first example. That is, as shown in FIG. 21, each of the conductive path forming portions 11 is configured to be contained in an insulating elastic polymer material in a state where the conductive particles P exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction. Has been. On the other hand, the insulating portion 12 is made of an elastic polymer material that does not contain conductive particles P at all. In the illustrated example, each of the conductive path forming portions 11 is formed with a protruding portion that protrudes from the surface force of the insulating portion 12.
異方導電性シート 10の弾性高分子物質、導電性粒子およびその他の具体的な構 成は、前述の第 1の例に係る異方導電性シート 10と同様である。 The elastic polymer material, conductive particles, and other specific configurations of the anisotropic conductive sheet 10 are the same as those of the anisotropic conductive sheet 10 according to the first example.
[0052] 本発明において、上記の第 3の例のアダプター装置は、以下の(al)〜(cl)のェ 程を経由して得られる。 [0052] In the present invention, the adapter device of the third example is obtained via the following steps (al) to (cl).
(al)離型性支持板上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成 材料中に磁性を示す導電性粒子 Pが含有されてなる導電性エラストマ一用材料層を
形成し、この導電性エラストマ一用材料層上に、それぞれ磁性を示す金属よりなる複 数の金属マスクの各々を、アダプター本体 20の接続用電極領域 25における接続用 電極 21に係る特定のパターンに従って配置し、この状態で、導電性エラストマ一用 材料層に対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマ一 用材料層を硬化処理することにより、導電性エラストマ一層を形成する。 (al) On the releasable support plate, a material layer for a conductive elastomer comprising a liquid polymer material forming material that is cured to become an elastic polymer material and containing conductive particles P exhibiting magnetism. A plurality of metal masks each made of a metal exhibiting magnetism are formed on the conductive elastomer material layer according to a specific pattern related to the connection electrode 21 in the connection electrode region 25 of the adapter body 20. In this state, a conductive elastomer layer is formed by applying a magnetic field in the thickness direction to the conductive elastomer material layer and curing the conductive elastomer material layer. .
(bl)導電性エラストマ一層をレーザー加工して金属マスクが配置された部分以外の 部分を除去することにより、特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成 部 11を形成する。 (bl) A plurality of conductive path forming portions 11 arranged according to a specific pattern are formed by laser processing the conductive elastomer layer to remove portions other than the portion where the metal mask is arranged.
(cl)各導電路形成部 11上に配置された金属マスクを除去し、その後、導電路形成 部 11が形成された離型性支持板を、硬化されて弾性高分子物質となる材料よりなる 絶縁部用材料層が接続用電極領域 25上に形成されたアダプター本体 20上に重ね 合わせることにより、アダプター本体 20の接続用電極領域 25における接続用電極 2 1の各々とこれに対応する導電路形成部 11とを対接させ、この状態で絶縁部用材料 層を硬化処理することにより、アダプター本体 20の接続用電極領域 25上に絶縁部 1 2を一体的に形成する。 (cl) The metal mask disposed on each conductive path forming portion 11 is removed, and then the release support plate on which the conductive path forming portion 11 is formed is made of a material that is cured to become an elastic polymer substance. By superimposing the insulating layer material layer on the adapter body 20 formed on the connection electrode region 25, each of the connection electrodes 21 in the connection electrode region 25 of the adapter body 20 and the corresponding conductive path. The insulating portion 12 is integrally formed on the connection electrode region 25 of the adapter body 20 by bringing the forming portion 11 into contact with each other and curing the insulating portion material layer in this state.
以下、第 3の例のアダプター装置の製造方法を具体的に説明する。 The method for manufacturing the adapter device of the third example will be specifically described below.
[0053] 《金属マスク複合体の製造》 [0053] << Manufacture of metal mask composite >>
前述の第 1の例のアダプター装置の製造方法と同様にして、金属箔 16上に特定の パターンに従って複数の金属マスク 18が形成されてなる金属マスク複合体 18Fを製 造する(図 6および図 7参照)。 In the same manner as the manufacturing method of the adapter device of the first example described above, a metal mask composite 18F in which a plurality of metal masks 18 are formed according to a specific pattern on the metal foil 16 is manufactured (FIG. 6 and FIG. 7).
[0054] 《導電性エラストマ一層の形成》 [0054] << Formation of one layer of conductive elastomer >>
硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に磁性を示す導 電性粒子が分散されてなる導電性エラストマ一用材料を調製し、図 22に示すように、 離型性支持板 19上に、導電性エラストマ一用材料を塗布することによって導電性ェ ラストマー用材料層 11Aを形成する。そして、図 23に示すように、この導電性エラスト マー用材料層 11A上に、金属マスク複合体 18Fを、その金属マスク 18の各々が当 該導電性エラストマ一用材料層 11 Aに接するよう配置する。ここで、導電性エラストマ 一用材料層 11 A中にお ヽては、磁性を示す導電性粒子 Pが分散された状態で含有
されている。 A conductive elastomer material is prepared by dispersing conductive particles exhibiting magnetism in a liquid polymer material forming material that is cured to become an elastic polymer material. As shown in FIG. A conductive elastomer material layer 11A is formed on the support plate 19 by applying a conductive elastomer material. Then, as shown in FIG. 23, the metal mask composite 18F is arranged on the conductive elastomer material layer 11A so that each of the metal masks 18 is in contact with the conductive elastomer material layer 11A. To do. Here, the conductive elastomer material layer 11A contains the conductive particles P exhibiting magnetism in a dispersed state. Has been.
次いで、導電性エラストマ一用材料層 11Aに対し、金属マスク 18を介して当該導 電性エラストマ一用材料層 11Aの厚み方向に磁場を作用させる。これにより、金属マ スク 18の各々が磁性を示す金属により形成されているため、導電性エラストマ一用材 料層 11 Aにおける金属マスク 18が配置された部分には、それ以外の部分より大き!/ヽ 強度の磁場が形成される。その結果、導電性エラストマ一用材料層 11A中に分散さ れていた導電性粒子 Pは、図 24に示すように、金属マスク 18が配置された部分に集 合し、更に当該導電性エラストマ一用材料層 11Aの厚み方向に並ぶよう配向する。 そして、導電性エラストマ一用材料層 11Aに対する磁場の作用を継続しながら、或い は磁場の作用を停止した後、導電性エラストマ一用材料層 11Aの硬化処理を行うこ とにより、図 25に示すように、弾性高分子物質中に導電性粒子 Pが厚み方向に並ぶ よう配向した状態で含有されてなる導電性エラストマ一層 11Bが、離型性支持板 19 上に形成される。 Next, a magnetic field is applied to the conductive elastomer material layer 11A through the metal mask 18 in the thickness direction of the conductive elastomer material layer 11A. As a result, each of the metal masks 18 is formed of a metal exhibiting magnetism, so that the portion of the conductive elastomer material layer 11 A where the metal mask 18 is disposed is larger than the other portions! /磁場 A strong magnetic field is formed. As a result, as shown in FIG. 24, the conductive particles P dispersed in the conductive elastomer material layer 11A gather at the portion where the metal mask 18 is disposed, and further, the conductive elastomer P Oriented so as to be aligned in the thickness direction of the material layer 11A. Then, while continuing the action of the magnetic field on the conductive elastomer material layer 11A or stopping the action of the magnetic field, the conductive elastomer material layer 11A is cured to perform the process shown in FIG. As shown, a conductive elastomer layer 11B is formed on the releasable support plate 19 which is contained in the elastic polymer material in a state in which the conductive particles P are aligned in the thickness direction.
[0055] 以上において、離型性支持板 19を構成する材料としては、金属、セラミックス、榭 脂およびこれらの複合材などを用いることができる。 [0055] In the above, as a material constituting the releasable support plate 19, metals, ceramics, resins, composite materials thereof, and the like can be used.
導電性エラストマ一用材料を塗布する方法、導電性エラストマ一用材料層 11 Aの 厚みは、導電性エラストマ一用材料層 11Aに磁場を作用させる手段、導電性エラスト マー用材料層 11 Aに作用させる磁場の強度、および導電性エラストマ一用材料層 1 1Aの硬化処理の条件などは,前述の第 1の例のアダプター装置の製造方法と同様 である。 The method of applying the conductive elastomer material, the thickness of the conductive elastomer material layer 11 A is the means for applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer 11 A, and the conductive elastomer material layer 11 A The strength of the magnetic field to be applied and the conditions for the curing treatment of the conductive elastomer material layer 11A are the same as those of the adapter device manufacturing method of the first example described above.
[0056] 《導電路形成部の形成》 [0056] <Formation of conductive path forming part>
先ず、導電性エラストマ一層 11B上に配置された金属マスク複合体 18Fにおける 金属箔 16に対して、エッチング処理を施して除去することにより、図 26に示すように、 金属マスク 18およびレジスト層 17を露出させる。そして、導電性エラストマ一層 11B およびレジスト層 17に対してレーザー加工を施すことにより、レジスト層 17、導電性ェ ラストマー層 11Bにおける金属マスク 18が配置された部分以外の部分およびレジスト 層 15が除去され、その結果、図 27に示すように、離型性支持板 19上に、導電路形 成部 11が形成される。その後、導電路形成部 11の表面カゝら金属マスク 18を剥離す
る。 First, by removing the metal foil 16 in the metal mask composite 18F disposed on the conductive elastomer layer 11B by etching, the metal mask 18 and the resist layer 17 are removed as shown in FIG. Expose. Then, by applying laser processing to the conductive elastomer layer 11B and the resist layer 17, the resist layer 17, the portion other than the portion where the metal mask 18 is disposed in the conductive elastomer layer 11B, and the resist layer 15 are removed. As a result, a conductive path forming portion 11 is formed on the releasable support plate 19 as shown in FIG. Thereafter, the metal mask 18 is peeled off from the surface of the conductive path forming portion 11. The
ここで、レーザー加工は、炭酸ガスレーザーによるものが好ましぐこれにより、 目的 とする形態の導電路形成部 11を確実に形成することができる。 Here, the laser processing is preferably performed using a carbon dioxide gas laser, whereby the conductive path forming portion 11 having a desired form can be reliably formed.
[0057] 《絶縁部の形成》 [0057] <Formation of insulating part>
図 28に示すように、アダプター本体 20の表面に、硬化されて絶縁性の弾性高分子 物質となる液状の高分子物質形成材料を塗布することにより、絶縁部用材料層 12A を形成する。次いで、図 29に示すように、複数の導電路形成部 11が形成された離型 性支持板 19を、絶縁部用材料層 12Aが形成されたアダプター本体 20上に重ね合 わせることにより、当該アダプター本体 20の接続用電極領域 25における接続用電極 21の各々とこれに対応する導電路形成部 11とを対接させる。これにより、隣接する導 電路形成部 11の間に絶縁部用材料層 12Aが形成された状態となる。その後、この 状態で、絶縁部用材料層 12Aの硬化処理を行うことにより、図 30に示すように、隣接 する導電路形成部 11の間にこれらを相互に絶縁する絶縁部 12が、導電路形成部 1 1およびアダプター本体 20に一体的に形成される。 As shown in FIG. 28, the insulating material layer 12A is formed on the surface of the adapter body 20 by applying a liquid polymer material forming material that is cured to become an insulating elastic polymer material. Next, as shown in FIG. 29, the releasable support plate 19 in which the plurality of conductive path forming portions 11 are formed is overlaid on the adapter main body 20 in which the insulating material layer 12A is formed. Each of the connection electrodes 21 in the connection electrode region 25 of the adapter body 20 is brought into contact with the corresponding conductive path forming portion 11. As a result, the insulating material layer 12A is formed between the adjacent conductive path forming portions 11. Thereafter, in this state, the insulating portion material layer 12A is cured, so that the insulating portions 12 that insulate them from each other between the adjacent conductive path forming portions 11 become conductive paths as shown in FIG. It is formed integrally with the forming part 11 and the adapter body 20.
そして、離型性支持板 19を剥離させることにより、アダプター本体 20の表面に異方 導電性シート 10がー体的に形成されてなる、図 20に示す構成のアダプター装置が 得られる。 Then, by removing the releasable support plate 19, an adapter device having the configuration shown in FIG. 20 is obtained, in which the anisotropic conductive sheet 10 is formed on the surface of the adapter body 20 in a body-like manner.
以上において、高分子物質形成材料を塗布する方法、絶縁部用材料層 12Aの厚 み、絶縁部用材料層 12Aの硬化処理の条件などは、前述の第 1の例のアダプター 装置の製造方法と同様である。 In the above, the method for applying the polymer material forming material, the thickness of the insulating part material layer 12A, the curing condition of the insulating part material layer 12A, etc. It is the same.
[0058] 上記の製造方法によれば、導電性エラストマ一用材料層 11A上に、特定のパター ンに従って磁性を示す金属マスク 18を配置した状態で、当該導電性エラスマー用材 料層 11Aの厚み方向に磁場を作用させると共に当該導電性エラストマ一用材料層 1 1 Aを硬化処理することにより、得られる導電性エラストマ一層 11Bは、金属マスク 18 が配置された部分すなわち導電路形成部となる部分における導電性粒子 Pが密とな ると共に、それ以外の部分における導電性粒子 Pが疎となり、これにより、当該導電性 エラストマ一層 11Bにおける導電路形成部となる部分以外の部分をレーザー加工に よって除去することが極めて容易となる。そのため、導電性エラストマ一層 11Bをレー
ザ一加工することにより、所期の形態の導電路形成部 11を確実に形成することがで きる。そして、特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部 11を形成し たうえで、これらの導電路形成部 11の間に絶縁部用材料層 12Aを形成して硬化処 理することにより絶縁部 12を形成するため、導電性粒子 Pが全く存在しない絶縁部 1 2を確実に得ることができる。 [0058] According to the manufacturing method described above, the conductive elastomer material layer 11A is disposed in the thickness direction in a state where the metal mask 18 showing magnetism is arranged according to a specific pattern on the conductive elastomer material layer 11A. A conductive elastomer layer 11 B obtained by applying a magnetic field to the material and curing the material layer 1 1 A for the conductive elastomer is formed in a portion where the metal mask 18 is disposed, that is, a portion where the conductive path forming portion is formed. The conductive particles P become dense, and the conductive particles P in the other portions become sparse, and as a result, the portions other than the conductive path forming portion in the conductive elastomer layer 11B are removed by laser processing. It becomes extremely easy to do. Therefore, conductive elastomer layer 11B By carrying out the machining, the conductive path forming part 11 having the desired form can be reliably formed. Then, after forming a plurality of conductive path forming portions 11 arranged according to a specific pattern, an insulating portion material layer 12A is formed between these conductive path forming portions 11 and cured to perform insulation. Since the portion 12 is formed, the insulating portion 12 without the conductive particles P can be obtained with certainty.
従って、このような方法によって得られる本発明のアダプター装置によれば、検査 対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該回路装置につ いて所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、被検査電極が、その ピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所 要の電気的接続を確実に達成することができる。 Therefore, according to the adapter device of the present invention obtained by such a method, the required electrical connection can be reliably achieved for the circuit device regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected. In addition, even if the electrodes to be inspected are arranged with a small pitch and a high density, it is possible to reliably achieve the necessary electrical connection for the circuit device.
図 31は、本発明に係るアダプター装置の第 4の例における構成を示す説明用断面 図でありる。このアダプター装置は、例えばプリント回路基板などの回路装置につい て、各配線パターンの電気抵抗測定試験を行うために用いられるものであって、前述 の第 2の例のアダプター装置と同様の構成のアダプター本体 20を有する。 FIG. 31 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the adapter device according to the fourth example of the present invention. This adapter device is used for conducting an electrical resistance measurement test of each wiring pattern on a circuit device such as a printed circuit board, for example, and has the same configuration as the adapter device of the second example described above. It has a main body 20.
このアダプター本体 20の表面には、その接続用電極領域 25上に異方導電性シー ト 10がー体的に接着乃至密着した状態で形成されている。図示の例では、アダプタ 一本体 20の表面全体を覆うよう異方導電性シート 10が形成されている。 On the surface of the adapter main body 20, an anisotropic conductive sheet 10 is formed on the connection electrode region 25 in a state of being physically adhered or closely adhered. In the illustrated example, the anisotropic conductive sheet 10 is formed so as to cover the entire surface of the adapter main body 20.
この異方導電性シート 10は、アダプター本体 20における接続用電極 21b, 21cに 係る特定のパターンと同一のパターンに従って配置された、それぞれ厚み方向に伸 びる複数の導電路形成部 11と、隣接する導電路形成部 11の間に当該導電路形成 部 11の各々に一体的に接着した状態で形成された、これらの導電路形成部 11を相 互に絶縁する絶縁部 12とにより構成されており、当該異方導電性シート 10は、導電 路形成部 11の各々がアダプター本体 20の接続用電極 21b, 21c上に位置されるよ う配置されている。この異方導電性シート 10における導電路形成部 11および絶縁部 12は、第 1の例におけるアダプター装置における異方導電性シート 10と基本的に同 様の構成である。すなわち、図 32に示すように、導電路形成部 11の各々は、絶縁性 の弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子 Pが厚み方向に並ぶよう配向した状 態で含有されて構成されている。これに対し、絶縁部 12は、導電性粒子 Pを全く含有
しない弾性高分子物質により構成されている。図示の例において、導電路形成部 11 の各々は、絶縁部 12の表面力も突出する突出部が形成されている。 This anisotropic conductive sheet 10 is adjacent to a plurality of conductive path forming portions 11 that are arranged according to the same pattern as the specific patterns related to the connection electrodes 21b and 21c in the adapter body 20 and extend in the thickness direction. Between the conductive path forming portions 11, the conductive path forming portions 11 are formed in a state of being integrally bonded to each of the conductive path forming portions 11, and the conductive path forming portions 11 are insulated from each other. The anisotropic conductive sheet 10 is arranged such that each of the conductive path forming portions 11 is positioned on the connection electrodes 21b and 21c of the adapter body 20. The conductive path forming portion 11 and the insulating portion 12 in the anisotropic conductive sheet 10 have basically the same configuration as the anisotropic conductive sheet 10 in the adapter device in the first example. That is, as shown in FIG. 32, each of the conductive path forming portions 11 is configured by containing conductive particles P exhibiting magnetism in an insulating elastic polymer substance so as to be aligned in the thickness direction. ing. In contrast, the insulating part 12 does not contain any conductive particles P. It is made of an elastic polymer material that does not. In the illustrated example, each of the conductive path forming portions 11 is formed with a protruding portion that also protrudes the surface force of the insulating portion 12.
異方導電性シート 10の弾性高分子物質、導電性粒子およびその他の具体的な構 成は、前述の第 1の例に係る異方導電性シート 10と同様である。 The elastic polymer material, conductive particles, and other specific configurations of the anisotropic conductive sheet 10 are the same as those of the anisotropic conductive sheet 10 according to the first example.
[0060] 本発明にお 、て、第 4の例のアダプター装置は、前述の第 3の例のアダプター装置 と同様にして製造することができる。 In the present invention, the adapter device of the fourth example can be manufactured in the same manner as the adapter device of the third example described above.
すなわち、第 4の例のアダプター装置は、以下の(al)〜(cl)の工程を経由して得 られる。 That is, the adapter device of the fourth example is obtained through the following steps (al) to (cl).
(al)離型性支持板上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成 材料中に磁性を示す導電性粒子 Pが含有されてなる導電性エラストマ一用材料層を 形成し、この導電性エラストマ一用材料層上に、それぞれ磁性を示す金属よりなる複 数の金属マスクの各々を、アダプター本体 20の接続用電極領域 25における接続用 電極 21b, 21cに係る特定のパターンに従って配置し、この状態で、導電性エラスト マー用材料層に対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラ ストマー用材料層を硬化処理することにより、導電性エラストマ一層を形成する。 (bl)導電性エラストマ一層をレーザー加工して金属マスクが配置された部分以外の 部分を除去することにより、特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成 部 11を形成する。 (al) A liquid polymer material forming material that is cured to become an elastic polymer material is formed on a releasable support plate, and a material layer for a conductive elastomer is formed in which conductive particles P exhibiting magnetism are contained in the material. On the conductive elastomer material layer, a plurality of metal masks each made of a metal exhibiting magnetism are placed on a specific pattern related to the connection electrodes 21b and 21c in the connection electrode region 25 of the adapter body 20. In this state, a conductive elastomer layer is formed by applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer in the thickness direction and curing the conductive elastomer material layer. To do. (bl) A plurality of conductive path forming portions 11 arranged according to a specific pattern are formed by laser processing the conductive elastomer layer to remove portions other than the portion where the metal mask is arranged.
(cl)各導電路形成部 11上に配置された金属マスクを除去し、その後、導電路形成 部 11が形成された離型性支持板を、硬化されて弾性高分子物質となる材料よりなる 絶縁部用材料層が接続用電極領域 25上に形成されたアダプター本体 20上に重ね 合わせることにより、アダプター本体 20の接続用電極領域 25における接続用電極 2 lb, 21cの各々とこれに対応する導電路形成部 11とを対接させ、この状態で絶縁部 用材料層を硬化処理することにより、アダプター本体 20の接続用電極領域 25上に 絶縁部 12を一体的に形成する。 (cl) The metal mask disposed on each conductive path forming portion 11 is removed, and then the release support plate on which the conductive path forming portion 11 is formed is made of a material that is cured to become an elastic polymer substance. By overlapping the insulating material layer on the adapter body 20 formed on the connection electrode region 25, each of the connection electrodes 2 lb and 21c in the connection electrode region 25 of the adapter body 20 and the corresponding material layer is provided. The insulating path 12 is brought into contact with the conductive path forming section 11 and the insulating section material layer is cured in this state, whereby the insulating section 12 is integrally formed on the connection electrode region 25 of the adapter body 20.
[0061] そして、このような製造方法によれば、導電性エラストマ一用材料層上に、特定のパ ターンに従って磁性を示す金属マスクを配置した状態で、当該導電性エラスマー用 材料層の厚み方向に磁場を作用させると共に当該導電性エラストマ一用材料層を硬
化処理することにより、得られる導電性エラストマ一層は、金属マスクが配置された部 分すなわち導電路形成部となる部分における導電性粒子 Pが密となると共に、それ 以外の部分における導電性粒子 Pが疎となり、これにより、当該導電性エラストマ一層 における導電路形成部となる部分以外の部分をレーザー加工によって除去すること が極めて容易となる。そのため、導電性エラストマ一層をレーザー加工することにより[0061] According to such a manufacturing method, in the thickness direction of the conductive elastomer material layer in a state in which a metal mask showing magnetism is arranged according to a specific pattern on the conductive elastomer material layer. A magnetic field is applied to the conductive elastomer material layer. As a result, the conductive elastomer P in the portion where the metal mask is disposed, that is, the portion where the conductive path is to be formed becomes dense, and the conductive particle P in the other portion is obtained. As a result, it becomes very easy to remove a portion other than the portion forming the conductive path in the layer of the conductive elastomer by laser processing. Therefore, by laser processing one layer of conductive elastomer
、所期の形態の導電路形成部 11を確実に形成することができる。そして、特定のパ ターンに従って配置された複数の導電路形成部 11を形成したうえで、これらの導電 路形成部 11の間に絶縁部用材料層を形成して硬化処理することにより絶縁部を形 成するため、導電性粒子 Pが全く存在しない絶縁部 11を確実に得ることができる。 従って、このような方法によって得られる本発明のアダプター装置によれば、検査 対象である回路装置の被検査電極の配置パターンに関わらず、当該回路装置につ いて所要の電気的接続を確実に達成することができると共に、被検査電極が、その ピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所 要の電気的接続を確実に達成することができる。 Thus, the conductive path forming portion 11 having the desired shape can be reliably formed. Then, after forming a plurality of conductive path forming portions 11 arranged according to a specific pattern, an insulating portion material layer is formed between these conductive path forming portions 11 and cured to form an insulating portion. Therefore, it is possible to reliably obtain the insulating portion 11 in which the conductive particles P are not present at all. Therefore, according to the adapter device of the present invention obtained by such a method, the required electrical connection can be reliably achieved for the circuit device regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected. In addition, even if the electrodes to be inspected are arranged with a small pitch and a high density, it is possible to reliably achieve the necessary electrical connection for the circuit device.
〈回路装置の電気的検査装置〉 <Electrical inspection equipment for circuit devices>
図 33は、本発明に係る回路基板の電気的検査装置の第 1の例における構成を示 す説明図である。この電気的検査装置は、両面に被検査電極 6, 7が形成されたプリ ント回路基板などの回路装置 5について、例えばオープン 'ショート試験を行うもので あって、回路装置 5を検査実行領域 Eに保持するためのホルダー 2を有し、このホル ダー 2には、回路装置 5を検査実行領域 Eにおける適正な位置に配置するための位 置決めピン 3が設けられている。検査実行領域 Eの上方には、図 1に示すような構成 の上部側アダプター装置 laおよび上部側検査ヘッド 50aが下力 この順で配置され 、更に、上部側検査ヘッド 50aの上方には、上部側支持板 56aが配置されており、上 部側検査ヘッド 50aは、支柱 54aによって支持板 56aに固定されている。一方、検査 実行領域 Eの下方には、図 1に示すような構成の下部側アダプター装置 lbおよび下 部側検査ヘッド 50bが上からこの順で配置され、更に、下部側検査ヘッド 50bの下方 には、下部側支持板 56bが配置されており、下部側検査ヘッド 50bは、支柱 54bによ つて下部側支持板 56bに固定されている。
上部側検査ヘッド 50aは、板状の検査電極装置 5 laと、この検査電極装置 5 laの 下面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート 55aとにより構成されて いる。検査電極装置 51aは、その下面に上部側アダプター装置 laの端子電極 22と 同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極 52aを有し、これ らの検査電極 52aの各々は、電線 53aによって、上部側支持板 56aに設けられたコ ネクター 57aに電気的に接続され、更に、このコネクター 57aを介してテスターの検査 回路(図示省略)に電気的に接続されている。 FIG. 33 is an explanatory diagram showing the configuration of the first example of the electrical inspection apparatus for circuit boards according to the present invention. This electrical inspection device performs, for example, an open / short test on a circuit device 5 such as a printed circuit board on which electrodes 6 and 7 to be inspected are formed on both sides. The holder 2 is provided with a positioning pin 3 for arranging the circuit device 5 at an appropriate position in the inspection execution region E. Above the inspection execution area E, the upper side adapter device la and the upper side inspection head 50a configured as shown in FIG. 1 are arranged in this order, and further above the upper side inspection head 50a, A side support plate 56a is arranged, and the upper side inspection head 50a is fixed to the support plate 56a by a column 54a. On the other hand, below the inspection execution area E, the lower adapter device lb and the lower inspection head 50b configured as shown in FIG. 1 are arranged in this order from the top, and further below the lower inspection head 50b. The lower side support plate 56b is arranged, and the lower side inspection head 50b is fixed to the lower side support plate 56b by a support 54b. The upper inspection head 50a is composed of a plate-shaped inspection electrode device 5la and an anisotropically conductive sheet 55a having elasticity arranged and fixed to the lower surface of the inspection electrode device 5la. The inspection electrode device 51a has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52a arranged at lattice point positions at the same pitch as the terminal electrodes 22 of the upper-side adapter device la on the lower surface thereof, and each of these inspection electrodes 52a. The electric wire 53a is electrically connected to a connector 57a provided on the upper support plate 56a, and is further electrically connected to a tester inspection circuit (not shown) via the connector 57a.
下部側検査ヘッド 50bは、板状の検査電極装置 5 lbと、この検査電極装置 51bの 上面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート 55bとにより構成されて いる。検査電極装置 5 lbは、その上面に下部側アダプター装置 lbの端子電極 22と 同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極 52bを有し、これ らの検査電極 52bの各々は、電線 53bによって、下部側支持板 56bに設けられたコ ネクター 57bに電気的に接続され、更に、このコネクター 57bを介してテスターの検査 回路(図示省略)に電気的に接続されている。 The lower inspection head 50b is composed of a plate-shaped inspection electrode device 5 lb and an anisotropically conductive sheet 55b having elasticity arranged and fixed to the upper surface of the inspection electrode device 51b. The inspection electrode device 5 lb has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52b arranged on the upper surface thereof at lattice point positions having the same pitch as the terminal electrodes 22 of the lower adapter device lb. Each is electrically connected to a connector 57b provided on the lower support plate 56b by an electric wire 53b, and further electrically connected to an inspection circuit (not shown) of the tester via this connector 57b. .
[0063] 上部側検査ヘッド 50aおよび下部側検査ヘッド 50bにおける異方導電性シート 55a , 55bは、いずれもその厚み方向にのみ導電路を形成する導電路形成部が形成され てなるものである。このような異方導電性シート 55a, 55bとしては、各導電路形成部 が少なくとも一面にぉ 、て厚み方向に突出するよう形成されて 、るものが、高 、電気 的な接触安定性を発揮する点で好まし ヽ。 [0063] The anisotropic conductive sheets 55a and 55b in the upper side inspection head 50a and the lower side inspection head 50b are each formed with a conductive path forming portion that forms a conductive path only in the thickness direction. As such anisotropically conductive sheets 55a and 55b, each of the conductive path forming portions is formed so as to protrude in the thickness direction at least on one surface, and exhibits high electrical contact stability. It is preferable in point to do.
[0064] このような回路基板の電気的検査装置においては、検査対象である回路装置 5が ホルダー 2によって検査実行領域 Eに保持され、この状態で、上部側支持板 56aおよ び下部側支持板 56bの各々が回路装置 5に接近する方向に移動することにより、当 該回路装置 5が上部側アダプター装置 laおよび下部側アダプター装置 lbによって 挟圧される。 [0064] In such an electrical inspection device for circuit boards, the circuit device 5 to be inspected is held in the inspection execution region E by the holder 2, and in this state, the upper side support plate 56a and the lower side support As each of the plates 56b moves in a direction approaching the circuit device 5, the circuit device 5 is clamped by the upper adapter device la and the lower adapter device lb.
この状態においては、回路装置 5の上面における被検査電極 6は、上部側アダプタ 一装置 1 aの接続用電極 21に、当該異方導電性シート 10の導電路形成部 11を介し て電気的に接続され、この上部側アダプター装置 laの端子電極 22は、異方導電性 シート 55aを介して検査電極装置 5 laの検査電極 52aに電気的に接続されている。
一方、回路装置 5の下面における被検査電極 7は、下部側アダプター装置 lbの接続 用電極 21に、当該異方導電性シート 10の導電路形成部 11を介して電気的に接続 され、この下部側アダプター装置 lbの端子電極 22は、異方導電性シート 55bを介し て検査電極装置 5 lbの検査電極 50bに電気的に接続されて!ヽる。 In this state, the electrode 6 to be inspected on the upper surface of the circuit device 5 is electrically connected to the connection electrode 21 of the upper adapter 1a 1a through the conductive path forming portion 11 of the anisotropic conductive sheet 10. The terminal electrode 22 of the upper-side adapter device la is electrically connected to the inspection electrode 52a of the inspection electrode device 5la via an anisotropic conductive sheet 55a. On the other hand, the electrode 7 to be inspected on the lower surface of the circuit device 5 is electrically connected to the connection electrode 21 of the lower-side adapter device lb through the conductive path forming portion 11 of the anisotropic conductive sheet 10. The terminal electrode 22 of the side adapter device lb is electrically connected to the test electrode 50b of the test electrode device 5 lb via the anisotropic conductive sheet 55b.
[0065] このようにして、回路装置 5の上面および下面の両方の被検査電極 6, 7の各々力 上部側検査ヘッド 50aにおける検査電極装置 51aの検査電極 52aおよび下部側検 查ヘッド 50bにおける検査電極装置 51bの検査電極 52bの各々に電気的に接続さ れること〖こより、テスターの検査回路に電気的に接続された状態が達成され、この状 態で所要の電気的検査が行われる。 [0065] In this way, each force of the electrodes 6 and 7 on both the upper and lower surfaces of the circuit device 5 is inspected at the inspection electrode 52a and the lower inspection head 50b of the inspection electrode device 51a in the upper inspection head 50a. As a result of being electrically connected to each of the test electrodes 52b of the electrode device 51b, a state of being electrically connected to the test circuit of the tester is achieved, and a required electrical test is performed in this state.
[0066] 上記の回路基板の電気的検査装置によれば、図 1に示すような構成の上部側ァダ プター装置 laおよび下部側アダプター装置 lbを有するため、回路装置 5の被検査 電極 6, 7の配置パターンに関わらず、当該回路装置 5について所要の電気的検査 を確実に実行することができると共に、回路装置 5の被検査電極 6, 7が、そのピッチ が微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置 5について所要の 電気的検査を確実に実行することができる。 [0066] According to the electrical inspection apparatus for a circuit board described above, since the upper side adapter device la and the lower side adapter device lb are configured as shown in FIG. Regardless of the arrangement pattern of 7, the required electrical inspection can be reliably performed on the circuit device 5, and the inspected electrodes 6 and 7 of the circuit device 5 are arranged with a small pitch and a high density. Even in such a case, the required electrical inspection can be reliably performed on the circuit device 5.
[0067] 図 34は、本発明に係る回路基板の電気的検査装置の第 2の例における構成を示 す説明図である。この電気的検査装置は、両面に被検査電極 6, 7が形成されたプリ ント回路基板などの回路装置 5について、各配線パターンの電気抵抗測定試験を行 うためのものであって、回路装置 5を検査実行領域 Eに保持するためのホルダー 2を 有し、このホルダー 2には、回路装置 5を検査実行領域 Eにおける適正な位置に配置 するための位置決めピン 3が設けられている。 FIG. 34 is an explanatory diagram showing the configuration of the second example of the electrical inspection apparatus for circuit boards according to the present invention. This electrical inspection device is for performing an electrical resistance measurement test of each wiring pattern on a circuit device 5 such as a printed circuit board on which both electrodes 6 and 7 are formed on both sides. A holder 2 for holding 5 in the inspection execution area E is provided, and the holder 2 is provided with a positioning pin 3 for arranging the circuit device 5 at an appropriate position in the inspection execution area E.
検査実行領域 Eの上方には、図 17に示すような構成の上部側アダプター装置 la および上部側検査ヘッド 50aが下力 この順で配置され、更に、上部側検査ヘッド 5 Oaの上方には、上部側支持板 56aが配置されており、上部側検査ヘッド 50aは、支 柱 54aによって支持板 56aに固定されている。一方、検査実行領域 Eの下方には、図 17に示すような構成の下部側アダプター装置 lbおよび下部側検査ヘッド 50bが上 力もこの順で配置され、更に、下部側検査ヘッド 50bの下方には、下部側支持板 56 bが配置されており、下部側検査ヘッド 50bは、支柱 54bによって支持板 56bに固定
されている。 Above the inspection execution area E, the upper side adapter device la and the upper side inspection head 50a configured as shown in FIG. 17 are arranged in this order, and further above the upper side inspection head 5 Oa, The upper side support plate 56a is arranged, and the upper side inspection head 50a is fixed to the support plate 56a by a support column 54a. On the other hand, below the inspection execution area E, the lower side adapter device lb and the lower side inspection head 50b configured as shown in FIG. 17 are arranged in this order, and further below the lower side inspection head 50b. The lower side support plate 56b is arranged, and the lower side inspection head 50b is fixed to the support plate 56b by the support 54b. Has been.
上部側検査ヘッド 50aは、板状の検査電極装置 5 laと、この検査電極装置 5 laの 下面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート 55aとにより構成されて いる。検査電極装置 51aは、その下面に上部側アダプター装置 laの端子電極 22と 同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極 52aを有し、これ らの検査電極 52aの各々は、電線 53aによって、上部側支持板 56aに設けられたコ ネクター 57aに電気的に接続され、更に、このコネクター 57aを介してテスターの検査 回路(図示省略)に電気的に接続されている。 The upper inspection head 50a is composed of a plate-shaped inspection electrode device 5la and an anisotropically conductive sheet 55a having elasticity arranged and fixed to the lower surface of the inspection electrode device 5la. The inspection electrode device 51a has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52a arranged at lattice point positions at the same pitch as the terminal electrodes 22 of the upper-side adapter device la on the lower surface thereof, and each of these inspection electrodes 52a. The electric wire 53a is electrically connected to a connector 57a provided on the upper support plate 56a, and is further electrically connected to a tester inspection circuit (not shown) via the connector 57a.
下部側検査ヘッド 50bは、板状の検査電極装置 5 lbと、この検査電極装置 51bの 上面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート 55bとにより構成されて いる。検査電極装置 5 lbは、その上面に下部側アダプター装置 lbの端子電極 22と 同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極 52bを有し、これ らの検査電極 52bの各々は、電線 53bによって、下部側支持板 56bに設けられたコ ネクター 57bに電気的に接続され、更に、このコネクター 57bを介してテスターの検査 回路(図示省略)に電気的に接続されている。 The lower inspection head 50b is composed of a plate-shaped inspection electrode device 5 lb and an anisotropically conductive sheet 55b having elasticity arranged and fixed to the upper surface of the inspection electrode device 51b. The inspection electrode device 5 lb has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52b arranged on the upper surface thereof at lattice point positions having the same pitch as the terminal electrodes 22 of the lower adapter device lb. Each is electrically connected to a connector 57b provided on the lower support plate 56b by an electric wire 53b, and further electrically connected to an inspection circuit (not shown) of the tester via this connector 57b. .
上部側検査ヘッド 50aおよび下部側検査ヘッド 50bにおける異方導電性シート 55a , 55bは、第 1の例の電気的検査装置と基本的に同様の構成である。 The anisotropic conductive sheets 55a and 55b in the upper side inspection head 50a and the lower side inspection head 50b have basically the same configuration as that of the electrical inspection apparatus of the first example.
このような回路基板の電気的検査装置においては、検査対象である回路装置 5が ホルダー 2によって検査実行領域 Eに保持され、この状態で、上部側支持板 56aおよ び下部側支持板 56bの各々が回路装置 5に接近する方向に移動することにより、当 該回路装置 5が上部側アダプター装置 laおよび下部側アダプター装置 lbによって 挟圧される。 In such an electrical inspection device for circuit boards, the circuit device 5 to be inspected is held in the inspection execution region E by the holder 2, and in this state, the upper support plate 56a and the lower support plate 56b As each moves toward the circuit device 5, the circuit device 5 is clamped by the upper adapter device la and the lower adapter device lb.
この状態においては、回路装置 5の上面における被検査電極 6は、上部側アダプタ 一装置 laの接続用電極対 21aにおける電流供給用電極 21bおよび電圧測定用電 極 21 cの両方に、異方導電性シート 10の導電路形成部 11を介して電気的に接続さ れ、この上部側アダプター装置 laの端子電極 22は、異方導電性シート 55aを介して 検査電極装置 51aの検査電極 52aに電気的に接続されている。一方、回路装置 5の 下面における被検査電極 7は、下部側アダプター装置 lbの接続用電極対 21aにお
ける電流供給用電極 21bおよび電圧測定用電極 21cの両方に、異方導電性シート 1 0の導電路形成部 11を介して電気的に接続され、この下部側アダプター装置 lbの 端子電極 22は、異方導電性シート 55bを介して検査電極装置 51bの検査電極 52b に電気的に接続されている。 In this state, the electrode 6 to be inspected on the upper surface of the circuit device 5 is anisotropically connected to both the current supply electrode 21b and the voltage measurement electrode 21c in the connection electrode pair 21a of the upper-side adapter device la. The terminal electrode 22 of the upper-side adapter device la is electrically connected to the inspection electrode 52a of the inspection electrode device 51a via the anisotropic conductive sheet 55a. Connected. On the other hand, the electrode 7 to be inspected on the lower surface of the circuit device 5 is connected to the connection electrode pair 21a of the lower adapter device lb. Are electrically connected to both the current supply electrode 21b and the voltage measurement electrode 21c via the conductive path forming portion 11 of the anisotropic conductive sheet 10, and the terminal electrode 22 of the lower adapter device lb is It is electrically connected to the inspection electrode 52b of the inspection electrode device 51b via the anisotropic conductive sheet 55b.
[0069] このようにして、回路装置 5の上面および下面の両方の被検査電極 6, 7の各々が、 上部側検査ヘッド 50aにおける検査電極装置 51aの検査電極 52aおよび下部側検 查ヘッド 50bにおける検査電極装置 51bの検査電極 52bの各々に電気的に接続さ れること〖こより、テスターの検査回路に電気的に接続された状態が達成され、この状 態で所要の電気的検査が行われる。具体的には、上部側アダプター装置 laにおけ る電流供給用電極 21bと下部側アダプター装置 lbにおける電流供給用電極 21bと の間に一定の値の電流が供給されると共に、上部側のアダプター装置 laにおける複 数の電圧測定用電極 21cの中から 1つを指定し、当該指定された 1つの電圧測定用 電極 21cと、当該電圧測定用電極 21cに電気的に接続された上面側の被検査電極 6に対応する下面側の被検査電極 7に電気的に接続された、下部側アダプター装置 lbにおける電圧測定用電極 21cとの間の電圧が測定され、得られた電圧値に基づ いて、当該指定された 1つの電圧測定用電極 21cに電気的に接続された上面側の 被検査電極 6とこれに対応する下面側の被検査電極 7との間に形成された配線バタ ーンの電気抵抗値が取得される。そして、指定する電圧測定用電極 21cを順次変更 することにより、全ての配線パターンの電気抵抗の測定が行われる。 [0069] In this way, each of the test electrodes 6 and 7 on both the upper surface and the lower surface of the circuit device 5 is connected to the test electrode 52a and the lower test head 50b of the test electrode device 51a in the upper test head 50a. As a result of being electrically connected to each of the inspection electrodes 52b of the inspection electrode device 51b, a state of being electrically connected to the inspection circuit of the tester is achieved, and a required electrical inspection is performed in this state. Specifically, a constant current is supplied between the current supply electrode 21b in the upper adapter device la and the current supply electrode 21b in the lower adapter device lb, and the upper adapter device la. Designate one of the multiple voltage measurement electrodes 21c in la, the one specified voltage measurement electrode 21c, and the upper surface side inspected electrically connected to the voltage measurement electrode 21c The voltage between the voltage measuring electrode 21c in the lower side adapter device lb electrically connected to the electrode 7 to be inspected on the lower surface side corresponding to the electrode 6 is measured, and based on the obtained voltage value, Electricity of the wiring pattern formed between the inspected electrode 6 on the upper surface side electrically connected to the specified one voltage measuring electrode 21c and the corresponding inspected electrode 7 on the lower surface side corresponding thereto A resistance value is obtained. Then, the electrical resistances of all the wiring patterns are measured by sequentially changing the designated voltage measuring electrode 21c.
[0070] 上記の回路基板の電気的検査装置によれば、図 17に示すような構成の上部側ァ ダブター装置 laおよび下部側アダプター装置 lbを有するため、回路装置 5の被検 查電極 6, 7の配置パターンに関わらず、当該回路装置 5について所要の電気的検 查を確実に実行することができると共に、回路装置 5の被検査電極 6, 7が、そのピッ チが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置 5について所要 の電気的検査を確実に実行することができる。 [0070] According to the above-described circuit board electrical inspection apparatus, since it has the upper side adapter apparatus la and the lower side adapter apparatus lb configured as shown in FIG. Regardless of the arrangement pattern of 7, the required electrical inspection can be reliably performed on the circuit device 5, and the electrodes 6 and 7 to be inspected of the circuit device 5 have minute pitches and high density. Even if it is arranged, the required electrical inspection can be reliably performed on the circuit device 5.
[0071] 本発明においては、上記の実施の形態に限定されず、例えば以下のような種々の 変更をカ卩えることが可能である。 [0071] The present invention is not limited to the above-described embodiment, and for example, various modifications such as the following can be covered.
(1)異方導電性シート 10においては、異方導電性シート 10における導電路形成部 1
1に突出部が形成されることは必須のことではなぐ異方導電性シート 10の表面全体 が平坦なものであってもよ 、。 (1) In the anisotropic conductive sheet 10, the conductive path forming portion 1 in the anisotropic conductive sheet 10 It is not essential that the protrusions are formed in 1. The entire surface of the anisotropic conductive sheet 10 may be flat.
(2)アダプター装置において、異方導電性シート 10は、アダプター本体 20の接続用 電極領域 25のみを覆うよう配置されて 、てもよ 、。 (2) In the adapter device, the anisotropic conductive sheet 10 may be arranged so as to cover only the connection electrode region 25 of the adapter body 20.
(3)検査対象である回路装置は、プリント回路基板に限定されず、ノッケージ IC、 M CMなどの半導体集積回路装置、ウェハに形成された回路装置であってもよい。 (3) The circuit device to be inspected is not limited to a printed circuit board, but may be a semiconductor integrated circuit device such as a knock IC or MCM, or a circuit device formed on a wafer.
(4)導電路形成部 11の形成においては、レーザー加工によって導電性エラストマ一 層 11Bにおける導電路形成部となる部分以外の部分の全部が除去されることにより、 導電路形成部 11を形成することもできるが、図 35および図 36に示すように、導電性 エラストマ一層 11Bにおける導電路形成部となる部分の周辺部分のみが除去される ことにより、導電路形成部 11を形成することもできる。この場合には、導電性エラスト マー層 11Bの残部は、接点部材複合体 13Fから機械的に剥離することによって除去 することができる。 (4) In the formation of the conductive path forming part 11, the conductive path forming part 11 is formed by removing all parts of the conductive elastomer layer 11B other than the part that becomes the conductive path forming part by laser processing. However, as shown in FIGS. 35 and 36, the conductive path forming portion 11 can also be formed by removing only the peripheral portion of the conductive elastomer layer 11B that becomes the conductive path forming portion. . In this case, the remaining part of the conductive elastomer layer 11B can be removed by mechanically peeling from the contact member composite 13F.
(5)本発明のアダプター装置においては、図 37に示すように、アダプター本体 20上 に一体的に設けられた異方導電性シート 10上に、更に、弾性高分子物質中に導電 性粒子 Pが厚み方向に並ぶよう配向して連鎖を形成した状態でかつ当該導電性粒 子 Pによる連鎖が面方向に分散した状態で含有されてなる、いわゆる分散型の異方 導電性シート 30を配置することができる。 (5) In the adapter device of the present invention, as shown in FIG. 37, on the anisotropic conductive sheet 10 integrally provided on the adapter body 20, the conductive particles P are further contained in the elastic polymer substance. A so-called dispersive anisotropic conductive sheet 30 is arranged in such a manner that chains are formed so as to be aligned in the thickness direction and chained by the conductive particles P are dispersed in the plane direction. be able to.
実施例 Example
[0072] 以下、本発明の具体的な実施例について説明する力 本発明は以下の実施例に 限定されるものではない。 [0072] Hereinafter, the ability to describe specific examples of the present invention The present invention is not limited to the following examples.
[0073] 〈実施例 1〉 <Example 1>
(1)アダプター本体の製造: (1) Manufacture of adapter body:
図 2に示す構成に従い、下記の仕様のアダプター本体(20)を製造した。 すなわち、このアダプター本体(20)は、縦横の寸法が 160mm X 120mmで、基板 材質がガラス繊維補強型エポキシ榭脂であり、当該アダプター本体 (20)の表面にお ける接続用電極領域には、寸法が 120 mX 60 mの矩形の接続用電極(21)力 最小の離間距離が 30 m (最小の中心間距離が 90 m)で合計で 4800個配置さ
れている。また、アダプター本体(20)の裏面には、直径が 400 mの円形の端子電 極(22)力 750 μ mのピッチで合計で 4800個配置されている。 An adapter body (20) having the following specifications was manufactured according to the configuration shown in FIG. That is, the adapter body (20) has a vertical and horizontal dimension of 160 mm X 120 mm, and the substrate material is a glass fiber reinforced epoxy resin. The connection electrode region on the surface of the adapter body (20) includes Rectangular connection electrode with dimensions of 120 mX 60 m (21) force 4800 pieces in total with a minimum separation distance of 30 m (minimum center-to-center distance of 90 m) It is. On the back of the adapter body (20), a total of 4800 terminals are arranged at a pitch of a circular terminal electrode (22) force of 750 μm with a diameter of 400 m.
[0074] (2)接点部材複合体の製造: [0074] (2) Production of contact member composite:
ポリエチレンテレフタレートよりなる厚みが 100 μ mの榭脂フィルムの一面に、厚み 力 S18 μ mの銅よりなる金属箔(14)が剥離可能に積層されてなる積層材料を用意し、 この積層材料における金属箔(14)の表面に、フォトリソグラフィ一の手法により、それ ぞれ寸法が 120 m X mの矩形の 4800個の開口(15K)力 最小の離間距離 力 S30 m (最小の中心間距離が 90 μ m)で形成された、厚みが 80 μ mのレジスト層 (15)を形成した(図 4参照)。その後、金属箔(14)の表面に電解ニッケルメツキ処理 を施すことにより、レジスト層(15)の各開口(15K)内に厚みが約 80 mのニッケル よりなる接点部材 (13)を形成し、以て、接点部材複合体 (13F)を製造した (図 5参照 Prepare a laminated material in which a metal foil (14) made of copper with a thickness of S18 μm is peeled and laminated on one surface of a 100 μm thick resin film made of polyethylene terephthalate. On the surface of the foil (14), 4800 openings (15K) in a rectangular shape with dimensions of 120 m x m, using a photolithography technique, minimum separation distance force S30 m (minimum center-to-center distance of 90 A resist layer (15) having a thickness of 80 μm was formed (see FIG. 4). Thereafter, electrolytic nickel plating is applied to the surface of the metal foil (14) to form a contact member (13) made of nickel having a thickness of about 80 m in each opening (15K) of the resist layer (15). Therefore, the contact member composite (13F) was manufactured (see Fig. 5).
) o ) o
ここで、メツキ処理は、メツキ浴の温度が 50°Cで、電流密度が 2. 5AZdmで、メツキ 処理時間が 2時間の条件で行った。 Here, the plating treatment was performed under the conditions of a plating bath temperature of 50 ° C, a current density of 2.5 AZdm, and a plating treatment time of 2 hours.
[0075] (3)金属マスク複合体の作製 [0075] (3) Fabrication of metal mask composite
ポリエチレンテレフタレートよりなる厚みが 100 μ mの榭脂フィルムの一面に、厚み 力 S18 μ mの銅よりなる金属箔(16)が剥離可能に積層されてなる積層材料を用意し、 この積層材料における金属箔(16)の表面に、フォトリソグラフィ一の手法により、それ ぞれ寸法が 120 m X mの矩形の 4800個の開口(17K)力 最小の離間距離 力 S30 m (最小の中心間距離が 90 μ m)で形成された、厚みが 80 μ mのレジスト層 (17)を形成した(図 6参照)。その後、金属箔(16)の表面に電解ニッケルメツキ処理 を施すことにより、レジスト層(17)の各開口(17K)内に厚みが約 80 mのニッケル よりなる金属マスク(18)を形成し、以て、金属スマク複合体(18F)を製造した(図 7参 照)。 Prepare a laminated material in which a metal foil (16) made of copper with a thickness of S18 μm is peeled and laminated on one surface of a 100 μm thick resin film made of polyethylene terephthalate. On the surface of the foil (16), using a photolithography technique, 4800 rectangular (17K) forces each with dimensions of 120 m X m Minimum separation distance Force S30 m (minimum center-to-center distance is 90 A resist layer (17) having a thickness of 80 μm was formed (see FIG. 6). Thereafter, an electrolytic nickel plating treatment is applied to the surface of the metal foil (16) to form a metal mask (18) made of nickel having a thickness of about 80 m in each opening (17K) of the resist layer (17). Thus, a metal smack composite (18F) was produced (see FIG. 7).
ここで、メツキ処理は、メツキ浴の温度が 50°Cで、電流密度が 2. 5AZdmで、メツキ 処理時間が 2時間の条件で行った。 Here, the plating treatment was performed under the conditions of a plating bath temperature of 50 ° C, a current density of 2.5 AZdm, and a plating treatment time of 2 hours.
[0076] (4)導電性エラストマ一層の形成: [0076] (4) Formation of one layer of conductive elastomer:
付加型液状シリコーンゴム 100重量部中に、ニッケルよりなる芯粒子に金が被覆さ
れてなる導電性粒子 (数平均粒子径が 15 m,芯粒子に対する金の割合力 重量 %) 70重量部を分散させることにより、導電性エラストマ一用材料を調製した。この導 電性エラストマ一用材料を、接点部材複合体(13F)における接点部材(13)が形成 された一面上に、スクリーン印刷により塗布することにより、厚みが 150 mの導電性 エラストマ一用材料層 ( 11 A)を形成した (図 8参照)。 Addition-type liquid silicone rubber 100 parts by weight of gold is coated on the core particles made of nickel. The conductive elastomer material was prepared by dispersing 70 parts by weight of the resulting conductive particles (number average particle diameter 15 m, ratio force of gold to core particles% by weight). By applying this conductive elastomer material on one surface of the contact member composite (13F) on which the contact member (13) is formed by screen printing, the conductive elastomer material having a thickness of 150 m is applied. A layer (11A) was formed (see Figure 8).
次いで、この導電性エラストマ一用材料層(11A)上に、金属マスク複合体(18F)を 、その金属マスク(18)の各々が当該導電性エラストマ一用材料層 (11A)を介して接 点部材 13の各々と互いに対向するよう配置し、この状態で、導電性導電性エラストマ 一用材料層 (11A)に対して、電磁石によって厚み方向に 2テスラの磁場を作用させ ながら、 120°C、 1時間の条件で硬化処理を行うことにより、接点部材複合体(13F) 上に支持された厚みが 150 mの導電性エラストマ一層(11B)を形成した(図 9乃至 図 11参照)。 Next, a metal mask composite (18F) is formed on the conductive elastomer material layer (11A), and each of the metal masks (18) is contacted via the conductive elastomer material layer (11A). Each of the members 13 is disposed so as to face each other, and in this state, a magnetic layer of 2 Tesla is applied in the thickness direction by an electromagnet to the conductive conductive elastomer material layer (11A) at 120 ° C By conducting the curing process under the condition of 1 hour, a conductive elastomer layer (11B) having a thickness of 150 m supported on the contact member composite (13F) was formed (see FIGS. 9 to 11).
[0077] (5)導電路形成部の形成: (5) Formation of conductive path forming portion:
金属マスク複合体(18F)における金属箔(16)の表面力 榭脂フィルムを剥離し、 露出した金属箔(16)に対して、塩化第二鉄系エッチング液を用い、 50°C、 30秒間 の条件でエッチング処理によって、当該金属箔(16)を除去することにより、金属マス ク(18)およびレジスト層(17)を露出させた(図 12参照)。そして、この状態で、導電 性エラストマ一層(11B)およびレジスト層(27)に対して、金属マスク(18)を介して炭 酸ガスレーザー装置によってレーザー加工を施すことにより、それぞれ接点部材複 合体( 13F)上に支持された 4800個の導電路形成部(11)を形成した(図 13参照)。 その後、導電路形成部(11)の表面力 金属マスク(18)を剥離した。 Surface force of metal foil (16) in metal mask composite (18F) Peel off the resin film, and use ferric chloride etching solution for exposed metal foil (16) at 50 ° C for 30 seconds. The metal foil (16) and the resist layer (17) were exposed by removing the metal foil (16) by etching under the conditions described above (see FIG. 12). In this state, the conductive elastomer layer (11B) and the resist layer (27) are subjected to laser processing with a carbon dioxide gas laser device through a metal mask (18), whereby the contact member composites ( 13F) 4800 conductive path forming portions (11) supported on the surface were formed (see FIG. 13). Thereafter, the surface force metal mask (18) of the conductive path forming part (11) was peeled off.
以上において、炭酸ガスレーザー装置によるレーザー加工条件は、以下の通りで ある。 すなわち、装置として、炭酸ガスレーザー加工機「ML— 605GTX」(三菱電 機 (株)製)を用い、レーザービーム径が直径 60 m,レーザー出力が 0. 8mJの条 件で、 1つの加工点にレーザービームを 10ショット照射することによりレーザー加工を 行った。 In the above, the laser processing conditions by the carbon dioxide laser device are as follows. In other words, the carbon dioxide laser processing machine “ML-605GTX” (manufactured by Mitsubishi Electric Corporation) was used as the equipment, the laser beam diameter was 60 m, and the laser output was 0.8 mJ. Laser processing was performed by irradiating the laser beam with 10 shots.
[0078] (6)絶縁部の形成: [0078] (6) Formation of insulating portion:
アダプター本体(20)の表面に、付加型液状シリコーンゴムを塗布することにより、
厚みが 100 μ mの絶縁部用材料層 (12A)を形成し、この絶縁部用材料層(12A)上 に、 4800個の導電路形成部(11)が形成された接点部材複合体(13F)上を位置合 わせして重ね合わせることにより、当該アダプター本体(20)の接続用電極(22)の各 々とこれに対応する導電路形成部(11)とを対接させた(図 14および図 15参照)。そ して、接点部材複合体(13F)に 800kgfの圧力を加えることにより、導電路形成部(1 1)の厚みを 150 mから 120 mに弹性的に圧縮させ、この状態で、 120°C、 1時間 の条件で、絶縁部用材料層(12A)の硬化処理を行うことにより、隣接する導電路形 成部( 11 )の間に絶縁部 ( 12)を形成した(図 16参照)。 By applying addition-type liquid silicone rubber to the surface of the adapter body (20), An insulating material layer (12A) having a thickness of 100 μm was formed, and a contact member composite (13F) with 4800 conductive path forming parts (11) formed on the insulating material layer (12A). ) The upper and lower surfaces of the adapter body (20) are brought into contact with each other and the corresponding conductive path forming portion (11) (FIG. 14). And see Figure 15). Then, by applying a pressure of 800 kgf to the contact member composite (13F), the thickness of the conductive path forming part (11) is inertially compressed from 150 m to 120 m, and in this state, 120 ° C The insulating portion (12) was formed between the adjacent conductive path forming portions (11) by curing the insulating layer material layer (12A) under the conditions of 1 hour (see FIG. 16).
その後、接点部材複合体(13F)における金属箔(14)をエッチング処理によって除 去することにより、本発明のアダプター装置を製造した(図 1乃至図 3参照)。このァダ プター装置における異方導電性シート(10)は、導電路形成部(11)の厚みが 150 m、絶縁部(12)の厚みが 100 m、導電路形成部(11)の最小の離間距離が 30 m (最小の中心間距離が 90 m)である。また、導電路形成部(11)は絶縁部(12) の表面から突出しており、導電路形成部(11)の突出高さが 50 /z mであり、導電路形 成部(11)における導電性粒子の割合は体積分率で 50%であった。 Thereafter, the adapter foil of the present invention was manufactured by removing the metal foil (14) in the contact member composite (13F) by etching (see FIGS. 1 to 3). The anisotropic conductive sheet (10) in this adapter device has a conductive path forming part (11) with a thickness of 150 m, an insulating part (12) with a thickness of 100 m, the smallest of the conductive path forming part (11). The separation distance is 30 m (minimum center distance is 90 m). In addition, the conductive path forming part (11) protrudes from the surface of the insulating part (12), the protruding height of the conductive path forming part (11) is 50 / zm, and the conductive path forming part (11) The proportion of sex particles was 50% in volume fraction.
[0079] 〈実施例 2〉 <Example 2>
導電性エラストマ一材料の調製において導電性粒子の使用量を 70重量部から 79 重量部に変更したこと以外は実施例 1と同様にして、本発明のアダプター装置を製 造した。このアダプター装置における異方導電性シート(10)は、導電路形成部(11) の厚みが 150mm、絶縁部(12)の厚みが 100 m、導電路形成部(11)の最小の離 間距離が (最小の中心間距離が 90 /z m)である。また、導電路形成部(11) は絶縁部(12)の表面から突出しており、導電路形成部(11)の突出高さが 50 μ mで あり、導電路形成部(11)における導電性粒子の割合は体積分率で 56%であった。 The adapter device of the present invention was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the amount of conductive particles used was changed from 70 parts by weight to 79 parts by weight in the preparation of the conductive elastomer material. The anisotropic conductive sheet (10) in this adapter device has a conductive path forming part (11) thickness of 150 mm, an insulating part (12) thickness of 100 m, and a minimum separation distance of the conductive path forming part (11). Is (the minimum center-to-center distance is 90 / zm). The conductive path forming part (11) protrudes from the surface of the insulating part (12), and the protruding height of the conductive path forming part (11) is 50 μm. The proportion of particles was 56% in volume fraction.
[0080] 〈比較例 1〉 [0080] <Comparative Example 1>
(1)アダプター本体の製造: (1) Manufacture of adapter body:
図 2に示す構成に従 ヽ、下記の仕様のアダプター本体を製造した。 Following the configuration shown in Fig. 2, an adapter body with the following specifications was manufactured.
すなわち、このアダプター本体は、縦横の寸法が 160mm X 120mmで、基板材質 がガラス繊維補強型エポキシ榭脂であり、当該アダプター本体の表面における接続
用電極領域には、寸法が 120 /z m X 60 /z mの矩形の接続用電極力 最小の離間距 離が 30 m (最小の中心間距離が 90 m)で合計で 4800個配置されている。また、 アダプター本体の裏面には、直径力 00 mの円形の端子電極力 750 /z mのピッ チで合計で 4800個配置されて 、る。 In other words, the adapter body is 160mm x 120mm in length and width, the substrate material is glass fiber reinforced epoxy resin, and the connection on the surface of the adapter body In the electrode area, a rectangular connecting electrode force with a dimension of 120 / zm X 60 / zm has a minimum separation distance of 30 m (minimum center-to-center distance of 90 m) and a total of 4,800. In addition, a total of 4800 pieces of circular terminal electrode force of 750 / zm with a diameter force of 00 m are arranged on the back of the adapter body.
[0081] (2)異方導電性エラストマ一層形成用型の作製: [0081] (2) Fabrication of anisotropic conductive elastomer single layer forming mold:
図 39に示す構成に従い、下記の仕様の上型および下型を作製した。 According to the configuration shown in FIG. 39, upper and lower molds having the following specifications were produced.
上型における強磁性体部の各々は、縦横の寸法が 160mm X 120mm、厚みが 10 で、材質がニッケルであり、アダプター本体の接続用電極のパターンと対掌な パターンに従って合計で 4800個配置されている。上型における非磁性体部は、厚 みが 150 μ mで、材質がドライフィルムレジストの硬化物であり、その表面が強磁性体 部から 50 m突出した状態に形成されている。 Each of the ferromagnetic parts in the upper die is 160mm x 120mm in length and width, thickness is 10, the material is nickel, and a total of 4800 pieces are arranged according to the pattern of the connection electrode on the adapter body. ing. The nonmagnetic part of the upper mold is 150 μm thick, and is made of a hardened material of dry film resist, and its surface protrudes 50 m from the ferromagnetic part.
下型における強磁性体部の各々は、縦横の寸法が 160mm X 120mm、厚みが 10 0 μ mで、材質がニッケルであり、アダプター本体の接続用電極のパターンと同一の パターンに従って合計で 4800個配置されている。下型における非磁性体部は、厚 みが 100 μ mで、材質がドライフィルムレジストの硬化物である。 Each of the ferromagnetic parts in the lower mold is 160mm x 120mm in length and thickness is 100 μm, the material is nickel, and a total of 4800 pieces according to the same pattern as the connection electrode of the adapter body Has been placed. The nonmagnetic part of the lower mold is 100 μm thick and is a hardened material of dry film resist.
[0082] (3)異方導電性シートの形成: [0082] (3) Formation of anisotropic conductive sheet:
付加型液状シリコーンゴム 100重量部に、平均粒子径が 12 mの導電性粒子 63 重量部を添加して混合し、その後、減圧による脱泡処理を施すことにより、異方導電 性エラストマ一用材料を調製した。以上において、導電性粒子としては、ニッケルより なる芯粒子に金メッキが施されてなるもの(平均被覆量:芯粒子の重量の 2重量%)を 用いた。この導電性エラストマ一用材料をアダプター本体の表面にスクリーン印刷に より塗布することにより、当該アダプター本体上に、厚みが 150 mの導電性エラスト マー用材料層を形成した。 By adding 63 parts by weight of conductive particles with an average particle diameter of 12 m to 100 parts by weight of addition-type liquid silicone rubber, mixing, and then subjecting to degassing treatment under reduced pressure, a material for anisotropic conductive elastomers Was prepared. In the above, as the conductive particles, those obtained by subjecting core particles made of nickel to gold plating (average coating amount: 2% by weight of the weight of the core particles) were used. By applying this conductive elastomer material on the surface of the adapter body by screen printing, a conductive elastomer material layer having a thickness of 150 m was formed on the adapter body.
次いで、下型の表面に、導電性エラストマ一用材料層が形成されたアダプター本体 を位置合わせして配置し、当該アダプター本体上に形成された導電性エラストマ一 用材料層の表面に、上型を位置合わせして配置した。その後、上型の上面および下 型の下面に一対の電磁石を配置し、当該電磁石を作動させることにより、上型の強 磁性体部と下型の強磁性体部との間に 2テスラの磁場を作用させながら、 120°C、 1
時間の条件で導電性エラストマ一層の硬化処理を行うことにより、アダプター本体の 表面に一体的に設けられた、各接続用電極上に配置された 4800個の導電路形成 部と、これらの導電路形成部の間に介在された絶縁部とよりなる異方導電性シートを 形成し、以て、比較用のアダプター装置を製造した。このアダプター装置における異 方導電性シートは、導電路形成部の厚みが 150mm、絶縁部の厚みが 100 m、導 電路形成部の最小の離間距離が 30 m (最小の中心間距離が 90 m)である。ま た、導電路形成部は絶縁部の表面力 突出しており、導電路形成部の突出高さが 5 0 /z mであり、導電路形成部における導電性粒子の割合は体積分率で 45%であつ た。 Next, the adapter body on which the conductive elastomer material layer is formed is aligned and arranged on the surface of the lower mold, and the upper mold is placed on the surface of the conductive elastomer material layer formed on the adapter body. Were aligned and placed. After that, a pair of electromagnets are placed on the upper surface of the upper mold and the lower surface of the lower mold, and the electromagnets are operated, so that a magnetic field of 2 Tesla is formed between the upper and lower ferromagnetic parts. While acting, 120 ° C, 1 By conducting a curing process for one layer of conductive elastomer under time conditions, 4800 conductive path forming portions arranged on each connection electrode integrally provided on the surface of the adapter body, and these conductive paths An anisotropic conductive sheet comprising an insulating portion interposed between the forming portions was formed, and thus a comparative adapter device was manufactured. The anisotropic conductive sheet in this adapter device has a conductive path forming part thickness of 150 mm, an insulating part thickness of 100 m, and a minimum separation distance of the conductive path forming part of 30 m (minimum center-to-center distance of 90 m). It is. The conductive path forming part protrudes from the surface force of the insulating part, the protruding height of the conductive path forming part is 50 / zm, and the ratio of the conductive particles in the conductive path forming part is 45% by volume fraction. It was.
[0083] 〈比較例 2〉 [0083] <Comparative example 2>
導電性エラストマ一材料の調製において導電性粒子の使用量を 63重量部から 51 重量部に変更したこと以外は比較例 1と同様にして、比較用のアダプター装置を製 造した。このアダプター装置における異方導電性シートは、導電路形成部の厚みが 1 50mm,絶縁部の厚みが 100 m、導電路形成部の最小の離間距離が 30 m (最 小の中心間距離が 90 m)である。また、導電路形成部は絶縁部の表面力も突出し ており、導電路形成部の突出高さが 50 mであり、導電路形成部における導電性粒 子の割合は体積分率で 36%であった。 A comparative adapter device was manufactured in the same manner as in Comparative Example 1 except that the amount of conductive particles used was changed from 63 parts by weight to 51 parts by weight in the preparation of the conductive elastomer material. The anisotropic conductive sheet in this adapter device has a thickness of the conductive path forming part of 150 mm, an insulating part of 100 m, a minimum separation distance of the conductive path forming part of 30 m (the minimum center-to-center distance is 90 m). m). In addition, the conductive path forming part has a protruding surface force of the insulating part, the protruding height of the conductive path forming part is 50 m, and the proportion of conductive particles in the conductive path forming part is 36% in volume fraction. It was.
[0084] 〈比較例 3〉 <Comparative Example 3>
導電性エラストマ一材料の調製において導電性粒子の使用量を 63重量部から 84 重量部に変更したこと以外は比較例 1と同様にして、比較用のアダプター装置を製 造した。このアダプター装置における異方導電性シートは、導電路形成部の厚みが 1 50mm,絶縁部の厚みが 100 m、導電路形成部の最小の離間距離が 30 m (最 小の中心間距離が 90 m)である。また、導電路形成部は絶縁部の表面力も突出し ており、導電路形成部の突出高さが 50 mであり、導電路形成部における導電性粒 子の割合は体積分率で 60%であった。 An adapter device for comparison was manufactured in the same manner as in Comparative Example 1 except that the amount of conductive particles used was changed from 63 parts by weight to 84 parts by weight in the preparation of the conductive elastomer material. The anisotropic conductive sheet in this adapter device has a thickness of the conductive path forming part of 150 mm, an insulating part of 100 m, a minimum separation distance of the conductive path forming part of 30 m (the minimum center-to-center distance is 90 m). m). In addition, the conductive path forming part has a protruding surface force of the insulating part, the protruding height of the conductive path forming part is 50 m, and the proportion of conductive particles in the conductive path forming part is 60% in volume fraction. It was.
[0085] 〈比較例 4〉 <Comparative Example 4>
導電性エラストマ一材料の調製において導電性粒子の使用量を 63重量部から 86 重量部に変更したこと以外は比較例 1と同様にして、比較用のアダプター装置を製
造した。このアダプター装置における異方導電性シートは、導電路形成部の厚みが 1 50mm,絶縁部の厚みが 100 m、導電路形成部の最小の離間距離が 30 m (最 小の中心間距離が 90 m)である。また、導電路形成部は絶縁部の表面力も突出し ており、導電路形成部の突出高さが 50 mであり、導電路形成部における導電性粒 子の割合は体積分率で 61 %であった。 A comparative adapter device was manufactured in the same manner as in Comparative Example 1 except that the amount of conductive particles used was changed from 63 parts by weight to 86 parts by weight in the preparation of the conductive elastomer material. Made. The anisotropic conductive sheet in this adapter device has a thickness of the conductive path forming part of 150 mm, an insulating part of 100 m, a minimum separation distance of the conductive path forming part of 30 m (the minimum center-to-center distance is 90 m). m). In addition, the conductive path forming part has a protruding surface force of the insulating part, the protruding height of the conductive path forming part is 50 m, and the proportion of conductive particles in the conductive path forming part is 61% in terms of volume fraction. It was.
[0086] 〔アダプター装置の評価〕 [0086] [Evaluation of adapter device]
実施例 1〜2および比較例 1〜4で得られたアダプター装置にっ 、て、電気抵抗測 定器を用い、導電路形成部の各々をその厚み方向に 5%圧縮した状態で、当該導 電路形成部の表面と当該導電路形成部に電気的に接続された端子電極との間の電 気抵抗 (以下、「導通抵抗」という。)を測定し、この導通抵抗が 0. 1 Ω以下である導 電路形成部の割合を求めた。 Using the adapter devices obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4, the electrical resistance measuring instrument was used, and each of the conductive path forming portions was compressed by 5% in the thickness direction, and the conductors were introduced. The electrical resistance (hereinafter referred to as “conduction resistance”) between the surface of the electrical path forming portion and the terminal electrode electrically connected to the conductive path forming portion is measured, and this conductive resistance is 0.1 Ω or less. The ratio of the conductive path forming part was calculated.
また、実施例 1〜2および比較例 1〜4で得られたアダプター装置について、電気抵 抗測定器を用い、導電路形成部の各々をその厚み方向に 5%圧縮した状態で、互い に隣接する 2つの導電路形成部 (以下、「導電路形成部対」という。)の間の電気抵抗 (以下、「絶縁抵抗」という。)を測定し、この絶縁抵抗が 100Μ Ω以上である導電路 形成部対の割合を求めた。 In addition, the adapter devices obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4 are adjacent to each other in a state where each of the conductive path forming portions is compressed 5% in the thickness direction using an electric resistance measuring device. Measure the electrical resistance (hereinafter referred to as “insulation resistance”) between two conductive path formation parts (hereinafter referred to as “conductive path formation part pair”), and the insulation resistance is 100ΜΩ or more. The ratio of the forming part pair was determined.
以上、結果を表 1に示す。 The results are shown in Table 1.
[0087] [表 1]
[0087] [Table 1]
導通抵抗が 0 . 1 Ω 絶縁抵抗が 1 0 0 M 以下の導電路形成部 Ω以上の導電路形成 の割合 (%) 部対の割合 (%) 実施例 1 1 0 0 1 0 0 実施例 2 1 0 0 1 0 0 比較例 1 9 8 1 0 0 比較例 2 9 6 1 0 0 比較例 3 1 0 0 9 9 比較例 4 1 0 0 9 8 表 1の結果から明らかなように、実施例 1〜2で得られたアダプター装置においては 、全ての導電路形成部に高い導電性が得られ、しかも、全ての導電路形成部につい て、隣接する導電路形成部の間にお ヽて十分な絶縁状態が達成されて ヽることが確 f*i¾ れ 。 Conduction resistance 0.1 Ω Conduction path formation part with insulation resistance of 100 M or less Ratio of formation of conductive path Ω or more (%) Ratio of part pair (%) Example 1 1 0 0 1 0 0 Example 2 1 0 0 1 0 0 Comparative Example 1 9 8 1 0 0 Comparative Example 2 9 6 1 0 0 Comparative Example 3 1 0 0 9 9 Comparative Example 4 1 0 0 9 8 As is apparent from the results in Table 1, the Examples In the adapter device obtained in 1-2, high conductivity is obtained in all the conductive path forming portions, and all the conductive path forming portions are sufficiently between adjacent conductive path forming portions. It is certain that a good insulation state will be achieved.
これに対して、比較例 1〜4で得られたァダフター装置においては、高い導電性を 有する導電路形成部については、これに隣接する導電路形成部との間の絶縁状態 が十分に達成されておらず、一方、隣接する導電路形成部との間の絶縁状態が十 分に達成された導電路形成部については、高い導電性が得られず、従って、全ての 導電路形成部について、高い導電性を有し、かつ、隣接する導電路形成部との間の 絶縁状態が十分に達成されたアダプター装置が得られな力つた。
On the other hand, in the adapter device obtained in Comparative Examples 1 to 4, the insulation state between the conductive path forming part adjacent to the conductive path forming part having high conductivity is sufficiently achieved. On the other hand, high conductivity is not obtained with respect to the conductive path forming part in which the insulation state between the adjacent conductive path forming parts is sufficiently achieved. Therefore, for all the conductive path forming parts, An adapter device having high electrical conductivity and sufficiently achieving an insulation state between adjacent conductive path forming portions could not be obtained.