[go: up one dir, main page]

JP2007087709A - Anisotropic conductive connector and manufacturing method thereof, adapter device and circuit device electrical inspection device - Google Patents

Anisotropic conductive connector and manufacturing method thereof, adapter device and circuit device electrical inspection device Download PDF

Info

Publication number
JP2007087709A
JP2007087709A JP2005273721A JP2005273721A JP2007087709A JP 2007087709 A JP2007087709 A JP 2007087709A JP 2005273721 A JP2005273721 A JP 2005273721A JP 2005273721 A JP2005273721 A JP 2005273721A JP 2007087709 A JP2007087709 A JP 2007087709A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive
path forming
conductive path
connector
anisotropic conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005273721A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Kimura
潔 木村
Fujio Hara
富士雄 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP2005273721A priority Critical patent/JP2007087709A/en
Publication of JP2007087709A publication Critical patent/JP2007087709A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)

Abstract

【課題】 電極のピッチが微小で高密度に配置されていても、電極間の所要の絶縁性が確保され、所要の電気的接続が確実に達成される異方導電性コネクターおよびその製造方法、アダプター装置並びに回路装置の電気的検査装置を提供する。
【解決手段】 本発明の異方導電性コネクターは、厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁されてなる弾性異方導電膜を有し、導電路形成部のみに紫外線吸収物質が含有されている。導電路形成部は、紫外線吸収物質を含有する導電性エラストマー層を、紫外線レーザーによってレーザー加工することによって得られる。絶縁部は、導電路形成部の間に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料よりなる絶縁部用材料層を形成して硬化処理することによって得られる。
【選択図】 図8
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic conductive connector and a method for manufacturing the same, in which a required insulation between electrodes is ensured and a required electrical connection is reliably achieved even if the pitch of the electrodes is minute and arranged at a high density. An adapter device and an electrical inspection device for a circuit device are provided.
An anisotropic conductive connector of the present invention has an elastic anisotropic conductive film in which a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction are insulated from each other by an insulating portion, and ultraviolet rays are formed only on the conductive path forming portion. Contains absorbent material. The conductive path forming part can be obtained by laser processing a conductive elastomer layer containing an ultraviolet absorbing substance with an ultraviolet laser. The insulating part is obtained by forming an insulating part material layer made of a polymer substance-forming material that is cured and becomes an elastic polymer substance between the conductive path forming parts and performing a curing process.
[Selection] Figure 8

Description

本発明は、例えばプリント回路基板などの回路装置の電気的検査に好適に用いることができる異方導電性コネクターおよびその製造方法、この異方導電性コネクターを具えたアダプター装置並びにこのアダプター装置を具えた回路装置の電気的検査装置に関するものである。   The present invention relates to an anisotropic conductive connector that can be suitably used for electrical inspection of a circuit device such as a printed circuit board, a method for manufacturing the same, an adapter device including the anisotropic conductive connector, and an adapter device including the adapter device. The present invention relates to an electrical inspection apparatus for circuit devices.

一般に集積回路装置、その他の電子部品などを構成するまたは搭載するための回路基板については、電子部品などを組み立てる以前に或いは電子部品などを搭載する以前に、当該回路基板の配線パターンが所期の性能を有することを確認するためにその電気的特性を検査することが必要である。
従来、回路基板の電気的検査を実行する方法としては、縦横に並ぶ格子点位置に従って複数の検査電極が配置されてなる検査電極装置と、この検査電極装置の検査電極に検査対象である回路基板の被検査電極を電気的に接続するアダプターとを組み合わせて用いる方法などが知られている。この方法において用いられるアダプターは、ピッチ変換ボードと称されるプリント配線板よりなるものである。
このアダプターとしては、一面に検査対象である回路基板の被検査電極に対応するパターンに従って配置された複数の接続用電極を有し、他面に検査電極装置の検査電極と同一のピッチの格子点位置に配置された複数の端子電極を有するもの、一面に検査対象である回路基板の被検査電極に対応するパターンに従って配置された、電流供給用接続用電極および電圧測定用接続用電極よりなる複数の接続用電極対を有し、他面に検査電極装置の検査電極と同一のピッチの格子点位置に配置された複数の端子電極を有するものなどが知られており、前者のアダプターは、例えば回路基板における各回路のオープン・ショート試験などに用いられ、後者のアダプターは、回路基板における各回路の電気抵抗測定試験に用いられている。
而して、回路基板の電気的検査においては、一般に、検査対象である回路基板とアダプターとの安定な電気的接続を達成するために、検査対象である回路基板とアダプターとの間に、コネクターとして異方導電性エラストマーシートを介在させることが行われている。
In general, for a circuit board for configuring or mounting an integrated circuit device or other electronic component, the wiring pattern of the circuit board is expected before the electronic component is assembled or before the electronic component is mounted. It is necessary to inspect its electrical characteristics to confirm that it has performance.
Conventionally, as a method of performing an electrical inspection of a circuit board, a test electrode device in which a plurality of test electrodes are arranged according to lattice point positions arranged vertically and horizontally, and a circuit board to be inspected on the test electrodes of this test electrode device A method of using a combination with an adapter for electrically connecting the electrodes to be inspected is known. The adapter used in this method is a printed wiring board called a pitch conversion board.
This adapter has a plurality of connection electrodes arranged in accordance with a pattern corresponding to the inspection target electrode of the circuit board to be inspected on one surface, and a lattice point having the same pitch as the inspection electrode of the inspection electrode device on the other surface. A plurality of terminals having a plurality of terminal electrodes arranged at positions, and comprising a current supply connection electrode and a voltage measurement connection electrode arranged in accordance with a pattern corresponding to an electrode to be inspected on a circuit board to be inspected on one side Are known, and the other adapter has, for example, a plurality of terminal electrodes arranged at lattice point positions at the same pitch as the inspection electrodes of the inspection electrode device on the other surface. It is used for an open / short test of each circuit on a circuit board, and the latter adapter is used for an electrical resistance measurement test for each circuit on the circuit board.
Therefore, in the electrical inspection of a circuit board, generally, in order to achieve a stable electrical connection between the circuit board to be inspected and the adapter, a connector is provided between the circuit board to be inspected and the adapter. As an example, an anisotropic conductive elastomer sheet is interposed.

この異方導電性エラストマーシートは、厚さ方向にのみ導電性を示すもの、あるいは加圧されたときに厚さ方向にのみ導電性を示す多数の加圧導電性導電部を有するものである。
このような異方導電性エラストマーシートとしては、従来、種々の構造のものが知られており、その代表的な例としては、金属粒子をエラストマー中に均一に分散して得られるもの(例えば特許文献1参照。)、導電性磁性金属粒子をエラストマー中に不均一に分散させることにより、厚み方向に伸びる多数の導電路形成部と、これらを相互に絶縁する絶縁部とが形成されてなるもの(例えば特許文献2参照。)、導電路形成部の表面と絶縁部との間に段差が形成されたもの(例えば特許文献3参照。)などが挙げられる。
そして、配置ピッチの小さい被検査電極を有する回路基板に対しては、当該回路基板の被検査電極のパターンに対応するパターンに従って導電路形成部が形成されてなる異方導電性エラストマーシートが、高い接続信頼性が得られる点で好ましい。
This anisotropically conductive elastomer sheet has conductivity only in the thickness direction, or has a number of pressurized conductive portions that show conductivity only in the thickness direction when pressed.
As such an anisotropically conductive elastomer sheet, those having various structures are conventionally known, and typical examples thereof are those obtained by uniformly dispersing metal particles in an elastomer (for example, patents). Reference 1), in which conductive magnetic metal particles are non-uniformly dispersed in an elastomer to form a number of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate them from each other. (For example, refer to Patent Document 2), and those in which a step is formed between the surface of the conductive path forming portion and the insulating portion (for example, refer to Patent Document 3).
For a circuit board having electrodes to be inspected with a small arrangement pitch, an anisotropic conductive elastomer sheet in which a conductive path forming portion is formed according to a pattern corresponding to the pattern of the electrodes to be inspected on the circuit board is high. This is preferable in that connection reliability can be obtained.

然るに、このような異方導電性エラストマーシートは、それ自体が単独の製品として製造され、また単独で取り扱われるものであって、電気的接続作業においてはアダプターおよび回路基板に対して特定の位置関係をもって保持固定することが必要である。
しかしながら、独立した異方導電性エラストマーシートを利用して回路基板の電気的接続を達成する手段においては、検査対象である回路基板における被検査電極の配列ピッチ(以下「電極ピッチ」という。) 、すなわち互いに隣接する被検査電極の中心間距離が小さくなるに従って異方導電性エラストマーシートの位置合わせおよび保持固定が困難となる、という問題点がある。
また、一旦は所望の位置合わせおよび保持固定が実現された場合においても、温度変化による熱履歴を受けた場合などには、熱膨張および熱収縮による応力の程度が、検査対象である回路基板を構成する材料と異方導電性エラストマーシートを構成する材料との間で大きく異なるため、電気的接続状態が変化して安定な接続状態が維持されない、という問題点がある。
そして、最近においては、上記の問題を解決するために、異方導電性エラストマーシートの周縁部が金属よりなるフレーム板によって支持されてなる異方導電性コネクターが提案されている(例えば特許文献4参照。)。
However, such an anisotropically conductive elastomer sheet is manufactured as a single product and handled alone, and has a specific positional relationship with respect to the adapter and the circuit board in electrical connection work. It is necessary to hold and fix.
However, in the means for achieving the electrical connection of the circuit board using an independent anisotropic conductive elastomer sheet, the arrangement pitch of the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected (hereinafter referred to as “electrode pitch”), That is, there is a problem in that it becomes difficult to align and hold and fix the anisotropic conductive elastomer sheet as the distance between the centers of the electrodes to be inspected adjacent to each other decreases.
Even when the desired alignment and holding / fixing are realized once, when a thermal history due to a temperature change is received, the degree of stress due to thermal expansion and contraction is determined by the circuit board to be inspected. There is a problem in that since the constituent material and the material constituting the anisotropic conductive elastomer sheet are greatly different, the electrical connection state is changed and a stable connection state is not maintained.
And recently, in order to solve the above-mentioned problem, an anisotropic conductive connector in which the peripheral portion of the anisotropic conductive elastomer sheet is supported by a frame plate made of metal has been proposed (for example, Patent Document 4). reference.).

このような異方導電性コネクターは、例えば次のようにして製造される。
先ず、図37に示すような構成の金型を用意する。この金型は、基板81上に、例えば検査対象である回路基板の被検査電極と同一のパターンに従って強磁性体部82が配置されると共に、当該強磁性体部82以外の部分に非磁性体部83が配置されてなる一方の型板(以下、「上型」という。)80と、基板86上に、検査対象である回路基板の被検査電極と対掌のパターンに従って強磁性体部87が配置されると共に、当該強磁性体部87以外の部分に非磁性体部88が配置されてなる他方の型板(以下、「下型」という。)85とにより構成されている。
そして、この金型内に、図38に示すように、開口91を有するフレーム板90を配置すると共に、このフレーム板90の開口91を塞ぐよう異方導電性エラストマー用材料層95Aを形成する。この異方導電性エラストマー用材料層95Aは、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に磁性を示す導電性粒子Pが含有されてなるものである。
次いで、上型80の上面および下型85の下面に一対の電磁石(図示省略)を配置し、この電磁石を作動させることにより、上型80の強磁性体部82からこれに対応する下型85の強磁性体部87に向かう方向に平行磁場を作用させる。このとき、上型80の強磁性体部82および下型85の強磁性体部87の各々が磁極として作用するため、上型80の強磁性体部82と下型85の強磁性体部87との間の領域には、それ以外の領域よりも大きい強度の磁場が作用する。その結果、異方導電性エラストマー用材料層95Aにおいては、当該異方導電性エラストマー用材料層95A中に分散されていた導電性粒子Pが、上型80の強磁性体部82と下型85の強磁性体部87との間に位置する部分に向かって移動して当該部分に集合し、更に厚み方向に並ぶよう配向する。
この状態で、異方導電性エラストマー用材料層95Aに対して例えば加熱による硬化処理を行うことにより、図39に示すように、導電性粒子Pが含有されてなる厚み方向に伸びる多数の導電路形成部96とこれらを相互に絶縁する絶縁部97とよりなる異方導電性エラストマーシート95が、フレーム板90に支持されてなる異方導電性コネクターが製造される。
Such an anisotropic conductive connector is manufactured as follows, for example.
First, a mold having a configuration as shown in FIG. 37 is prepared. In this mold, a ferromagnetic part 82 is arranged on a substrate 81 in accordance with the same pattern as, for example, an electrode to be inspected of a circuit board to be inspected, and a non-magnetic substance is provided in a part other than the ferromagnetic part 82. The ferromagnetic body portion 87 is placed on one template (hereinafter referred to as “upper die”) 80 in which the portion 83 is disposed and on the substrate 86 according to the pattern of the electrodes to be inspected and the palms of the circuit board to be inspected. And the other template (hereinafter referred to as “lower mold”) 85 in which a non-magnetic part 88 is arranged in a part other than the ferromagnetic part 87.
Then, as shown in FIG. 38, a frame plate 90 having an opening 91 is disposed in the mold, and an anisotropic conductive elastomer material layer 95A is formed so as to close the opening 91 of the frame plate 90. This anisotropic conductive elastomer material layer 95A is formed by containing conductive particles P exhibiting magnetism in a liquid polymer material-forming material that is cured to become an elastic polymer material.
Next, a pair of electromagnets (not shown) are arranged on the upper surface of the upper mold 80 and the lower surface of the lower mold 85, and the electromagnet is operated, so that the lower mold 85 corresponding to the lower mold 85 corresponds to this. A parallel magnetic field is applied in the direction toward the ferromagnetic body portion 87 of the. At this time, each of the ferromagnetic body portion 82 of the upper mold 80 and the ferromagnetic body section 87 of the lower mold 85 acts as a magnetic pole, and therefore, the ferromagnetic body section 82 of the upper mold 80 and the ferromagnetic body section 87 of the lower mold 85. A magnetic field having a larger strength than the other regions acts on the region between the two regions. As a result, in the anisotropic conductive elastomer material layer 95 </ b> A, the conductive particles P dispersed in the anisotropic conductive elastomer material layer 95 </ b> A are converted into the ferromagnetic part 82 of the upper mold 80 and the lower mold 85. It moves toward the part located between the ferromagnetic part 87 and gathers in the part, and further aligns in the thickness direction.
In this state, by performing, for example, a curing treatment by heating on the anisotropic conductive elastomer material layer 95A, a large number of conductive paths extending in the thickness direction containing the conductive particles P as shown in FIG. An anisotropic conductive connector is manufactured in which an anisotropic conductive elastomer sheet 95 composed of a forming portion 96 and an insulating portion 97 that insulates them from each other is supported by a frame plate 90.

このような異方導電性コネクターによれば、回路基板の電気的検査において、回路基板に対する異方導電性エラストマーシートの位置合わせ作業を容易に行うことができ、また、異方導電性エラストマーシートの熱膨張をフレーム板によって規制することができるので、温度変化による熱履歴などの環境の変化に対しても良好な電気的接続状態が安定に維持され、従って高い接続信頼性が得られる。   According to such an anisotropic conductive connector, it is possible to easily align the anisotropic conductive elastomer sheet with respect to the circuit board in the electrical inspection of the circuit board. Since the thermal expansion can be regulated by the frame plate, a favorable electrical connection state is stably maintained against environmental changes such as thermal history due to temperature changes, and thus high connection reliability can be obtained.

しかしながら、上記の異方導電性コネクターにおいては、以下のような問題がある。
電子部品を構成または搭載するための回路基板としては、その電極が例えば矩形の四辺に沿って枠状に配置されてなるものが知られている。而して、このような回路基板の電気的検査を行うためには、導電路形成部96が矩形の四辺に沿って枠状に配置されてなる異方導電性エラストマーシート95を有する異方導電性コネクターを用いることが必要である。然るに、このような異方導電性エラストマーシート95は、導電路形成部96に囲まれた中央部分がすべて絶縁部97となるため、当該異方導電性エラストマーシート95の形成において、異方導電性エラストマー用材料層95Aの中央部分に存在する導電性粒子についてはその移動距離が極めて長いものとなる結果、当該導電性粒子を導電路形成部となるべき部分に確実に集合させることは困難である。そのため、得られる導電路形成部96には、所要の量の導電性粒子が充填されず、しかも、絶縁部97には、相当な量の導電性粒子が残存するため、所期の異方導電性エラストマーシートを確実に形成することができない。
However, the anisotropic conductive connector has the following problems.
As a circuit board for configuring or mounting an electronic component, one in which electrodes are arranged in a frame shape along, for example, four sides of a rectangle is known. Thus, in order to perform an electrical inspection of such a circuit board, the anisotropic conductive film having the anisotropic conductive elastomer sheet 95 in which the conductive path forming portion 96 is arranged in a frame shape along the four sides of the rectangle. It is necessary to use a sex connector. However, in such an anisotropic conductive elastomer sheet 95, since the central portion surrounded by the conductive path forming portion 96 is all the insulating portion 97, the anisotropic conductive elastomer sheet 95 is formed in the anisotropic conductive elastomer sheet 95. As for the conductive particles existing in the central portion of the elastomer material layer 95A, the moving distance becomes extremely long, and as a result, it is difficult to reliably gather the conductive particles in the portion to be the conductive path forming portion. . For this reason, the obtained conductive path forming portion 96 is not filled with a required amount of conductive particles, and a considerable amount of conductive particles remain in the insulating portion 97. A reliable elastomer sheet cannot be formed reliably.

また、現在、集積回路装置においては、その高機能化、高容量化に伴って電極数が増加し、電極の配置ピッチすなわち隣接する電極の中心間距離が小さくなって高密度化が一層推進される傾向にある。従って、このような集積回路装置を構成または搭載するための回路基板に対して電気的検査を行う場合には、導電路形成部のピッチが小さくて高密度に配置された異方導電性コネクターを用いることが必要である。
而して、このような異方導電性コネクターの製造においては、当然のことながら強磁性体部82,87が極めて小さいピッチで配置された上型80および下型85を用いることが必要である。
In addition, in integrated circuit devices, the number of electrodes has increased with the increase in functionality and capacity, and the arrangement pitch of electrodes, that is, the distance between the centers of adjacent electrodes has decreased, further increasing the density. Tend to. Therefore, when an electrical inspection is performed on a circuit board for configuring or mounting such an integrated circuit device, anisotropic conductive connectors arranged at high density with a small pitch of the conductive path forming portions are provided. It is necessary to use it.
Thus, in manufacturing such an anisotropic conductive connector, it is naturally necessary to use the upper mold 80 and the lower mold 85 in which the ferromagnetic portions 82 and 87 are arranged at an extremely small pitch. .

然るに、このような上型80および下型85を用い、上述のようにして異方導電性エラストマーシート95を形成する場合には、図40に示すように、上型80および下型85の各々において、或る強磁性体部82a,87aとこれに隣接する強磁性体部82b,87bとの間の離間距離が小さいため、上型80の強磁性体部82aからこれに対応する下型85の強磁性体部87aに向かう方向(矢印Xで示す)のみならず、例えば上型80の強磁性体部82aからこれに対応する下型85の強磁性体部87aに隣接する強磁性体部87bに向かう方向(矢印Yで示す)にも磁場が作用することとなる。そのため、異方導電性エラストマー用材料層95Aにおいて、導電性磁性体粒子を、上型80の強磁性体部82aとこれに対応する下型85の強磁性体部87aとの間に位置する部分に集合させることが困難となり、上型80の強磁性体部82aと下型85の強磁性体部87bとの間に位置する部分にも導電性磁性体粒子が集合してしまい、また、導電性粒子を異方導電性エラストマー用材料層95Aの厚み方向に十分に配向させることが困難となり、その結果、所期の導電路形成部および絶縁部を有する異方導電性コネクターが得られない。   However, when the anisotropic conductive elastomer sheet 95 is formed using the upper mold 80 and the lower mold 85 as described above, each of the upper mold 80 and the lower mold 85 is formed as shown in FIG. In FIG. 5, since the separation distance between a certain ferromagnetic part 82a, 87a and the adjacent ferromagnetic parts 82b, 87b is small, the lower part 85 corresponding to the lower part 85 corresponds to the ferromagnetic part 82a of the upper mold 80. In addition to the direction toward the ferromagnetic part 87a (indicated by the arrow X), for example, the ferromagnetic part adjacent to the ferromagnetic part 87a of the lower mold 85 corresponding to the ferromagnetic part 82a of the upper mold 80, for example. The magnetic field also acts in the direction toward 87b (indicated by arrow Y). Therefore, in the anisotropic conductive elastomer material layer 95A, the conductive magnetic particles are located between the ferromagnetic part 82a of the upper die 80 and the corresponding ferromagnetic part 87a of the lower die 85. It becomes difficult to collect the conductive magnetic particles in the portion located between the ferromagnetic body portion 82a of the upper mold 80 and the ferromagnetic body section 87b of the lower mold 85, and the conductive It is difficult to sufficiently orient the conductive particles in the thickness direction of the anisotropic conductive elastomer material layer 95A, and as a result, an anisotropic conductive connector having a desired conductive path forming portion and insulating portion cannot be obtained.

また、異方導電性エラストマーシートの形成においては、前述したように、上型80および下型85の2つの型板が必要である。これらの型板は、例えば検査対象である回路基板に応じて個別的に製造されるものであり、また、その製造工程が煩雑なものであるため、異方導電性コネクターの製造コストが極めて高いものとなり、延いては回路装置の検査コストの増大を招く。   Further, in forming the anisotropic conductive elastomer sheet, as described above, two mold plates of the upper mold 80 and the lower mold 85 are necessary. These templates are individually manufactured according to the circuit board to be inspected, for example, and the manufacturing process is complicated, so that the manufacturing cost of the anisotropic conductive connector is extremely high. As a result, the inspection cost of the circuit device is increased.

このような問題を解決するため、支持板上に支持された、導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる導電性エラストマー層を、炭酸ガスレーザーによってレーザー加工して成形することにより、目的とするパターンに従って配置された複数の導電路形成部を形成し、これらの導電路形成部の間に絶縁部を形成する方法が提案されている(特許文献5参照。)。
しかしながら、このような方法においては、以下のような問題があることが判明した。(1)炭酸ガスレーザーによるレーザー加工は、被加工物にレーサー光を照射することにより、当該被加工物におけるレーザー光が照射された部分を局部的に加熱して焼失させる熱的加工である。然るに、このようなレーザー加工においては、被加工物である導電性エラストマー層を形成する弾性高分子物質を完全に焼失させることができず、その結果、支持板上における隣接する導電路形成部間には、炭素物質の残渣が生じる。そのため、この状態で、導電路形成部の間に絶縁部を形成する場合には、当該絶縁部の表面に炭素物質の残渣が転写されることにより、隣接する導電路形成部間の電気抵抗が低下する結果、所要の絶縁性を確保することが困難となる。
(2)高い導電性を有する異方導電性エラストマーシートを得るためには、導電性粒子が高い割合で含有された導電路形成部を形成することが肝要である。一方、高い凹凸吸収性を有する異方導電性エラストマーシートを得るためには、厚みの大きい導電路形成部を形成することが肝要である。
而して、上記の製造方法において、導電性粒子が高い割合で含有された厚みの大きい導電路形成部を形成するためには、導電性粒子が高い割合で含有された厚みの大きい導電性エラストマー層を形成することが必要となる。
然るに、このような導電性エラストマー層は、レーザー加工によって成形しにくいものであるため、所期の導電路形成部を得ることが困難である。
In order to solve such problems, a conductive elastomer layer supported on a support plate and containing conductive particles oriented in a thickness direction is formed by laser processing with a carbon dioxide laser. Thus, there has been proposed a method of forming a plurality of conductive path forming portions arranged according to a target pattern and forming an insulating portion between these conductive path forming portions (see Patent Document 5).
However, it has been found that such a method has the following problems. (1) Laser processing by a carbon dioxide gas laser is thermal processing in which a portion of the workpiece irradiated with the laser light is locally heated and burned by irradiating the workpiece with a laser beam. However, in such laser processing, the elastic polymer material that forms the conductive elastomer layer, which is the workpiece, cannot be completely burned down, and as a result, between adjacent conductive path forming portions on the support plate. In this case, a carbon material residue is generated. Therefore, in this state, when an insulating portion is formed between the conductive path forming portions, the carbon material residue is transferred to the surface of the insulating portion, so that the electrical resistance between the adjacent conductive path forming portions is reduced. As a result, it becomes difficult to ensure the required insulation.
(2) In order to obtain an anisotropic conductive elastomer sheet having high conductivity, it is important to form a conductive path forming portion containing a high proportion of conductive particles. On the other hand, in order to obtain an anisotropic conductive elastomer sheet having high unevenness absorbability, it is important to form a conductive path forming portion having a large thickness.
Thus, in the above manufacturing method, in order to form a conductive path forming part having a large thickness containing conductive particles, a conductive elastomer having a large thickness containing conductive particles at a high rate. It is necessary to form a layer.
However, since such a conductive elastomer layer is difficult to be molded by laser processing, it is difficult to obtain a desired conductive path forming portion.

特開昭51−93393号公報JP 51-93393 A 特開昭53−147772号公報Japanese Patent Laid-Open No. 53-147772 特開昭61−250906号公報JP-A-61-250906 特開平11−40224号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-40224 特開2004−342597号公報JP 2004-342597 A

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その第1の目的は、接続すべき電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、隣接する電極間における所要の絶縁性が確保され、当該電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができる異方導電性コネクターおよびその製造方法を提供することにある。
本発明の第2の目的は、検査対象である回路装置の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、隣接する被検査電極間における所要の絶縁性が確保され、当該回路装置について所要の電気的接続を確実に達成することができるアダプター装置を提供することにある。
本発明の第3の目的は、検査対象である回路装置の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所要の電気的検査を確実に実行することができる回路装置の電気的検査装置を提供することにある。
The present invention has been made based on the circumstances as described above, and the first object of the present invention is that even when the electrodes to be connected are arranged with a minute pitch and a high density, An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive connector that can secure required insulation between adjacent electrodes and reliably achieve a required electrical connection to each of the electrodes, and a method of manufacturing the same.
The second object of the present invention is to provide required insulation between adjacent electrodes to be inspected even when the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected are arranged with a small pitch and a high density. Is provided, and an object of the present invention is to provide an adapter device that can reliably achieve a required electrical connection for the circuit device.
The third object of the present invention is to ensure the required electrical inspection of the circuit device even when the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected are arranged with a small pitch and a high density. It is another object of the present invention to provide an electrical inspection device for a circuit device that can be implemented in the present invention.

本発明の異方導電性コネクターは、磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁されてなる弾性異方導電膜を有する異方導電性コネクターにおいて、
前記導電路形成部のみに、紫外線吸収物質が含有されていることを特徴とする。
In the anisotropic conductive connector of the present invention, a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction, which are contained in a state where conductive particles exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction, are insulated from each other by an insulating portion. In an anisotropic conductive connector having an elastic anisotropic conductive film,
Only the conductive path forming part contains an ultraviolet absorbing material.

また、本発明の異方導電性コネクターは、磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁されてなる弾性異方導電膜を有する異方導電性コネクターにおいて、
前記導電路形成部には、紫外線吸収物質が含有されており、
前記導電路形成部は、弾性高分子物質中に、紫外線吸収物質および厚み方向に並ぶよう配向した多数の導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー層を、紫外線レーザーによってレーザー加工することによって得られるものであることを特徴とする。
In the anisotropic conductive connector of the present invention, a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction, which are contained in a state where the conductive particles exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction, are insulated from each other by the insulating portion. In the anisotropic conductive connector having an elastic anisotropic conductive film,
The conductive path forming portion contains an ultraviolet absorbing material,
The conductive path forming portion is obtained by laser processing a conductive elastomer layer containing an ultraviolet absorbing material and a large number of conductive particles oriented in the thickness direction in an elastic polymer material with an ultraviolet laser. It is characterized by that.

また、本発明の異方導電性コネクターは、磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁されてなる弾性異方導電膜を有する異方導電性コネクターにおいて、
前記導電路形成部には、紫外線吸収物質が含有されており、
前記導電路形成部は、弾性高分子物質中に、紫外線吸収物質および厚み方向に並ぶよう配向した多数の導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー層を、紫外線レーザーによってレーザー加工することによって得られるものであり、
前記絶縁部は、前記導電路形成部の間に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料よりなる絶縁部用材料層を形成して硬化処理することによって得られるものであることを特徴とする。
In the anisotropic conductive connector of the present invention, a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction, which are contained in a state where the conductive particles exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction, are insulated from each other by the insulating portion. In the anisotropic conductive connector having an elastic anisotropic conductive film,
The conductive path forming portion contains an ultraviolet absorbing material,
The conductive path forming portion is obtained by laser processing a conductive elastomer layer containing an ultraviolet absorbing material and a large number of conductive particles oriented in the thickness direction in an elastic polymer material with an ultraviolet laser. Is,
The insulating part is obtained by forming and curing a material layer for an insulating part made of a polymer substance forming material that is cured and becomes an elastic polymer substance between the conductive path forming parts. It is characterized by.

本発明の異方導電性コネクターにおいては、紫外線吸収物質が顔料であることが好ましい。
また、本発明の異方導電性コネクターにおいては、開口を有するフレーム板を有し、弾性異方導電膜は、前記フレーム板の開口を塞ぐよう形成されていてもよい。
また、本発明の異方導電性コネクターにおいては、導電性エラストマー層は、支持体上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に紫外線吸収物質および磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー用材料層を形成し、この導電性エラストマー用材料層の表面に、形成すべき導電路形成部のパターンに対応する特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置し、この状態で、当該導電性エラストマー用材料層に対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマー用材料層を硬化処理することによって得られるものであることが好ましい。
In the anisotropic conductive connector of the present invention, the ultraviolet absorbing material is preferably a pigment.
The anisotropic conductive connector of the present invention may have a frame plate having an opening, and the elastic anisotropic conductive film may be formed so as to close the opening of the frame plate.
Further, in the anisotropic conductive connector of the present invention, the conductive elastomer layer is formed on the support, in a liquid polymer material forming material which is cured to become an elastic polymer material, and the conductive material exhibiting an ultraviolet absorbing material and magnetism. A conductive elastomer material layer containing conductive particles is formed, and a metal mask showing magnetism according to a specific pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion to be formed is formed on the surface of the conductive elastomer material layer. In this state, the conductive elastomer material layer is preferably obtained by applying a magnetic field in the thickness direction and curing the conductive elastomer material layer.

本発明の異方導電性コネクターの製造方法は、磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が、絶縁部によって相互に絶縁されてなる弾性異方導電膜を有する異方導電性コネクターを製造する方法であって、
支持体上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に紫外線吸収物質および磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー用材料層を形成し、
この導電性エラストマー用材料層の表面に、形成すべき導電路形成部のパターンに対応する特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置し、この状態で、当該導電性エラストマー用材料層に対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマー用材料層を硬化処理することにより、導電性エラストマー層を形成し、
この導電性エラストマー層を紫外線レーザーによってレーザー加工して前記金属マスクが配置された部分以外の部分を除去することにより、前記支持体上に、前記特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部を形成し、これらの導電路形成部の間に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料よりなる絶縁部用材料層を形成して硬化処理することにより絶縁部を形成する工程を有することを特徴とする。
In the method for manufacturing an anisotropic conductive connector according to the present invention, a plurality of conductive path forming portions extending in a thickness direction, which are contained in a state where conductive particles exhibiting magnetism are aligned so as to be aligned in the thickness direction, are mutually connected by an insulating portion. A method of manufacturing an anisotropic conductive connector having an elastic anisotropic conductive film that is insulated,
On the support, a material layer for a conductive elastomer is formed in which a liquid polymer substance forming material that is cured to become an elastic polymer substance contains an ultraviolet absorbing substance and conductive particles exhibiting magnetism,
A metal mask showing magnetism is arranged on the surface of the conductive elastomer material layer according to a specific pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion to be formed. In addition, the conductive elastomer layer is formed by applying a magnetic field in the thickness direction and curing the material layer for the conductive elastomer.
A plurality of conductive path forming portions arranged in accordance with the specific pattern on the support by removing a portion other than the portion where the metal mask is arranged by laser processing the conductive elastomer layer with an ultraviolet laser. Forming an insulating portion by forming a material layer for an insulating portion made of a polymer material forming material which is cured and becomes an elastic polymer material between these conductive path forming portions and curing the layer. It is characterized by having.

本発明の異方導電性コネクターの製造方法においては、金属箔上に、特定のパターンに従って開口が形成されたレジスト層を形成し、前記金属箔における前記レジスト層の開口から露出した部分の表面に磁性を示す金属によるメッキ処理を施すことにより、当該レジスト層の開口の各々に金属マスクが形成されてなる金属マスク複合体を製造し、この金属マスク複合体を導電性エラストマー用材料層の表面に積重することにより、当該導電性エラストマー用材料層の表面に、前記特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置することが好ましい。   In the method for manufacturing an anisotropic conductive connector according to the present invention, a resist layer having an opening formed in accordance with a specific pattern is formed on a metal foil, and the surface of a portion of the metal foil exposed from the opening of the resist layer is formed. A metal mask composite in which a metal mask is formed in each of the openings of the resist layer is manufactured by plating with a metal exhibiting magnetism, and the metal mask composite is formed on the surface of the conductive elastomer material layer. It is preferable to arrange a metal mask exhibiting magnetism according to the specific pattern on the surface of the conductive elastomer material layer by stacking.

本発明のアダプター装置は、表面に検査すべき回路装置における被検査電極に対応するパターンに従って複数の接続用電極が形成された接続用電極領域を有するアダプター本体と、
このアダプター本体の接続用電極領域上に配置された、当該アダプター本体における接続用電極に対応するパターンに従って形成された複数の導電路形成部を有する、上記の異方導電性コネクターと
を具えてなることを特徴とする。
The adapter device of the present invention has an adapter body having a connection electrode region in which a plurality of connection electrodes are formed in accordance with a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface;
The anisotropic conductive connector having a plurality of conductive path forming portions arranged on the connection electrode region of the adapter main body and formed according to a pattern corresponding to the connection electrode in the adapter main body. It is characterized by that.

また、本発明のアダプター装置は、表面に検査すべき回路装置における被検査電極に対応するパターンに従ってそれぞれ電流供給用および電圧測定用の2つの接続用電極からなる複数の接続用電極対が形成された接続用電極領域を有するアダプター本体と、
このアダプター本体の接続用電極領域上に配置された、当該アダプター本体における接続用電極に対応するパターンに従って形成された複数の導電路形成部を有する、上記の異方導電性コネクターと
を具えてなることを特徴とする。
The adapter device according to the present invention has a plurality of connection electrode pairs each formed of two connection electrodes for current supply and voltage measurement according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface. An adapter body having a connecting electrode region;
The anisotropic conductive connector having a plurality of conductive path forming portions arranged on the connection electrode region of the adapter main body and formed according to a pattern corresponding to the connection electrode in the adapter main body. It is characterized by that.

本発明の回路装置の電気的検査装置は、上記のアダプター装置を具えてなることを特徴とする。   An electrical inspection device for a circuit device according to the present invention comprises the adapter device described above.

本発明の異方導電性コネクターによれば、導電路形成部は、紫外線吸収物質が含有されてなる導電性エラストマー層を、非熱的加工が可能である紫外線レーザーによるレーザー加工によって得られるものであるため、隣接する導電路形成部間に、レーザー加工による炭素物質の残渣が生じることがない。しかも、絶縁部は、導電路形成部を形成したうえで、これらの導電路形成部の間に絶縁部用材料層を形成して硬化処理することにより得られるものであるため、導電性粒子が全く存在しない絶縁部を形成することができる。従って、接続すべき電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、隣接する電極間における所要の絶縁性が確保され、当該電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができる。
また、導電性エラストマー層として、導電性エラストマー用材料層上に、形成すべき導電路形成部の特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置した状態で、当該導電性エラスマー用材料層の厚み方向に磁場を作用させると共に当該導電性エラストマー用材料層を硬化処理することにより得られるものを用いることにより、当該導電性エラストマー層は、金属マスクが配置された部分における導電性粒子が密であり、それ以外の部分における導電性粒子が疎であるため、導電性エラストマー層における金属マスクが配置された部分以外の部分をレーザー加工によって除去することが容易となり、これにより、所期の形態の導電路形成部が確実に得られる。
According to the anisotropic conductive connector of the present invention, the conductive path forming portion is obtained by laser processing with an ultraviolet laser capable of non-thermal processing of a conductive elastomer layer containing an ultraviolet absorbing material. Therefore, there is no carbon material residue caused by laser processing between adjacent conductive path forming portions. Moreover, since the insulating part is obtained by forming a conductive path forming part and then forming an insulating part material layer between these conductive path forming parts and curing the conductive part, the conductive particles are An insulating part that does not exist at all can be formed. Therefore, even if the electrodes to be connected are arranged with a small pitch and a high density, the required insulation between the adjacent electrodes is ensured, and the required electrical properties for each of the electrodes are ensured. Connection can be reliably achieved.
Further, as a conductive elastomer layer, a thickness direction of the conductive elastomer material layer in a state where a metal mask showing magnetism is arranged on the conductive elastomer material layer according to a specific pattern of a conductive path forming portion to be formed. By using what is obtained by applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer and curing the conductive elastomer material layer, the conductive elastomer layer has dense conductive particles in the portion where the metal mask is disposed, Since the conductive particles in the other portions are sparse, it becomes easy to remove the portions other than the portion where the metal mask is disposed in the conductive elastomer layer by laser processing. A formation part is obtained reliably.

本発明の異方導電性コネクターの製造方法によれば、導電性エラストマー層中には、紫外線吸収物質が含有されているため、当該導電性エラストマー層を紫外線レーザーによって容易にレーザー加工することができ、紫外線レーザーを用いることにより、非熱的加工が可能となるため、隣接する導電路形成部間に、レーザー加工による炭素物質の残渣が生じることを回避することができる。
また、導電性エラストマー用材料層上に、形成すべき導電路形成部の特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置した状態で、当該導電性エラスマー用材料層の厚み方向に磁場を作用させると共に当該導電性エラストマー用材料層を硬化処理することにより、得られる導電性エラストマー層は、金属マスクが配置された部分における導電性粒子が密となり、それ以外の部分における導電性粒子が疎となるため、導電性エラストマー層における金属マスクが配置された部分以外の部分をレーザー加工によって除去することが容易となり、これにより、所期の形態の導電路形成部を形成することができる。
また、特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部を形成したうえで、これらの導電路形成部の間に絶縁部用材料層を形成して硬化処理することにより絶縁部を形成するため、導電性粒子が全く存在しない絶縁部を確実に得ることができる。
従って、このような方法によって得られる異方導電性コネクターによれば、接続すべき電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、隣接する電極間における所要の絶縁性が確保され、当該電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができる。
According to the method for manufacturing an anisotropic conductive connector of the present invention, since the conductive elastomer layer contains an ultraviolet absorbing substance, the conductive elastomer layer can be easily laser-processed by an ultraviolet laser. By using an ultraviolet laser, non-thermal processing becomes possible, so that it is possible to avoid the occurrence of carbon material residues due to laser processing between adjacent conductive path forming portions.
In addition, while a metal mask showing magnetism is arranged on the conductive elastomer material layer according to a specific pattern of the conductive path forming portion to be formed, a magnetic field is applied in the thickness direction of the conductive elastomer material layer. By curing the material layer for conductive elastomer, the conductive elastomer layer obtained has dense conductive particles in the portion where the metal mask is arranged, and sparse conductive particles in other portions. Further, it becomes easy to remove a portion other than the portion where the metal mask is disposed in the conductive elastomer layer by laser processing, and thereby, a conductive path forming portion having an intended form can be formed.
In addition, after forming a plurality of conductive path forming portions arranged according to a specific pattern, an insulating portion material layer is formed between these conductive path forming portions, and the insulating portion is formed by curing. Thus, it is possible to reliably obtain an insulating part in which no conductive particles are present.
Therefore, according to the anisotropic conductive connector obtained by such a method, even if the electrodes to be connected are arranged with a minute pitch and a high density, the required insulation between adjacent electrodes is obtained. The required electrical connection can be reliably achieved for each of the electrodes.

本発明のアダプター装置によれば、上記の異方導電性コネクターを具えてなるため、検査対象である回路装置の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、隣接する被検査電極間における所要の絶縁性が確保され、当該回路装置について所要の電気的接続を確実に達成することができる。   According to the adapter device of the present invention, since the anisotropic conductive connector is provided, the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected are arranged with a small pitch and a high density. In addition, the required insulation between the adjacent electrodes to be inspected is ensured, and the required electrical connection can be reliably achieved for the circuit device.

本発明の回路装置の電気的検査装置によれば、上記のアダプター装置を具えてなるため、検査対象である回路装置の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置について所要の電気的検査を確実に実行することができる。   According to the electrical inspection device for a circuit device of the present invention, since the adapter device is provided, the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected are arranged with a small pitch and a high density. Even if it exists, a required electrical test | inspection can be reliably performed about the said circuit apparatus.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
〈異方導電性コネクター〉
図1は、本発明に係る異方導電性コネクターの第1の例における構成を示す説明用断面図であり、図2は、図1に示す異方導電性コネクターの要部を拡大して示す説明用断面図である。この異方導電性コネクター10においては、厚み方向に伸びる複数の導電路形成部16が特定のパターンに従って配置され、隣接する導電路形成部16の間には、これらを相互に絶縁する絶縁部17が導電路形成部16に一体的に接着した状態で形成され、これにより,弾性異方導電膜15が形成されている。導電路形成部16の特定のパターンは、接続すべき電極例えば検査対象である回路装置の被検査電極のパターンに対応するパターンである。
図示の例において、導電路形成部16は絶縁部17の両面から突出するよう形成されている。このような例によれば、加圧による圧縮の程度が絶縁部17より導電路形成部16において大きいために十分に抵抗値の低い導電路が確実に導電路形成部16に形成され、これにより、加圧力の変化乃至変動に対して抵抗値の変化を小さくすることができ、その結果、異方導電性コネクター10に作用される加圧力が不均一であっても、各導電路形成部16間における導電性のバラツキの発生を防止することができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
<Anisotropic conductive connector>
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a first example of an anisotropic conductive connector according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the anisotropic conductive connector shown in FIG. It is sectional drawing for description. In the anisotropic conductive connector 10, a plurality of conductive path forming portions 16 extending in the thickness direction are arranged according to a specific pattern, and an insulating portion 17 that insulates them from each other between adjacent conductive path forming portions 16. Is formed in a state of being integrally bonded to the conductive path forming portion 16, whereby the elastic anisotropic conductive film 15 is formed. The specific pattern of the conductive path forming portion 16 is a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be connected, for example, an inspection target electrode of a circuit device to be inspected.
In the illustrated example, the conductive path forming portion 16 is formed so as to protrude from both surfaces of the insulating portion 17. According to such an example, since the degree of compression by pressurization is greater in the conductive path forming section 16 than in the insulating section 17, a sufficiently low conductive path is reliably formed in the conductive path forming section 16, thereby The resistance value change can be reduced with respect to the change or fluctuation of the applied pressure. As a result, even if the applied pressure applied to the anisotropic conductive connector 10 is not uniform, each conductive path forming portion 16 It is possible to prevent the occurrence of conductive variation between the two.

導電路形成部16は、絶縁性の弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されて構成されている。これに対し、絶縁部17は、導電性粒子Pを全く含有しない弾性高分子物質により構成されている。導電路形成部16を構成する弾性高分子物質と絶縁部17を構成する弾性高分子物質とは、互いに異なる種類のものであっても同じ種類のものであってもよい。
また、導電路形成部16中には、紫外線吸収物質が含有されている。
The conductive path forming part 16 is configured by containing conductive particles P exhibiting magnetism in an insulating elastic polymer substance so as to be aligned in the thickness direction. On the other hand, the insulating portion 17 is made of an elastic polymer material that does not contain the conductive particles P at all. The elastic polymer material constituting the conductive path forming portion 16 and the elastic polymer material constituting the insulating portion 17 may be of different types or the same type.
The conductive path forming portion 16 contains an ultraviolet absorbing material.

導電路形成部16中に含有される紫外線吸収物質としては、顔料を好適に用いることができる。
かかる顔料としては、後述する紫外線レーザーから照射される波長の紫外線を吸収する性質を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、TiO2 −NiO−Sb2 3 系顔料、TiO2 −BaO−NiO系顔料、TiO2 −Sb2 3 −Cr2 3 系顔料等のTi系顔料、CoO−Al2 3 系顔料、CoO−SnO−MgO系顔料、CoO−Al2 3 −Cr2 3 系顔料、CoO−ZnO系顔料等のCo系顔料、Cu−Ti系顔料、TiO2 −CoO−NiO−ZnO系顔料、Fe2 3 系顔料などの無機顔料、および種々の有機顔料を用いることができる。
導電路形成部16中に含有される紫外線吸収物質の割合は、紫外線吸収物質の種類に応じて適宜設定されるが、通常、導電路形成部16を構成する弾性高分子物質100重量部に対して0.1〜10重量部である。
As the ultraviolet absorbing material contained in the conductive path forming portion 16, a pigment can be suitably used.
Such a pigment is not particularly limited as long as it has a property of absorbing ultraviolet rays having a wavelength irradiated from an ultraviolet laser to be described later. For example, a TiO 2 —NiO—Sb 2 O 3 pigment, TiO 2 is used. -BaO-NiO pigments, Ti pigments such as TiO 2 -Sb 2 O 3 -Cr 2 O 3 pigments, CoO-Al 2 O 3 pigments, CoO-SnO-MgO pigments, CoO-Al 2 O 3 -Cr 2 O 3 pigments, Co pigments such as CoO-ZnO pigments, Cu-Ti pigments, TiO 2 -CoO-NiO-ZnO pigments, inorganic pigments such as Fe 2 O 3 pigments, and various Organic pigments can be used.
The ratio of the ultraviolet absorbing material contained in the conductive path forming portion 16 is appropriately set according to the type of the ultraviolet absorbing material, but is usually 100 parts by weight of the elastic polymer material constituting the conductive path forming portion 16. 0.1 to 10 parts by weight.

導電路形成部16および絶縁部17を構成する弾性高分子物質は、互いに同一のものであっても異なるものであってもよい。
導電路形成部16および絶縁部17を構成する弾性高分子物質としては、架橋構造を有する高分子物質が好ましい。このような弾性高分子物質を得るために用いることのできる硬化性の高分子物質形成材料としては、種々のものを用いることができ、その具体例としては、ポリブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロック共重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体などのブロック共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴムなどが挙げられる。
以上において、異方導電性コネクター10に耐候性が要求される場合には、共役ジエン系ゴム以外のものを用いることが好ましく、特に、成形加工性および電気特性の観点から、シリコーンゴムを用いることが好ましい。
The elastic polymer materials constituting the conductive path forming portion 16 and the insulating portion 17 may be the same as or different from each other.
As the elastic polymer material constituting the conductive path forming portion 16 and the insulating portion 17, a polymer material having a crosslinked structure is preferable. Various materials can be used as the curable polymer substance-forming material that can be used to obtain such an elastic polymer substance. Specific examples thereof include polybutadiene rubber, natural rubber, and polyisoprene rubber. , Conjugated diene rubbers such as styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-butadiene copolymer rubber and hydrogenated products thereof, blocks such as styrene-butadiene-diene block copolymer rubber, styrene-isoprene block copolymer, etc. Examples include copolymer rubber and hydrogenated products thereof, chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, and ethylene-propylene-diene copolymer rubber.
In the above, when the anisotropic conductive connector 10 is required to have weather resistance, it is preferable to use one other than the conjugated diene rubber, and in particular, from the viewpoint of molding processability and electrical characteristics, use silicone rubber. Is preferred.

シリコーンゴムとしては、液状シリコーンゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105 ポアズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型のもの、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのいずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。
また、シリコーンゴムは、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分子量をいう。以下同じ。)が10,000〜40,000のものであることが好ましい。また、得られる導電路形成部16に良好な耐熱性が得られることから、分子量分布指数(標準ポリスチレン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換算数平均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。以下同じ。)が2以下のものが好ましい。
As the silicone rubber, those obtained by crosslinking or condensing liquid silicone rubber are preferable. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and may be any of a condensation type, an addition type, a vinyl group or a hydroxyl group. Good. Specific examples include dimethyl silicone raw rubber, methyl vinyl silicone raw rubber, methyl phenyl vinyl silicone raw rubber, and the like.
The silicone rubber preferably has a molecular weight Mw (referred to as a standard polystyrene-converted weight average molecular weight; the same shall apply hereinafter) of 10,000 to 40,000. Moreover, since favorable heat resistance is acquired in the obtained conductive path formation part 16, it says the value of molecular weight distribution index (ratio Mw / Mn of standard polystyrene conversion weight average molecular weight Mw and standard polystyrene conversion number average molecular weight Mn). The same shall apply hereinafter) is preferably 2 or less.

導電路形成部16に含有される導電性粒子Pとしては、後述する方法により当該粒子を容易に厚み方向に並ぶよう配向させることができることから、磁性を示す導電性粒子が用いられる。このような導電性粒子の具体例としては、鉄、コバルト、ニッケルなどの磁性を有する金属の粒子若しくはこれらの合金の粒子またはこれらの金属を含有する粒子、またはこれらの粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に金、銀、パラジウム、ロジウムなどの導電性の良好な金属のメッキを施したもの、あるいは非磁性金属粒子若しくはガラスビーズなどの無機物質粒子またはポリマー粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に、ニッケル、コバルトなどの導電性磁性金属のメッキを施したものなどが挙げられる。
これらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面に導電性の良好な金のメッキを施したものを用いることが好ましい。
芯粒子の表面に導電性金属を被覆する手段としては、特に限定されるものではないが、例えば化学メッキまたは電解メッキ法、スパッタリング法、蒸着法などが用いられている。
As the conductive particles P contained in the conductive path forming portion 16, magnetic particles are used because the particles can be easily aligned in the thickness direction by a method described later. Specific examples of such conductive particles include magnetic metal particles such as iron, cobalt and nickel, alloy particles thereof, particles containing these metals, or these particles as core particles. The core particles are made by plating the surface of the core particles with a metal having good conductivity such as gold, silver, palladium, rhodium, or non-magnetic metal particles, inorganic particles such as glass beads, or polymer particles. The surface of the particles may be plated with a conductive magnetic metal such as nickel or cobalt.
Among these, it is preferable to use nickel particles as core particles and the surfaces thereof plated with gold having good conductivity.
The means for coating the surface of the core particles with the conductive metal is not particularly limited, and for example, chemical plating or electrolytic plating, sputtering, vapor deposition or the like is used.

導電性粒子Pとして、芯粒子の表面に導電性金属が被覆されてなるものを用いる場合には、良好な導電性が得られることから、粒子表面における導電性金属の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%である。
また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の0.5〜50質量%であることが好ましく、より好ましくは2〜30質量%、さらに好ましくは3〜25質量%、特に好ましくは4〜20質量%である。被覆される導電性金属が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の0.5〜30質量%であることが好ましく、より好ましくは2〜20質量%、さらに好ましくは3〜15質量%である。
When the conductive particles P used are those in which the surface of the core particles is coated with a conductive metal, good conductivity can be obtained. Therefore, the coverage of the conductive metal on the particle surface (the surface area of the core particles) The ratio of the covering area of the conductive metal with respect to is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%.
Further, the coating amount of the conductive metal is preferably 0.5 to 50% by mass of the core particle, more preferably 2 to 30% by mass, further preferably 3 to 25% by mass, and particularly preferably 4 to 20%. % By mass. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is preferably 0.5 to 30% by mass of the core particles, more preferably 2 to 20% by mass, and further preferably 3 to 15%. % By mass.

また、導電性粒子Pの粒子径は、1〜100μmであることが好ましく、より好ましくは2〜50μm、さらに好ましくは3〜30μm、特に好ましくは4〜20μmである。 また、導電性粒子Pの粒子径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好ましく、より好ましくは1.01〜7、さらに好ましくは1.05〜5、特に好ましくは1.1〜4である。
このような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、得られる導電路形成部16は、加圧変形が容易なものとなり、また、当該導電路形成部16において導電性粒子間に十分な電気的接触が得られる。
また、導電性粒子Pの形状は、特に限定されるものではないが、高分子物質形成材料中に容易に分散させることができる点で、球状のもの、星形状のものあるいはこれらが凝集した2次粒子であることが好ましい。
また、導電性粒子Pとして、その表面がシランカップリング剤などのカップリング剤や潤滑剤で処理されたものを適宜用いることができる。カップリング剤や潤滑剤で粒子表面を処理することにより、異方導電性性コネクターの耐久性が向上する。
Moreover, it is preferable that the particle diameter of the electroconductive particle P is 1-100 micrometers, More preferably, it is 2-50 micrometers, More preferably, it is 3-30 micrometers, Most preferably, it is 4-20 micrometers. The particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles P is preferably 1 to 10, more preferably 1.01 to 7, still more preferably 1.05 to 5, and particularly preferably 1.1. ~ 4.
By using the conductive particles satisfying such conditions, the obtained conductive path forming part 16 can be easily deformed under pressure, and sufficient electric current is provided between the conductive particles in the conductive path forming part 16. Contact is obtained.
In addition, the shape of the conductive particles P is not particularly limited, but spherical particles, star-shaped particles, or agglomerated particles 2 can be easily dispersed in the polymer substance-forming material. Secondary particles are preferred.
Further, as the conductive particles P, those whose surfaces are treated with a coupling agent such as a silane coupling agent or a lubricant can be appropriately used. By treating the particle surface with a coupling agent or a lubricant, the durability of the anisotropically conductive connector is improved.

このような導電性粒子Pは、導電路形成部16中に体積分率で15〜45%、好ましくは20〜40%となる割合で含有されていることが好ましい。この割合が過小である場合には、十分に電気抵抗値の小さい導電路形成部16が得られないことがある。一方、この割合が過大である場合には、得られる導電路形成部16は脆弱なものとなりやすく、導電路形成部16として必要な弾性が得られないことがある。   Such conductive particles P are preferably contained in the conductive path forming portion 16 at a volume fraction of 15 to 45%, preferably 20 to 40%. When this ratio is too small, the conductive path forming portion 16 having a sufficiently small electric resistance value may not be obtained. On the other hand, when this ratio is excessive, the obtained conductive path forming portion 16 tends to be fragile, and the elasticity necessary for the conductive path forming portion 16 may not be obtained.

本発明の異方導電性コネクター10において、導電路形成部16は、弾性高分子物質中に、紫外線吸収物質および厚み方向に並ぶよう配向した多数の導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー層を、紫外線レーザーによってレーザー加工することによって得られるものであり、絶縁部17は、導電路形成部16の間に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料よりなる絶縁部用材料層を形成して硬化処理することによって得られるものである。
そして、このような異方導電性コネクター10は、
支持体上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に紫外線吸収物質および磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー用材料層を形成し、
この導電性エラストマー用材料層の表面に、形成すべき導電路形成部のパターンに対応する特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置し、この状態で、当該導電性エラストマー用材料層に対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマー用材料層を硬化処理することにより、導電性エラストマー層を形成し、
この導電性エラストマー層を紫外線レーザーによってレーザー加工して前記金属マスクが配置された部分以外の部分を除去することにより、前記支持体上に、前記特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部16を形成し、これらの導電路形成部16の間に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料よりなる絶縁部用材料層を形成して硬化処理することにより絶縁部を形成することによって得られるものであることか好ましい。
以下、異方導電性コネクター10の製造方法を具体的に説明する。
In the anisotropic conductive connector 10 of the present invention, the conductive path forming portion 16 includes a conductive elastomer layer in which an elastic polymer material contains an ultraviolet absorbing material and a large number of conductive particles oriented in the thickness direction. Is obtained by laser processing with an ultraviolet laser, and the insulating portion 17 is a material for an insulating portion made of a polymer material forming material that is cured between the conductive path forming portions 16 to become an elastic polymer material. It is obtained by forming a layer and subjecting it to a curing treatment.
And such an anisotropically conductive connector 10 is
On the support, a material layer for a conductive elastomer is formed in which a liquid polymer substance forming material that is cured to become an elastic polymer substance contains an ultraviolet absorbing substance and conductive particles exhibiting magnetism,
A metal mask showing magnetism is arranged on the surface of the conductive elastomer material layer according to a specific pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion to be formed. In addition, the conductive elastomer layer is formed by applying a magnetic field in the thickness direction and curing the material layer for the conductive elastomer.
A plurality of conductive path forming portions arranged in accordance with the specific pattern on the support by removing a portion other than the portion where the metal mask is arranged by laser processing the conductive elastomer layer with an ultraviolet laser. 16 is formed, and between these conductive path forming portions 16, an insulating portion material layer made of a polymer material forming material that is cured to become an elastic polymer material is formed and cured to form an insulating portion. It is preferable that it is obtained by doing.
Hereinafter, a method for manufacturing the anisotropic conductive connector 10 will be specifically described.

《導電性エラストマー層の形成》
先ず、特定のパターンに従って配置された複数の金属マスク18を有する金属マスク複合体18Fを製造する。
具体的に説明すると、図3に示すように、金属箔14上に、フォトリソグラフィーの手法により、形成すべき導電路形成部のパターンすなわち接続すべき電極のパターンに対応する特定のパターンに従って開口19Kが形成されたレジスト層19を形成する。その後、金属箔14におけるレジスト層19の開口19を介して露出した部分の表面に、磁性を示す金属によるメッキ処理を施すことにより、図4に示すように、レジスト層19の開口19Kの各々に金属マスク18を形成する。これにより、金属箔14上に特定のパターンに従って金属マスク18が形成されてなる金属マスク複合体18Fが得られる。
<Formation of conductive elastomer layer>
First, a metal mask composite 18F having a plurality of metal masks 18 arranged according to a specific pattern is manufactured.
More specifically, as shown in FIG. 3, the openings 19K are formed on the metal foil 14 according to a specific pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion to be formed, that is, the pattern of the electrode to be connected, by photolithography. Then, a resist layer 19 is formed. Thereafter, the surface of the portion exposed through the opening 19 of the resist layer 19 in the metal foil 14 is subjected to a plating process with a metal exhibiting magnetism, whereby each of the openings 19K of the resist layer 19 is provided as shown in FIG. A metal mask 18 is formed. As a result, a metal mask composite 18F is obtained in which the metal mask 18 is formed on the metal foil 14 according to a specific pattern.

以上において、金属箔14としては、銅、ニッケルなどを用いることができる。また、金属箔は、樹脂フィルム上に積層されたものであってもよい。
金属箔14の厚みは、0.05〜2μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜1μmである。この厚みが過小である場合には、均一な薄層が形成されず、メッキ電極として不適なものとなることがある。一方、この厚みが過大である場合には、例えばエッチングによって除去することが困難となることがある。
また、金属マスク18の厚みは、1μm以上であることが好ましく、より好ましく1〜100μm、特に好ましくは5〜40μmである。この厚みが過小である場合には、後述するレーザー加工におけるマスクとして利用することが困難となることがある。
金属マスク18を構成する金属としては、磁性を示すものが用いられ、その具体例としては、ニッケル、コバルトまたはこれらの合金などが挙げられる。
レジスト層19の厚みは、形成すべき金属マスク18の厚みに応じて設定される。
In the above, copper, nickel, etc. can be used as the metal foil 14. The metal foil may be laminated on a resin film.
The thickness of the metal foil 14 is preferably 0.05 to 2 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When this thickness is too small, a uniform thin layer is not formed, which may be inappropriate as a plating electrode. On the other hand, if this thickness is excessive, it may be difficult to remove by, for example, etching.
The thickness of the metal mask 18 is preferably 1 μm or more, more preferably 1 to 100 μm, and particularly preferably 5 to 40 μm. When this thickness is too small, it may be difficult to use as a mask in laser processing described later.
As the metal constituting the metal mask 18, a metal exhibiting magnetism is used, and specific examples thereof include nickel, cobalt, and alloys thereof.
The thickness of the resist layer 19 is set according to the thickness of the metal mask 18 to be formed.

次いで、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に、紫外線吸収物質および磁性を示す導電性粒子が分散されてなる導電性エラストマー用材料を調製し、図5に示すように、導電路形成部形成用の板状の支持体13上に、導電性エラストマー用材料を塗布することによって導電性エラストマー用材料層16Aを形成する。そして、図6に示すように、この導電性エラストマー用材料層16A上に、金属マスク複合体18Fをその金属マスク18の各々が当該導電性エラストマー用材料層16Aに接するよう配置する。ここで、導電性エラストマー用材料層16A中においては、磁性を示す導電性粒子Pが分散された状態で含有されている。
次いで、導電性エラストマー用材料層16Aに対し、金属マスク18を介して当該導電性エラストマー用材料層16Aの厚み方向に磁場を作用させる。これにより、金属マスク18が磁性を示す金属により形成されているため、導電性エラストマー用材料層16Aにおける金属マスク18が配置された部分には、それ以外の部分より大きい強度の磁場が形成される。その結果、導電性エラストマー用材料層16A中に分散されていた導電性粒子Pは、図7に示すように、金属マスク18が配置された部分に集合し、更に当該導電性エラストマー用材料層16Aの厚み方向に並ぶよう配向する。そして、導電性エラストマー用材料層16Aに対する磁場の作用を継続しながら、或いは磁場の作用を停止した後、導電性エラストマー用材料層16Aの硬化処理を行うことにより、図8に示すように、弾性高分子物質中に導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる導電性エラストマー層16Bが、支持体13上に支持された状態で形成される。
Next, a conductive elastomer material is prepared by dispersing a UV absorbing substance and conductive particles exhibiting magnetism in a liquid polymer substance-forming material that is cured to become an elastic polymer substance, as shown in FIG. Further, the conductive elastomer material layer 16A is formed by applying a conductive elastomer material on the plate-like support 13 for forming the conductive path forming portion. Then, as shown in FIG. 6, the metal mask composite 18F is disposed on the conductive elastomer material layer 16A so that each of the metal masks 18 is in contact with the conductive elastomer material layer 16A. Here, in the conductive elastomer material layer 16A, the conductive particles P exhibiting magnetism are contained in a dispersed state.
Next, a magnetic field is applied to the conductive elastomer material layer 16A via the metal mask 18 in the thickness direction of the conductive elastomer material layer 16A. Thereby, since the metal mask 18 is formed of a metal exhibiting magnetism, a magnetic field having a strength higher than that of the other portions is formed in the portion where the metal mask 18 is disposed in the conductive elastomer material layer 16A. . As a result, as shown in FIG. 7, the conductive particles P dispersed in the conductive elastomer material layer 16A gather at the portion where the metal mask 18 is disposed, and further, the conductive elastomer material layer 16A. Are aligned in the thickness direction. Then, while continuing the action of the magnetic field on the conductive elastomer material layer 16A or after the action of the magnetic field is stopped, the conductive elastomer material layer 16A is cured to perform elasticity as shown in FIG. A conductive elastomer layer 16 </ b> B is formed in a state where the conductive particles P are contained in the polymer material so that the conductive particles P are aligned in the thickness direction so as to be supported on the support 13.

以上において、支持体13を構成する材料としては、金属、セラミックス、樹脂およびこれらの複合材などを用いることができる。
導電性エラストマー用材料を塗布する方法としては、スクリーン印刷などの印刷法、ロール塗布法、ブレード塗布法などを利用することができる。
導電性エラストマー用材料層16Aの厚みは、形成すべき導電路形成部の厚みに応じて設定される。
導電性エラストマー用材料層16Aに磁場を作用させる手段としては、電磁石、永久磁石などを用いることができる。
導電性エラストマー用材料層16Aに作用させる磁場の強度は、0.2〜2.5テスラとなる大きさが好ましい。
導電性エラストマー用材料層16Aの硬化処理は、通常、加熱処理によって行われる。具体的な加熱温度および加熱時間は、導電性エラストマー用材料層16Aを構成する高分子物質形成材料の種類、導電性粒子の移動に要する時間などを考慮して適宜設定される。
In the above, metals, ceramics, resins, composite materials thereof, and the like can be used as the material constituting the support 13.
As a method for applying the conductive elastomer material, a printing method such as screen printing, a roll coating method, a blade coating method, or the like can be used.
The thickness of the conductive elastomer material layer 16A is set according to the thickness of the conductive path forming portion to be formed.
As means for applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer 16A, an electromagnet, a permanent magnet, or the like can be used.
The strength of the magnetic field applied to the conductive elastomer material layer 16A is preferably 0.2 to 2.5 Tesla.
The curing process of the conductive elastomer material layer 16A is usually performed by a heating process. The specific heating temperature and heating time are appropriately set in consideration of the type of polymer substance forming material constituting the conductive elastomer material layer 16A, the time required to move the conductive particles, and the like.

《導電路形成部の形成》
先ず、導電性エラストマー層16B上に配置された金属マスク複合体18Fにおける金属箔14に対して、エッチング処理を施して除去することにより、図9に示すように、金属マスク18およびレジスト層19を露出させる。そして、導電性エラストマー層16Bおよびレジスト層19に対して、金属マスク18を介して紫外線レーザーによってレーザー加工を施すことにより、レジスト層19および導電性エラストマー層16Bの一部が除去され、その結果、図10に示すように、特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部16が支持体13上に支持された状態で形成される。その後、得られた導電路形成部16の各々の表面から金属マスク18を除去する。
ここで、紫外線レーザーを照射するレーザー装置としては、YAGレーザー装置(中心波長355nm)、Nd−YAGレーザー装置(中心波長266nm)、KrFエキシマレーザー装置(中心波長248nm)などを用いることができる。
また、紫外線レーザーによるレーザー加工の条件は、用いられるレーザー装置の種類などによって適宜設定されるが、YAGレーザー装置を用いる場合の条件の一例を示すと、周波数(1秒間あたりのパルス数)が40kHz、ビーム径が20μm、1パルス当たりのエネルギーが9.2μJ、エネルギー密度が(単位面積当たりの照射エネルギー)が11J/cm2 、ショット回数が5回である。
<< Formation of conductive path forming part >>
First, by removing the metal foil 14 in the metal mask composite 18F disposed on the conductive elastomer layer 16B by etching, the metal mask 18 and the resist layer 19 are removed as shown in FIG. Expose. Then, by applying laser processing to the conductive elastomer layer 16B and the resist layer 19 with an ultraviolet laser through the metal mask 18, a part of the resist layer 19 and the conductive elastomer layer 16B is removed. As shown in FIG. 10, a plurality of conductive path forming portions 16 arranged according to a specific pattern are formed on a support 13. Thereafter, the metal mask 18 is removed from each surface of the obtained conductive path forming portion 16.
Here, a YAG laser device (center wavelength 355 nm), an Nd-YAG laser device (center wavelength 266 nm), a KrF excimer laser device (center wavelength 248 nm), or the like can be used as a laser device that irradiates an ultraviolet laser.
In addition, the laser processing conditions using an ultraviolet laser are appropriately set depending on the type of the laser apparatus used, but an example of the conditions when using a YAG laser apparatus is that the frequency (number of pulses per second) is 40 kHz. The beam diameter is 20 μm, the energy per pulse is 9.2 μJ, the energy density (irradiation energy per unit area) is 11 J / cm 2 , and the number of shots is 5.

《絶縁部の形成》
図11に示すように、絶縁部形成用の支持体13Aを用意し、この支持体13Aの表面に、硬化されて絶縁性の弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料を塗布することにより、絶縁部用材料層17Aを形成する。次いで、図12に示すように、複数の導電路形成部16が形成された支持体13を、絶縁部用材料層17Aが形成された支持体13A上に重ね合わせることにより、絶縁部用材料層17A中に導電路形成部16を浸入させて支持体13Aに接触させ、更に加圧することにより、導電路形成部16の各々は厚み方向に圧縮した状態に変形されると共に、隣接する導電路形成部16の間には、絶縁部用材料層17Aが形成された状態となる。その後、この状態で、絶縁部用材料層17Aの硬化処理を行うことにより、図13に示すように、隣接する導電路形成部16の間にこれらを相互に絶縁する絶縁部17が、導電路形成部16に一体的に形成され、以て弾性異方導電膜15が形成される。
そして、支持体13,13Aから離型させることにより、圧縮された導電路形成部16の各々は、元の形態に復元する結果、絶縁部17の両面から突出した状態となり、以て、図1に示す構成の異方導電性コネクター10が得られる。
<Formation of insulation part>
As shown in FIG. 11, a support 13A for forming an insulating portion is prepared, and a liquid polymer substance forming material that is cured to become an insulating elastic polymer substance is applied to the surface of the support 13A. Thus, the insulating part material layer 17A is formed. Next, as shown in FIG. 12, the support member 13 on which the plurality of conductive path forming portions 16 are formed is superposed on the support member 13A on which the insulating portion material layer 17A is formed, whereby an insulating portion material layer is formed. When the conductive path forming portion 16 is infiltrated into 17A and brought into contact with the support 13A and further pressurized, each of the conductive path forming portions 16 is deformed into a compressed state in the thickness direction, and adjacent conductive path forming portions are formed. Between the portions 16, the insulating portion material layer 17A is formed. Thereafter, in this state, the insulating portion material layer 17A is subjected to a curing process, so that the insulating portions 17 that insulate them from each other between the adjacent conductive path forming portions 16 become conductive paths as shown in FIG. The elastic anisotropic conductive film 15 is formed integrally with the forming portion 16, thereby forming the elastic anisotropic conductive film 15.
Then, by releasing the mold from the supports 13 and 13A, each of the compressed conductive path forming portions 16 is restored to the original form, and as a result, protrudes from both surfaces of the insulating portion 17, and FIG. An anisotropic conductive connector 10 having the structure shown in FIG.

以上において、支持体13Aを構成する材料としては、導電路形成部形成用の支持体13と同様のものを用いることができる。
高分子物質形成材料を塗布する方法としては、スクリーン印刷などの印刷法、ロール塗布法、ブレード塗布法などを利用することができる。
絶縁部用材料層17Aの厚みは、形成すべき絶縁部の厚みに応じて設定される。
絶縁部用材料層17Aの硬化処理は、通常、加熱処理によって行われる。具体的な加熱温度および加熱時間は、絶縁部用材料層17Aを構成する高分子物質形成材料の種類などを考慮して適宜設定される。
In the above, as the material constituting the support 13A, the same material as the support 13 for forming the conductive path forming portion can be used.
As a method for applying the polymer substance-forming material, a printing method such as screen printing, a roll coating method, a blade coating method, or the like can be used.
The thickness of the insulating part material layer 17A is set according to the thickness of the insulating part to be formed.
The curing process of the insulating part material layer 17A is usually performed by a heating process. The specific heating temperature and heating time are appropriately set in consideration of the type of polymer substance forming material constituting the insulating part material layer 17A.

上記の製造方法によれば、導電性エラストマー層16B中には、紫外線吸収物質が含有されているため、当該導電性エラストマー層16Bを紫外線レーザーによって容易にレーザー加工することができ、また、紫外線レーザーを用いることにより、非熱的加工が可能となるため、隣接する導電路形成部16間に、レーザー加工による炭素物質の残渣が生じることを回避することができる。
また、導電性エラストマー用材料層16A上に、形成すべき導電路形成部16の特定のパターンに従って磁性を示す金属マスク18を配置した状態で、当該導電性エラストマー用材料層16Aの厚み方向に磁場を作用させると共に当該導電性エラストマー用材料層16Aを硬化処理することにより、得られる導電性エラストマー層16Bは、金属マスク18が配置された部分における導電性粒子が密となり、それ以外の部分における導電性粒子が疎となるため、導電性エラストマー層16Bにおける金属マスク18が配置された部分以外の部分をレーザー加工によって除去することが容易となり、これにより、所期の形態の導電路形成部を形成することができる。
また、特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部16を形成したうえで、これらの導電路形成部16の間に絶縁部用材料層17Aを形成して硬化処理することにより絶縁部16を形成するため、導電性粒子Pが全く存在しない絶縁部17を確実に得ることができる。
従って、このような方法によって得られる異方導電性コネクター10によれば、接続すべき電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、隣接する電極間における所要の絶縁性が確保され、当該電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができる。
According to the above manufacturing method, since the conductive elastomer layer 16B contains the ultraviolet absorbing substance, the conductive elastomer layer 16B can be easily laser-processed by the ultraviolet laser, and the ultraviolet laser can be used. By using non-thermal processing, it is possible to avoid a carbon material residue due to laser processing between adjacent conductive path forming portions 16.
In addition, a magnetic field is provided in the thickness direction of the conductive elastomer material layer 16A in a state where a metal mask 18 showing magnetism is arranged on the conductive elastomer material layer 16A according to a specific pattern of the conductive path forming portion 16 to be formed. In addition, the conductive elastomer layer 16B obtained by curing the conductive elastomer material layer 16A becomes dense in the conductive particles in the portion where the metal mask 18 is disposed, and in the other portions. Since the conductive particles become sparse, it becomes easy to remove portions other than the portion where the metal mask 18 is disposed in the conductive elastomer layer 16B by laser processing, thereby forming a conductive path forming portion of an intended form. can do.
In addition, after forming a plurality of conductive path forming portions 16 arranged according to a specific pattern, an insulating portion material layer 17A is formed between the conductive path forming portions 16 and subjected to curing treatment, whereby the insulating portions 16 are formed. Therefore, it is possible to reliably obtain the insulating part 17 in which the conductive particles P are not present at all.
Therefore, according to the anisotropic conductive connector 10 obtained by such a method, even if the electrodes to be connected are arranged with a small pitch and a high density, the required connection between adjacent electrodes is required. Insulation is ensured and the required electrical connection can be reliably achieved for each of the electrodes.

図14は、本発明に係る異方導電性コネクターの第2の例における構成を示す説明用断面図であり、図15は、図14に示す異方導電性コネクターの要部を拡大して示す説明用断面図である。この異方導電性コネクター10は、複数の開口12が形成されたフレーム板11と、このフレーム板11の開口12の各々を塞ぐよう配置され、当該フレーム板11に支持された単一の弾性異方導電膜15とを有する。
弾性異方導電膜15においては、その厚み方向に伸びる複数の導電路形成部16が、特定のパターンに従ってフレーム板11の開口12内に位置するよう配置され、導電路形成部16の各々の周囲には、隣接する導電路形成部16を相互に絶縁する一体の絶縁部17が導電路形成部16に一体的に接着した状態で形成されている。導電路形成部16の特定のパターンは、接続すべき電極例えば検査対象である回路装置の被検査電極のパターンに対応するパターンである。
導電路形成部16は、絶縁性の弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されて構成されている。これに対し、絶縁部17は、導電性粒子Pを全く含有しない弾性高分子物質により構成されている。図示の例において、導電路形成部16の各々は、絶縁部17の表面から突出する突出部が形成されている。
FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the second example of the anisotropic conductive connector according to the present invention, and FIG. 15 is an enlarged view of the main part of the anisotropic conductive connector shown in FIG. It is sectional drawing for description. The anisotropic conductive connector 10 includes a frame plate 11 having a plurality of openings 12 and a single elastic member supported by the frame plate 11 and arranged to close each of the openings 12 of the frame plate 11. And a conductive film 15.
In the elastic anisotropic conductive film 15, a plurality of conductive path forming portions 16 extending in the thickness direction are arranged so as to be positioned in the openings 12 of the frame plate 11 in accordance with a specific pattern, and the periphery of each of the conductive path forming portions 16. In the present embodiment, an integral insulating portion 17 that insulates adjacent conductive path forming portions 16 from each other is formed in a state of being integrally bonded to the conductive path forming portion 16. The specific pattern of the conductive path forming portion 16 is a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be connected, for example, an inspection target electrode of a circuit device to be inspected.
The conductive path forming part 16 is configured by containing conductive particles P exhibiting magnetism in an insulating elastic polymer substance so as to be aligned in the thickness direction. On the other hand, the insulating portion 17 is made of an elastic polymer material that does not contain the conductive particles P at all. In the illustrated example, each of the conductive path forming portions 16 is formed with a protruding portion that protrudes from the surface of the insulating portion 17.

フレーム板11を構成する材料としては、機械的強度の高い種々の非金属材料および金属材料を用いることができる。
非金属材料の具体例としては、液晶ポリマー、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアラミド樹脂、ポリアミド樹脂等の樹脂材料、ガラス繊維補強型エポキシ樹脂、ガラス繊維補強型ポリエステル樹脂、ガラス繊維補強型ポリイミド樹脂等の繊維補強型樹脂材料、エポキシ樹脂等にアルミナ、ポロンナイトライド等の無機材料をフィラーとして含有した複合樹脂材料などが挙げられる。
金属材料としては、金、銀、銅、鉄、ニッケル、コバルト若しくはこれらの合金または合金鋼なとが挙げられる。
また、異方導電性コネクターを高温環境下で使用する場合には、フレーム板11として、線熱膨張係数が3×10-5/K以下のものを用いることが好ましく、より好ましくは1×10-6〜2×10-5/K、特に好ましくは1×10-6〜6×10-6/Kである。このようなフレーム板11を用いることにより、弾性異方導電膜15の熱膨張による位置ずれを抑制することができる。
また、フレーム板11の厚みは、10〜200μmであることが好ましく、より好ましくは15〜100μmである。この厚みが過小である場合には、当該フレーム板11に必要な強度が得られないことがある。一方、この厚みが過大である場合には、弾性異方導電膜15の厚みが必然的に大きくなり、従って、良好な導電性が得られないことがある。
弾性異方導電膜15の弾性高分子物質、導電性粒子およびその他の具体的な構成は、前述の第1の例に係る異方導電性コネクター10と同様である。
As a material constituting the frame plate 11, various non-metallic materials and metallic materials having high mechanical strength can be used.
Specific examples of non-metallic materials include resin materials such as liquid crystal polymers, polyimide resins, polyester resins, polyaramid resins, polyamide resins, glass fiber reinforced epoxy resins, glass fiber reinforced polyester resins, glass fiber reinforced polyimide resins, etc. Examples thereof include a fiber reinforced resin material, an epoxy resin, and a composite resin material containing an inorganic material such as alumina or poron nitride as a filler.
Examples of the metal material include gold, silver, copper, iron, nickel, cobalt, alloys thereof, and alloy steels.
When the anisotropic conductive connector is used in a high temperature environment, it is preferable to use a frame plate 11 having a linear thermal expansion coefficient of 3 × 10 −5 / K or less, more preferably 1 × 10 6. −6 to 2 × 10 −5 / K, particularly preferably 1 × 10 −6 to 6 × 10 −6 / K. By using such a frame plate 11, it is possible to suppress misalignment due to thermal expansion of the elastic anisotropic conductive film 15.
Moreover, it is preferable that the thickness of the frame board 11 is 10-200 micrometers, More preferably, it is 15-100 micrometers. When this thickness is too small, the strength required for the frame plate 11 may not be obtained. On the other hand, when this thickness is excessive, the thickness of the elastic anisotropic conductive film 15 is inevitably large, and therefore, good conductivity may not be obtained.
The elastic polymer material, conductive particles, and other specific configurations of the elastic anisotropic conductive film 15 are the same as those of the anisotropic conductive connector 10 according to the first example.

上記の異方導電性コネクター10は、以下のようにして製造することができる。
《導電路形成部の形成》
先ず、第1の例に係る異方導電性コネクター10の製造方法と同様にして、支持体13上に、特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部16を形成する(図3乃至図10参照)。
The anisotropic conductive connector 10 can be manufactured as follows.
<< Formation of conductive path forming part >>
First, in the same manner as the method for manufacturing the anisotropic conductive connector 10 according to the first example, a plurality of conductive path forming portions 16 arranged according to a specific pattern are formed on the support 13 (FIGS. 3 to 3). 10).

《絶縁部の形成》
図16に示すように、絶縁部形成用の支持体13Aを用意し、この支持体13Aの表面に、フレーム板11を配置すると共に、硬化されて絶縁性の弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料を塗布することにより、絶縁部用材料層17Aを形成する。次いで、図17に示すように、複数の導電路形成部16が形成された支持体13を、絶縁部用材料層17Aが形成された支持体13A上に重ね合わせることにより、絶縁部用材料層17A中に導電路形成部16を浸入させて支持体13Aに接触させ、更に加圧することにより、導電路形成部16の各々は厚み方向に圧縮した状態に変形されると共に、隣接する導電路形成部16の間には、絶縁部用材料層17Aが形成された状態となる。その後、この状態で、絶縁部用材料層17Aの硬化処理を行うことにより、図18に示すように、隣接する導電路形成部16の間にこれらを相互に絶縁する絶縁部17が、導電路形成部16に一体的に形成され、以て弾性異方導電膜15が形成される。
そして、支持体13,13Aから離型させることにより、圧縮された導電路形成部16の各々は、元の形態に復元する結果、絶縁部17の両面から突出した状態となり、以て、図14に示す構成の異方導電性コネクター10が得られる。
<Formation of insulation part>
As shown in FIG. 16, a supporting body 13A for forming an insulating portion is prepared, and a frame plate 11 is arranged on the surface of the supporting body 13A, and a liquid high-temperature material that is cured to become an insulating elastic polymer material. The insulating material layer 17A is formed by applying a molecular substance forming material. Next, as shown in FIG. 17, the support member 13 on which the plurality of conductive path forming portions 16 are formed is superimposed on the support member 13A on which the insulating portion material layer 17A is formed. When the conductive path forming portion 16 is infiltrated into 17A and brought into contact with the support 13A and further pressurized, each of the conductive path forming portions 16 is deformed into a compressed state in the thickness direction, and adjacent conductive path forming portions are formed. Between the portions 16, the insulating portion material layer 17A is formed. Thereafter, in this state, the insulating part material layer 17A is cured to perform insulation between the adjacent conductive path forming parts 16 between the conductive path forming parts 16 as shown in FIG. The elastic anisotropic conductive film 15 is formed integrally with the forming portion 16, thereby forming the elastic anisotropic conductive film 15.
Then, by releasing the mold from the supports 13 and 13A, each of the compressed conductive path forming portions 16 is restored to the original form, and as a result, protrudes from both surfaces of the insulating portion 17, and FIG. An anisotropic conductive connector 10 having the structure shown in FIG.

以上において、支持体13Aを構成する材料としては、導電路形成部形成用の支持体13と同様のものを用いることができる。
高分子物質形成材料を塗布する方法としては、スクリーン印刷などの印刷法、ロール塗布法、ブレード塗布法などを利用することができる。
絶縁部用材料層17Aの厚みは、形成すべき絶縁部17の厚みに応じて設定される。
絶縁部用材料層17Aの硬化処理は、通常、加熱処理によって行われる。具体的な加熱温度および加熱時間は、絶縁部用材料層17Aを構成する高分子物質形成材料の種類などを考慮して適宜設定される。
In the above, as the material constituting the support 13A, the same material as the support 13 for forming the conductive path forming portion can be used.
As a method for applying the polymer substance-forming material, a printing method such as screen printing, a roll coating method, a blade coating method, or the like can be used.
The thickness of the insulating part material layer 17A is set according to the thickness of the insulating part 17 to be formed.
The curing process of the insulating part material layer 17A is usually performed by a heating process. The specific heating temperature and heating time are appropriately set in consideration of the type of polymer substance forming material constituting the insulating part material layer 17A.

上記の製造方法によれば、導電性エラストマー層16B中には、紫外線吸収物質が含有されているため、当該導電性エラストマー層16Bを紫外線レーザーによって容易にレーザー加工することができ、また、紫外線レーザーを用いることにより、非熱的加工が可能となるため、隣接する導電路形成部16間に、レーザー加工による炭素物質の残渣が生じることを回避することができる。
また、導電性エラストマー用材料層16A上に、形成すべき導電路形成部16の特定のパターンに従って磁性を示す金属マスク18を配置した状態で、当該導電性エラスマー用材料層16Aの厚み方向に磁場を作用させると共に当該導電性エラストマー用材料層16Aを硬化処理することにより、得られる導電性エラストマー層16Bは、金属マスク18が配置された部分における導電性粒子が密となり、それ以外の部分における導電性粒子が疎となるため、導電性エラストマー層16Bにおける金属マスク18が配置された部分以外の部分をレーザー加工によって除去することが容易となり、これにより、所期の形態の導電路形成部を形成することができる。
また、特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部16を形成したうえで、これらの導電路形成部16の間に絶縁部用材料層17Aを形成して硬化処理することにより絶縁部16を形成するため、導電性粒子Pが全く存在しない絶縁部16を確実に得ることができる。
従って、このような方法によって得られる異方導電性コネクター10によれば、接続すべき電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、隣接する電極間における所要の絶縁性が確保され、当該電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができる。
According to the above manufacturing method, since the conductive elastomer layer 16B contains the ultraviolet absorbing substance, the conductive elastomer layer 16B can be easily laser-processed by the ultraviolet laser, and the ultraviolet laser can be used. By using non-thermal processing, it is possible to avoid a carbon material residue due to laser processing between adjacent conductive path forming portions 16.
Further, a magnetic field is formed in the thickness direction of the conductive elastomer material layer 16A in a state where a metal mask 18 showing magnetism is arranged on the conductive elastomer material layer 16A according to a specific pattern of the conductive path forming portion 16 to be formed. In addition, the conductive elastomer layer 16B obtained by curing the conductive elastomer material layer 16A becomes dense in the conductive particles in the portion where the metal mask 18 is disposed, and in the other portions. Since the conductive particles become sparse, it becomes easy to remove portions other than the portion where the metal mask 18 is disposed in the conductive elastomer layer 16B by laser processing, thereby forming a conductive path forming portion of an intended form. can do.
In addition, after forming a plurality of conductive path forming portions 16 arranged according to a specific pattern, an insulating portion material layer 17A is formed between the conductive path forming portions 16 and subjected to curing treatment, whereby the insulating portions 16 are formed. Therefore, it is possible to reliably obtain the insulating portion 16 in which the conductive particles P are not present at all.
Therefore, according to the anisotropic conductive connector 10 obtained by such a method, even if the electrodes to be connected are arranged with a small pitch and a high density, the required connection between adjacent electrodes is required. Insulation is ensured and the required electrical connection can be reliably achieved for each of the electrodes.

〈アダプター装置〉
図19は、本発明に係るアダプター装置の第1の例における構成を示す説明用断面図であり、図20は、図19に示すアダプター装置におけるアダプター本体を示す説明用断面図である。このアダプター装置は、例えばプリント回路基板などの回路装置について、例えばオープン・ショート試験を行うために用いられる回路装置検査用のものであって、多層配線板よりなるアダプター本体20を有する。
アダプター本体20の表面(図19および図20において上面)には、検査対象である回路装置の被検査電極のパターンに対応する特定のパターンに従って複数の接続用電極21が配置された接続用電極領域25が形成されている。
アダプター本体20の裏面には、例えばピッチが0.8mm、0.75mm、1.5mm、1.8mm、2.54mmの格子点位置に従って複数の端子電極22が配置され、端子電極22の各々は、内部配線部23によって接続用電極21に電気的に接続されている。
このアダプター本体20の表面には、その接続用電極領域25上に、図14に示す構成の異方導電性コネクター10が配置され、当該アダプター本体20に適宜の手段(図示省略)によって固定されている。
この異方導電性コネクター10においては、アダプター本体20における接続用電極21に係る特定のパターンと同一のパターンに従って複数の導電路形成部16が形成されており、当該異方導電性コネクター10は、導電路形成部16の各々がアダプター本体20の接続用電極21上に位置されるよう配置されている。
<Adapter device>
FIG. 19 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of the adapter device according to the first example of the present invention, and FIG. 20 is an explanatory cross-sectional view showing an adapter main body in the adapter device shown in FIG. This adapter device is for inspecting a circuit device used for, for example, performing an open / short test on a circuit device such as a printed circuit board, and has an adapter body 20 made of a multilayer wiring board.
On the surface of the adapter body 20 (upper surface in FIGS. 19 and 20), a connection electrode region in which a plurality of connection electrodes 21 are arranged according to a specific pattern corresponding to the pattern of the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected. 25 is formed.
A plurality of terminal electrodes 22 are arranged on the back surface of the adapter main body 20 according to lattice point positions having a pitch of 0.8 mm, 0.75 mm, 1.5 mm, 1.8 mm, 2.54 mm, for example. The internal wiring portion 23 is electrically connected to the connection electrode 21.
On the surface of the adapter body 20, the anisotropic conductive connector 10 having the configuration shown in FIG. 14 is disposed on the connection electrode region 25, and is fixed to the adapter body 20 by appropriate means (not shown). Yes.
In the anisotropic conductive connector 10, a plurality of conductive path forming portions 16 are formed according to the same pattern as the specific pattern related to the connection electrode 21 in the adapter body 20, and the anisotropic conductive connector 10 includes: Each of the conductive path forming portions 16 is disposed on the connection electrode 21 of the adapter body 20.

このようなアダプター装置によれば、図14に示す構成の異方導電性コネクター10を有するため、検査対象である回路装置の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、隣接する被検査電極間における所要の絶縁性が確保され、当該被検査電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができる。   According to such an adapter device, since the anisotropic conductive connector 10 having the configuration shown in FIG. 14 is provided, the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected are arranged with a small pitch and a high density. Even so, the required insulation between the adjacent electrodes to be inspected is ensured, and the required electrical connection can be reliably achieved for each of the electrodes to be inspected.

図21は、本発明に係るアダプター装置の第2の例における構成を示す説明用断面図であり、図22は、図21に示すアダプター装置におけるアダプター本体を示す説明用断面図である。このアダプター装置は、例えばプリント回路基板などの回路装置について、各配線パターンの電気抵抗測定試験を行うために用いられる回路装置検査用のものであって、多層配線板よりなるアダプター本体20を有する。
アダプター本体20の表面(図21および図22において上面)には、それぞれ同一の被検査電極に電気的に接続される互いに離間して配置された電流供給用の接続用電極(以下、「電流供給用電極」ともいう。)21bおよび電圧測定用の接続用電極(以下、「電圧測定用電極」ともいう。)21cよりなる複数の接続用電極対21aが配置された接続用電極領域25が形成されている。これらの接続用電極対21aは、検査対象である回路装置の被検査電極のパターンに対応するパターンに従って配置されている。
アダプター本体20の裏面には、例えばピッチが0.8mm、0.75mm、1.5mm、1.8mm、2.54mmの格子点位置に従って複数の端子電極22が配置されている。
そして、電流供給用電極21bおよび電圧測定用電極21cの各々は、内部配線部23によって端子電極22に電気的に接続されている。
このアダプター本体20の表面には、その接続用電極領域25上に、基本的に図14に示す構成の異方導電性コネクター10が配置され、当該アダプター本体20に適宜の手段(図示省略)によって固定されている。
この異方導電性コネクター10においては、アダプター本体20における接続用電極21b,21cに係る特定のパターンと同一のパターンに従って複数の導電路形成部16が形成されており、当該異方導電性コネクター10は、導電路形成部16の各々がアダプター本体20の接続用電極21b,21c上に位置されるよう配置されている。
FIG. 21 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a second example of the adapter device according to the present invention, and FIG. 22 is an explanatory cross-sectional view showing an adapter main body in the adapter device shown in FIG. This adapter device is for testing a circuit device used for conducting an electrical resistance measurement test of each wiring pattern on a circuit device such as a printed circuit board, and has an adapter body 20 made of a multilayer wiring board.
On the surface of the adapter main body 20 (the upper surface in FIGS. 21 and 22), connection electrodes for current supply (hereinafter referred to as “current supply”) that are electrically connected to the same electrode to be inspected and are spaced apart from each other. A connection electrode region 25 in which a plurality of connection electrode pairs 21a each including a connection electrode 21b and a voltage measurement connection electrode (hereinafter also referred to as a "voltage measurement electrode") 21c are formed. Has been. These connection electrode pairs 21a are arranged according to a pattern corresponding to the pattern of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected.
A plurality of terminal electrodes 22 are arranged on the back surface of the adapter main body 20 according to lattice point positions having a pitch of 0.8 mm, 0.75 mm, 1.5 mm, 1.8 mm, and 2.54 mm, for example.
Each of the current supply electrode 21 b and the voltage measurement electrode 21 c is electrically connected to the terminal electrode 22 by the internal wiring portion 23.
On the surface of the adapter main body 20, the anisotropic conductive connector 10 having the structure shown in FIG. 14 is basically disposed on the connection electrode region 25. The adapter main body 20 is provided with appropriate means (not shown). It is fixed.
In the anisotropic conductive connector 10, a plurality of conductive path forming portions 16 are formed according to the same pattern as the specific pattern related to the connection electrodes 21 b and 21 c in the adapter body 20, and the anisotropic conductive connector 10. Are arranged such that each of the conductive path forming portions 16 is positioned on the connection electrodes 21 b and 21 c of the adapter body 20.

上記のアダプター装置によれば、図14に示す構成の異方導電性コネクター10を有するため、検査対象である回路装置の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、隣接する被検査電極間における所要の絶縁性が確保され、当該被検査電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができる。   According to the adapter device described above, since the anisotropic conductive connector 10 having the configuration shown in FIG. 14 is provided, the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected are arranged with a small pitch and a high density. Even if it exists, the required insulation between adjacent to-be-tested electrodes is ensured, and a required electrical connection can be reliably achieved for each of the to-be-tested electrodes.

〈回路装置の電気的検査装置〉
図23は、本発明に係る回路基板の電気的検査装置の第1の例における構成を示す説明図である。この電気的検査装置は、両面に被検査電極6,7が形成されたプリント回路基板などの回路装置5について、例えばオープン・ショート試験を行うものであって、回路装置5を検査実行領域Eに保持するためのホルダー2を有し、このホルダー2には、回路装置5を検査実行領域Eにおける適正な位置に配置するための位置決めピン3が設けられている。検査実行領域Eの上方には、図19に示すような構成の上部側アダプター装置1aおよび上部側検査ヘッド50aが下からこの順で配置され、更に、上部側検査ヘッド50aの上方には、上部側支持板56aが配置されており、上部側検査ヘッド50aは、支柱54aによって支持板56aに固定されている。一方、検査実行領域Eの下方には、図19に示すような構成の下部側アダプター装置1bおよび下部側検査ヘッド50bが上からこの順で配置され、更に、下部側検査ヘッド50bの下方には、下部側支持板56bが配置されており、下部側検査ヘッド50bは、支柱54bによって下部側支持板56bに固定されている。
上部側検査ヘッド50aは、板状の検査電極装置51aと、この検査電極装置51aの下面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート55aとにより構成されている。検査電極装置51aは、その下面に上部側アダプター装置1aの端子電極22と同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極52aを有し、これらの検査電極52aの各々は、電線53aによって、上部側支持板56aに設けられたコネクター57aに電気的に接続され、更に、このコネクター57aを介してテスターの検査回路(図示省略)に電気的に接続されている。
下部側検査ヘッド50bは、板状の検査電極装置51bと、この検査電極装置51bの上面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート55bとにより構成されている。検査電極装置51bは、その上面に下部側アダプター装置1bの端子電極22と同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極52bを有し、これらの検査電極52bの各々は、電線53bによって、下部側支持板56bに設けられたコネクター57bに電気的に接続され、更に、このコネクター57bを介してテスターの検査回路(図示省略)に電気的に接続されている。
<Electrical inspection equipment for circuit devices>
FIG. 23 is an explanatory diagram showing a configuration of the first example of the electrical inspection apparatus for circuit boards according to the present invention. This electrical inspection device performs, for example, an open / short test on a circuit device 5 such as a printed circuit board having electrodes 6 and 7 to be inspected on both sides, and the circuit device 5 is placed in an inspection execution region E. The holder 2 for holding is provided with a positioning pin 3 for arranging the circuit device 5 at an appropriate position in the inspection execution region E. Above the inspection execution area E, an upper-side adapter device 1a and an upper-side inspection head 50a configured as shown in FIG. 19 are arranged in this order from the bottom, and further above the upper-side inspection head 50a, A side support plate 56a is disposed, and the upper side inspection head 50a is fixed to the support plate 56a by a column 54a. On the other hand, below the inspection execution area E, a lower-side adapter device 1b and a lower-side inspection head 50b configured as shown in FIG. 19 are arranged in this order from the top, and further below the lower-side inspection head 50b. The lower side support plate 56b is disposed, and the lower side inspection head 50b is fixed to the lower side support plate 56b by a support 54b.
The upper side inspection head 50a includes a plate-like inspection electrode device 51a and an anisotropic conductive sheet 55a having elasticity that is fixed and arranged on the lower surface of the inspection electrode device 51a. The inspection electrode device 51a has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52a arranged on the lower surface thereof at lattice point positions having the same pitch as the terminal electrodes 22 of the upper-side adapter device 1a. The electric wire 53a is electrically connected to a connector 57a provided on the upper support plate 56a, and is further electrically connected to a tester inspection circuit (not shown) via the connector 57a.
The lower inspection head 50b is composed of a plate-shaped inspection electrode device 51b and an anisotropic conductive sheet 55b having elasticity and fixed to the upper surface of the inspection electrode device 51b. The inspection electrode device 51b has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52b arranged on the upper surface thereof at lattice point positions having the same pitch as the terminal electrodes 22 of the lower adapter device 1b. Each of these inspection electrodes 52b The electric wire 53b is electrically connected to a connector 57b provided on the lower support plate 56b, and is further electrically connected to an inspection circuit (not shown) of the tester via the connector 57b.

上部側検査ヘッド50aおよび下部側検査ヘッド50bにおける異方導電性シート55a,55bは、いずれもその厚み方向にのみ導電路を形成する導電路形成部が形成されてなるものである。このような異方導電性シート55a,55bとしては、各導電路形成部が少なくとも一面において厚み方向に突出するよう形成されているものが、高い電気的な接触安定性を発揮する点で好ましい。   The anisotropic conductive sheets 55a and 55b in the upper side inspection head 50a and the lower side inspection head 50b are each formed with a conductive path forming portion that forms a conductive path only in the thickness direction. As such anisotropically conductive sheets 55a and 55b, those in which the respective conductive path forming portions are formed so as to protrude in the thickness direction on at least one surface are preferable in terms of exhibiting high electrical contact stability.

このような回路基板の電気的検査装置においては、検査対象である回路装置5がホルダー2によって検査実行領域Eに保持され、この状態で、上部側支持板56aおよび下部側支持板56bの各々が回路装置5に接近する方向に移動することにより、当該回路装置5が上部側アダプター装置1aおよび下部側アダプター装置1bによって挟圧される。
この状態においては、回路装置5の上面における被検査電極6は、上部側アダプター装置1aの接続用電極21に、当該異方導電性コネクター10の導電路形成部16を介して電気的に接続され、この上部側アダプター装置1aの端子電極22は、異方導電性シート55aを介して検査電極装置51aの検査電極52aに電気的に接続されている。一方、回路装置5の下面における被検査電極7は、下部側アダプター装置1bの接続用電極21に、当該異方導電性コネクター10の導電路形成部16を介して電気的に接続され、この下部側アダプター装置1bの端子電極22は、異方導電性シート55bを介して検査電極装置51bの検査電極52bに電気的に接続されている。
In such an electrical inspection device for circuit boards, the circuit device 5 to be inspected is held in the inspection execution region E by the holder 2, and in this state, each of the upper support plate 56a and the lower support plate 56b is By moving in the direction approaching the circuit device 5, the circuit device 5 is pinched by the upper adapter device 1a and the lower adapter device 1b.
In this state, the electrode 6 to be inspected on the upper surface of the circuit device 5 is electrically connected to the connection electrode 21 of the upper adapter device 1a via the conductive path forming portion 16 of the anisotropic conductive connector 10. The terminal electrode 22 of the upper adapter device 1a is electrically connected to the inspection electrode 52a of the inspection electrode device 51a via an anisotropic conductive sheet 55a. On the other hand, the electrode 7 to be inspected on the lower surface of the circuit device 5 is electrically connected to the connection electrode 21 of the lower-side adapter device 1b via the conductive path forming portion 16 of the anisotropic conductive connector 10, and this lower portion The terminal electrode 22 of the side adapter device 1b is electrically connected to the inspection electrode 52b of the inspection electrode device 51b via the anisotropic conductive sheet 55b.

このようにして、回路装置5の上面および下面の両方の被検査電極6,7の各々が、上部側検査ヘッド50aにおける検査電極装置51aの検査電極52aおよび下部側検査ヘッド50bにおける検査電極装置51bの検査電極52bの各々に電気的に接続されることにより、テスターの検査回路に電気的に接続された状態が達成され、この状態で所要の電気的検査が行われる。   In this way, the test electrodes 6 and 7 on both the upper and lower surfaces of the circuit device 5 are respectively connected to the test electrode 52a of the test electrode device 51a in the upper test head 50a and the test electrode device 51b in the lower test head 50b. By being electrically connected to each of the test electrodes 52b, a state of being electrically connected to the test circuit of the tester is achieved, and a required electrical test is performed in this state.

上記の回路基板の電気的検査装置によれば、図19に示すような構成の上部側アダプター装置1aおよび下部側アダプター装置1bを有するため、回路装置5の被検査電極6,7が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置5について所要の電気的検査を確実に実行することができる。   According to the circuit board electrical inspection apparatus described above, since the upper-side adapter device 1a and the lower-side adapter device 1b are configured as shown in FIG. 19, the inspected electrodes 6 and 7 of the circuit device 5 have their pitches. Even if they are minute and densely arranged, the required electrical inspection can be reliably performed on the circuit device 5.

図24は、本発明に係る回路基板の電気的検査装置の第2の例における構成を示す説明図である。この電気的検査装置は、両面に被検査電極6,7が形成されたプリント回路基板などの回路装置5について、各配線パターンの電気抵抗測定試験を行うためのものであって、回路装置5を検査実行領域Eに保持するためのホルダー2を有し、このホルダー2には、回路装置5を検査実行領域Eにおける適正な位置に配置するための位置決めピン3が設けられている。
検査実行領域Eの上方には、図21に示すような構成の上部側アダプター装置1aおよび上部側検査ヘッド50aが下からこの順で配置され、更に、上部側検査ヘッド50aの上方には、上部側支持板56aが配置されており、上部側検査ヘッド50aは、支柱54aによって支持板56aに固定されている。一方、検査実行領域Eの下方には、図21に示すような構成の下部側アダプター装置1bおよび下部側検査ヘッド50bが上からこの順で配置され、更に、下部側検査ヘッド50bの下方には、下部側支持板56bが配置されており、下部側検査ヘッド50bは、支柱54bによって支持板56bに固定されている。
上部側検査ヘッド50aは、板状の検査電極装置51aと、この検査電極装置51aの下面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート55aとにより構成されている。検査電極装置51aは、その下面に上部側アダプター装置1aの端子電極22と同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極52aを有し、これらの検査電極52aの各々は、電線53aによって、上部側支持板56aに設けられたコネクター57aに電気的に接続され、更に、このコネクター57aを介してテスターの検査回路(図示省略)に電気的に接続されている。
下部側検査ヘッド50bは、板状の検査電極装置51bと、この検査電極装置51bの上面に固定されて配置された弾性を有する異方導電性シート55bとにより構成されている。検査電極装置51bは、その上面に下部側アダプター装置1bの端子電極22と同一のピッチの格子点位置に配列された複数のピン状の検査電極52bを有し、これらの検査電極52bの各々は、電線53bによって、下部側支持板56bに設けられたコネクター57bに電気的に接続され、更に、このコネクター57bを介してテスターの検査回路(図示省略)に電気的に接続されている。
上部側検査ヘッド50aおよび下部側検査ヘッド50bにおける異方導電性シート55a,55bは、第1の例の電気的検査装置と基本的に同様の構成である。
FIG. 24 is an explanatory diagram showing the configuration of a second example of the electrical inspection apparatus for circuit boards according to the present invention. This electrical inspection device is for performing an electrical resistance measurement test of each wiring pattern on a circuit device 5 such as a printed circuit board on which both electrodes 6 and 7 to be inspected are formed. The holder 2 for holding in the inspection execution area E is provided, and the holder 2 is provided with positioning pins 3 for arranging the circuit device 5 at an appropriate position in the inspection execution area E.
Above the inspection execution area E, an upper-side adapter device 1a and an upper-side inspection head 50a configured as shown in FIG. 21 are arranged in this order from the bottom, and further above the upper-side inspection head 50a, A side support plate 56a is disposed, and the upper side inspection head 50a is fixed to the support plate 56a by a column 54a. On the other hand, below the inspection execution area E, a lower-side adapter device 1b and a lower-side inspection head 50b configured as shown in FIG. 21 are arranged in this order from the top, and further below the lower-side inspection head 50b. The lower side support plate 56b is disposed, and the lower side inspection head 50b is fixed to the support plate 56b by a support column 54b.
The upper side inspection head 50a includes a plate-like inspection electrode device 51a and an anisotropic conductive sheet 55a having elasticity that is fixed and arranged on the lower surface of the inspection electrode device 51a. The inspection electrode device 51a has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52a arranged on the lower surface thereof at lattice point positions having the same pitch as the terminal electrodes 22 of the upper-side adapter device 1a. The electric wire 53a is electrically connected to a connector 57a provided on the upper support plate 56a, and is further electrically connected to a tester inspection circuit (not shown) via the connector 57a.
The lower inspection head 50b is composed of a plate-shaped inspection electrode device 51b and an anisotropic conductive sheet 55b having elasticity and fixed to the upper surface of the inspection electrode device 51b. The inspection electrode device 51b has a plurality of pin-shaped inspection electrodes 52b arranged on the upper surface thereof at lattice point positions having the same pitch as the terminal electrodes 22 of the lower adapter device 1b. Each of these inspection electrodes 52b The electric wire 53b is electrically connected to a connector 57b provided on the lower support plate 56b, and is further electrically connected to an inspection circuit (not shown) of the tester via the connector 57b.
The anisotropic conductive sheets 55a and 55b in the upper side inspection head 50a and the lower side inspection head 50b have basically the same configuration as that of the electrical inspection apparatus of the first example.

このような回路基板の電気的検査装置においては、検査対象である回路装置5がホルダー2によって検査実行領域Eに保持され、この状態で、上部側支持板56aおよび下部側支持板56bの各々が回路装置5に接近する方向に移動することにより、当該回路装置5が上部側アダプター装置1aおよび下部側アダプター装置1bによって挟圧される。
この状態においては、回路装置5の上面における被検査電極6は、上部側アダプター装置1aの接続用電極対21aにおける電流供給用電極21bおよび電圧測定用電極21cの両方に、異方導電性コネクター10の導電路形成部16を介して電気的に接続され、この上部側アダプター装置1aの端子電極22は、異方導電性シート55aを介して検査電極装置51aの検査電極52aに電気的に接続されている。一方、回路装置5の下面における被検査電極7は、下部側アダプター装置1bの接続用電極対21aにおける電流供給用電極21bおよび電圧測定用電極21cの両方に、異方導電性コネクター10の導電路形成部16を介して電気的に接続され、この下部側アダプター装置1bの端子電極22は、異方導電性シート55bを介して検査電極装置51bの検査電極52bに電気的に接続されている。
In such an electrical inspection device for circuit boards, the circuit device 5 to be inspected is held in the inspection execution region E by the holder 2, and in this state, each of the upper support plate 56a and the lower support plate 56b is By moving in the direction approaching the circuit device 5, the circuit device 5 is pinched by the upper adapter device 1a and the lower adapter device 1b.
In this state, the electrode 6 to be inspected on the upper surface of the circuit device 5 is connected to both the current supply electrode 21b and the voltage measurement electrode 21c in the connection electrode pair 21a of the upper-side adapter device 1a. The terminal electrode 22 of the upper adapter device 1a is electrically connected to the inspection electrode 52a of the inspection electrode device 51a via the anisotropic conductive sheet 55a. ing. On the other hand, the electrode 7 to be inspected on the lower surface of the circuit device 5 is connected to both the current supply electrode 21b and the voltage measurement electrode 21c in the connection electrode pair 21a of the lower adapter device 1b. The terminal electrode 22 of the lower-side adapter device 1b is electrically connected to the inspection electrode 52b of the inspection electrode device 51b via the anisotropic conductive sheet 55b.

このようにして、回路装置5の上面および下面の両方の被検査電極6,7の各々が、上部側検査ヘッド50aにおける検査電極装置51aの検査電極52aおよび下部側検査ヘッド50bにおける検査電極装置51bの検査電極52bの各々に電気的に接続されることにより、テスターの検査回路に電気的に接続された状態が達成され、この状態で所要の電気的検査が行われる。具体的には、上部側アダプター装置1aにおける電流供給用電極21bと下部側アダプター装置1bにおける電流供給用電極21bとの間に一定の値の電流が供給されると共に、上部側のアダプター装置1aにおける複数の電圧測定用電極21cの中から1つを指定し、当該指定された1つの電圧測定用電極21cと、当該電圧測定用電極21cに電気的に接続された上面側の被検査電極6に対応する下面側の被検査電極7に電気的に接続された、下部側アダプター装置1bにおける電圧測定用電極21cとの間の電圧が測定され、得られた電圧値に基づいて、当該指定された1つの電圧測定用電極21cに電気的に接続された上面側の被検査電極6とこれに対応する他面側の被検査電極7との間に形成された配線パターンの電気抵抗値が取得される。そして、指定する電圧測定用電極21cを順次変更することにより、全ての配線パターンの電気抵抗の測定が行われる。   In this way, the test electrodes 6 and 7 on both the upper and lower surfaces of the circuit device 5 are respectively connected to the test electrode 52a of the test electrode device 51a in the upper test head 50a and the test electrode device 51b in the lower test head 50b. By being electrically connected to each of the test electrodes 52b, a state of being electrically connected to the test circuit of the tester is achieved, and a required electrical test is performed in this state. Specifically, a constant value of current is supplied between the current supply electrode 21b in the upper adapter device 1a and the current supply electrode 21b in the lower adapter device 1b, and in the upper adapter device 1a. One of the plurality of voltage measuring electrodes 21c is designated, and the designated one voltage measuring electrode 21c is connected to the inspected electrode 6 on the upper surface side electrically connected to the voltage measuring electrode 21c. The voltage between the voltage measuring electrode 21c in the lower-side adapter device 1b, which is electrically connected to the corresponding lower-surface-side inspected electrode 7, is measured, and based on the obtained voltage value, the designated The electrical resistance value of the wiring pattern formed between the upper electrode under test 6 electrically connected to one voltage measuring electrode 21c and the corresponding other electrode 7 under test is taken. It is. And the electrical resistance of all the wiring patterns is measured by sequentially changing the designated voltage measuring electrode 21c.

上記の回路基板の電気的検査装置によれば、図21に示すような構成の上部側アダプター装置1aおよび下部側アダプター装置1bを有するため、回路装置5の被検査電極6,7が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、当該回路装置5について所要の電気的検査を確実に実行することができる。   According to the circuit board electrical inspection apparatus described above, since the upper-side adapter device 1a and the lower-side adapter device 1b are configured as shown in FIG. Even if they are minute and densely arranged, the required electrical inspection can be reliably performed on the circuit device 5.

本発明においては、上記の実施の形態に限定されず、例えば以下のような種々の変更を加えることが可能である。
(1)異方導電性コネクター10においては、弾性異方導電膜15における導電路形成部16に突出部が形成されることは必須のことではなく、弾性異方導電膜15の表面全体が平坦なものであってもよい。
(2)アダプター装置において、異方導電性コネクター10は、アダプター本体20の接続用電極領域25のみを覆うよう配置されていてもよい。
(3)検査対象である回路装置は、プリント回路基板に限定されず、パッケージIC、MCMなどの半導体集積回路装置、ウエハに形成された回路装置であってもよい。
In the present invention, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications such as the following can be added.
(1) In the anisotropic conductive connector 10, it is not essential that the protruding portion is formed in the conductive path forming portion 16 in the elastic anisotropic conductive film 15, and the entire surface of the elastic anisotropic conductive film 15 is flat. It may be anything.
(2) In the adapter device, the anisotropic conductive connector 10 may be arranged so as to cover only the connection electrode region 25 of the adapter body 20.
(3) The circuit device to be inspected is not limited to a printed circuit board, but may be a semiconductor integrated circuit device such as a package IC or MCM, or a circuit device formed on a wafer.

(4)異方導電性コネクター10の製造方法においては、導電路形成部形成用の支持体として、形成すべき導電路形成部16のパターンに対応するパターンに従って強磁性体部分が配置されてなるものを用いることができる。このような支持体の一例における構成を図25に示す。この支持体30は、導電性エラストマー用材料層が形成される離型性の表面(図25において上面)を有する金属膜31を有し、この金属膜31の裏面には、形成すべき導電路形成部16のパターンに対応するパターンに従って強磁性体部分32が配置され、それ以外の領域には非磁性体部分33が配置されている。
金属膜31を構成する材料としては、ニッケル、金、銅などを用いることができる。
強磁性体部分32を構成する材料としては、ニッケル、コバルトまたはこれらの合金などを用いることができる。
非磁性体部分33を構成する材料としては、フォトレジストを用いることができる。
このような支持体30は、図26に示すように、金属膜31上に、形成すべき強磁性体部分32のパターンに従って開口33Kが形成された非磁性体部分33をフォトレジストによって形成し、その後、金属膜31における非磁性体部分33の開口33Kを介して露出した部分の表面に、メッキ処理を施すことにより、製造することができる。
(4) In the method for manufacturing the anisotropic conductive connector 10, the ferromagnetic part is arranged as a support for forming the conductive path forming part according to a pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming part 16 to be formed. Things can be used. The structure of an example of such a support is shown in FIG. The support 30 has a metal film 31 having a releasable surface (upper surface in FIG. 25) on which a conductive elastomer material layer is formed, and a conductive path to be formed on the back surface of the metal film 31. The ferromagnetic portion 32 is arranged according to a pattern corresponding to the pattern of the forming portion 16, and the nonmagnetic portion 33 is arranged in the other region.
As a material forming the metal film 31, nickel, gold, copper, or the like can be used.
As a material constituting the ferromagnetic portion 32, nickel, cobalt, an alloy thereof, or the like can be used.
As a material constituting the nonmagnetic part 33, a photoresist can be used.
As shown in FIG. 26, such a support 30 is formed of a photoresist on a nonmagnetic part 33 having openings 33K formed on a metal film 31 in accordance with the pattern of the ferromagnetic part 32 to be formed. Thereafter, the surface of the portion exposed through the opening 33K of the nonmagnetic portion 33 in the metal film 31 can be manufactured by plating.

このような支持体30においては、以下のようにして導電路形成部16が形成される。 先ず、図27に示すように、支持体30における金属膜31の表面に、導電性エラストマー用材料層16Aを形成し、この導電性エラストマー材料層16A上に、金属マスク複合体18Fをその金属マスク18の各々が当該導電性エラストマー材料層16Aに接するよう配置する。次いで、導電性エラストマー用材料層16Aに対し、金属マスク18および支持体30の強磁性体部分32を介して当該導電性エラストマー用材料層16Aの厚み方向に磁場を作用させ、これにより、導電性エラストマー用材料層16Aにおける金属マスク18と支持体30の強磁性体部分32との間に位置する部分には、それ以外の部分より大きい強度の磁場が形成される。その結果、導電性エラストマー用材料層16A中に分散されていた導電性粒子Pは、図28に示すように、金属マスク18と支持体30の強磁性体部分32との間に位置する部分に集合し、更に当該導電性エラストマー用材料層16Aの厚み方向に並ぶよう配向する。そして、導電性エラストマー用材料層16Aに対する磁場の作用を継続しながら、或いは磁場の作用を停止した後、導電性エラストマー用材料層16Aの硬化処理を行うことにより、図29に示すように、弾性高分子物質中に導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる導電性エラストマー層16Bが、支持体30上に支持された状態で形成される。
その後、導電性エラストマー層16B上に配置された金属マスク複合体18Fにおける金属箔14に対して、エッチング処理を施して除去することにより、図30に示すように、金属マスク18およびレジスト層19を露出させる。そして、導電性エラストマー層16Bおよびレジスト層19に対して、金属マスク18を介して紫外線レーザーによっててレーザー加工を施すことにより、レジスト層19および導電性エラストマー層16Bの一部が除去され、その結果、図31に示すように、特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部16が支持体30上に支持された状態で形成される。
In such a support 30, the conductive path forming portion 16 is formed as follows. First, as shown in FIG. 27, the conductive elastomer material layer 16A is formed on the surface of the metal film 31 of the support 30, and the metal mask composite 18F is placed on the metal mask composite 18F on the conductive elastomer material layer 16A. Each of 18 is arranged in contact with the conductive elastomer material layer 16A. Next, a magnetic field is applied to the conductive elastomer material layer 16A through the metal mask 18 and the ferromagnetic portion 32 of the support 30 in the thickness direction of the conductive elastomer material layer 16A. In the portion of the elastomer material layer 16 </ b> A located between the metal mask 18 and the ferromagnetic portion 32 of the support 30, a magnetic field that is stronger than the other portions is formed. As a result, the conductive particles P dispersed in the conductive elastomer material layer 16A are located in a portion located between the metal mask 18 and the ferromagnetic portion 32 of the support 30 as shown in FIG. They are assembled and further aligned so as to be aligned in the thickness direction of the conductive elastomer material layer 16A. Then, while continuing the action of the magnetic field on the conductive elastomer material layer 16A, or after stopping the action of the magnetic field, the conductive elastomer material layer 16A is cured, as shown in FIG. A conductive elastomer layer 16 </ b> B is formed in a state in which the conductive particles P are contained in the polymer substance in an aligned state in the thickness direction so as to be supported on the support 30.
Thereafter, the metal foil 14 in the metal mask composite 18F disposed on the conductive elastomer layer 16B is removed by performing an etching process, thereby removing the metal mask 18 and the resist layer 19 as shown in FIG. Expose. Then, the conductive elastomer layer 16B and the resist layer 19 are subjected to laser processing with an ultraviolet laser through the metal mask 18, thereby removing a part of the resist layer 19 and the conductive elastomer layer 16B. As shown in FIG. 31, the plurality of conductive path forming portions 16 arranged according to a specific pattern are formed on the support 30.

このような支持体30を用いる方法によれば、導電性エラストマー材料層16Aに対し、金属マスク18が配置された部分に、それ以外の部分より一層高い強度の磁場を作用させることができるので、得られる導電性エラストマー層16Bは、金属マスク18が配置された部分における導電性粒子Pが一層密となり、それ以外の部分における導電性粒子Pが一層疎となる。そのため、導電性エラストマー層16の厚みが相当に大きいものであっても、当該導電性エラストマー層16Bを紫外線レーザーによってレーザー加工することにより、所期の形態の導電路形成部16を形成することができる。   According to such a method using the support 30, a magnetic field having a higher strength can be applied to the portion where the metal mask 18 is disposed on the conductive elastomer material layer 16 </ b> A, than the other portions. In the obtained conductive elastomer layer 16B, the conductive particles P in the portion where the metal mask 18 is disposed become denser, and the conductive particles P in the other portions become more sparse. Therefore, even if the thickness of the conductive elastomer layer 16 is considerably large, it is possible to form the conductive path forming portion 16 of the desired form by laser processing the conductive elastomer layer 16B with an ultraviolet laser. it can.

(5)異方導電性コネクター10の製造方法においては、図32に示すように、絶縁部形成用の支持体35として、弾性基板36上に金属膜37が配置されてなるものを用いることができる。
弾性基板36を構成する材料としては、硬化ゴム、熱可塑性エラストマーなどの弾性高分子物質を用いることができる。
金属膜37を構成する材料としては、銅、金、ニッケル、銀、鉄、コバルト若しくはこれらの合金またはこれらの合金鋼などを用いることができる。
このような支持体35を用いる方法によれば、支持体35上に形成された絶縁部用材料層17A中に導電路形成部16を浸入させて支持体35に接触させ、更に加圧することにより、当該支持体35における加圧された部分が厚み方向に圧縮した状態に変形され、これにより、絶縁部用材料層17Aを硬化する前に、導電路形成部16が当該絶縁部用材料層17Aの下面から突出した状態となるため、突出部を有する異方導電性コネクター10を確実に製造することができる。
(5) In the method for manufacturing the anisotropic conductive connector 10, as shown in FIG. 32, as the support 35 for forming the insulating portion, a member in which a metal film 37 is disposed on an elastic substrate 36 is used. it can.
As a material constituting the elastic substrate 36, an elastic polymer substance such as a cured rubber or a thermoplastic elastomer can be used.
As a material constituting the metal film 37, copper, gold, nickel, silver, iron, cobalt, an alloy thereof, or an alloy steel thereof can be used.
According to such a method using the support 35, the conductive path forming portion 16 is infiltrated into the insulating material layer 17A formed on the support 35, brought into contact with the support 35, and further pressurized. Then, the pressurized portion of the support 35 is deformed into a compressed state in the thickness direction, so that the conductive path forming portion 16 is in contact with the insulating portion material layer 17A before the insulating portion material layer 17A is cured. Thus, the anisotropic conductive connector 10 having the protruding portion can be reliably manufactured.

(6)導電路形成部16の形成においては、レーザー加工によって導電性エラストマー層16Bにおける導電路形成部となる部分以外の部分の全部が除去されることにより、導電路形成部を形成することもできるが、図33および図34に示すように、導電性エラストマー層16Bにおける導電路形成部となる部分の周辺部分のみが除去されることにより、導電路形成部16を形成することもできる。この場合には、導電性エラストマー層16Bの残部は、支持体13から機械的に剥離することによって除去することができる。 (6) In the formation of the conductive path forming portion 16, the conductive path forming portion may be formed by removing all of the conductive elastomer layer 16B other than the portion that becomes the conductive path forming portion by laser processing. However, as shown in FIGS. 33 and 34, the conductive path forming portion 16 can also be formed by removing only the peripheral portion of the conductive elastomer layer 16B that becomes the conductive path forming portion. In this case, the remaining part of the conductive elastomer layer 16 </ b> B can be removed by mechanically peeling from the support 13.

(7)異方導電性コネクター10としては、図35に示すように、単一の開口12が形成されたフレーム板11と、このフレーム板11の開口12を塞ぐよう配置された単一の弾性異方導電膜15とよりなる構成のものであってもよい。
また、異方導電性コネクター10としては、図36に示すように、複数の開口12が形成されたフレーム板11と、それぞれフレーム板11の一の開口12を塞ぐよう配置された複数の弾性異方導電膜15とよりなる構成のものであってもよい。
更に、異方導電性コネクター10としては、複数の開口が形成されたフレーム板と、フレーム板の一の開口を塞ぐよう配置された1または2以上の弾性異方導電膜と、フレーム板の複数の開口を塞ぐよう配置された1つまたは2以上の弾性異方導電膜とよりなる構成であってもよい。
(7) As shown in FIG. 35, the anisotropically conductive connector 10 includes a frame plate 11 in which a single opening 12 is formed, and a single elastic member disposed so as to close the opening 12 of the frame plate 11. The structure which consists of the anisotropic conductive film 15 may be sufficient.
In addition, as shown in FIG. 36, the anisotropic conductive connector 10 includes a frame plate 11 having a plurality of openings 12 and a plurality of elastic plates each disposed so as to close one opening 12 of the frame plate 11. The structure which consists of the direction conductive film 15 may be sufficient.
Further, the anisotropic conductive connector 10 includes a frame plate in which a plurality of openings are formed, one or more elastic anisotropic conductive films arranged so as to close one opening of the frame plate, and a plurality of frame plates. The structure which consists of 1 or 2 or more elastic anisotropic conductive films arrange | positioned so that the opening of this may be plugged may be sufficient.

本発明に係る異方導電性コネクターの第1の例における構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure in the 1st example of the anisotropically conductive connector which concerns on this invention. 図1に示す異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which expands and shows the structure of the principal part of the anisotropically conductive connector shown in FIG. 金属箔上に特定のパターンに従って形成された複数の開口を有するレジスト層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the resist layer which has the some opening formed according to the specific pattern on the metal foil was formed. レジスト層の各開口内に金属マスクが形成されて金属マスク複合体が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the metal mask was formed in each opening of a resist layer, and the metal mask composite_body | complex was formed. 支持体上に導電性エラストマー用材料層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the conductive elastomer material layer was formed on the support body. 導電性エラストマー用材料層の表面に金属マスク複合体が配置された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the metal mask composite body has been arrange | positioned on the surface of the material layer for conductive elastomers. 導電性エラストマー用材料層にその厚み方向に磁場が作用された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the magnetic field was acted on the thickness direction of the conductive elastomer material layer. 支持体上に導電性エラストマー層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the conductive elastomer layer was formed on the support body. 金属マスク複合体の金属箔が除去された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state from which the metal foil of the metal mask composite was removed. 支持体上に特定のパターンに従って複数の導電路形成部が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the several conductive path formation part was formed according to the specific pattern on the support body. 支持体上に絶縁部用材料層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the insulating part material layer was formed on the support body. 絶縁部用材料層が形成された支持体上に、導電路形成部が形成された支持体が重ね合わされた状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state with which the support body in which the conductive path formation part was formed was overlaid on the support body in which the material layer for insulation parts was formed. 隣接する導電路形成部間に絶縁部が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the insulating part was formed between the adjacent conductive path formation parts. 本発明に係る異方導電性コネクターの第2の例における構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure in the 2nd example of the anisotropically conductive connector which concerns on this invention. 図14に示す異方導電性コネクターの要部の構成を拡大して示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which expands and shows the structure of the principal part of the anisotropically conductive connector shown in FIG. 支持体上に、フレーム板が配置されると共に、絶縁部用材料層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the frame board was arrange | positioned on the support body and the insulating part material layer was formed. 絶縁部用材料層が形成された支持体上に、導電路形成部が形成された支持体が重ね合わされた状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state with which the support body in which the conductive path formation part was formed was overlaid on the support body in which the material layer for insulation parts was formed. 隣接する導電路形成部間に絶縁部が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the insulating part was formed between the adjacent conductive path formation parts. 本発明に係るアダプター装置の第1の例における構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure in the 1st example of the adapter apparatus which concerns on this invention. 図19に示すアダプター装置におけるアダプター本体の構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure of the adapter main body in the adapter apparatus shown in FIG. 本発明に係るアダプター装置の第2の例における構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure in the 2nd example of the adapter apparatus which concerns on this invention. 図21に示すアダプター装置におけるアダプター本体の構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure of the adapter main body in the adapter apparatus shown in FIG. 本発明に係る回路装置の電気的検査装置の第1の例における構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in the 1st example of the electrical inspection apparatus of the circuit apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る回路装置の電気的検査装置の第2の例における構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in the 2nd example of the electrical inspection apparatus of the circuit apparatus which concerns on this invention. 導電路形成部形成用の支持体の他の例における構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure in the other example of the support body for conductive path formation part formation. 金属膜上に非磁性体部分が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the non-magnetic-material part was formed on the metal film. 図25に示す支持体上に形成された導電性エラストマー用材料層の表面に金属マスク複合体が配置された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the metal mask composite body is arrange | positioned on the surface of the material layer for conductive elastomers formed on the support body shown in FIG. 導電性エラストマー用材料層にその厚み方向に磁場が作用された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the magnetic field was acted on the thickness direction of the conductive elastomer material layer. 図25に示す支持体上に導電性エラストマー層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the conductive elastomer layer was formed on the support body shown in FIG. 金属マスク複合体の金属箔が除去された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state from which the metal foil of the metal mask composite was removed. 支持体上に特定のパターンに従って複数の導電路形成部が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the several conductive path formation part was formed according to the specific pattern on the support body. 絶縁部形成用の支持体の他の例における構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure in the other example of the support body for insulation parts formation. 導電性エラストマー層における導電路形成部となる部分の周辺部分のみが除去されることにより、導電路形成部が形成された状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state in which the conductive path formation part was formed by removing only the peripheral part of the part used as the conductive path formation part in a conductive elastomer layer. 導電性エラストマー層における導電路形成部となる部分の周辺部分のみが除去されることにより、導電路形成部が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the conductive path formation part was formed by removing only the peripheral part of the part used as the conductive path formation part in a conductive elastomer layer. 本発明に係る異方導電性コネクターの他の例における構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in the other example of the anisotropically conductive connector which concerns on this invention. 本発明に係る異方導電性コネクターの更に他の例における構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in the further another example of the anisotropically conductive connector which concerns on this invention. 従来の異方導電性コネクターの製造方法において、異方導電性エラストマーシートを成形するための金型の構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure of the metal mold | die for shape | molding an anisotropically conductive elastomer sheet in the manufacturing method of the conventional anisotropically conductive connector. 図37に示す金型内に、フレーム板が配置されると共に、異方導電性エラストマー用材料層が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the frame board was arrange | positioned in the metal mold | die shown in FIG. 37, and the material layer for anisotropic conductive elastomer was formed. 従来の異方導電性コネクターが製造された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the conventional anisotropically conductive connector was manufactured. 従来の異方導電性コネクターの製造方法において、異方導電性エラストマー用材料層に作用される磁場の方向を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the direction of the magnetic field which acts on the anisotropically conductive elastomer material layer in the manufacturing method of the conventional anisotropically conductive connector.

符号の説明Explanation of symbols

1a 上部側アダプター装置
1b 下部側アダプター装置
2 ホルダー
3 位置決めピン
5 回路装置
6,7 被検査電極
10 異方導電性コネクター
11 フレーム板
12 開口
13,13A 支持体
14 金属箔
15 弾性異方導電膜
16 導電路形成部
16A 導電性エラストマー用材料層
16B 導電性エラストマー層
17 絶縁部
17A 絶縁部用材料層
18 金属マスク
18F 金属マスク複合体
19 レジスト層
19K 開口
20 アダプター本体
21,21b,21c 接続用電極
21a 接続用電極対
22 端子電極
23 内部配線部
25 接続用電極領域
30 支持体
31 金属膜
32 強磁性体部分
33 非磁性体部分
33K 開口
35 支持体
36 弾性基板
37 金属膜
50a 上部側検査ヘッド
50b 下部側検査ヘッド
51a,51b 検査電極装置
52a,52b 検査電極
53a,53b 電線
54a,54b 支柱
55a,55b 異方導電性シート
56a 上部側支持板
56b 下部側支持板
57a,57b コネクター
80 一方の型板
81 基板
82,82a,82b 強磁性体部
83 非磁性体部
85 他方の型板
86 基板
87,87a,87b 強磁性体部
88 非磁性体部
90 フレーム板
91 開口
95 異方導電性エラストマーシート
95A 異方導電性エラストマー用材料層
96 導電路形成部
97 絶縁部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a Upper side adapter apparatus 1b Lower side adapter apparatus 2 Holder 3 Positioning pin 5 Circuit apparatus 6,7 Electrode to be inspected 10 Anisotropic conductive connector 11 Frame board 12 Opening 13 and 13A Support body 14 Metal foil 15 Elastic anisotropic conductive film 16 Conductive path forming portion 16A Conductive elastomer material layer 16B Conductive elastomer layer 17 Insulating portion 17A Insulating portion material layer 18 Metal mask 18F Metal mask composite 19 Resist layer 19K Opening 20 Adapter body 21, 21b, 21c Connecting electrode 21a Connection electrode pair 22 Terminal electrode 23 Internal wiring part 25 Connection electrode region 30 Support 31 Metal film 32 Ferromagnetic part 33 Nonmagnetic part 33K Opening 35 Support 36 Elastic substrate 37 Metal film 50a Upper side inspection head 50b Lower part Side inspection heads 51a, 51b Inspection electrode devices 52a, 5 2b Inspection electrodes 53a, 53b Electric wires 54a, 54b Struts 55a, 55b Anisotropic conductive sheet 56a Upper support plate 56b Lower support plates 57a, 57b Connector 80 One template 81 Substrate 82, 82a, 82b Ferromagnetic part 83 Nonmagnetic body portion 85 Other template 86 Substrate 87, 87a, 87b Ferromagnetic portion 88 Nonmagnetic portion 90 Frame plate 91 Opening 95 Anisotropically conductive elastomer sheet 95A Anisotropically conductive elastomer material layer 96 Conductive path formation Part 97 Insulation part

Claims (11)

磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁されてなる弾性異方導電膜を有する異方導電性コネクターにおいて、
前記導電路形成部のみに、紫外線吸収物質が含有されていることを特徴とする異方導電性コネクター。
Anisotropic conductivity having an elastic anisotropic conductive film in which a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction are contained in a state where conductive particles exhibiting magnetism are aligned so as to be aligned in the thickness direction are insulated from each other by an insulating portion In the sex connector
An anisotropic conductive connector characterized in that an ultraviolet absorbing material is contained only in the conductive path forming portion.
磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁されてなる弾性異方導電膜を有する異方導電性コネクターにおいて、
前記導電路形成部には、紫外線吸収物質が含有されており、
前記導電路形成部は、弾性高分子物質中に、紫外線吸収物質および厚み方向に並ぶよう配向した多数の導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー層を、紫外線レーザーによってレーザー加工することによって得られるものであることを特徴とする異方導電性コネクター。
Anisotropic conductivity having an elastic anisotropic conductive film in which a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction are contained in a state where conductive particles exhibiting magnetism are aligned so as to be aligned in the thickness direction are insulated from each other by an insulating portion In the sex connector
The conductive path forming portion contains an ultraviolet absorbing material,
The conductive path forming portion is obtained by laser processing a conductive elastomer layer containing an ultraviolet absorbing material and a large number of conductive particles oriented in the thickness direction in an elastic polymer material with an ultraviolet laser. An anisotropic conductive connector, characterized in that
磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁されてなる弾性異方導電膜を有する異方導電性コネクターにおいて、
前記導電路形成部には、紫外線吸収物質が含有されており、
前記導電路形成部は、弾性高分子物質中に、紫外線吸収物質および厚み方向に並ぶよう配向した多数の導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー層を、紫外線レーザーによってレーザー加工することによって得られるものであり、
前記絶縁部は、前記導電路形成部の間に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料よりなる絶縁部用材料層を形成して硬化処理することによって得られるものであることを特徴とする異方導電性コネクター。
Anisotropic conductivity having an elastic anisotropic conductive film in which a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction are contained in a state where conductive particles exhibiting magnetism are aligned so as to be aligned in the thickness direction are insulated from each other by an insulating portion In the sex connector
The conductive path forming portion contains an ultraviolet absorbing material,
The conductive path forming portion is obtained by laser processing a conductive elastomer layer containing an ultraviolet absorbing material and a large number of conductive particles oriented in the thickness direction in an elastic polymer material with an ultraviolet laser. Is,
The insulating part is obtained by forming and curing a material layer for an insulating part made of a polymer substance forming material that is cured and becomes an elastic polymer substance between the conductive path forming parts. An anisotropic conductive connector characterized by
紫外線吸収物質が顔料であることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の異方導電性コネクター。   The anisotropic conductive connector according to claim 2, wherein the ultraviolet absorbing material is a pigment. 開口を有するフレーム板を有し、弾性異方導電膜は、前記フレーム板の開口を塞ぐよう形成されていることを特徴とする請求項2乃至請求項4のいずれかに記載の異方導電性コネクター。   5. The anisotropic conductive film according to claim 2, further comprising a frame plate having an opening, wherein the elastic anisotropic conductive film is formed so as to close the opening of the frame plate. 6. connector. 導電性エラストマー層は、支持体上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に紫外線吸収物質および磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー用材料層を形成し、この導電性エラストマー用材料層の表面に、形成すべき導電路形成部のパターンに対応する特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置し、この状態で、当該導電性エラストマー用材料層に対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマー用材料層を硬化処理することによって得られるものであることを特徴とする請求項2乃至請求項5のいずれかに記載の異方導電性コネクター。   The conductive elastomer layer is a material layer for a conductive elastomer, wherein a liquid polymer substance forming material that is cured to become an elastic polymer substance contains a UV absorbing substance and conductive particles exhibiting magnetism on the support. And a metal mask showing magnetism according to a specific pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion to be formed is disposed on the surface of the conductive elastomer material layer, and in this state, the conductive elastomer material The magnetic layer is obtained by applying a magnetic field in the thickness direction to the layer and curing the conductive elastomer material layer. Anisotropic conductive connector. 磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されてなる厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が、絶縁部によって相互に絶縁されてなる弾性異方導電膜を有する異方導電性コネクターを製造する方法であって、
支持体上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に紫外線吸収物質および磁性を示す導電性粒子が含有されてなる導電性エラストマー用材料層を形成し、
この導電性エラストマー用材料層の表面に、形成すべき導電路形成部のパターンに対応する特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置し、この状態で、当該導電性エラストマー用材料層に対して、その厚み方向に磁場を作用させると共に、当該導電性エラストマー用材料層を硬化処理することにより、導電性エラストマー層を形成し、
この導電性エラストマー層を紫外線レーザーによってレーザー加工して前記金属マスクが配置された部分以外の部分を除去することにより、前記支持体上に、前記特定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部を形成し、これらの導電路形成部の間に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料よりなる絶縁部用材料層を形成して硬化処理することにより絶縁部を形成する工程を有することを特徴とする異方導電性コネクターの製造方法。
Anisotropic structure comprising a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction, which are contained in a state in which conductive particles exhibiting magnetism are aligned in the thickness direction, and are insulated from each other by an insulating portion. A method of manufacturing a conductive connector, comprising:
On the support, a material layer for a conductive elastomer is formed in which a liquid polymer substance forming material that is cured to become an elastic polymer substance contains an ultraviolet absorbing substance and conductive particles exhibiting magnetism,
A metal mask showing magnetism is arranged on the surface of the conductive elastomer material layer according to a specific pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion to be formed. In addition, the conductive elastomer layer is formed by applying a magnetic field in the thickness direction and curing the material layer for the conductive elastomer.
A plurality of conductive path forming portions arranged in accordance with the specific pattern on the support by removing a portion other than the portion where the metal mask is arranged by laser processing the conductive elastomer layer with an ultraviolet laser. Forming an insulating portion by forming a material layer for an insulating portion made of a polymer material forming material which is cured and becomes an elastic polymer material between these conductive path forming portions and curing the layer. A method for manufacturing an anisotropically conductive connector, comprising:
金属箔上に、特定のパターンに従って開口が形成されたレジスト層を形成し、前記金属箔における前記レジスト層の開口から露出した部分の表面に磁性を示す金属によるメッキ処理を施すことにより、当該レジスト層の開口の各々に金属マスクが形成されてなる金属マスク複合体を製造し、この金属マスク複合体を導電性エラストマー用材料層の表面に積重することにより、当該導電性エラストマー用材料層の表面に、前記特定のパターンに従って磁性を示す金属マスクを配置することを特徴とする請求項7に記載の異方導電性コネクターの製造方法。   A resist layer having openings formed in accordance with a specific pattern is formed on the metal foil, and the surface of the portion exposed from the openings of the resist layer in the metal foil is subjected to a plating treatment with a metal exhibiting magnetism, whereby the resist A metal mask composite in which a metal mask is formed in each of the openings of the layer is manufactured, and the metal mask composite is stacked on the surface of the conductive elastomer material layer to thereby form the conductive elastomer material layer. 8. The method of manufacturing an anisotropic conductive connector according to claim 7, wherein a metal mask exhibiting magnetism is disposed on a surface according to the specific pattern. 表面に検査すべき回路装置における被検査電極に対応するパターンに従って複数の接続用電極が形成された接続用電極領域を有するアダプター本体と、
このアダプター本体の接続用電極領域上に配置された、当該アダプター本体における接続用電極に対応するパターンに従って形成された複数の導電路形成部を有する、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の異方導電性コネクターと
を具えてなることを特徴とするアダプター装置。
An adapter body having a connection electrode region in which a plurality of connection electrodes are formed according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface;
7. The device according to claim 1, further comprising: a plurality of conductive path forming portions formed on the connection electrode region of the adapter main body and formed according to a pattern corresponding to the connection electrode in the adapter main body. And an anisotropic conductive connector.
表面に検査すべき回路装置における被検査電極に対応するパターンに従ってそれぞれ電流供給用および電圧測定用の2つの接続用電極からなる複数の接続用電極対が形成された接続用電極領域を有するアダプター本体と、
このアダプター本体の接続用電極領域上に配置された、当該アダプター本体における接続用電極に対応するパターンに従って形成された複数の導電路形成部を有する、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の異方導電性コネクターと
を具えてなることを特徴とするアダプター装置。
An adapter body having a connection electrode region in which a plurality of connection electrode pairs each comprising two connection electrodes for current supply and voltage measurement are formed according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected in a circuit device to be inspected on the surface When,
7. The device according to claim 1, further comprising: a plurality of conductive path forming portions formed on the connection electrode region of the adapter main body and formed according to a pattern corresponding to the connection electrode in the adapter main body. And an anisotropic conductive connector.
請求項9または請求項10に記載のアダプター装置を具えてなることを特徴とする回路装置の電気的検査装置。
An electrical inspection device for a circuit device, comprising the adapter device according to claim 9 or 10.
JP2005273721A 2005-09-21 2005-09-21 Anisotropic conductive connector and manufacturing method thereof, adapter device and circuit device electrical inspection device Pending JP2007087709A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005273721A JP2007087709A (en) 2005-09-21 2005-09-21 Anisotropic conductive connector and manufacturing method thereof, adapter device and circuit device electrical inspection device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005273721A JP2007087709A (en) 2005-09-21 2005-09-21 Anisotropic conductive connector and manufacturing method thereof, adapter device and circuit device electrical inspection device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007087709A true JP2007087709A (en) 2007-04-05

Family

ID=37974485

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005273721A Pending JP2007087709A (en) 2005-09-21 2005-09-21 Anisotropic conductive connector and manufacturing method thereof, adapter device and circuit device electrical inspection device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007087709A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018030438A1 (en) * 2016-08-08 2018-02-15 積水化学工業株式会社 Conduction inspection device member and conduction inspection device
JP2019036516A (en) * 2016-12-01 2019-03-07 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film
CN114302302A (en) * 2021-12-30 2022-04-08 歌尔股份有限公司 Vibrating diaphragm and preparation method thereof, sound production device and electronic equipment
KR20220121458A (en) * 2021-02-25 2022-09-01 주식회사 아이에스시 connector for electrical connection
JP2022176967A (en) * 2016-12-01 2022-11-30 デクセリアルズ株式会社 anisotropic conductive film

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06103820A (en) * 1992-09-21 1994-04-15 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Mold for anisotropic conductive sheet manufacturing
JPH08278341A (en) * 1995-04-05 1996-10-22 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Circuit board device for inspection
JPH1140224A (en) * 1997-07-11 1999-02-12 Jsr Corp Anisotropic conductive sheet
JPH11154550A (en) * 1997-11-19 1999-06-08 Jsr Corp connector
JPH11167945A (en) * 1997-12-04 1999-06-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd Electrical connector and its manufacture
JP2003163047A (en) * 2001-11-28 2003-06-06 Jsr Corp Anisotropic conductive sheet, method for manufacturing anisotropic conductive sheet, inspection jig for electric circuit component, and method for inspecting electric circuit component
JP2004342597A (en) * 2003-04-21 2004-12-02 Jsr Corp Anisotropic conductive sheet, method for manufacturing the same, adapter device, method for manufacturing the same, and electrical inspection device for circuit device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06103820A (en) * 1992-09-21 1994-04-15 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Mold for anisotropic conductive sheet manufacturing
JPH08278341A (en) * 1995-04-05 1996-10-22 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Circuit board device for inspection
JPH1140224A (en) * 1997-07-11 1999-02-12 Jsr Corp Anisotropic conductive sheet
JPH11154550A (en) * 1997-11-19 1999-06-08 Jsr Corp connector
JPH11167945A (en) * 1997-12-04 1999-06-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd Electrical connector and its manufacture
JP2003163047A (en) * 2001-11-28 2003-06-06 Jsr Corp Anisotropic conductive sheet, method for manufacturing anisotropic conductive sheet, inspection jig for electric circuit component, and method for inspecting electric circuit component
JP2004342597A (en) * 2003-04-21 2004-12-02 Jsr Corp Anisotropic conductive sheet, method for manufacturing the same, adapter device, method for manufacturing the same, and electrical inspection device for circuit device

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018030438A1 (en) * 2016-08-08 2018-02-15 積水化学工業株式会社 Conduction inspection device member and conduction inspection device
CN109564240A (en) * 2016-08-08 2019-04-02 积水化学工业株式会社 Breakover detecting device component and breakover detecting device
JPWO2018030438A1 (en) * 2016-08-08 2019-06-13 積水化学工業株式会社 Conductivity inspection member and continuity inspection device
US11092620B2 (en) 2016-08-08 2021-08-17 Sekisui Chemical Co., Ltd. Conduction inspection device member and conduction inspection device
JP2019036516A (en) * 2016-12-01 2019-03-07 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film
JP2022176967A (en) * 2016-12-01 2022-11-30 デクセリアルズ株式会社 anisotropic conductive film
KR20220121458A (en) * 2021-02-25 2022-09-01 주식회사 아이에스시 connector for electrical connection
KR102502104B1 (en) 2021-02-25 2023-02-23 주식회사 아이에스시 Connector for electrical connection
CN114302302A (en) * 2021-12-30 2022-04-08 歌尔股份有限公司 Vibrating diaphragm and preparation method thereof, sound production device and electronic equipment
CN114302302B (en) * 2021-12-30 2024-02-02 歌尔股份有限公司 Vibrating diaphragm, manufacturing method thereof, sound generating device and electronic equipment

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3753145B2 (en) Anisotropic conductive sheet and method for manufacturing the same, adapter device and method for manufacturing the same, and electrical inspection device for circuit device
WO2007043350A1 (en) Anisotropic conductive connector and inspection equipment of circuit device
KR20080079670A (en) Wafer Inspection Circuit Board Device, Probe Card and Wafer Inspection Device
US20060176064A1 (en) Connector for measurement of electric resistance, connector device for measurement of electric resistance and production process thereof, and measuring apparatus and measuring method of electric resistance for circuit board
WO2006087877A1 (en) Composite conductive sheet, method for producing the same, anisotropic conductive connector, adapter, and circuit device electric inspection device
WO2007007869A1 (en) Connector for measuring electrical resistance, and apparatus and method for measuring electrical resistance of circuit board
JP2006040632A (en) Anisotropic conductive connector and manufacturing method thereof, adapter device and circuit device electrical inspection device
JP4380373B2 (en) Electrical resistance measurement connector, electrical resistance measurement connector device and manufacturing method thereof, and circuit board electrical resistance measurement device and measurement method
JP2007087709A (en) Anisotropic conductive connector and manufacturing method thereof, adapter device and circuit device electrical inspection device
JP4725318B2 (en) COMPOSITE CONDUCTIVE SHEET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, ANISOTROPIC CONDUCTIVE CONNECTOR, ADAPTER DEVICE, AND ELECTRIC INSPECTION DEVICE FOR CIRCUIT DEVICE
JP2009129609A (en) Electrical inspection device for composite conductive sheet, anisotropic conductive connector, adapter device and circuit device
JP2007071753A (en) Electrical resistance measuring connector, circuit board electrical resistance measuring device and measuring method
JP2008101931A (en) Electrical inspection device for composite conductive sheet, anisotropic conductive connector, adapter device and circuit device
WO2006043629A1 (en) Adapter, manufacturing method thereof, and electric inspection device for circuit device
JP2007265705A (en) Anisotropic conductive connector and its application
JP2007040952A (en) ADAPTER DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND CIRCUIT DEVICE ELECTRIC INSPECTION DEVICE
JPWO2007026663A1 (en) Circuit board inspection apparatus, circuit board inspection method, and anisotropic conductive connector
JP2010066003A (en) Electric-resistance measuring electrode sheet and method of manufacturing the same, electric-resistance measuring connector, and device of measuring electric resistance of circuit board
WO2006043628A1 (en) Anisotropic conductive connector and production method therefor, adaptor device and electrical inspection device
JP2007064673A (en) Anisotropic conductive connector and manufacturing method thereof, adapter device and circuit device electrical inspection device
WO2008015967A1 (en) Composite conductive sheet, method for manufacturing the same and application of the same
JP2007093237A (en) Wafer inspection probe card, wafer inspection apparatus and wafer inspection method
JP3966357B2 (en) Electrical resistance measuring connector, circuit board electrical resistance measuring device and measuring method
JP2006236972A (en) Anisotropic conductive connector and manufacturing method thereof, adapter device and circuit device electrical inspection device
JP2007225534A (en) Composite conductive sheet, anisotropic conductive connector and adapter device, and circuit device electrical inspection device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080611

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100614

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100622

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101019