TWM405122U - Duplex scanning apparatus with elastic pressing member disposed between two scan positions - Google Patents

Description

M405122 五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本新型係關於一種雙面掃描設備，尤其關於一種在 兩個掃描位置中間設置彈性壓制器之雙面掃描設備，以 維持整體掃描影像品質。 【先前技術】 傳統的雙面掃描設備’不論是利用電荷耦合元件影 鲁像感測器（Charge-coupled device (CCD) type image sensor) 或接觸式影像感測器（Contact type image sensor，CIS)之 知·描模組’通常都需要在饋紙路徑上設置兩片透明玻璃， 來隔開紙張及掃描模組並定義出掃描區域及饋紙通道。 即使饋紙通道之間距被設計成可活動式，仍須保留一定 的間距才能讓各種原稿順利地通過而不卡紙。因為所需 要掃描的原稿可具有各種厚度，所以饋紙通道不能被設 计得太狭窄，否則較厚的原稿，譬如是名片或磁卡、晶 φ 片卡等，就無法平順地進入及通過掃描區域。然而，較 '輕薄的原稿，譬如是收據或信紙等，在饋紙通道中會上 下晃動，尤其是採用CIS影像感測器時，會因為原稿的 凹凸不平或邊緣彎曲，而導致經掃描後獲得的影 模糊和散焦的現象。 因此，本新型提供一種在兩個掃描位置中間設置彈 性壓制器之雙面掃描設備，作為解決上述問題的方案。 【新型内容】 5 M405122 本新型之一個目的係提供一種在兩個掃描位置中間 設置彈性壓制器之雙面掃描設備，其能掃描不同厚度的 各式原稿’並利用彈性壓制器來壓制這些原稿以提升掃 描品質。 為達上述目的，本新型提供—種雙面掃描設備，包 含一通道、一第一光學模組、一第二光學模組、一饋送 ’· 機構及一彈性壓制器。第一光學模組設置於通道之一侧。 ' 第一光學模組設置於第一光學模組之相對側。饋送機構 • 用以饋送一原稿通過第一光學模组之一第一掃描位置及 第二光學模組之一第二掃描位置，以分別取得原稿之一 正面之影像及原稿之一反面之影像。彈性壓制器位於第 一掃描位置與第二掃描位置之間’將原稿朝—原稿承載 平面推壓。 利用上述的雙面掃描設備，原稿不論是在通過第一 掃描位置或第二掃描位置時，都能穩定的前進，不會有 大幅度垂直位移的情況發生。 為讓本新型之上述内容能更明顯易懂，下文特舉一 ，較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。 【實施方式】 圖1顯示依據本新型之一種雙面掃描設備 之外觀圖!所示’本新型之雙面掃描設備"卜⑼… 係為一種多功能事務機，用以趑 用以將一供應紙匣110上之原 稿〇饋送至掃描區中進行螯&搞 ’、 叮芰面知描，掃描的結果可以 列印在紙張S上’亦可以直接 且按W出至外部的資料處理或 M405122 儲存設備中。 圖2顯示依據本新型之另一種 1/171"/1"，之干音阁 掃描設備 疋不意圖。如圖2所示，本新型 ^ 1 / 1 V 1 "/1 -r λ 雙面掃描設 係可為一種饋紙式雙面掃描

滾輪143及被强葚呷箱15，利用進紙 夂破彈簧142加壓之摩擦元件M 滚輪144、ΐ4ς~ΐΐιΐ々 酉己合讀紙 45來將供應紙匣110上之原稳 過掃描後，1¾彻逐一饋送通 扩線兩個掃描模組130、135掃描原稿 影傻。蕞尨 社， 们υ兩面的 120。 饋紙滾輪146、147饋送原稿〇至輸出紙£ 之二3二示依如據本新型第一實施例之雙面掃描設備i 1包含一二 所示，本實施例之雙面掃描設備 ^通道10、一第一光學模組20 二 3〇、一錯她进/ΙΛ 光于模組 、機構40、以及一彈性壓制器5 組20和第二朵風捣4 乐光學模 光千模組30可包含CCD或CIS光 第一光學模組2〇 模，·且^ 捃, 置於通道1 0之一側。第-朵墨 模組30設置於第—本風冰a 乐一尤學 包含饋送滚輪41、4二3、：24〇之相對侧。饋送機構 過第一光學模組2〇之_第用以饋送一原稿0通 學模組20取得原稿Ω夕w田位置。Ρ1間第一光 .π ，、鲕〇之—正面01之影像。饋送棬燼4ft 並且饋送原稿〇通過帛_ 圮機構40 、乐—光學模組3〇之一第_挺 〇P2，以讓第二光風代〜 ^弟—知描位置 影像。 予板組30取得原稿〇之一反面02之 彈性壓制器50位 ¥ ea 於第一知描位置Ο?1與第二播 置OP2之間，並蔣；5 p 半一押描位 於太者浐钿Φ 、原稿〇朝一原稿承載平面61推壓。 於本實Μ例中，彈μ蔽止丨^ 制器50係為一彈片，但本新型並 7 M405122 未受限於此，彈性壓制器5 0 f -r 8 益亦可以是橡膠輪、泡棉等。 此外，雙面掃描設備i更包含一第一透明平台6〇、 -導紙、m-第一本體80及一第二本體85。第一 本體80及第一本體85係可相對移動(包含平移及轉動) 以改變通道1〇之尺寸。第—光學模組2〇係設置於卜 本體80中，而第二光學模組3〇係設置於第二本體Μ中。 原稿承載平面61位於第一透明平台6〇，而彈性壓制 器50推壓㈣0使原稿〇平貼於第—透明平台⑹因

此，原稿0 S被馈送通過第一掃描位£ 〇ρι和第二掃描 位置OP2時，是沿著原稿承載平面61平穩地前進。在 本實施例中，導紙結構70包含一第二透明平台72及一 校正片承載板90。校正片承載板9〇位於第一掃描位置 OP1上，並固定至第二本體85。一第一校正片設置

於校正片承載板90之下表面。校正片承載板9G位於第 一掃描位置OP1上’因此第一光學模組20可以取得第 =校正片91之影像，作為校正影像感測器及補償影像訊 號之依據。另一方面，第一本體8〇上亦可以設置一第二 校正片92，第二校正片92位於第二掃描位置〇p2上， 讓第二光學模組30可以取得第二校正片92之影像以作 為校正掃描設備之另一依據。 導纸結構70設置於通道1〇之其中一側，譬如是上 側或下側。於圖3中，導紙結構7〇係設置於通道1 〇之 上側，而原稿承載平面6丨係設置於導紙結構7〇之相對 側。彈性壓制g 5〇之_固定端54係安裝於導紙結構Μ 的第二透明平台72與適配件74之間。原稿〇沿著一饋 8 M405122 送方向D ϋΙ λ 4a 置知描區域。原稿〇的前端通過第一掃描位 置〇Ρ2/ί’/先經過彈性壓制器50才到達第二掃描位 時，原太的前端碰觸到彈性壓制器50的自由端52 器50 6可此會往上方翹起的原稿〇的前端被彈性壓制 之自由端52壓下而緊貼著第一透明平台6〇移動。 =不論是通過第-掃描位置〇ρι或第二掃描位置〇p2 '、秘0都能平貼或貼近第一透明平台60移動如此一 ’整體掃描影像品質也能維持在相同的水準。如果沒 有在第:掃指位置〇P1與第二掃描位置〇P2之間設置彈 性壓：器50 ’原稿0的前端在通過第-掃描位置opl或 第二掃描位置⑽時便容易有㈣或垂直偏移預定路徑 的情形發生，產生的影像中也會呈現局部陰影。 圖4顯示依據本新型第一實施例之第二透明平台72 及彈性壓制器50之放大示意圖。如圖4所示，第二透明 平台72包含一上表面72A，及一連接至上表面72八之側 面72B。側面72B係位於第一掃描位置〇ρι與第二掃描 位置0P2之間《此外，第二透明平台72更可包含一連 接至側面72B之斜面72C，及一連接至斜面72C之下表 面72D。上表面72A與下表面72D實質上平行，而側面 72B大致垂直於上表面72A及下表面72D。彈性壓制器 50包含一第一區段53及一第二區段55。第一區段53固 定至上表面72A。第二區段55，連接至第一區段53，固 定至側面72B。第二區段55可以平貼著斜面72C，並具 有一用以壓制原稿0之自由端52。藉由上述結構，彈性 壓制器50可以穩固地裝設於第二透明平台72上，並以 M405122 適當的傾斜度和施加適當的正向力來壓制原稿〇。 圖5顯示依據本新型第二實施例之雙 設 之局部示意圖。圖5與圖3的差異在於圖5的雙面掃； 設備1，沒有提供校正片。導紙紝堪7Λ — Α 饵描 72及適配件74。彈性壓制器；:構70包含第二透明平台 弹性壓制盗50之固定端54 二透明平台72與適配件74之間。 、第 圖6顯示依據本新型笫 之局部示意圖。如圖6所實:：之雙面掃描設備卜 圓6所不，本實施例係類似於第一會 施例，不同之處在於彈性壓制器5〇之—固 裝於適配件74上。於此實施例中，安裝於適配件74 : 之固定端54包含一外矣品工 外表面56，面對原稿承載平面61， 二形成有一參考圖案58。第一光學模組20可 =考圖案58以進行校正掃描設備的程序。此 裝於適配件74上之固定端54更包含一内表面57,内： 面57係貼附在適配件74 μ 此，彈,_器5:時二 的功能。 U壓制原㈣及提供校正依據 ::顯示依據本新型第四實施例之雙面掃描設備卜· 二P 丁思圖 > 圖7所示，本實施例係類似於第一實 及二T同之處在於導紙結構70包含-第二透明平台72 位置。「透明平台76。第三透明平台76位於第-掃描 位上。彈性壓制器50之一固定端54係裝 台72與第三透明平台76之間。值得注意的是， 適配件Ν亦可視為是導紙結構7〇的一部分，而第一_ 正片91係設置於第三透明平台76與適配件Μ之間。 M4UM22 利用上述的雙面掃描設備，即 式原稿’利用彈性壓制器夹屨。厚度的各 诵.f 士“、 器來壓制每些原稿’防止原稿在 ^晃動，或改善原稿的皺摺或邊緣彎曲，以獲得不 失真的影像。 在較佳實施例之詳細說明中所提出之具體實施例僅 用以方便說明本新型之技術内容’而非將本新型狹義地 限制於上述實施例，在不超出本新型之精神及以下申請 專利範圍之情況，所做之種種變化實施，皆屬於本新型 之範圍。 M405122 【圖式簡單說明】 圖1顯示依據本新型之一種雙面掃描設備之外觀圖。 圖2顯示依據本新型之另一種雙面掃描設備之示意 圖0 圖3顯示依據本新型第一實施例之雙面掃描設備之 局部示意圖。 圖4顯示依據本新型第一實施例之第二透明平台及 彈性壓制器之放大示意圖。

局部=圖㈣⑽本新型第二實施例之雙*料設備之 圖6顯示依據本新型 局部示意圖。 第三實施例之雙面掃描設備之 圖7顯示依據本新型 局部示意圖。 【主要元件符號說明】 D :饋送方向 第四實施例之雙面掃推設備 之

〇 :原稿 01 .正面 02 :反面 OP1 :第一掃描位置 0P2 :第二掃描位置 S :紙張 :雙面掃描設備 10 :通道 20 :第—光學模组 12 M405122 30 :第二光學模組 40 :饋送機構 41、42、43、44 :饋送滾輪

50 ： 彈性壓制器 52 ： 自由端 53 ： 第一區段 54 ： 固定端 55 ： 第二區段 56 ： 外表面 57 ： 内表面 58 ： 參考圖案 60 ： 第一透明平台 61 ： 原稿承載平面 70 ： 導紙結構 72 ： 第二透明平台 72A :上表面 72B :側面 72C :斜面 72D :下表面 74 ： 適配件 76 ： 第三透明平台 80 ： 第一本體 85 ： 第二本體 90 ： 校正片承載板 91 ： 第一校正片 13 M405122 92 :第二校正片 11 0 :供應紙匣 120 :輸出紙匣 130、135 :掃描模組 14 1 :摩擦元件 142 :彈簧 143 :進紙滾輪 饋紙滾輪 144 、 145 、 146 、 147 : 14

Claims (1)

1. ^、申請專利範圍： h 一種雙面掃描設備，包含： ~通道； 第 光學模組，設置於該通道之一側； 一第二光學模組，設置於該第一光學模組之相對側； '饋送機構，用以饋送一原稿通過該第—光學模組 第二掃描位置及該第二光學模組之一第二掃描位 刀別取得該原稿之一正面之影像及該原稿之一反 面之影像；以及 位置彈性壓@ 位於該第一掃描位置與該第二掃描 門將該原稿朝·一原稿承載平面推堡。 勺2.如申請專利範圍第丨項所述之雙面掃描設備，更 匕—導紙結構，設置於該通道之其中一側。 3.如申請專利範圍第2項所述之雙面掃描設備，其 該原稿承載平面係設置於該導紙結構之相對側。 勺人^如申請專利範圍g 3項所述之雙面掃描設備，更 二一第一透明平台，其中該廣稿承載平面係位於該第 =月平台’及該彈性壓制器推壓該原稿使該原稿平貼 於該第一透明平台。 5.如申請專利範圍第2項所述之雙 中該導紙結構包含： 備其 一第二透明平台；及 一掃描位置上，該彈性 二透明平台與該校正片 一校正片承載板’位於該第 壓制器之一固定端係安裝於該第 承載板之間。 15 M405122 6.如申請專利範圍第 中該導紙結構包含： 2項所述之雙面掃插設僙， 其 一第二透明平台；及 一適配件，該彈性壓制器之一固定端係安裝於該 一透明平台與該適配件之間。 7.如申請專利範圍第2項所述之雙面掃描設備，发 中該導紙結構包含： 一第二透明平台；及

   一適配件’位於該第一掃描位置上 之一固定端係安裝於該適配件上。 該彈性壓制器 面掃描設備，其 外表面，面對該 該第一光學模組 8·如申請專利範圍第7項所述之雙 中安裝於該適配件上之該固定端包含— 原稿承載平面，並形成有一參考圖案， 可掃描該參考圖案以進行校正程序。 9·如申請專利範圍第8項所述之雙面掃描設備，其 中安裝於該適配件上之該固定端更包含— 〇衣面，該内

   表面係貼附在該適配件上，以固定該彈性壓制器。 10·如申請專利範圍第2項所述之雙面掃描設備， 其中該導紙結構包含： 一第二透明平台；及 一第二透明平台，位於該第一掃描位置上，其中該 彈性壓制器之一固定端係裝設於該第二透明平台與該第 三透明平台之間。 〃 11.如申請專利範圍第2項所述之雙面掃描設備， 其中： 16 M405122 該導紙結構包含_第二透明平台，㈣二透明平台 具有上表面，以及一連接至該上表面之側面，其中該 側面係位於該第一掃描位置與該第二掃描位置之間；以 及 該彈性麗制器包含一第一區段，固定至該上表面， 以及-第二區段’固^至該側面並連接至該第—區段。 12·如申請專利範圍第i項所述之雙面掃描設備， 更包括—第-本m二本體，可相對移動以改變該 通道之尺寸’其中該第一光學模組係設置於該第一本體 t ’及該第=光學模組係設置於該第二本體中。 17