TWI722324B

TWI722324B - 有機el顯示裝置

Info

Publication number: TWI722324B
Application number: TW107134452A
Authority: TW
Inventors: 佐佐木靖; 黑岩晴信; 向山幸伸
Original assignee: 日商東洋紡股份有限公司
Priority date: 2013-02-15
Filing date: 2014-02-14
Publication date: 2021-03-21
Also published as: TWI653473B; WO2014126003A1; CN203930282U; JP2014157745A; TW201905511A; JP6565129B2; TW201439610A

Abstract

茲以提供一種視認性獲改善的影像顯示裝置為目的。

一種影像顯示裝置，其具有：(1)有機EL單元；(2)配置於較前述有機EL單元靠近視認側的偏光鏡；及(3)配置於較前述偏光鏡靠近視認側的具3000nm以上150000nm以下之遲滯的配向薄膜。

Description

有機EL顯示裝置

本發明係有關於影像顯示裝置。

影像顯示裝置係於行動電話、平板終端、個人電腦、電視、PDA、電子字典、導航(器)、音樂播放器、數位相機、數位攝影機等廣泛付諸使用。隨著影像顯示裝置之小型化、輕量化的進展，其利用已不限於辦公室或室內，亦擴及室外及車或電車等的移動中之利用。

如此之中，經由如太陽眼鏡等偏光濾光片觀視影像顯示裝置的機會增加。另一方面，就影像顯示裝置而言，基於各種原因而經提案使用配向薄膜。然而，在影像顯示裝置使用配向薄膜時，有因其雙折射性致使由偏光板射出的光之偏向特性發生扭曲，結果在用偏光濾光片觀視影像的情況下，因虹斑等的色調雜亂導致視認性惡化的問題(專利文獻1)。

先前技術文獻專利文獻

專利文獻1 WO2011/058774

因此，本發明一目的在於改善經由偏光濾光片觀視使用配向薄膜之影像顯示裝置時的視認性。

本發明人等為解決上述問題而日夜重複研究的結果發現，透過控制配向薄膜之遲滯，可解決上述課題。本發明人等茲依據所述見解進一步重複多次研究暨改良，終至完成本發明。

代表性之本發明如下：

項1.

一種影像顯示裝置，其具有：(1)影像顯示單元；(2)配置於較前述影像顯示單元靠近視認側的偏光鏡；及(3)配置於較前述偏光鏡靠近視認側的具3000nm以上150000nm以下之遲滯的配向薄膜。

項2.

如項1之影像顯示裝置，其中前述偏光鏡之偏光軸與前述配向薄膜之配向主軸所夾的角係約略45度。

項3.

如項1或2之影像顯示裝置，其中前述影像顯示單元係有機EL單元。

根據本發明，影像顯示裝置之視認性獲改善。特別是經由偏光濾光片視認時發生之虹斑所代表的色調雜亂所致之畫質下降經減少。尚且，在本說明書中，「虹斑」係為包含「色不均」、「色偏移」及「干涉色」之概念。

E1‧‧‧有機EL顯示裝置

E4‧‧‧有機EL單元

E5‧‧‧視認側偏光板

E6‧‧‧觸控面板

E7‧‧‧光源側偏光鏡

E8‧‧‧視認側偏光鏡

E9a‧‧‧偏光鏡保護薄膜

E9b‧‧‧偏光鏡保護薄膜

E10a‧‧‧偏光鏡保護薄膜

E10b‧‧‧視認側偏光鏡保護薄膜

E11‧‧‧光源側透明導電性薄膜

E11a‧‧‧光源側基材薄膜

E11b‧‧‧透明導電層

E12‧‧‧視認側透明導電性薄膜

E12a‧‧‧視認側基材薄膜

E12b‧‧‧透明導電層

E13‧‧‧間隔件

E14‧‧‧光源側防飛散薄膜

E15‧‧‧視認側防飛散薄膜

E16‧‧‧1/4波長板

L1‧‧‧液晶顯示裝置

L2‧‧‧光源

L3‧‧‧光源側偏光板

L4‧‧‧液晶單元

L5‧‧‧視認側偏光板

L6‧‧‧觸控面板

L7‧‧‧光源側偏光鏡

L8‧‧‧視認側偏光鏡

L9a‧‧‧偏光鏡保護薄膜

L9b‧‧‧偏光鏡保護薄膜

L10a‧‧‧偏光鏡保護薄膜

L10b‧‧‧視認側偏光鏡保護薄膜

L11‧‧‧光源側透明導電性薄膜

L11a‧‧‧光源側基材薄膜

L11b‧‧‧透明導電層

L12‧‧‧視認側透明導電性薄膜

L12a‧‧‧視認側基材薄膜

L12b‧‧‧透明導電層

L13‧‧‧間隔件

L14‧‧‧光源側防飛散薄膜

L15‧‧‧視認側防飛散薄膜

E17‧‧‧基板

E18‧‧‧陽極

E19‧‧‧有機發光層

E20‧‧‧陰極

第1圖係表示代表之有機EL顯示裝置的示意性剖面圖。

第2圖係表示代表之液晶顯示裝置的示意性剖面圖。

第3圖係表示代表之有機EL單元的示意性剖面圖。

[實施發明之形態]

影像顯示裝置典型上具有影像顯示單元及偏光板。影像顯示單元典型上係使用有機EL單元或液晶單元。茲將使用有機EL單元作為影像顯示單元之影像顯示裝置(有機EL顯示裝置)的代表示意圖示於第1圖、將使用液晶單元作為影像顯示單元之影像顯示裝置(液晶顯示裝置)的代表示意圖示於第2圖。以下，茲參照第1圖或第2圖來說明影像顯示裝置的代表性結構，惟影像顯示裝置之結構不限於此等，各種變更均屬可能。

在本說明書中，茲將影像顯示裝置之顯示影像的一側(吾人觀視影像的一側)稱為「視認側」，將視認側之相反側(即，在有機EL顯示裝置中，設有亦發揮作為光源功能的有機EL單元的一側；在液晶顯示裝置中，配置有光源的一側)稱為「光源側」。於第1圖及第2圖中，右側為視認側，左側為光源側。

如第1圖所示，有機EL顯示裝置(E1)可具有：有機EL單元(E4)、偏光板(E5)及觸控面板(E6)。有機EL單元(E4)與偏光板(E5)之間可具備1/4波長板(E16)。偏光板(E5)典型上係設於有機EL單元(E4)之視認側，具有在稱為「偏光鏡(E8)」的薄膜之兩側積層有偏光鏡保護薄膜(E10a，E10b)的結構。觸控面板(E6)典型上設於較視認側偏光板(E5)靠近視認側。觸控面板(E6)典型上具有2片透明導電性薄膜(E11，E12)隔著間隔件(E13)配置的結構。透明導電性薄膜(E11，E12)係具有積層基材薄膜(E11a，E12a)與透明導電層(E11b，E12b)的結構。在觸控面板(E6)之光源側及視認側，可經由任意之黏著層設置透明基體的防飛散薄膜(E14，E15)。

如第2圖所示，液晶顯示裝置(L1)可具有：光源(L2)、液晶單元(L4)及觸控面板(L6)。在液晶單元(L4)之光源側及視認側兩者，典型上分別設有偏光板(光源側偏光板(L3)及視認側偏光板(L5))。各偏光板(L3，L5)典型上具有在稱為「偏光鏡(L7，L8)」的薄膜之兩側積層偏光鏡保護薄膜(L9a，L9b，L10a，L10b)的結構。在本說明書中，亦將存在於較影像顯示單元靠近視認側的偏光板(L5)稱為「視認側偏光板」、將構成其之偏光鏡(L8)稱為「視認側偏光鏡」。觸控面板(L6)典型上設於較視認側偏光板(L5)更靠近視認側。觸控面板(L6)典型上具有2片透明導電性薄膜(L11，L12)隔著間隔件(L13)配置的結構。透明導電性薄膜(L11，L12)係具有積層基材薄膜(L11a，L12a)與透明導電層(L11b，L12b)的結構。此外，在觸控面板(L6)之光源側及視認側，可經由任意之黏著層設置作為透明基體的防飛散薄膜(L14，L15)。

此外，在第1圖及第2圖中，係在視認側偏光板(E5，L5)之視認側示有觸控面板(E6，L6)，惟可不必存在觸控面板，而具有任意之薄膜。舉例來說，在視認側偏光板之視認側可具有1片防飛散薄膜。觸控面板非限於上述之電阻膜式觸控面板，可使用投影型電量式等其他方式的觸控面板。例如，透明導電性薄膜可為1片。防飛散薄膜並非一定必須配置於觸控面板的兩側，可構成為配置於任一側、或構成為在兩側均未配置防飛散薄膜。

<配向薄膜之位置>

影像顯示裝置中，依各種目的可使用配向薄膜。在本說明書中，配向薄膜係指具雙折射性之高分子薄膜。就影像顯示裝置而言，基於改善視認性觀點，較佳為於較視認側偏光鏡靠近視認側具有具3000nm以上150000nm以下之遲滯的配向薄膜。在本說明書中，亦將具3000nm以上150000nm以下之遲滯的配向薄膜稱之為「高遲滯配向薄膜」。因此，在第1圖及第2圖所示之液晶顯示裝置中，配向薄膜典型上可使用於：位於較視認側偏光鏡(E8，L8)靠近視認側的偏光鏡保護薄膜(E10b，L10b)(以下稱作「視認側偏光鏡保護薄膜」)、配置於較間隔件(E13，L13)靠近光源側的透明導電性薄膜(E11， L11)之基材薄膜(E11a，L11a)(以下稱作「光源側基材薄膜」)、位於較間隔件(E13，L13)靠近視認側的透明導電性薄膜(E12，L12)之基材薄膜(E12a，L12a)(以下稱作「視認側基材薄膜」)、位於視認側偏光鏡保護薄膜(E10b，L10b)與光源側基材薄膜(E11a，L11a)之間的防飛散薄膜(E14，L14)(以下稱作「光源側防飛散薄膜」)及/或位於較視認側基材薄膜(E12a，L12a)靠近視認側的防飛散薄膜(E15，L15)(以下稱作「視認側防飛散薄膜」)。

影像顯示裝置所使用的高遲滯配向薄膜數量為任意者，不特別限制，較佳為將至少1片高遲滯配向薄膜使用於如上述之位置。作為此類影像顯示裝置之代表例，可舉出在第1圖或第2圖所示之有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置中，在相當於視認側防飛散薄膜(E15，L15)的位置具備高遲滯配向薄膜的有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置。於此代表例中，前述高遲滯配向薄膜在其視認側之表面可具有抗反射層。

作為影像顯示裝置之其他代表例，可舉出具有在玻璃等的表面蓋板上設置電容型觸控面板的「表面蓋板一體型觸控面板」，且於該「表面蓋板一體型觸控面板」上組裝高遲滯配向薄膜者。作為該「表面蓋板一體型觸控面板」之具體構成，可例示以下(A)~(F)之形態。

(A)在表面蓋板之光源側或視認側設置透明導電層，並在該透明導電層之表面或表面蓋板之與透明導電層相反的面貼合高遲滯配向薄膜作為防飛散薄膜的表面蓋板一體型觸控面板。透明導電層可設於表面蓋板之光源側或視認側任一者，惟較佳為設於光源側。

(B)在高遲滯配向薄膜的兩側貼合玻璃板作成層合玻璃，並在該層合玻璃之光源側設置透明導電層的表面蓋板一體型觸控面板。

(C)在高遲滯薄膜的單面設置透明導電層，並將其黏貼於表面蓋板之光源側或視認側的表面蓋板一體型觸控面板。若黏貼於光源側時，可黏貼於高遲滯配向薄膜之未設有透明導電層之一側的表面或透明導電層之表面任一側。黏貼於視認側時，則較佳貼合透明導電層之表面與表面蓋板。

(D)在高遲滯薄膜的兩面設置透明導電層，並將其黏貼於表面蓋板之光源側的表面蓋板一體型觸控面板。

在表面蓋板一體型觸控面板的最內面(最靠光源側的面)設置抗反射層為較佳。又，若最內面為透明導電層時，可設置電極保護塗層，並於其上設置抗反射層。更且，在表面蓋板一體型觸控面板的最外面(最靠視認側的面)可設置抗反射層、防眩層、抗靜電層、防汙層等。且，各部位之貼合較適合使用無基材(baseless)之光學用黏著劑。

(E)在不具雙折射之薄膜的單面或者兩面設置透明導電層，並將其與表面蓋板及高遲滯配向薄膜貼合而成的表面蓋板一體型觸控面板。於此，最表面(影像顯示裝置最靠視認側的表面)只要為蓋板或高遲滯配向薄膜，則貼合順序為任意者。

(F)在玻璃等片狀物的單面或兩面設置透明導電層，並將其與表面蓋板及高遲滯配向薄膜貼合而成的表面蓋板一體型觸控面板。此處，最表面(影像顯示裝置最靠視認側的表面)只要為蓋板或高遲滯配向薄膜，則貼合之其他順序為任意者。

高遲滯配向薄膜之遲滯的下限值，基於減少虹斑觀點，較佳為4500nm以上，較佳為6000nm以上，較佳為8000nm以上，較佳為10000nm以上。另一方面，就高遲滯配向薄膜之遲滯的上限而言，使用具更高遲滯的聚酯薄膜，實質上亦無法獲得進一步的視認性改善效果，且隨著遲滯增高，配向薄膜之厚度亦有上升之傾向，從而可能與對薄型化之要求相悖；依此觀點，係設為150000nm，惟理論上亦可設成更高值。當影像顯示裝置具有2片以上之高遲滯配向薄膜時，彼等之遲滯可相同或相異。

基於更有效抑制虹斑觀點，高遲滯配向薄膜其遲滯(Re)與厚度方向遲滯(Rth)的比(Re/Rth)較佳為0.2以上，較佳為0.5以上，較佳為0.6以上。厚度方向遲滯係指自薄膜厚度方向剖面觀視時對2個雙折射△Nxz及△Nyz分別乘上薄膜厚度d所得之遲滯的平均值。Re/Rth愈大，雙折射之作用愈增加其等方性，得以更有效抑制在螢幕產生虹斑者。此外，在本說明書中，僅記載為「遲滯」時，係指面內遲滯之意。

Re/Rth之最大值為2.0(即完全的單軸對稱性薄膜)，惟愈接近完全的單軸對稱性薄膜，與配向方向正交的方向之機械強度有漸趨下降之傾向。因此，聚酯薄膜之Re/Rth的上限較佳為1.2以下，較佳為1.0以下。上述比率縱使為1.0以下，仍可滿足影像顯示裝置所要求之視角特性(左右180度、上下120度左右)。

配向薄膜之遲滯可依周知手法來測定。具體而言，可測定2軸方向之折射率及厚度來求得。又，還可利用商業上可得手的自動雙折射測定裝置(例如KOBRA-21ADH：王子計測機器股份有限公司製)來求得。

高遲滯配向薄膜之配向主軸與視認側偏光鏡之偏光軸所夾的角度(假設高遲滯配向薄膜與偏光鏡呈同一平面狀態)不特別限制，基於減少虹斑觀點，較佳為近似45度(約略45度)。舉例言，前述角度係為45度±20度以下，較佳為45度±15度，較佳為45度±10，較佳為45度±5度，較佳為45度±3度、45度±2度、45度±1度、45度。在本說明書中，所謂「以下」之用語，係指僅附加「±」之後附數值之意。因此，例如前述「45度±20度以下」係指以45度為中心容許上下20度之範圍的變動之意。

以如上述使偏光軸與配向主軸滿足一定角度的方式配置偏光鏡及高遲滯配向薄膜者，可藉由例如將裁切之高遲滯配向薄膜配置成其配向主軸與偏光鏡之偏光軸夾特定角度的方法、或將高遲滯配向薄膜斜向延伸的方法來進行。

高遲滯配向薄膜之配向主軸係以與呈長方形的顯示器螢幕之縱軸或橫軸平行的方式在影像顯示裝置內配置為較佳。其原因在於，當高遲滯配向薄膜之配向主軸與顯示器之縱軸約略平行時，在從斜向(從橫向)而非從正面觀察螢幕的情況下，虹斑獲抑制而視認性優良。另一方面其原因在於，當高遲滯配向薄膜之配向主軸與顯示器螢幕之橫向略一致時，在從斜向(從橫向)而非從正面觀察螢幕的情況下，虹斑獲抑制而視認性優良。

影像顯示裝置只要在較視認側偏光鏡靠近視認側具備至少1片高遲滯配向薄膜即可，可在任意位置具有遲滯小於3000nm的配向薄膜。此種配向薄膜為周知者，能以商業方式得手。

高遲滯配向薄膜可適當選擇周知手法來製造。舉例言，高遲滯配向薄膜可使用選自包含對聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、對位性聚苯乙烯樹脂、聚醚醚酮樹脂、聚苯硫樹脂、環烯烴樹脂、液晶性聚合物樹脂及纖維素系樹脂添加液晶化合物的樹脂之群組中的一種以上來製造。從而，高遲滯配向薄膜可為將液晶化合物添加於聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚苯乙烯薄膜、對位性聚苯乙烯薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚苯硫薄膜、環烯烴薄膜、液晶性薄膜、纖維素系樹脂而成的薄膜。

高遲滯配向薄膜之較佳原料樹脂係聚碳酸酯及/或聚酯、對位性聚苯乙烯。此等樹脂其透明性優良，且熱特性、機械特性亦優異，可藉延伸加工容易地控制遲滯。聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯所代表之聚酯其固有雙折射大，即使薄膜厚度較薄，仍較容易獲得大的遲滯而較佳。尤為聚萘二甲酸乙二酯在聚酯當中固有複折射率較大，因此在特別欲提高遲滯的情況、或欲保持高遲滯同時減薄薄膜厚度的情況較合適。以聚酯樹脂為代表例，更具體的高遲滯配向薄膜之製造方法係於後述。

具小於3000nm之遲滯的配向薄膜可適當選擇周知手法來製造。舉例言，能以選自包含聚酯樹脂、乙酸酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂(聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、環狀聚烯烴等)、(甲基)丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚芳酯樹脂、及聚苯硫樹脂、乙酸纖維素樹脂(三乙酸纖維素等)等之群組中的樹脂為原料而得。此等當中，較佳為聚酯樹脂及聚烯烴樹脂，更佳為聚酯樹脂，再佳為聚對苯二甲酸乙二酯及/或聚丙烯樹脂。

<配向薄膜之製造方法>

以下，以聚酯薄膜為例，說明包含高遲滯配向薄膜的配向薄膜之製造方法。聚酯薄膜可使任意的二羧酸與二醇縮合而得。作為二羧酸，可列舉例如對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、2,5-萘二酸、2,6-萘二酸、1,4-萘二酸、1,5-萘二酸、二苯基羧酸、二苯氧基丁二酸、二苯碸羧酸、蒽二酸、1,3-環戊二酸、1,3-環己二酸、1,4-環己二酸、六氫對苯二甲酸、六氫間苯二甲酸、丙二酸、二甲基丙二酸、丁二酸、3,3-二乙基丁二酸、戊二酸、2,2-二甲基戊二酸、己二酸、2-甲基己二酸、三甲基己二酸、庚二酸、壬二酸、二聚酸、癸二酸、辛二酸、十二烷二酸等。

作為二醇，可列舉例如乙二醇、丙二醇、六亞甲二醇、新戊二醇、1,2-環己二甲醇、1,4-環己二甲醇、十亞甲二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、雙(4-羥基苯基)碸等。

構成聚酯薄膜之二羧酸成分與二醇成分可分別使用1種或2種以上。作為構成聚酯薄膜之具體的聚酯樹脂，可列舉例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯，更佳為聚對苯二甲酸乙二酯。聚酯樹脂亦可含有其他的共聚合成分，基於機械強度觀點，共聚合成分之比例較佳為3莫耳%以下，更佳為2莫耳%以下，再佳為1.5莫耳%以下。此等樹脂其透明性優良，且熱特性、機械特性亦優異。又，此等樹脂可藉延伸加工容易地控制遲滯。

聚酯薄膜可依循一般的製造方法而得。具體而言，可舉出將聚酯樹脂熔融，並將擠出成片狀而成形的未配向聚酯，在玻璃轉移溫度以上的溫度下，利用輥之速度差予以朝縱向延伸後，藉拉幅機朝橫向延伸，施以熱處理而成的配向聚酯薄膜。聚酯薄膜可為單軸延伸薄膜或雙軸延伸薄膜。高遲滯配向薄膜亦可為經朝斜向45度延伸而成者。

用於製得聚酯薄膜的製造條件可依周知手法適當設定。舉例言，縱延伸溫度及橫延伸溫度通常為80~130℃，較佳為90~120℃。縱延伸倍率通常為1.0~3.5倍，較佳為1.0倍~3.0倍。又橫延伸倍率通常為2.5~6.0倍，較佳為3.0~5.5倍。

將遲滯控制於特定範圍可藉由適當設定延伸倍率或延伸溫度、薄膜厚度來進行。舉例言，縱延伸與橫延伸的延伸倍率差愈高、延伸溫度愈低、薄膜厚度愈厚，愈易獲得高遲滯。反之，縱延伸與橫延伸的延伸倍率差愈低、延伸溫度愈高、薄膜厚度愈薄，愈易獲得低遲滯。再者，延伸溫度愈高、總延伸倍率愈低，愈易獲得遲滯與厚度方向遲滯的比(Re/Rth)較低的薄膜。反之，延伸溫度愈低、總延伸倍率愈高，愈易獲得遲滯與厚度方向遲滯的比(Re/Rth)較高的薄膜。更且，熱處理溫度通常較佳為140~240℃，較佳為180~240℃。

為抑制聚酯薄膜之遲滯的變動，薄膜之厚度不均度係愈小愈佳。為賦予遲滯差而降低縱延伸倍率時，有縱厚度不均度之值變高的情形。縱厚度不均度之值在延伸倍率的某特定範圍內有遽升之區域，因此，係以避開此種範圍的方式來設定製膜條件較為理想。

配向聚酯薄膜之厚度不均度較佳為5.0%以下，更佳為4.5%以下，再佳為4.0%以下，尤佳為3.0%以下。薄膜之厚度不均度可採任意手段來加以測定。舉例言，對在薄膜流動方向呈連續的帶狀試樣(長3m)採樣，並利用市售之測定器(如Seiko-EM股份有限公司製電子測微計Millitron 1240)，以1cm間距測定100點的厚度，求取厚度之最大值(dmax)、最小值(dmin)、平均值(d)，以下式算出厚度不均度(%)。

厚度不均度(%)=((dmax-dmin)/d)×100

<影像顯示單元及光源>

在影像顯示裝置中，由影像顯示單元射出的光，基於抑制虹斑觀點，係具連續且廣幅之發光光譜為較佳。於此，「連續且廣幅之發光光譜」係指在至少450~650nm之波長區域，較佳為可見光區域不存在光強度為零之波長區域的發光光譜。可見光區域係為例如400~760nm之波長區域，可為360~760nm、400~830nm、或360~830nm。

當影像顯示裝置具備有機EL單元作為影像顯示單元時，有機EL單元本身係具有作為具連續且廣幅之發光光譜的光源的機能。另一方面，當影像顯示裝置具備液晶單元作為影像顯示單元時，係以具備具連續且廣幅之發光光譜的光源為佳。

具連續且廣幅之發光光譜的光源之方式及結構不特別限制，可為如邊緣發光方式或正下方型方式。作為該種白色光源，可舉出如白色發光二極體(白色LED)。白色LED可例舉採螢光體方式者(即，將發出使用化合物半導體之藍色光及紫外光之發光二極體與螢光體組合而發白光之元件)以及有機發光二極體(Organic light-emitting diode：OLED)等。基於具連續且廣幅之發光光譜，且發光效率亦優良觀點，較佳為包含使用化合物半導體之藍色發光二極體與釔鋁石榴石系黃色螢光體組合而成之發光元件的白色發光二極體。

有機EL單元可適當選擇使用該技術領域中所熟知的有機EL單元。使用有機EL單元，在廣視角、高對比及高速響應方面係較佳。茲將代表性之有機EL單元的示意性剖面圖示於第3圖。有機EL單元(E4)典型上為具有在透明基板(E17)上，自視認側起依序積層屬透明電極的陽極(E18)、有機發光層(E19)及屬金屬電極的陰極(E20)之結構的發光體(有機電致發光發光體)。有機EL單元，在對陽極與陰極之間施加電壓時，從陽極注入的電洞(hole)與從陰極注入的電子在有機發光層中再結合而發光。

作為前述透明基板，可採用任意的透明基板。舉例言，透明基板可選自包含玻璃基板、陶瓷基板、半導體基板、金屬基板、及塑膠基板之群組。作為具體之塑膠基板，可舉出後述的向來作為用於觸控面板之基材薄膜所使用的透明樹脂薄膜。透明基板亦可視需求設有表面處理層。作為表面處理層，可列舉例如防透濕層、氣體障壁層、硬塗層、底塗層等。

構成陽極及陰極之材料可列舉金屬、氧化金屬、合金、導電性化合物、此等之混合物等。作為構成陽極之更具體的材料，可列舉金、銀、鉻、鎳、碘化銅、氧化銦錫(ITO)、氧化錫、氧化鋅等導電性透明材料。作為構成陰極之更具體的材料，可列舉鎂、鋁、銦、鋰、鈉、銫、銀、鎂-銀合金、鎂-銦合金、及鋰-鋁合金等。

陽極及陰極之厚度可依據構成陽極及陰極之材料來任意設定。陽極之厚度可由例如10nm~200nm，較佳為10nm~100nm的範圍內適當設定。陰極之厚度可由例如10nm~1000nm，較佳為10nm~200nm的範圍內適當設定。

有機發光層係具有在施加電壓時提供電洞與電子之再結合的場而使其發光之機能的層。上述有機發光層係含有有機發光材料，可為單層結構或2層以上之積層結構。若為積層結構時，各層可以不同的發光色發光。上述有機發光層之厚度為任意者，可在例如3nm~3μm之範圍內適當設定。

有機發光層所使用的有機發光材料可由任意的發光材料中適當選出。具體而言，可由包含4,4’-(2,2-二苯基乙烯基)聯苯等烯烴系發光材料；9,10-二(2-萘基)蒽、9,10-雙(3,5-二苯基苯基)蒽、9,10-雙(9,9-二甲基茀基)蒽、9,10-(4-(2,2-二苯基乙烯基)苯基)蒽、9,10’-雙(2-聯苯基)-9,9’-聯蒽、9,10,9’,10’-四苯基-2,2’-聯蒽、1,4-雙(9-苯基-10-蒽)苯等蒽系發光材料；2,7,2’,7’-肆(2,2-二苯基乙烯基)螺聯茀等螺系發光材料；4,4’-二咔唑聯苯、1,3-二咔唑基苯等咔唑系發光材料；1,3,5-三核仁素苯等芘系發光材料等之群組中適當選出。

就有機EL單元而言，為了將上述基材上以陽極、有機發光層及陰極構成的有機EL元件阻隔以免於大氣影響，亦可具備以被覆有機EL元件方式所形成的密封構件。藉由具備密封構件，可防止大氣中的水分及氧氣導致有機發光層之發光特性劣化。

有機EL元件還可於任意的適當位置進一步具備任意的構件(例如電洞注入層、電洞輸送層、電子注入層及/或電子輸送層)。

如採用有機EL單元作為影像顯示單元時，一般而言，影像顯示裝置中的偏光板非為必須者。惟，由於有機發光層之厚度為10nm左右而極薄，當外光被金屬電極反射再度向視認側射出，而自外部視認時，有機EL顯示裝置的顯示面有時觀之如鏡面。為將此種外光之鏡面反射予以遮蔽，係以在有機EL單元之視認側設置偏光板，並進一步在有機EL單元與前述偏光板之間設置1/4波長板為佳。利用此等視認側偏光板與1/4波長板之組合來構成圓偏光板，有機EL單元中被金屬電極鏡面反射的外光即被圓偏光板遮蔽，由此可抑制影像顯示裝置之視認性下降。

液晶單元可適當選擇使用能在液晶顯示裝置使用的任意液晶單元，其方式或結構不特別限制。例如，可適當選擇使用VA模式、IPS模式、TN模式、STN模式或彎曲配向(π型)等的液晶單元。因此，液晶單元可適當選擇使用以周知液晶材料及今後可開發之液晶材料所製作的液晶。於一實施形態中，較佳之液晶單元係穿透型液晶單元。

<偏光板及偏光鏡保護薄膜>

偏光板係具有以2片保護薄膜(有稱作「偏光鏡保護薄膜」)夾持薄膜狀偏光鏡的兩側的結構。偏光鏡可適當選擇使用該技術領域中使用的任意偏光鏡(或偏光薄膜)。作為代表性偏光鏡，可舉出使碘等二色性材料染附於聚乙烯醇(PVA)薄膜等而成者，惟不限定於此，可適當選擇使用周知及今後可開發的偏光鏡。

PVA薄膜可使用市售品，可採用如「Kuraray Vinylon(Kuraray股份有限公司製)」、「Tohcello Vinylon(Tohcello股份有限公司製)」、「Nichigo Vinylon(日本合成化學股份有限公司製)」等。作為二色性材料可列舉碘、重氮化合物、多次甲基(polymethine)染料等。

偏光鏡可採任意手法而得，例如可藉由對PVA薄膜以二色性材料染附後在硼酸水溶液中實施單軸延伸，並在保持延伸狀態下進行清洗及乾燥而得。單軸延伸之延伸倍率通常為4~8倍左右，不特別限制。其他製造條件等可依據周知手法適當設定。

視認側偏光鏡之視認側的保護薄膜(視認側偏光鏡保護薄膜)可為高遲滯配向薄膜、或向來作為偏光鏡保護薄膜使用的任意薄膜，非限定於此等。

視認側偏光鏡之光源側的保護薄膜及光源側偏光鏡的保護薄膜的種類為任意者，可適當選擇使用向來作為保護薄膜使用的薄膜。基於操作處理性及得手容易性等觀點，較佳使用例如選自包含三乙酸纖維素(TAC)薄膜、丙烯酸薄膜及環狀烯烴系薄膜(例如降莰烯系薄膜)、聚丙烯薄膜、及聚烯烴系薄膜(例如TPX)等之群組中的一種以上之不具雙折射性的薄膜。

於一實施形態中，視認側偏光鏡的光源側保護薄膜及光源側偏光鏡的視認側保護薄膜較佳為具光學補償機能的光學補償薄膜。此種光學補償薄膜可配合影像顯示單元的各方式來適當選擇，可舉出例如由選自包含三乙酸纖維素中分散有液晶化合物(諸如盤形液晶化合部及/或雙折射性化合物)之樹脂、環狀烯烴樹脂(例如降莰烯樹脂)、乙酸丙醯酯(propionyl acetate)樹脂、聚碳酸酯薄膜樹脂、丙烯酸樹脂、苯乙烯丙烯腈共聚物樹脂、含內酯環樹脂、及含醯亞胺基聚烯烴樹脂等之群組中的1種以上所得者。

光學補償薄膜由於能以商業方式得手，故可適當選擇使用之。可列舉如TN方式用之「Wide View-EA」及「Wide View-T」(FUJIFILM公司製)、VA方式用之「Wide View-B」(FUJIFILM公司製)、VA-TAC(KONICA MINOLTA公司製)、「ZEONOR FILM」(日本ZEON公司製)、「ARTON」(JSR公司製)、「X-plate」(日東電工公司製)、以及IPS方式用之「Z-TAC」(FUJIFILM公司製)、「CIG」(日東電工公司製)、「P-TAC」(大倉工業公司製)等。

偏光鏡保護薄膜可直接或經由黏著劑層積層於偏光鏡上。基於提升黏著性觀點，較佳為經由黏著劑積層。作為黏著劑，不特別限制，可使用任意者。基於使黏著劑層薄型化觀點，較佳為水系物(即，將黏著劑成分溶於水或分散於水中者)。舉例言，如使用聚酯薄膜作為偏光鏡保護薄膜時，係使用聚乙烯醇系樹脂、胺甲酸酯樹脂作為主成分，而為提升黏著性，可視需求使用摻有異氰酸酯系化合物、環氧化合物等的組成物作為黏著劑。黏著劑層之厚度較佳為10μm以下，更佳為5μm以下，再佳為3μm以下。

如使用TAC薄膜作為偏光鏡保護薄膜時，可使用聚乙烯醇系黏著劑予以黏合。作為偏光鏡保護薄膜，若使用丙烯酸薄膜、環狀烯烴系薄膜、聚丙烯薄膜、或TPX等透濕性低的薄膜時，則較佳使用光硬化性黏著劑作為黏著劑。作為光硬化性樹脂，可舉出如光硬化性環氧樹脂與光陽離子聚合起始劑的混合物等。

偏光鏡保護薄膜之厚度為任意者，例如可於15~300μm之範圍內，較佳為30~200μm之範圍內適當設定。

<觸控面板、透明導電性薄膜、基材薄膜、防飛散薄膜>

影像顯示裝置可具備觸控面板。觸控面板的種類及方式不特別限制，可列舉例如電阻膜方式觸控面板及電容方式觸控面板。觸控面板與該方式無關，一般具有1片或2片以上之透明導電性薄膜。透明導電性薄膜係具有在基材薄膜上積層透明導電層的結構。作為基材薄膜，可採用高遲滯配向薄膜或向來作為基材薄膜使用的其他薄膜或者玻璃板等剛性板。

作為當作基材薄膜之向來所使用的其他薄膜，可舉出具透明性的各種樹脂薄膜。可使用例如由選自包含聚酯樹脂、乙酸酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚芳酯樹脂及聚苯硫樹脂等之群組中的1種以上之樹脂所得的薄膜。此等當中，較佳為聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂及聚烯烴樹脂，較佳為聚酯樹脂。

基材薄膜之厚度為任意者，較佳為15~500μm之範圍。

可對基材薄膜之表面預先實施濺鍍、電暈放電、火焰、紫外線照射、電子束照射、化成、氧化等的蝕刻處理或底塗處理。藉此，得以提升與設於基材薄膜上的透明導電層等的密接性。再者，在設置透明導電層等之前，可對基材薄膜之表面藉由溶劑清洗或超音波清洗等予以除塵、潔淨化。

透明導電層可直接積層於基材薄膜，惟可經由易黏著層及/或各種其他的層積層。作為其他的層，可列舉例如硬塗層、折射率匹配(IM,index matching)層及低折射率層等。代表之透明導電性薄膜之積層結構，可舉出如下6種形態，惟並非限定於此等。

(1)基材薄膜/易黏著層/透明導電層

(2)基材薄膜/易黏著層/硬塗層/透明導電層

(3)基材薄膜/易黏著層/IM(折射率匹配)層/透明導電層

(4)基材薄膜/易黏著層/硬塗層/IM(折射率匹配)層/透明導電層

(5)基材薄膜/易黏著層/硬塗層(高折射率而兼作IM)/透明導電層

(6)基材薄膜/易黏著層/硬塗層(高折射率)/低折射率層/透明導電性薄膜

IM層因其自身為高折射率層/低折射率層之積層構造(透明導電性薄膜側為低折射率層)，透過加以使用，觀看液晶顯示螢幕時即不易看見ITO圖案。亦可如上述(6)，使IM層之高折射率層與硬塗層一體化，就薄型化觀點而言為佳。

上述(3)~(6)之構造係特別適合使用於電容式觸控面板。又，上述(2)~(6)之構造，基於可防止低聚物在基材薄膜表面析出觀點而言為佳，且以在基材薄膜之另一單面亦設置硬塗層為佳。

基材薄膜上之透明導電層係以導電性金屬氧化物所形成。構成透明導電層的導電性金屬氧化物不特別限定，係使用選自包含銦、錫、鋅、鎵、銻、鈦、矽、鋯、鎂、鋁、金、銀、銅、鈀、鎢之群組中的至少1種金屬的導電性金屬氧化物。該金屬氧化物亦可視需求進一步含有上述群組所示之金屬原子。較佳之透明導電層係為如摻錫氧化銦(ITO)層及摻銻氧化錫(ATO)層，更佳為ITO層。又，亦可為Ag奈米線、Ag印墨、Ag印墨之自組織化導電膜、網目狀電極、CNT印墨、導電性高分子。

透明導電層之厚度不特別限制，較佳為10nm以上，更佳為15~40nm，進一步更佳為20~30nm。透明導電層厚度為15nm以上時，易於獲得表面電阻例如為1×103Ω/□以下的良好連續被膜。又透明導電層厚度為40nm以下時，則可作成透明性更高的層。

透明導電層可依周知程序來形成。可例示例如真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍法。透明導電層可為非晶性或結晶性。作為形成結晶性透明導電層之方法，較佳為藉由在基材上形成非晶膜後，將該非晶膜與可撓性透明基材加熱‧結晶化而形成。

本發明之透明導電性薄膜可去除其透明導電層之面內的一部分而予圖案化。透明導電層經圖案化的透明導電性薄膜係具有：在基材薄膜上形成透明導電層的圖案形成部；及在基材薄膜上不具透明導電層的開口部。圖案形成部的形狀例如除條帶狀外，還可舉出方形等。

在觸控面板之光源側及/或視認側係具有1片或2片以上之防飛散薄膜作為上述透明基體為佳。防飛散薄膜可採用上述高遲滯配向薄膜或向來作為防飛散薄膜使用的各種薄膜(例如就上述基材薄膜所記載的透明樹脂薄膜)。當設有2片以上之防飛散薄膜時，彼等可由同一材料形成，亦可為相異。

將配向薄膜作為影像顯示裝置之表面蓋板的防飛散薄膜使用時，配向薄膜的配置可於表面蓋板之光源側或視認側。又，亦可為在配向薄膜兩側積層玻璃的層合玻璃結構。當配向薄膜位於表面蓋板之光源側時，係以在配向薄膜之與表面蓋板相反的一側設置抗反射層為佳。透過設置抗反射層，可得明亮且清晰的影像。

將配向薄膜作為防飛散薄膜使用時，較佳為對配向薄膜賦予紫外線吸收機能。紫外線吸收機能的賦予可藉由對配向薄膜添加紫外線吸收劑、或在配向薄膜之視認側實施紫外線吸收塗布等來進行。當配向薄膜位於表面蓋板之視認側時，較佳在配向薄膜之與表面蓋板相反的一側設置抗反射層、防眩層、抗靜電層、防汙層等。此時，可在最表面之表面蓋板的光源側設置抗反射層，亦可與視認側之其他構件經由黏著材料而貼合。

就偏光鏡保護薄膜、基材薄膜、及防飛散薄膜而言，在不妨礙本發明效果的範圍內可使其含有各種添加劑。可列舉例如紫外線吸收劑、無機粒子、耐熱性高分子粒子、鹼金屬化合物、鹼土金屬化合物、磷化合物、抗靜電劑、耐光劑、難燃劑、熱安定劑、抗氧化劑、凝膠抑制劑、界面活性劑等。此外，為發揮高透明性，亦以聚酯薄膜實質上不含粒子為佳。「實質上不含粒子」，係指例如為無機粒子時，在以X光螢光分析來定量無機元素的情況下，以重量計其含量為50ppm以下，較佳為10ppm以下，特佳為檢測極限以下。

配向薄膜可具有各類機能層。作為此類機能層，可使用例如選自包含硬塗層、防眩層、抗反射層、低反射層、低反射防眩層、抗反射防眩層、抗靜電層、矽膠層、黏著層、防汙層、拒水層及濾藍光層等之群組中的1種以上。藉由設置防眩層、抗反射層、低反射層、低反射防眩層、及/或抗反射防眩層，亦可期望有由斜向觀察時的色斑獲改善之效果。

於設置各類機能層之際，較佳為配向薄膜表面具有易黏著層。此時，基於抑制反射光所產生的干涉觀點，較佳為將易黏著層之折射率調整為機能層之折射率與配向薄膜之折射率的幾何平均附近。易黏著層之折射率的調整可採用周知方法，可藉由例如使黏合劑樹脂含有鈦或鋯、其他金屬物種來容易地加以調整。

(硬塗層)

硬塗層只要為具硬度及透明性的層即可，通常係利用以「藉紫外線或電子束代表性地使其硬化之游離輻射硬化性樹脂、藉熱使其硬化之熱硬化性樹脂等的各種硬化性樹脂之硬化樹脂層」形式所形成者。為了對此等硬化性樹脂賦予適當柔軟性、其他物性等，亦可適當添加熱塑性樹脂等。硬化性樹脂當中，基於可得代表性且優良的硬質塗膜，較佳者為游離輻射硬化性樹脂。

作為上述游離輻射硬化性樹脂，只要適當採用向來周知之樹脂即可。再者，作為游離輻射硬化性樹脂，可代表性地使用具乙烯性雙鍵之自由基聚合性化合物、環氧化合物等的陽離子聚合性化合物等，此等化合物以單體、低聚物、預聚合物等形態，可單獨或適當組合2種以上使用之。代表性化合物係屬自由基聚合性化合物的各種(甲基)丙烯酸酯系化合物。(甲基)丙烯酸酯系化合物之中，作為以較低分子量使用的化合物，可列舉例如聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丙烯醯酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、等。

作為單體，例如(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯吡咯烷酮等單官能單體；或者例如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等多官能單體等均可適當加以使用。(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯。

以電子束使游離輻射硬化性樹脂硬化時，不需要光聚合起始劑，而以紫外線使其硬化時，則需使用周知光聚合起始劑。舉例言，若為自由基聚合系時，作為光聚合起始劑，可單獨或混合使用苯乙酮類、二苯甲酮類、9-氧硫

類、安息香、安息香甲醚等。若為陽離子聚合系時，作為光聚合起始劑，可單獨或混合使用芳香族重氮鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、茂金屬化合物、安息香磺酸酯等。

硬塗層之厚度只要作成適當的厚度即可，例如作成0.1~100μm，惟通常係作成1~30μm。又，硬塗層可適當採用周知各種塗敷法來形成。

游離輻射硬化性樹脂中，為調整適當物性等，尚可適當添加熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂等。作為熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂，可舉出各類型者，例如丙烯酸樹脂、胺甲酸酯樹脂、聚酯樹脂等。

為了對硬塗層賦予耐光性，並防止日光等所含之紫外線造成的變色、強度劣化、龜裂發生等，亦較佳為在游離輻射硬化性樹脂中添加紫外線吸收劑。當添加紫外線吸收劑時，為了確實防止該紫外線吸收劑阻礙硬塗層之硬化，游離輻射硬化性樹脂係藉電子束予以硬化為較佳。作為紫外線吸收劑，只要由苯并三唑系化合物、二苯甲酮系化合物等有機系紫外線吸收劑、或者粒徑0.2μm以下之微粒狀氧化鋅、氧化鈦、氧化鈰等無機系紫外線吸收劑等周知物當中選出使用即可。紫外線吸收劑之添加量，在游離輻射硬化性樹脂組成物中係0.01~5質量%左右。為進一步提升耐光性，係以與紫外線吸收劑併用，並添加受阻胺系自由基捕捉劑等的自由基捕捉劑為佳。還有，電子束照射係採加速電壓70kV~1MV、輻射劑量5~100kGy(0.5~10Mrad)左右。

(防眩層)

作為防眩層，只要適當採用向來周知者即可，一般而言係以樹脂中分散有防眩劑的層形成。作為防眩劑，可採用無機系或有機系之微粒。此等微粒的形狀係呈真球狀、橢圓形等。較佳為，微粒宜為具透明性者。就此類微粒而言，例如作為無機系微粒可舉出氧化矽珠，作為有機系微粒則可舉出樹脂珠。作為樹脂珠，可列舉例如苯乙烯珠、三聚氰胺珠、丙烯酸珠、丙烯酸-苯乙烯珠、聚碳酸酯珠、聚乙烯珠、苯并胍胺-甲醛珠等。就微粒而言，一般相對於樹脂分100質量份，可添加2~30質量份，較佳為10~25質量份左右。

分散保持有防眩劑的上述樹脂係與硬塗層相同，務使硬度愈高愈佳。因此，作為上述樹脂，可採用例如上述硬塗層中所述游離輻射硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等的硬化性樹脂等。

防眩層之厚度只要作成適當的厚度即可，通常係作成1~20μm左右。防眩層可適當採用周知各種塗敷法來形成。還有，供形成防眩層的塗液中，為防防眩劑沉澱，較佳適當添加氧化矽等周知之防沉降劑。

(抗反射層)

作為抗反射層，只要適當採用向來周知者即可。一般而言，抗反射層至少包含低折射率層，且進一步包含低折射率層與(折射率高於該低折射率層的)高折射率層交互鄰接積層並以表面側為低折射率層的多層之層。低折射率層及高折射率層之各厚度只要作成對應用途的適當厚度即可，較佳的是鄰接積層時各為0.1μm左右，僅有低折射率層時為0.1~1μm左右。

作為低折射率層，可列舉：使氧化矽、氟化鎂等低折射率物質含於樹脂中的層、氟系樹脂等低折射率樹脂的層、使低折射率物質含於低折射率樹脂中的層、將包含氧化矽、氟化鎂等低折射率物質的層以薄膜形成法(例如蒸鍍、濺鍍、CVD等的物理或化學氣相沉積法)形成的薄膜、採由氧化矽溶膠液形成氧化矽凝膠膜的溶膠凝膠法所形成的膜、或者使作為低折射率物質之含空隙微粒含於樹脂中的層等。

上述含空隙微粒係指內部含氣體之微粒、含氣體之多孔質結構微粒等，即相對於微粒固體部分原本的折射率，因該氣體產生的空隙使微粒整體之視折射率降低的微粒。作為此類含空隙微粒，可舉出日本特開2001-233611號公報所揭示的氧化矽微粒等。又作為含空隙微粒，除氧化矽之類的無機物以外，還可舉出日本特開2002-805031號公報等所揭示的中空聚合物微粒。含空隙微粒之粒徑係例如5~300nm左右。

作為高折射率層，可舉出使氧化鈦、氧化鋯、氧化鋅等高折射率物質含於樹脂中的層、無氟樹脂等高折射率樹脂的層、使高折射率物質含於高折射率樹脂中的層、將包含氧化鈦、氧化鋯、氧化鋅等高折射率物質的層以薄膜形成法(例如蒸鍍、濺鍍、CVD等的物理或化學氣相沉積法)形成的薄膜等。

(抗靜電層)

作為抗靜電層，只要適當採用向來周知者即可，一般而言，係以樹脂中含有抗靜電層的層之形式形成。作為抗靜電層，可採用有機系或無機系之化合物。舉例言，作為有機系化合物之抗靜電層，可列舉陽離子系抗靜電劑、陰離子系抗靜電劑、兩性系抗靜電劑、非離子系抗靜電劑、有機金屬系抗靜電劑等，且此等抗靜電劑除作為低分子化合物使用外，還作為高分子化合物使用。又作為抗靜電劑，還可使用聚噻吩、聚苯胺等導電性聚合物等。且作為抗靜電劑，尚可使用如包含金屬氧化物的導電性微粒等。就導電性微粒之粒徑，基於透明性，例如平均粒徑為0.1nm~0.1μm左右。再者，作為該金屬氧化物，可列舉例如ZnO、CeO₂、Sb₂O₂、SnO₂、ITO(摻銦氧化錫)、In₂O₃、Al₂O₃、ATO(摻銻氧化錫)、AZO(摻鋁氧化鋅)等。

以含有抗靜電層的上述樹脂而言，例如，除使用如上述硬塗層中所述之游離輻射硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等的硬化性樹脂等外，當形成抗靜電層作為中間層而不需要抗靜電層本身的表面強度時，亦使用熱塑性樹脂等。抗靜電層之厚度只要作成適當厚度即可，通常係作成0.01~5μm左右。抗靜電層可適當採用周知各種塗敷法來形成。

將配向薄膜作為偏光鏡保護薄膜使用時，係以在其表層積層抗靜電層為佳。當積層抗靜電層時，係以重疊抗靜電層與防眩層而積層、或對防眩層添加抗靜電劑而積層兼備兩層等的層為佳。此外，當組裝影像顯示裝置之際，在偏光板表面，作為加工構件一般係使用偏光板保護薄膜(有別於偏光鏡保護薄膜，最終未組裝至液晶顯示裝置內而在液晶顯示裝置之製造步驟中途丟棄之構件)，惟該偏光板保護薄膜係在與偏光板相接的一側或其相反側設置抗靜電層為佳。

(防汙層)

作為防汙層，只要適當採用向來周知者即可，一般而言，可使用樹脂中含有矽油、矽氧樹脂等矽系化合物；氟系界面活性劑、氟系樹脂等氟系化合物；蠟等防汙染劑的塗料並以周知塗敷法來形成。防汙層之厚度只要作成適當厚度即可，通常可作成1~10μm左右。

[實施例]

以下，茲舉出實施例對本發明更具體地加以說明，惟本發明不因下述實施例而受限制，在可合乎本發明意旨的範圍內可適當加以變更來實施，且彼等均包含於本發明技術範圍內。

虹斑之評定

在具有下述構造1及2的影像顯示裝置中，於視認側表面，以與視認側表面呈平行的方式配置偏光薄膜而使白影像顯示於畫面。在維持前述平行狀態下一面使偏光薄膜之偏光軸與影像顯示裝置之視認側偏光鏡之偏光軸所夾的角旋轉360度，一面觀察白影像來確認虹斑發生之有無及程度，依下述基準加以評定。

<評定基準>

◎：從正面觀察或從斜向觀察，均未特別觀察到虹斑，視認性良好。

○：從正面觀察時，未特別觀察到虹斑，惟從斜向觀察時觀察到微弱的虹斑，但可得到實用上無問題之視認性。

×：從正面觀察或從斜向觀察，均觀察到虹斑。

<影像顯示裝置之構造1>

(1)影像顯示單元：有機EL單元

(2)視認側偏光板：在貼合有TAC薄膜(FUJIFILM股份有限公司製、厚80μm)作為包含PVA與碘的偏光鏡之兩側保護薄膜而成的偏光板之影像顯示單元側貼合有1/4波長板而成的偏光板。

(3)視認側防飛散薄膜：下述配向薄膜1~5

此外，防飛散薄膜係經由OCA(Optical Clear Adhesive)貼合於玻璃板，並以使防飛散薄膜成為影像顯示單元側的方式組裝影像顯示裝置。

<影像顯示裝置之構造2>

(1)背光光源：白色LED或冷陰極管

(2)光源側偏光板：具有TAC薄膜作為包含PVA與碘的偏光鏡之兩側保護薄膜。

(3)影像顯示單元：液晶單元

(4)視認側偏光板：貼合有TAC薄膜(FUJIFILM股份有限公司製、厚80μm)作為包含PVA與碘的偏光鏡之兩側保護薄膜而成的偏光板

(5)光源側防飛散薄膜：下述配向薄膜1~5

(6)觸控面板：電阻膜方式觸控面板，其具有將玻璃基材上設有包含ITO之透明導電層而作成的透明導電性薄膜，隔著間隔件配置而成的結構。

製造例-PET(A)

在將酯化反應罐升溫而達到200℃的時間點，裝入86.4質量份對苯二甲酸及64.6質量份乙二醇，一面攪拌一面裝入0.017質量份作為觸媒的三氧化二銻、0.064質量份乙酸鎂四水合物、0.16質量份三乙胺。接著，進行加壓升溫，在錶壓0.34MPa、240℃的條件下進行加壓酯化反應後，使酯化反應罐回至常壓，並添加0.014質量份磷酸。繼而，以15分鐘升溫至260℃，並添加0.012質量份磷酸三甲酯。接著，於15分鐘後，以高壓分散機進行分散處理，15分鐘後，將所得酯化反應生成物移送至聚縮合反應罐，於280℃、減壓下進行聚縮合反應。

聚縮合反應結束後，用95%濾除直徑為5μm的Naslon(註冊商標)製濾紙進行過濾處理，自噴嘴擠出成股線(strand)狀，並使用預先已進行過濾處理(孔徑為1μm以下)的冷卻水使其冷卻、固化，再切成丸粒狀。所得聚對苯二甲酸乙二酯樹脂(A)之固有黏度為0.62dl/g，實質上未含有非活性粒子及內部析出粒子。(以下簡稱為PET(A)。)

配向薄膜1

將不含粒子之PET(A)樹脂丸粒以135℃減壓乾燥(1Torr)6小時後，供給至擠製機，以285℃溶解。將該聚合物以不鏽鋼燒結體之濾材(公稱過濾精度10μm粒子95%濾除)過濾，自噴嘴擠出成片狀後，採用靜電施加鑄造法予以捲繞於表面溫度30℃之鑄造鼓輪(casting drum)而冷卻固化，作成未延伸薄膜。

將未延伸薄膜導引至拉幅延伸機，一面用夾子夾持薄膜之端部，一面導引至溫度125℃之熱風區，朝寬度方向延伸達4.0倍。接著，在保持已朝寬度方向延伸的寬度之狀態下，以溫度225℃、30秒施予處理，繼而朝寬度方向進行3%的鬆弛處理，得到薄膜厚度約50μm的單軸配向之配向薄膜1。配向薄膜1之Re為5177nm，Rth為6602nm，Re/Rth為0.784。

配向薄膜2

除藉由變更未延伸薄膜之厚度而將薄膜厚度作成約100μm以外，係以與配向薄膜1同樣的方式製得單軸配向之配向薄膜2。配向薄膜2之Re為10200nm，Rth為13233nm，Re/Rth為0.771。

配向薄膜3

除對未延伸薄膜利用加熱的輥群及紅外線加熱器加熱至105℃，其後用具周速差的輥群朝行進方向延伸達1.5倍後，採與配向薄膜1同樣的方法朝寬度方向延伸達4.0倍以外，係以與配向薄膜1同樣的方式製得薄膜厚度約50μm的雙軸配向之配向薄膜3。配向薄膜3之Re為3915nm，Rth為6965nm，Re/Rth為0.562。

配向薄膜4

除朝行進方向延伸達3.6倍、朝寬度方向延伸達4.0倍以外，係以與配向薄膜3同樣的方式製得薄膜厚度約38μm的雙軸配向之配向薄膜4。配向薄膜4之Re為1178nm，Rth為6365nm，Re/Rth為0.185。

配向薄膜5

除藉由變更未延伸薄膜之厚度而將薄膜厚度作成約200μm以外，係以與配向薄膜1同樣的方式製得單軸配向之配向薄膜5。配向薄膜5之Re為20500nm。

遲滯(Re)及厚度方向遲滯(Rth)係如下測定。亦即，使用二片偏光板，求出薄膜之配向主軸方向，並以配向主軸方向呈正交的方式切出4cm×2cm之長方形，而作成測定用試樣。對該試樣，以亞貝折射率計(ATAGO公司製NAR-4T)求取正交的二軸之折射率(Nx，Ny)、及厚度方向之折射率(Nz)，並求出前述二軸之折射率差的絕對值(|Nx-Ny|)作為折射率之不等向性(△Nxy)。薄膜之厚度d(nm)係利用電子測微計(FEINPRUF公司製Millitron 1245D)來測定，將單位換算成nm。由折射率之不等向性(△Nxy)與薄膜之厚度d(nm)的積(△Nxy×d)求出遲滯(Re)。又，以與遲滯的測定同樣的方法求取Nx、Ny、Nz與薄膜厚度d(nm)，算出(△Nxz×d)、(△Nyz×d)之平均值而求出厚度方向遲滯(Rth)。

將評定結果示於下述表1。

如上述表1所示，可確認：藉由將具3000nm以上之遲滯的配向薄膜設置於較視認側偏光鏡更靠近視認側，即使在使用有機EL單元及液晶單元(除了光源為冷陰極管之情形外)之任一者作為影像顯示單元之情形，亦可抑制虹斑的產生。