TWI714446B - 觸控裝置 - Google Patents
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Abstract
一種觸控裝置,包括第一觸控電極、第二觸控電極以及絕緣層。第一觸控電極具有交錯成網狀的多條第一金屬線。第二觸控電極具有交錯成網狀的多條第二金屬線。第二觸控電極與第一觸控電極交錯設置。絕緣層設置於第一觸控電極與第二觸控電極之間。第一金屬線具有多個第一粗部和連接於多個第一粗部之間的第一細部。第一細部的線寬小於每一第一粗部的線寬。第一金屬線的第一細部與第二金屬線交錯且互相重疊。
Description
本發明是有關於一種電子裝置,且特別是有關於一種觸控裝置。
近年來,隨著資訊技術、無線行動通訊和資訊家電等各項應用的快速發展,為了達到更便利、體積更輕巧化以及更人性化的目的,許多資訊產品的輸入裝置已由傳統的鍵盤或滑鼠轉變為觸控面板。一般而言,若以感測原理分類,觸控面板的感測方式大致可區分為電阻式、電容式、光學式、聲波式及電磁式等。以電容式觸控面板為例,根據其動與感測方式可分為自電容式(self capacitive)觸控面板及互電容式(mutual capacitive)觸控面板。
互電容式觸控面板包括沿著X軸方向延伸的多個第一觸控電極及沿著Y軸方向延伸的多個第二觸控電極,其中X軸方向與Y軸方向不同。當物體(例如:觸控筆)觸碰觸控面板時,會改變第一、二觸控電極之間的電容;將此改變訊號回傳至控制器,即可計算接觸發生點的座標。然而,當第一、二觸控電極之間的互電容過大時,會影響物體(例如:觸控筆)操作觸控面板。
本發明提供一種觸控裝置,性能佳。
本發明的一種觸控裝置,包括第一觸控電極、第二觸控電極及絕緣層。第一觸控電極具有交錯成網狀的多條第一金屬線。第二觸控電極具有交錯成網狀的多條第二金屬線。第二觸控電極與第一觸控電極交錯設置。絕緣層設置於第一觸控電極與第二觸控電極之間。第一金屬線具有多個第一粗部和連接於多個第一粗部之間的第一細部。第一細部的線寬小於每一第一粗部的線寬。第一金屬線的第一細部與第二金屬線交錯且互相重疊。
在本發明的一實施例中,上述的第二金屬線具有多個第二粗部以及連接於多個第二粗部之間的第二細部,第二細部的線寬小於每一第二粗部的線寬,第一金屬線的第一細部與第二金屬線的第二細部交錯且互相重疊。
在本發明的一實施例中,上述的第二粗部的線寬為A,第二細部的線寬為D,10µm ≥ A ≥ 0.1µm,且10µm ≥ D ≥ 0.1µm。
在本發明的一實施例中,上述的第二粗部與第二細部具有交界線;在觸控裝置的俯視圖中,交界線與第一細部的邊緣具有一距離e,且e ≤ 10µm。
在本發明的一實施例中,上述的第一粗部的線寬為B,第一細部的線寬為C,10µm≥ B ≥0.1µm,且10µm≥ C ≥0.1µm。
在本發明的一實施例中,上述的第一粗部與第一細部具有交界線;在觸控裝置的俯視圖中,交界線與第二金屬線的邊緣具有一距離E,且E ≤ 10µm。
在本發明的一實施例中,上述的第一粗部的軸線與第一細部的軸線具有一夾角α1。
在本發明的一實施例中,一虛擬直線通過相鄰之多個第一粗部的多個幾何中心,且第一細部的邊緣與虛擬直線具有一夾角β1。
在本發明的一實施例中,上述的觸控裝置,還包括顯示面板。顯示面板重疊於第一觸控電極及第二觸控電極。顯示面板包括遮光層,遮光層具有多個畫素開口,每一畫素開口在第一方向上的寬度小於畫素開口在第二方向上的寬度,多個畫素開口在第一方向上以第一間距P1排列,且多個畫素開口在第二方向上以第二間距P2排列。第一觸控電極及第二觸控電極具有重複結構。重複結構包括兩條第一金屬線及四條第二金屬線,其中四條第二金屬線互相交叉且具有相對設置的多個第一交叉點及相對設置的多個第二交叉點,所述四條第二金屬線、多個第一交叉點及多個第二交叉點定義一區域,兩條第一金屬線互相交叉,且兩條第一金屬線的交叉點位於所述區域內。多個第一交叉點在第一方向上具有一第一距離U1,多個第二交叉點在第二方向上具有第二距離U2,[U1/(4∙P1)]不在[(3∙N)-0.5]至[(3∙N)+0.5]的範圍內,其中N為正整數。
在本發明的一實施例中,[U2/(4∙P2)]不等於正整數。
現將詳細地參考本發明的示範性實施例,示範性實施例的實例說明於附圖中。只要有可能,相同元件符號在圖式和描述中用來表示相同或相似部分。
應當理解,當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在另一元件“上”或“連接到”另一元件時,其可以直接在另一元件上或與另一元件連接,或者中間元件可以也存在。相反,當元件被稱為“直接在另一元件上”或“直接連接到”另一元件時,不存在中間元件。如本文所使用的,“連接”可以指物理及/或電性連接。再者,“電性連接”或“耦合”可以是二元件間存在其它元件。
本文使用的“約”、“近似”、或“實質上”包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均值,考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量(即,測量系統的限制)。例如,“約”可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內,或±30%、±20%、±10%、±5%內。再者,本文使用的“約”、“近似”或“實質上”可依光學性質、蝕刻性質或其它性質,來選擇較可接受的偏差範圍或標準偏差,而可不用一個標準偏差適用全部性質。
除非另有定義,本文使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。將進一步理解的是,諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義,並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義,除非本文中明確地這樣定義。
圖1為本發明一實施例之觸控裝置10的剖面示意圖。
圖2為本發明一實施例之觸控裝置10的第一金屬層140及第二金屬層240的俯視示意圖。
圖3為本發明一實施例之第一觸控電極142與第二金屬層240之交錯處的放大示意圖。圖3對應圖2的區域R。
須說明的是,為清楚表達起見,圖2以簡潔的圖框代表網狀的第一觸控電極142、網狀的第一虛擬電極144、網狀的第二觸控電極242及網狀的第二虛擬電極244。
請參照圖1及圖2,觸控裝置10包括具有第一觸控電極142的第一金屬層140、具有第二觸控電極242的第二金屬層240以及設置於第一觸控電極142與第二觸控電極242之間的絕緣層150。在本實施例中,絕緣層150的材料可以是無機材料(例如:氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、或上述至少二種材料的堆疊層)、有機材料或上述之組合。
舉例而言,在本實施例中,觸控裝置10還包括覆蓋板110,且具有第一觸控電極142的第一金屬層140是形成在覆蓋板110上。具體而言,在本實施例中,觸控裝置10還可包括裝飾圖案層120及鈍化層130,裝飾圖案層120設置於覆蓋板110的周邊且具有重疊於第一觸控電極142及第二觸控電極242的開口122,鈍化層130設置於裝飾圖案層120及覆蓋板110上,第一金屬層140設置於鈍化層130上,且絕緣層150設置於第一金屬層140上。
在本實施例中,裝飾圖案層120、鈍化層130、具有第一觸控電極142的第一金屬層140及絕緣層150是形成在覆蓋板110上,而覆蓋板110、裝飾圖案層120、鈍化層130、具有第一觸控電極142的第一金屬層140及絕緣層150可稱為第一觸控結構1。
舉例而言,在本實施例中,觸控裝置10還包括顯示面板DP,顯示面板DP具有第一基板210、設置於第一基板210之對向的第二基板230以及設置於第一基板210與第二基板230之間的顯示介質220,而具有第二觸控電極242的第二金屬層240是形成在顯示面板DP之第二基板230的外表面230a上。具體而言,在本實施例中,觸控裝置10還包括覆蓋層250及偏光片260,覆蓋層250設置於第二金屬層240上,而偏光片260設置於覆蓋層250上。
在本實施例中,具有第二觸控電極242的第二金屬層240、覆蓋層250及偏光片260是形成在顯示面板DP上,而顯示面板DP、具有第二觸控電極242的第二金屬層240、覆蓋層250及偏光片260可稱為第二觸控結構2。
在本實施例中,第一觸控結構1及第二觸控結構2可利用黏著層3彼此連接,以使第一觸控結構1的第一觸控電極142與第二觸控結構2的第二觸控電極242交錯設置,進而形成具有觸控功能的觸控裝置10。在本實施例中,黏著層3是設置於具有第一觸控電極142的第一金屬層140與具有第二觸控電極242的第二金屬層240之間。
值得一提的是,在本實施例中,具有第一觸控電極142的第一金屬層140及具有第二觸控電極242的第二金屬層240是分別形成在覆蓋板110及顯示面板DP上,然後再透過黏著層3彼此連接。第一觸控電極142與第二觸控電極242之間會夾有很厚的黏著層3,而使第一觸控電極142與第二觸控電極242的距離遠。藉此,第一觸控電極142與第二觸控電極242的互電容低,而有助於觸控筆操作觸控裝置10。
此外,在本實施例中,第一觸控電極142與第二觸控電極242之間除了設有黏著層3外,還設有絕緣層150、偏光片260及/或覆蓋層250,而進一步增加第一觸控電極142與第二觸控電極242之間的距離。藉此,第一觸控電極142與第二觸控電極242的互電容可進一步降低,有利於觸控筆操作觸控裝置10。
請參照圖2及圖3,第一金屬層140包括多個第一觸控電極142。每一第一觸控電極142具有交錯成網狀的多條第一金屬線142a。也就是說,每一第一觸控電極142是金屬網格(metal mesh)電極。在本實施例中,第一金屬層140還可包括多個第一虛擬電極144,每一第一虛擬電極144可設置於相鄰兩第一觸控電極142之間,且每一第一虛擬電極144也可以是金屬網格電極,但本發明不以此為限。
第二金屬層240包括多個第二觸控電極242。多個第一觸控電極142與多個第二觸控電極242交錯設置。每一第二觸控電極242具有交錯成網狀的多條第二金屬線242a。也就是說,每一第二觸控電極242是金屬網格(metal mesh)電極。在本實施例中,第二金屬層240還可包括多個第二虛擬電極244,每一第二虛擬電極244可設置於相鄰兩第二觸控電極242之間,且每一第二虛擬電極244也可以是金屬網格電極,但本發明不以此為限。
圖4為本發明一實施例之第一觸控電極142與第二觸控電極242的一個重複結構U的俯視示意圖。圖4對應圖3的區域r。
請參照圖3及圖4,在本實施例中,第一金屬層140及第二金屬層240可由多個重複結構U排列而成。
圖5示出本發明一實施例之互相交錯的一條第一金屬線142a及一條第二金屬線242a。圖5對應圖4的區域I。
圖6為本發明一實施例之互相交錯的一條第一金屬線142a及一條第二金屬線242a之交錯處的放大示意圖。圖6對應圖5的區域i。
請參照圖4、圖5及圖6,值得注意的是,第一金屬線142a具有多個第一粗部142a-1和連接於多個第一粗部142a-1之間的第一細部142a-2,第一細部142a-2的線寬C小於第一粗部142a-1的線寬B,第一金屬線142a的第一細部142a-2與第二金屬線242a交錯且互相重疊。也就是說,第一觸控電極142在其與第二觸控電極242交錯處的線寬變小,而使第一觸控電極142與第二觸控電極242的重疊面積變少。藉此,第一觸控電極142與第二觸控電極242的互電容可降低,有助於觸控筆操作觸控裝置10(標示於圖1)。
在本實施例中,第二金屬線242a可選擇性地具有多個第二粗部242a-1以及連接於多個第二粗部242a-1之間的第二細部242a-2,第二細部242a-2的線寬D小於第二粗部242a-1的線寬A,第一金屬線142a的第一細部142a-2與第二金屬線242a的第二細部242a-2交錯且互相重疊。也就是說,在本實施例中,第二觸控電極242在其與第一觸控電極142交錯處的線寬也可以變小,而使第一觸控電極142與第二觸控電極242的重疊面積進一步變小。藉此,第一觸控電極142與第二觸控電極242的互電容可更進一步降低,有助於觸控筆操作觸控裝置10(標示於圖1)。
然而,本發明不限於此,在其它實施例中,第二觸控電極242的第二金屬線242a也可具有一致的線寬。
請參照圖6,舉例而言,在本實施例中,第一粗部142a-1的線寬為B,第一細部142a-2的線寬為C,10µm≥ B ≥0.1µm,且10µm≥ C ≥0.1µm;第一粗部142a-1與第一細部142a-2具有交界線L1,其中交界線L1是指第一金屬線142a由較粗且一致的線寬B開始變細處;在觸控裝置10(標示於圖1)的俯視圖中,交界線L1與第二金屬線242a的邊緣242e具有一距離E,且E ≤ 10µm;第二粗部242a-1的線寬為A,第二細部242a-2的線寬為D,10µm ≥ A ≥ 0.1µm,且10µm ≥ D ≥ 0.1µm;第二粗部242a-1與第二細部242a-2具有交界線L2,其中交界線L1是指第二金屬線242a由較粗且一致的線寬A開始變細處;在觸控裝置10(標示於圖1)的俯視圖中,交界線L2與第一細部142a-2的邊緣142e具有一距離e,且e ≤ 10µm;但本發明不以此為限。
請參照圖4及圖5,在本實施例中,一第一細部142a-2連接於相鄰兩第一粗部142a-1之間,且第一粗部142a-1的軸線X1與第一細部142a-2的軸線x1具有一夾角α1。也就是說,同一條第一金屬線142a之相鄰兩第一粗部142a-1的軸線X1不在同一直線上而彼此錯位,且相鄰兩第一粗部142a-1的兩軸線X1之間存在一偏移量S1。類似地,在本實施例中,一第二細部242a-2連接於相鄰兩第二粗部242a-1之間,且第二粗部242a-1的軸線X2與第二細部242a-2的軸線x2具有一夾角α2。也就是說,同一條第二金屬線242a之相鄰兩第二粗部242a-1的軸線X2不在同一直線上而彼此錯位,且相鄰兩第二粗部242a-1的兩軸線X2之間存在一偏移量S2。舉例而言,在本實施例中,0
o> α1 ≤ 15
o;0
o> α2 ≤ 15
o;但本發明不以此為限。
圖7示出本發明一實施例之互相交錯的一條第一金屬線142a及一條第二金屬線242a。圖7對應圖4的區域I。
請參照圖4及圖7,從另一角度來說,在本實施例中,一虛擬直線K1通過相鄰之多個第一粗部142a-1的多個幾何中心C1,且第一細部142a-2的邊緣142e與虛擬直線K1具有一夾角β1。類似地,在本實施例中,一虛擬直線K2通過相鄰之多個第二粗部242a-1的多個幾何中心C2,且第二細部242a-2的邊緣242e與虛擬直線K2具有一夾角β2。
值得一提的是,由於同一條第一金屬線142a之相鄰兩第一粗部142a-1的軸線X1(標示於圖5)不在同一直線上而彼此錯位,及/或同一條第二金屬線242a之相鄰兩第二粗部242a-1的軸線X2(標示於圖5)不在同一直線上而彼此錯位,因此,第一觸控電極142及/或第二觸控電極242與顯示面板DP的週期性結構(例如但不限於:圖8的遮光層270、資料線212、掃描線214等)不易產生容易被人眼察覺的摩爾紋。
圖8為本發明一實施例之顯示面板DP 的遮光層270、資料線212、掃描線214、薄膜電晶體T及畫素電極216的俯視示意圖。
請參照圖1、圖2及圖8,顯示面板DP重疊於第一觸控電極142及第二觸控電極242。顯示面板DP的第一基板210例如是畫素陣列基板,畫素陣列基板包括交錯設置的多條資料線212及掃描線214、多個薄膜電晶體T和多個畫素電極216,其中每一薄膜電晶體T的第一端Ta電性連接至對應的一條資料線212,每一薄膜電晶體T的控制端Tc電性連接至對應的一條掃描線214,每一薄膜電晶體T的第二端Tb電性連接至對應的一個畫素電極216。顯示面板DP包括遮光層270。遮光層270可以是第一基板210的一部分或第二基板230的一部分。遮光層270具有多個畫素開口272,多個畫素電極216與多個畫素開口272重疊,每一畫素開口272在第一方向x上的寬度W1小於畫素開口272在第二方向y上的寬度W2,多個畫素開口272在第一方向x上以第一間距P1排列,且多個畫素開口272在第二方向y上以第二間距P2排列。舉例而言,在本實施例中,遮光層270即俗稱的黑矩陣(Black Matrix;BM);遮光層270的材質例如是黑色樹脂;但本發明不以此為限。
請參照圖3及圖4,第一觸控電極142及第二觸控電極242具有一重複結構U,重複結構U包括兩條第一金屬線142a及四條第二金屬線242a,其中四條第二金屬線242a互相交叉且具有相對設置的多個第一交叉點O1及相對設置的多個第二交叉點O2,四條第二金屬線242a、多個第一交叉點O1及多個第二交叉點O2定義一區域F,兩條第一金屬線142a互相交叉,且兩條第一金屬線142a的一交叉點O3位於區域F內。多個第一交叉點O1在第一方向x上具有第一距離U1,多個第二交叉點O2在第二方向y上具有第二距離U2。特別是,在本實施例中,[U1/(4∙P1)]不在[(3∙N)-0.5]至[(3∙N)+0.5]的範圍內,其中N為正整數;[U2/(4∙P2)]不等於正整數。藉此,能更進一步地抑制觸控裝置10(標示於圖1)出現人眼可見的摩爾紋。
在此必須說明的是,下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容,其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件,並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例,下述實施例不再重述。
圖9示出本發明另一實施例之互相交錯的一條第一金屬線142a及一條第二金屬線242a。圖9之第一金屬線142a及第二金屬線242a與圖5之第一金屬線142a及第二金屬線242a類似,兩者的差異在於:在圖9的實施例中,第二金屬線242a之第二粗部242a-1的軸線X2及第二細部242a-2的軸線x2不在同一直線上,但第一金屬線142a之第一粗部142a-1的軸線X1及第一細部142a-2的軸線x1是在同一直線上。
圖10示出本發明又一實施例之互相交錯的一條第一金屬線142a及一條第二金屬線242a。圖10之第一金屬線142a及第二金屬線242a與圖5之第一金屬線142a及第二金屬線242a類似,兩者的差異在於:在圖10的實施例中,第一金屬線142a之第一粗部142a-1的軸線X1及第一細部142a-2的軸線x1不在同一直線上,但第二金屬線242a之第二粗部242a-1的軸線X2及第二細部242a-2的軸線x2是在同一直線上。
1:第一觸控結構
2:第二觸控結構
3:黏著層
10:觸控裝置
110:覆蓋板
120:裝飾圖案層
122:開口
130:鈍化層
140:第一金屬層
142:第一觸控電極
142a:第一金屬線
142a-1:第一粗部
142a-2:第一細部
142e:邊緣
144:第一虛擬電極
150:絕緣層
210:第一基板
212:資料線
214:掃描線
216:畫素電極
220:顯示介質
230:第二基板
230a:外表面
240:第二金屬層
242:第二觸控電極
242a:第二金屬線
242a-1:第二粗部
242a-2:第二細部
242e:邊緣
244:第二虛擬電極
250:覆蓋層
260:偏光片
270:遮光層
272:畫素開口
A、B、C、D:線寬
C1、C2:幾何中心
DP:顯示面板
E、e:距離
K1、K2:虛擬直線
L1、L2:交界線
O1:第一交叉點
O2:第二交叉點
O3:交叉點
P1:第一間距
P2:第二間距
R、r、I、i、F:區域
S1、S2:偏移量
T:薄膜電晶體
Ta:第一端
Tb:第二端
Tc:控制端
U:重複結構
U1:第一距離
U2:第二距離
W1、W2:寬度
X1、x1、X2、x2:軸線
x:第一方向
y:第二方向
α1、α2、β1、β2:夾角
圖1為本發明一實施例之觸控裝置10的剖面示意圖。
圖2為本發明一實施例之觸控裝置10的第一金屬層140及第二金屬層240的俯視示意圖。
圖3為本發明一實施例之第一觸控電極142與第二金屬層240之交錯處的放大示意圖。
圖4為本發明一實施例之第一觸控電極142與第二觸控電極242的一個重複結構U的俯視示意圖。
圖5示出本發明一實施例之互相交錯的一條第一金屬線142a及一條第二金屬線242a。
圖6為本發明一實施例之互相交錯的一條第一金屬線142a及一條第二金屬線242a之交錯處的放大示意圖。
圖7示出本發明一實施例之互相交錯的一條第一金屬線142a及一條第二金屬線242a。
圖8為本發明一實施例之顯示面板DP 的遮光層270、資料線212、掃描線214、薄膜電晶體T及畫素電極216的俯視示意圖。
圖9示出本發明另一實施例之互相交錯的一條第一金屬線142a及一條第二金屬線242a。
圖10示出本發明又一實施例之互相交錯的一條第一金屬線142a及一條第二金屬線242a。
142:第一觸控電極
142a:第一金屬線
242:第二觸控電極
242a:第二金屬線
O1:第一交叉點
O2:第二交叉點
O3:交叉點
r、F、I:區域
U:重複結構
U1:第一距離
U2:第二距離
x:第一方向
y:第二方向
Claims (9)
- 一種觸控裝置,包括:一第一觸控電極,具有交錯成網狀的多條第一金屬線;一第二觸控電極,具有交錯成網狀的多條第二金屬線,且與該第一觸控電極交錯設置;以及一絕緣層,設置於該第一觸控電極與該第二觸控電極之間;其中,一該第一金屬線具有多個第一粗部和連接於該些第一粗部之間的一第一細部,該第一細部的一線寬小於每一該第一粗部的一線寬,該第一金屬線的該第一細部與一該第二金屬線交錯且互相重疊,其中該第一粗部的一軸線與該第一細部的一軸線具有一夾角α1。
- 如請求項1所述的觸控裝置,其中該第二金屬線具有多個第二粗部以及連接於該些第二粗部之間的一第二細部,該第二細部的一線寬小於每一該第二粗部的一線寬,該第一金屬線的該第一細部與該第二金屬線的該第二細部交錯且互相重疊。
- 如請求項1所述的觸控裝置,其中一虛擬直線通過相鄰之該些第一粗部的多個幾何中心,且該第一細部的一邊緣與該虛擬直線具有一夾角β1。
- 如請求項1所述的觸控裝置,還包括:一顯示面板,重疊於該第一觸控電極及該第二觸控電極,其中該顯示面板包括一遮光層,該遮光層具有多個畫素開口,每一該畫素開口在一第一方向上的寬度小於該畫素開口在一第二方向上的寬度,該些畫素開口在該第一方向上以一第一間距P1排列,且該些畫素開口在該第二方向上以一第二間距P2排列;該第一觸控電極及該第二觸控電極具有一重複結構,該重複結構包括兩條第一金屬線及四條第二金屬線,其中該四條第二金屬線互相交叉且具有相對設置的多個第一交叉點及相對設置的多個第二交叉點,該四條第二金屬線、該些第一交叉點及該些第二交叉點定義一區域,該兩條第一金屬線互相交叉,且該兩條第一金屬線的一交叉點位於該區域內; 該些第一交叉點在該第一方向上具有一第一距離U1,該些第二交叉點在該第二方向上具有一第二距離U2,[U1/(4.P1)]不在[(3.N)-0.5]至[(3.N)+0.5]的範圍內,其中N為正整數。
- 如請求項8所述的觸控裝置,其中[U2/(4.P2)]不等於正整數。
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