[go: up one dir, main page]

TWI694113B - 近紅外線吸收性硬化性組成物、硬化膜、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物 - Google Patents

近紅外線吸收性硬化性組成物、硬化膜、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物 Download PDF

Info

Publication number
TWI694113B
TWI694113B TW105122875A TW105122875A TWI694113B TW I694113 B TWI694113 B TW I694113B TW 105122875 A TW105122875 A TW 105122875A TW 105122875 A TW105122875 A TW 105122875A TW I694113 B TWI694113 B TW I694113B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
formula
ring
compound
infrared
Prior art date
Application number
TW105122875A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201710408A (zh
Inventor
平井友樹
佐佐木大輔
神保良弘
Original Assignee
日商富士軟片股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商富士軟片股份有限公司 filed Critical 日商富士軟片股份有限公司
Publication of TW201710408A publication Critical patent/TW201710408A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI694113B publication Critical patent/TWI694113B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1807—C7-(meth)acrylate, e.g. heptyl (meth)acrylate or benzyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
    • C07C225/22—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00—Carboxylic acid amides
    • C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C233/34—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by amino groups
    • C07C233/42—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by amino groups with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C233/43—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by amino groups with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by a carbon atom of a six-membered aromatic ring having the carbon atom of the carboxamide group bound to a hydrogen atom or to a carbon atom of a saturated carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/02—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups
    • C07C251/30—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton containing imino groups having nitrogen atoms of imino groups quaternised
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/01—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C311/02—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
    • C07C311/07—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton having the nitrogen atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/01—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C311/02—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
    • C07C311/09—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by at least two halogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/44—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/08—Indoles; Hydrogenated indoles with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/10—Indoles; Hydrogenated indoles with substituted hydrocarbon radicals attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D209/12—Radicals substituted by oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • C07D209/86—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D219/00—Heterocyclic compounds containing acridine or hydrogenated acridine ring systems
    • C07D219/14—Heterocyclic compounds containing acridine or hydrogenated acridine ring systems with hydrocarbon radicals, substituted by nitrogen atoms, attached to the ring nitrogen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
    • C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
    • C07D231/22—One oxygen atom attached in position 3 or 5 with aryl radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D235/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings
    • C07D235/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D235/04—Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles
    • C07D235/20—Two benzimidazolyl-2 radicals linked together directly or via a hydrocarbon or substituted hydrocarbon radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
    • C07D239/70—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D265/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one nitrogen atom and one oxygen atom as the only ring hetero atoms
    • C07D265/28—1,4-Oxazines; Hydrogenated 1,4-oxazines
    • C07D265/34—1,4-Oxazines; Hydrogenated 1,4-oxazines condensed with carbocyclic rings
    • C07D265/38—[b, e]-condensed with two six-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D277/38—Nitrogen atoms
    • C07D277/42—Amino or imino radicals substituted by hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D277/38—Nitrogen atoms
    • C07D277/44—Acylated amino or imino radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/12—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms
    • C07D295/135—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms with the ring nitrogen atoms and the substituent nitrogen atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D333/30—Hetero atoms other than halogen
    • C07D333/36—Nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/10—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D455/00—Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine
    • C07D455/03—Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing quinolizine ring systems directly condensed with at least one six-membered carbocyclic ring, e.g. protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine
    • C07D455/04—Heterocyclic compounds containing quinolizine ring systems, e.g. emetine alkaloids, protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing quinolizine ring systems directly condensed with at least one six-membered carbocyclic ring, e.g. protoberberine; Alkylenedioxy derivatives of dibenzo [a, g] quinolizines, e.g. berberine containing a quinolizine ring system condensed with only one six-membered carbocyclic ring, e.g. julolidine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D519/00—Heterocyclic compounds containing more than one system of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring system not provided for in groups C07D453/00 or C07D455/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02—Boron compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
    • C08F220/325—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals containing glycidyl radical, e.g. glycidyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/40—Esters of unsaturated alcohols, e.g. allyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/24—Crosslinking, e.g. vulcanising, of macromolecules
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/29—Compounds containing one or more carbon-to-nitrogen double bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3415—Five-membered rings
    • C08K5/3417—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/43—Compounds containing sulfur bound to nitrogen
    • C08K5/435—Sulfonamides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/45—Heterocyclic compounds having sulfur in the ring
    • C08K5/46—Heterocyclic compounds having sulfur in the ring with oxygen or nitrogen in the ring
    • C08K5/47—Thiazoles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/10—The polymethine chain containing an even number of >CH- groups
    • C09B23/105—The polymethine chain containing an even number of >CH- groups two >CH- groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/14—Styryl dyes
    • C09B23/145—Styryl dyes the ethylene chain carrying an heterocyclic residue, e.g. heterocycle-CH=CH-C6H5
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/14—Styryl dyes
    • C09B23/148—Stilbene dyes containing the moiety -C6H5-CH=CH-C6H5
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B55/00—Azomethine dyes
    • C09B55/002—Monoazomethine dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B55/00—Azomethine dyes
    • C09B55/002—Monoazomethine dyes
    • C09B55/003—Monoazomethine dyes with the -C=N- group attached to an heteroring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
    • C09B57/007—Squaraine dyes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/04—Systems containing only non-condensed rings with a four-membered ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2800/00—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed
    • C08F2800/20—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as weight or mass percentages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2333/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2333/14—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/80—Constructional details of image sensors
    • H10F39/805—Coatings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

本發明提供一種能夠製造紅外遮蔽性及可見透明性優異且耐熱性及耐光性優異之硬化膜之近紅外線吸收性硬化性組成物。並且，提供一種硬化膜、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物。該近紅外線吸收性硬化性組成物包含以式(1)表示之化合物及具有交聯性基團之化合物。式(1)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團。

Description

近紅外線吸收性硬化性組成物、硬化膜、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物
本發明有關一種近紅外線吸收性硬化性組成物、硬化膜、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物。
攝像機、數位照相機、附帶照相機功能之行動電話等中使用作為彩色圖像的固體攝像元件的CCD(電荷耦合元件)或CMOS(互補型金屬氧化膜半導體)。該些固體攝像元件因在其受光部使用對紅外線具有感度之矽光電二極體，故需要進行可見度(visibility)校正，對此通常使用紅外線截止濾波器。
作為近紅外線吸收性化合物，已知有方酸內鎓鹽化合物等。
專利文獻1中記載有將特定的方酸內鎓鹽化合物用於光學濾波器。
另一方面，專利文獻2中記載有關於含有特定方酸內鎓鹽化合物作為紅外線吸收物質之紅外線加熱型熱轉印記錄用片之發明。
並且，專利文獻3中記載有包含乙烯性不飽和單體及作為增感劑而選自下述式(a)及式(b)之方酸內鎓鹽化合物之光硬化性 組成物。
Figure 105122875-A0305-02-0004-3
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]：美國專利申請公開第2014/0061505號說明書
[專利文獻2] 日本特開平5-155144號公報
[專利文獻3] 日本專利第2620026號公報
對紅外線截止濾波器要求紅外遮蔽性及可見透明性優異。並且，紅外線截止濾波器被要求耐熱性和耐光性的進一步提高，希望不易產生加熱和光照射引起之著色，且加熱和光照射之後亦具有優異之可見透明性者。
依本發明人等的研究得知，專利文獻1~3中記載之發明中，很難製造紅外遮蔽性及可見透明性優異且加熱和光照射引起之著色被抑制之耐熱性及耐光性優異之紅外線截止濾波器。
因此，本發明的目的為提供一種能夠製造紅外遮蔽性及可見透明性優異且耐熱性及耐光性優異之硬化膜的近紅外線吸收性硬化性組成物、硬化膜、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物。
本發明人等進行各種研究的結果，發現藉由使用包含後述之以式(1)表示之化合物及具有交聯性基團之化合物之近紅外線吸收性硬化性組成物，能夠實現上述目的，從而完成了本發明。本發明提供以下內容。
<1>一種近紅外線吸收性硬化性組成物，其包含以式(1)表示之化合物基具有交聯性基團之化合物；
Figure 105122875-A0305-02-0005-4
式(1)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團；
Figure 105122875-A0305-02-0005-5
式(2)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基，m1表示0~mA的整數，mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環。
<2>如<1>所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，X1及X2是O。
<3>如<1>或<2>所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，A1是苯環、噻吩環、呋喃環、吡咯環、吡啶環、薁環或包含該些環之稠環。
<4>如<1>至<3>中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，A1是苯環或萘環。
<5>如<1>至<4>中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，A及B的至少一個以式(3)、式(4)、式(5)或式(6)表示；【化學式4】
Figure 105122875-A0305-02-0007-6
式(3)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，R1及R2分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，RS1表示取代基，n1表示0~3的整數，R1及R2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環；式(4)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，RS2分別獨立地表示取代基，n2表示0~5的整數，R1及R2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之萘環鍵結而形成環；式(5)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，Z表示CR或N，R表示氫原子、烷基、鹵素原子或氰基，ARZ表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ 11及RZ 12分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，RZ 11與 RZ 12可鍵結而形成環，RS3表示取代基，n3表示0~3的整數；式(6)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，ARZ表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ 11及RZ 12分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，RZ 11與RZ 12可鍵結而形成環，RS4表示取代基，n4表示0~3的整數。
<6>如<1>至<5>中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，A及B的至少一個以式(3-1)、式(5-1)或式(6-1)表示；
Figure 105122875-A0305-02-0008-114
式(3-1)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，R1及R2分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，RS1表示取代基，n1表示0~3的整數，R1及R2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環；式(5-1)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，Z表示CR或N，R表示氫原子、烷基、鹵素原子或氰基，ARZ表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ 11及RZ 12分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，RZ 11 與RZ 12可鍵結而形成環，RS3表示取代基，n3表示0~3的整數；式(6-1)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，ARZ表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ 11及RZ 12分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，RZ 11與RZ 12可鍵結而形成環，RS4表示取代基，n4表示0~3的整數。
<7>如<1>至<6>中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，A及B的至少一個以式(3-1-1)或式(3-1-2)表示；
Figure 105122875-A0305-02-0009-9
式(3-1-1)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，Ar1及Ar2分別獨立地表示芳基或雜芳基，RS11表示取代基，n11表示0~2的整數，Ar1及Ar2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環；式(3-1-2)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，R11表示烷基、芳基或雜芳基，R12表示伸烷基，L表示鍵結R12與苯環而形成環之2價的連結基，RS12表示取代基， n12表示0~2的整數，R11可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環。
<8>如<7>所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，A及B的至少一個以式(3-1-1)表示。
<9>如<1>至<8>中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，YS以式(Y-1)表示；-W-Z......(Y-1)
W表示單鍵或2價的連結基，Z表示-OH、-NHCORx1、-NHCONRx1Rx2、-NHCOORx1、-NHSO2Rx1或-NHBRx1Rx2，Rx1及Rx2分別獨立地表示取代基，Rx1及Rx2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之芳香族烴環或芳香族雜環鍵結而形成環。
<10>如<1>至<9>中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，YS以式(Y-2)表示；-NH-T......(Y-2)
T表示哈密特取代基常數σp值為0.3以上的基團。
<11>如<10>所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，T是-CO-Rx3、-CONH-Rx3、-COO-Rx3或-SO2-Rx3，Rx3是取代基。
<12>如<10>所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，T是-SO2-Rx3，Rx3是取代基。
<13>如<12>所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，Rx3是具有氟原子之基團。
<14>如<1>至<13>中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，以式(1)表示之化合物是以式(1A)表示之化合物；
Figure 105122875-A0305-02-0011-10
式(1A)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團，且A及B的至少一個表示以式(10)表示之基團；
Figure 105122875-A0305-02-0011-11
式(2)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基，m1表示0~mA的整數，mA表示RZ可取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環；【化學式9】
Figure 105122875-A0305-02-0012-12
式(10)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，A2表示芳香族烴環或芳香族雜環，Ar11及Ar12分別獨立地表示芳基或雜芳基，RX10表示取代基，Ar11及Ar12可相互鍵結而形成環，亦可與A2鍵結而形成環。
<15>如<1>至<14>中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，具有交聯性基團之化合物是選自具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物、具有環狀醚基之化合物、具有烷氧基矽烷基之化合物及具有氯矽烷基之化合物之至少1種。
<16>如<1>至<15>中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其進一步包含選自多官能硫醇、醇、胺及羧酸之至少1種。
<17>一種硬化膜，其使用<1>至<16>中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物而成。
<18>如<17>所述之硬化膜，其中，硬化膜是紅外線截止濾波器。
<19>一種固體攝像元件，其具有<17>所述之硬化膜。
<20>一種以式(1A)表示之紅外線吸收劑；【化學式10】
Figure 105122875-A0305-02-0013-13
式(1A)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團，且A及B的至少一個表示以式(10)表示之基團；
Figure 105122875-A0305-02-0013-14
式(2)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基，m1表示0~mA的整數，mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環；
Figure 105122875-A0305-02-0013-16
式(10)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，A2表示芳香 族烴環或芳香族雜環，Ar11及Ar12分別獨立地表示芳基或雜芳基，RX10表示取代基，Ar11及Ar12可相互鍵結而形成環，亦可與A2鍵結而形成。
<21>一種以式(1A)表示之化合物；
Figure 105122875-A0305-02-0014-17
式(1A)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團，且A及B的至少一個表示以式(10)表示之基團；
Figure 105122875-A0305-02-0014-18
式(2)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基，m1表示0~mA的整數，mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環；【化學式15】
Figure 105122875-A0305-02-0015-19
式(10)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，A2表示芳香族烴環或芳香族雜環，Ar11及Ar12分別獨立地表示芳基或雜芳基，RX10表示取代基，Ar11及Ar12可相互鍵結而形成環，亦可與A2鍵結而形成環。
<22>如<21>所述之化合物，其中，RX10是具有氟原子之基團。
依本發明，能夠提供一種能夠製造紅外遮蔽性及可見透明性優異且耐熱性及耐光性優異之硬化膜的近紅外線吸收性硬化性組成物。並且，能夠提供一種具有該種特性之硬化膜、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物。
本說明書中，總固體含量是指從組成物的整體中將溶劑除外之成分的總質量。並且，固體含量是指25℃下之固體含量。
本說明書中的基團(原子團)的標記中，未記述取代及未經取代之標記包含不具有取代基者亦包含具有取代基者。例如，「烷 基」不僅包含不具有取代基之烷基(未經取代烷基)，亦包含具有取代基之烷基(取代烷基)。
本說明書中的「放射線」，例如是指水銀燈的明線光譜、準分子雷射所代表的遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X射線、電子束等。另外，本發明中所謂光，是指光化射線或放射線。關於本說明書中的「曝光」，除非另有指明，則不僅是指利用水銀燈的明線光譜、準分子雷射所代表之遠紫外線、X射線、EUV光等來進行之曝光，而且利用電子束、離子束等粒子束來進行之描繪亦包含於曝光中。
本說明書中，近紅外線是指波長區域為700~2500nm的光(電磁波)。
本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯雙方或任一方，「(甲基)烯丙基」表示烯丙基及甲基烯丙基雙方或任一方，「(甲基)丙烯酸」表示丙烯酸及甲基丙烯酸雙方或任一方，「(甲基)丙烯醯基」表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基雙方或任一方。
本說明書中，「製程」這一詞不僅包含獨立的製程，即使無法與其他製程明確區別之情況下，只要實現該製程的預期作用，則亦包含於本術語中。
本說明書中，「重量平均分子量」及「數量平均分子量」定義為基於凝膠滲透色譜法(GPC)測定之聚苯乙烯換算值。
<近紅外線吸收性硬化性組成物>
本發明的近紅外線吸收性硬化性組成物(以下，還稱為本發明的組成物)包含後述之以式(1)表示之化合物及具有交聯性基團之化合物。
後述之以式(1)表示之化合物(以下，還稱為方酸內鎓鹽化合物(1))，在以A1表示之芳香族烴環或芳香族雜環的鄰位具備具有活性氫之基團YS。藉由使用具有該種結構之方酸內鎓鹽化合物(1)，能夠製造紅外遮蔽性及可見透明性優異之硬化膜。並且，藉由併用該方酸內鎓鹽化合物(1)與具有交聯性基團之化合物，耐熱性及耐光性得到提高，能夠製造不易產生加熱和光照射引起之著色且在加熱和光照射之後亦具有優異之可見透明性之硬化膜。作為可獲得優異之耐熱性之理由，推斷為是因為藉由交聯，膜的玻璃轉移溫度得到了提高。並且，作為可獲得優異之耐光性之理由，推斷為是因為隨著交聯，膜的氧透過率下降。而且，所獲得之硬化膜的耐溶劑性得到提高，能夠藉由多重塗佈製造硬化膜，例如能夠實現厚膜化。而且，藉由所獲得之硬化膜的耐溶劑性得到提高，還能夠在使用本發明的組成物之硬化膜的表面形成保護膜等其他膜。
以下，對本發明的組成物的各成分進行說明。
<<以式(1)表示之化合物(方酸內鎓鹽化合物(1))>>
本發明的組成物包含以式(1)表示之化合物(方酸內鎓鹽化合物(1))。本發明中，方酸內鎓鹽化合物(1)在600~1200nm的範圍具有極大吸收波長為較佳，在700~1000nm的範圍具有更為 佳。藉由在上述範圍具有極大吸收波長，易製造紅外遮蔽性及可見透明性優異之硬化膜。
本發明的組成物中，方酸內鎓鹽化合物(1)的含量設為在本發明的組成物的總固體含量中為0.1~70質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為較佳，1.0質量%以上更為佳。上限為60質量%以下為較佳，50質量%以下更為佳。藉由將含量設為該範圍內，能夠賦予良好的紅外吸收能。本發明的組成物包含2種以上的方酸內鎓鹽化合物(1)時，其合計量在上述範圍內為較佳。
Figure 105122875-A0305-02-0018-20
X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團；
Figure 105122875-A0305-02-0018-21
式(2)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基， m1表示0~mA的整數，mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環。
式(1)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基。從可見透明性觀點考慮，X1及X2是O為較佳。
式(2)中，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環。
構成芳香族烴環的環之碳原子數為6~48為較佳，6~22更為佳，6~12尤為佳。芳香族烴環是單環或稠環為較佳，單環或縮合數為2~8的稠環為較佳，單環或縮合數為2~4的稠環更為佳，單環或縮合數為2或3的稠環更為佳，單環或縮合數為2的稠環尤為佳。
作為芳香族雜環，5員環或6員環為較佳。並且，芳香族雜環是單環或稠環為較佳，單環或縮合數為2~8的稠環為較佳，單環或縮合數為2~4的稠環更為佳，單環或縮合數為2或3的稠環更為佳，單環或縮合數為2的稠環尤為佳。作為構成芳香族雜環的環之雜原子，可例示氮原子、氧原子、硫原子，氮原子、硫原子為較佳。構成芳香族雜環的環之雜原子的數量為1~3為較佳，1~2更為佳。
A1是苯環、噻吩環、呋喃環、吡咯環、吡啶環、薁環或包含該些環之稠環為較佳。作為稠環，可舉出萘環、苯并噻吩環、苯并呋喃環、異苯并呋喃環、苯并咪唑環、吲哚環、異吲哚環、喹啉環、異喹啉環、噻吩并吡咯環、吡咯并噻唑環等。本發明中，A1是苯環或萘環為較佳，從可見透明性、耐光性及耐熱性觀點考慮，苯環 更為佳。
式(2)中，YS表示具有活性氫之基團。本發明中，YS所表示之具有活性氫之基團是指可相對於式(1)中的X1及X2形成氫鍵之基團。另外，A1是在鄰位具有活性氫之芳香族雜環(例如，吡咯環、噻吩并吡咯環、吡咯并噻唑環等)時，在芳香族雜環的鄰位所具有之氫原子相當於YS。
本發明中，YS可與A1或RZ鍵結而形成環。作為YS與A1或RZ鍵結而形成之環，可舉出脂環(非芳香性的烴環)、芳香族環、雜環等。環可以是單環亦可以是複環。作為YS與A1或RZ鍵結而形成環時的連結基，選自由-CO-、-O-、-NH-、碳原子數1~10的伸烷基及該些的組合構成之群組中的2價的連結基為較佳。
作為YS所表示之具有活性氫之基團，以式(Y-1)表示之基團為較佳。
-W-Z......(Y-1)
式(Y-1)中，W表示單鍵或2價的連結基。作為2價的連結基，可舉出伸烷基、伸芳基、-O-、-NR’-(R’表示氫原子、可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，氫原子為較佳)、-SO2-、-CO-、-O-、-S-及組合該些而成之基團。W是單鍵為較佳。
式(Y-1)中，Z可舉出-OH、-SH、-COOH、-SO3H、-NHRx1、-NRx1Rx2、-NHCORx1、-CONRx1Rx2、-NHCONRx1Rx2、-NHCOORx1、-NHSO2Rx1、-B(OH)2、-PO(OH)3或-NHBRx1Rx2。Z是-OH、-NHCORx1、-NHCONRx1Rx2、-NHCOORx1、-NHSO2Rx1及- NHBRx1Rx2為較佳，-NHCORx1、-NHCONRx1Rx2、-NHCOORx1及-NHSO2Rx1更為佳，-NHCORx1及-NHSO2Rx1進一步較佳，-NHSO2Rx1尤為佳。
Rx1及Rx2分別獨立地表示取代基。作為取代基，可舉出烷基、芳基等，烷基為較佳。烷基的碳原子數為1~20為較佳，1~15更為佳，1~8為進一步較佳，1~5尤為佳。烷基可以是直鏈、分支、環狀的任一個，直鏈或分支為較佳。芳基的碳原子數為6~30為較佳，6~20更為佳，6~12為進一步較佳。
烷基及芳基可具有取代基，亦可以是無取代，具有取代基為較佳。作為取代基，可舉出後述之RZ中說明之取代基。例如，可舉出鹵素原子、芳基、烷氧基等，從耐熱性及耐光性的觀點考慮，鹵素原子為較佳，氟原子為進一步較佳。
Rx1及Rx2是具有氟原子之基團為較佳，具有氟原子之烷基或具有氟原子之芳基更為佳，具有氟原子之烷基為進一步較佳，碳原子數1~5的全氟烷基尤為佳。
Rx1及Rx2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之芳香族烴環或芳香族雜環鍵結而形成環。作為環，可舉出脂環(非芳香性的烴環)、芳香族環、雜環等。環可以是單環亦可以是複環。並且，作為形成環時的連結基，選自由-CO-、-O-、-NH-、碳原子數1~10的伸烷基及該些的組合構成之群組之2價的連結基為較佳。其中，YS所鍵結之芳香族烴環或芳香族雜環是式(2)中的A1。
本發明中，YS所表示之具有活性氫之基團是以式(Y-2) 表示之基團為較佳。
-NH-T......(Y-2)
T表示哈密特取代基常數σp值為0.3以上的基團。
對哈密特取代基常數σp值進行說明。哈密特法則是為了定量性地評論取代基對苯衍生物的反應或平衡所造成之影響，在1935年由L.P.Hammett提倡之經驗法則，目前該法則的合理性廣泛得到認可。藉由哈密特法則求出之取代基常數中有σp值及σm值，該些值能夠在很多一般的文獻中看到。例如，J.A.Dean編、「Lange’s Handbook of Chemistry」第12版，1979年(Mc Graw-Hill)和「化學領域」增刊，122號，96~103頁，1979年(南光堂)、Chem.Rev.，1991年，91卷，165~195頁等中有詳細記載。本發明中的哈密特取代基常數σp值為0.3以上的基團表示是拉電子性基團。作為σp值，較佳為0.35以上，更佳為0.4以上，尤佳為0.5以上。σp值的上限例如為1.0以下為較佳，0.8以下更為佳。作為哈密特取代基常數σp值為0.3以上的基團的具體例，例如可舉出-CO-CH3(σp值=0.50)、-CONH-CH33(σp值=0.36)、-COO-CH3(σp值=0.45)、-SO2-CH3(σp值=0.72)等。另外，括號內的值是從Chem.Rev.，1991年，91卷，165~195頁摘抄之代表性取代基的σp值者。
本發明中，T是-CO-Rx3、-CONH-Rx3、-COO-Rx3或-SO2-Rx3為較佳，從耐熱性及耐光性的觀點考慮，-SO2-Rx3更為佳。亦即，從耐熱性及耐光性的觀點考慮，YS是-NH-SO2-Rx3更為佳。 Rx3表示取代基。Rx3所表示之取代基的含義與上述之Rx1及Rx2中說明之取代基相同，具有氟原子之基團為較佳，具有氟原子之烷基(全氟烷基)更為佳，全氟烷基為進一步較佳，碳原子數1~5的全氟烷基尤為佳。
式(2)中，RZ表示取代基。作為取代基，可舉出鹵素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基、芳烷基、-ORZ 1、-CORZ 1、-COORZ 1、-OCORZ 1、-NRZ 1RZ 2、-NHCORZ 1、-CONRZ 1RZ 2、-NHCONRZ 1RZ 2、-NHCOORZ 1、-SRZ 1、-SO2RZ 1、-SO2ORZ 1、-NHSO2RZ 1或-SO2NRZ 1RZ 2。RZ 1及RZ 2分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，RZ 1與RZ 2可鍵結而形成環。另外，-COORZ 1的RZ 1為氫時(亦即，羧基)，氫原子可解離(亦即，碳酸酯基)，亦可以是鹽的狀態。並且，-SO2ORZ 1的RZ 1為氫原子時(亦即，磺基)，氫原子可解離(亦即，磺酸鹽基)，亦可以是鹽的狀態。
作為鹵素原子，可舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
烷基的碳原子數為1~20為較佳，1~15更為佳，1~8為進一步較佳。烷基可以是直鏈、分支、環狀的任一個，直鏈或分支為較佳。
烯基的碳原子數為2~20為較佳，2~12更為佳，2~8尤為佳。烯基可以是直鏈、分支、環狀的任一個，直鏈或分支為較佳。
炔基的碳原子數為2~40為較佳，2~30更為佳，2~25尤為 佳。炔基可以是直鏈、分支、環狀的任一個，直鏈或分支為較佳。
芳基的碳原子數為6~30為較佳，6~20更為佳，6~12為進一步較佳。
芳烷基的烷基部分與上述烷基相同。芳烷基的芳基部分與上述芳基相同。芳烷基的碳原子數為7~40為較佳，7~30更為佳，7~25為進一步較佳。
雜芳基為單環或稠環為較佳，單環或縮合數為2~8的稠環更為佳，單環或縮合數為2~4的稠環更為佳。構成雜芳基的環之雜原子的數量為1~3為較佳。構成雜芳基的環之雜原子為氮原子、氧原子或硫原子為較佳。雜芳基為5員環或6員環為較佳。構成雜芳基的環之碳原子的數量為3~30為較佳，3~18更為佳，3~12為進一步較佳。
烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基及雜芳基可具有取代基亦可為無取代。作為取代基，可舉出上述之RZ中說明之基團。例如，可舉出烷基、烷氧基、芳基等。並且，可舉出後述之以式(W)表示之基團等。
作為RZ 1與RZ 2鍵結而形成之環，可舉出脂環(非芳香性的烴環)、芳香族環、雜環等。環可以是單環亦可以是複環。作為RZ 1與RZ 2鍵結而形成環時的連結基，可舉出選自由-CO-、-O-、-NH-、碳原子數1~10的伸烷基及該些的組合構成之群組中的2價的連結基為較佳。
本發明中，RZ可與A1鍵結而形成，亦可與YS鍵結而 形成環。亦即，RZ 1和/或RZ 2可與A1和/或YS鍵結而形成環。作為RZ 1和/或RZ 2與A1和/或YS鍵結而形成環時的連結基，選自由-CO-、-O-、-NH-、碳原子數1~10的伸烷基及該些的組合構成之群組之2價的連結基為較佳。
本發明中，RZ是-NRZ 1RZ 2為較佳。RZ 1及RZ 2分別獨立地是烷基、芳基或雜芳基為較佳，從耐熱性及耐光性的觀點考慮，是芳基或雜芳基更為佳，是芳基為進一步較佳。烷基、芳基及雜芳基可具有取代基，亦可以是無取代。作為取代基，可舉出上述之RZ中說明之基團。例如，可舉出烷基、烷氧基、芳基等。並且，RZ 1及RZ 2是芳基時，芳基具有可溶化基作為取代基為較佳。依該態樣，能夠抑制加熱時的結晶化，易獲得優異之耐熱性。作為可溶化基，以以下式(W)表示之基團為較佳。
-S100-L100-T100......(W)
式(W)中，S100表示單鍵、伸芳基或雜伸芳基，L100表示伸烷基、伸烯基、伸炔基、-O-、-S-、-NRL1-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONRL1-、-NRL1CO-、-SO2-、-ORL2-或組合該些而成之基團，RL1表示氫原子或烷基，RL2表示伸烷基，T100表示烷基、氰基、羥基、甲醯基、羧基、胺基、硫醇基、磺基、磷醯基、硼基、乙烯基、乙炔基、芳基、雜芳基、三烷基矽烷基或三烷氧基矽烷基。
式(W)中，S100表示單鍵、伸芳基或雜伸芳基，單鍵為較佳。
伸芳基可以是單環亦可以是多環。單環為較佳。伸芳基的碳原子數為6~20為較佳，6~12更為佳。
雜伸芳基可以是單環亦可以是多環。單環為較佳。構成雜伸芳基的環之雜原子的數量為1~3為較佳。構成雜伸芳基的環之雜原子是氮原子、氧原子、硫原子或硒原子為較佳。構成雜伸芳基的環之碳原子的數量為3~30為較佳，3~18更為佳，3~12為進一步較佳。
式(W)中，L100是伸烷基、伸烯基、伸炔基、-O-、-S-、-NRL1-、-COO-、-OCO-、-CONRL1-、-SO2-、-ORL2-或組合該些而成之基團為較佳，從柔軟性及溶劑溶解性的觀點考慮，伸烷基、伸烯基、-O-、-ORL2-或組合該些而成之基團更為佳，伸烷基、伸烯基、-O-或-ORL2-為進一步較佳，伸烷基、-O-或-ORL2-尤為佳。
L100所表示之伸烷基的碳原子數為1~40為較佳。下限為3以上更為佳，5以上為進一步較佳，10以上為進一步較佳，13以上尤為佳。上限為35以下更為佳，30以下為進一步較佳。伸烷基可以是直鏈、分支、環狀的任一個，但直鏈或分支的伸烷基為較佳，分支的伸烷基尤為佳。伸烷基的分支數例如為2~10為較佳，2~8更為佳。若分支數在上述範圍，則溶劑溶解性良好。
L100所表示之伸烯基及伸炔基的碳原子數為2~40為較佳。
下限例如為3以上更為佳，5以上為進一步較佳，8以上為進一步較佳，10以上尤為佳。上限為35以下更為佳，30以下為進一步較佳。伸烯基及伸炔基可以是直鏈、分支的任一個，但直鏈或 分支為較佳，分支尤為佳。分支數為2~10為較佳，2~8更為佳。如果分支數在上述範圍，則溶劑溶解性良好。
RL1表示氫原子或烷基，氫原子為較佳。烷基的碳原子數為1~20為較佳，1~10更為佳，1~4為進一步較佳，1~2尤為佳。烷基可以是直鏈、分支的任一個。
RL2表示伸烷基。RL2所表示之伸烷基的含義與L1中說明之伸烷基相同，較佳範圍亦相同。
式(W)中，T100表示烷基、氰基、羥基、甲醯基、羧基、胺基、硫醇基、磺基、磷醯基、硼基、乙烯基、乙炔基、芳基、雜芳基、三烷基矽烷基或三烷氧基矽烷基。
烷基、三烷基矽烷基所具有之烷基及三烷氧基矽烷基所具有之烷基的碳原子數為1~40為較佳。下限為3以上更為佳，5以上為進一步較佳，10以上為進一步較佳，13以上尤為佳。上限為35以下更為佳，30以下為進一步較佳。烷基可以是直鏈、分支、環狀的任一個，但直鏈或分支為較佳。
芳基及雜芳基的含義與RZ中說明之芳基及雜芳基相同，較佳範圍亦相同。
式(W)中，S100為單鍵，L100為伸烷基，T100為烷基的情況，L100與T100中所含之碳原子數的總和為3以上為較佳，從溶劑溶解性的觀點考慮，6以上更為佳，8以上為進一步較佳。上限為例如40以下為較佳，35以下更為佳。並且，S100為伸芳基或雜伸芳基時，L100與T100中所含之碳原子數的總和為3以上為較 佳，從溶劑溶解性的觀點考慮，6以上更為佳，8以上為進一步較佳。上限為例如40以下為較佳，35以下更為佳。
-L100-T100部分的碳原子數為3以上時，溶劑溶解性良好，能夠抑制因不溶物等引起之缺陷的產生，能夠製造出均勻且膜質良好的膜。進而，藉由將-L100-T100部分的碳原子數設為3以上，能夠抑制結晶性。通常，若化合物的結晶性較高，則將膜進行加熱時進行化合物的結晶化，有時膜吸收特性發生變化，本發明中，能夠抑制加熱時的化合物的結晶化，並能夠抑制加熱後的膜的吸收特性的變動。
作為式(W)的較佳態樣，可舉出S100是單鍵，且L100是伸烷基、伸烯基、伸炔基、-O-、-S-、-NRL1-、-COO-、-OCO-、-CONRL1-、-SO2-、-ORL2-或組合該些而成之基團，且T100是烷基或三烷基矽烷基之組合。L100是伸烷基、伸烯基、-O-、-ORL2-或組合該些而成之基團更為佳，伸烷基、伸烯基、-O-或-ORL2-為進一步較佳，伸烷基、-O-或-ORL2-尤為佳。T100是烷基更為佳。
式(W)中，-L100-T100部分包含分支烷基結構亦較佳。具體而言，-L100-T100部分是分支的烷基或分支的烷氧基尤為佳。-L100-T100部分的分支數為2~10為較佳，2~8更為佳。-L100-T100部分的碳原子數為3以上為較佳，6以上更為佳，8以上為進一步較佳。上限例如為40以下為較佳，35以下更為佳。
式(W)中，-L100-T100部分包含不對稱碳亦較佳。依該態樣，方酸內鎓鹽化合物(1)能夠包含複數個光學異構物，其結 果，能夠進一步提高方酸內鎓鹽化合物(1)的溶劑溶解性。不對稱碳的數量為1個以上為較佳。不對稱碳的上限並無特別限定，例如4以下為較佳。
本發明中，RZ所表示之取代基是以下述(RZ-1)表示之基團或以(RZ-2)表示之基團亦較佳。依該態樣，能夠設為在更靠長波長側具有方酸內鎓鹽化合物(1)的極大吸收波長之化合物。例如，能夠實現方酸內鎓鹽化合物(1)的極大吸收波長向700nm以上(較佳為800nm以上，更佳為800~900nm)的長波長化。
Figure 105122875-A0305-02-0029-22
上述式中，Z表示CR或N。R表示氫原子、烷基、鹵素原子或氰基。ARZ表示芳香族烴環或芳香族雜環。RZ 11及RZ 12分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，RZ 11與RZ 12可鍵結而形成環。波線表示與式(2)的A1的鍵結位置。
作為ARZ所表示之芳香族烴環及芳香族雜環，可舉出式(2)的A1中說明之芳香族烴環及芳香族雜環。RZ 11及RZ 12所表示之烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基及芳烷基可舉出RZ 1及RZ 2中說明之基團，較佳範圍亦相同。從耐熱性及耐光性的觀點考慮， RZ 11及RZ 12是芳基或雜芳基更為佳，是芳基為進一步較佳。並且，RZ 11及RZ 12所表示之烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基及芳烷基可以是無取代，亦可以具有取代基。作為取代基，可舉出RZ中說明之取代基或可溶化基。作為可溶化基，以上述式(W)表示之基團為較佳。
式(2)中，m1表示0~mA的整數。mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數。例如，A1為苯環時，mA成為4。並且，A1為萘環時，mA成為6。m1為0~4的整數為較佳，0~3的整數更為佳，1~3的整數為進一步較佳，1或2尤為佳。
YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環。
本發明中，方酸內鎓鹽化合物(1)是式(1)中的A及B的至少一個以式(3)、式(4)、式(5)或式(6)表示之化合物為較佳。
【化學式19】
Figure 105122875-A0305-02-0031-25
式(3)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，R1及R2分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，RS1表示取代基，n1表示0~3的整數，R1及R2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環；式(4)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，RS2分別獨立地表示取代基，n2表示0~5的整數，R1及R2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之萘環鍵結而形成環；式(5)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，Z表示CR或N，R表示氫原子、烷基、鹵素原子或氰基，ARZ表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ 11及RZ 12分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，RZ 11與 RZ 12可鍵結而形成環，RS3表示取代基，n3表示0~3的整數；式(6)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，ARZ表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ 11及RZ 12分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，RZ 11與RZ 12可鍵結而形成環，RS4表示取代基，n4表示0~3的整數。
式(3)、式(4)、式(5)及式(6)中的YS的含義與以式(2)中說明之YS相同，較佳範圍亦相同。式(3)中的RS1、式(4)中的RS2、式(5)中的RS3、式(6)中的RS4分別獨立地表示取代基。作為取代基，可舉出式(2)的RZ中說明之取代基和可溶化基。作為可溶化基，以上述式(W)表示之基團為較佳。
式(3)及(4)中的R1及R2分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，烷基或芳基為較佳，芳基更為佳。
烷基的碳原子數為1~20為較佳，1~15更為佳，1~8為進一步較佳。烷基可以是直鏈、分支、環狀的任一個，直鏈或分支為較佳。
芳基的碳原子數為6~30為較佳，6~20更為佳，6~12為進一步較佳。
雜芳基是單環或稠環為較佳，單環或縮合數為2~8的稠環為較佳，單環或縮合數為2~4的稠環更為佳。構成雜芳基的環之雜原子的數量為1~3為較佳。構成雜芳基的環之雜原子是氮原子、氧原子或硫原子為較佳。雜芳基為5員環或6員環為較佳。構成 雜芳基的環之碳原子的數量為3~30為較佳，3~18更為佳，3~12為進一步較佳。
烷基、芳基及雜芳基可具有取代基，亦可以是無取代。作為取代基，可舉出上述之RZ中說明之基團。例如，可舉出烷基、烷氧基、芳基等。並且，上述之以式(W)表示之基團亦較佳。
R1及R2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之苯環或萘環鍵結而形成環。作為環，可舉出脂環、芳香族環、雜環等。環可以是單環亦可以是複環。作為構成環時的連結基，選自由-CO-、-O-、-NH-、碳原子數1~10的伸烷基及該些的組合構成之群組之2價的連結基為較佳。
式(5)中的Z、ARZ、RZ 11及RZ 12的含義與以(RZ-1)表示之基團中說明之Z、ARZ、RZ 11及RZ 12相同，較佳範圍亦相同。
式(6)中的ARZ、RZ 11及RZ 12的含義與以(RZ-2)表示之基團中說明之ARZ、RZ 11及RZ 12相同，較佳範圍亦相同。
式(3)中，n1表示0~3的整數，0~2為較佳，0~1更為佳。
式(4)中，n2表示0~5的整數，0~2為較佳，0~1更為佳。
式(5)中，n3表示0~3的整數，0~2為較佳，0~1更為佳。
式(6)中，n4表示0~3的整數，0~2為較佳，0~1更為佳。
本發明中，方酸內鎓鹽化合物(1)中，式(1)中的A及B的至少一個以式(3-1)、式(5-1)或式(6-1)表示為較佳，以式(3-1)表示更為佳，A及B以式(3-1)表示為進一步較佳。
Figure 105122875-A0305-02-0034-26
式(3-1)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，R1及R2分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，RS1表示取代基，n1表示0~3的整數，R1及R2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環。
式(5-1)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，Z表示CR或N，R表示氫原子、烷基、鹵素原子或氰基，ARZ表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ 11及RZ 12分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，RZ 11與RZ 12可鍵結而形成環，RS3表示取代基，n3表示0~3的整數。
式(6-1)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，ARZ表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ 11及RZ 12分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，RZ 11與RZ 12可鍵結而形成環，RS4表示取代基，n4表示0~3的整數。
式(3-1)中的、YS、R1、R2、RS1及n1的含義與式(3)中說明之YS、R1、R2、RS1及n1相同，較佳範圍亦相同。
式(5-1)中的YS、RS3、Z、ARZ、RZ 11、RZ 12及n3的含義與式(5-1)中說明之YS、RS3、Z、ARZ、RZ 11、RZ 12及n3相同，較佳範圍亦相同。
式(6-1)中的YS、RS4、ARZ、RZ 11、RZ 12及n4的含義與式(6-1)中說明之YS、RS4、ARZ、RZ 11、RZ 12及n4相同，較佳範圍亦相同。
本發明中，方酸內鎓鹽化合物(1)中，式(1)中的A及B的至少一個以式(3-1-1)或式(3-1-2)表示為較佳，以式(3-1-1)表示更為佳，A及B以式(3-1-1)表示尤為佳。
Figure 105122875-A0305-02-0035-27
式(3-1-1)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，Ar1及Ar2分別獨立地表示芳基或雜芳基，RS11表示取代基，n11表示0~2的整數，Ar1及Ar2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環；式(3-1-2)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具 有活性氫之基團，R11表示烷基、芳基或雜芳基，R12表示伸烷基，L表示鍵結R12與苯環而形成環之2價的連結基，RS12表示取代基，n12表示0~2的整數，R11可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環。
式(3-1-1)的YS及RS11以及式(3-1-2)中的YS及RS12的含義與式(3)的YS及RS1相同，較佳範圍亦相同。
式(3-1-1)的Ar1及Ar2分別獨立地表示芳基或雜芳基，芳基為較佳。對於芳基及雜芳基的詳細內容，其含義與式(3)的R1及R2中說明之芳基及雜芳基相同。芳基及雜芳基可以是無取代，亦可以具有取代基。作為取代基，可舉出上述之RZ中說明之基團。例如，可舉出烷基、烷氧基、芳基等。並且，取代基是上述之以式(W)表示之基團亦較佳。
Ar1及Ar2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環。作為環，可舉出脂環、芳香族環、雜環等。環可以是單環亦可以是複環。作為形成環時的連結基，選自由-CO-、-O-、-NH-、碳原子數1~10的伸烷基及該些的組合構成之群組之2價的連結基為較佳。
式(3-1-2)的R11表示烷基、芳基或雜芳基。關於烷基、芳基及雜芳基的詳細內容，其含義與式(3)的R1及R2中說明之烷基、芳基及雜芳基相同。烷基、芳基及雜芳基可以是無取代，亦可以具有取代基。作為取代基，可舉出上述之RZ中說明之基團。例如，可舉出烷基、烷氧基、芳基等。並且，取代基是上述之以式(W)表示之基團亦較佳。
式(3-1-2)的R12表示伸烷基。伸烷基的碳原子數為1~20為較佳，1~15更為佳，1~8為進一步較佳。伸烷基是直鏈或分支為較佳。伸烷基可以是無取代，亦可以具有取代基。作為取代基，可舉出上述之RZ中說明之基團。例如，可舉出烷基、烷氧基、芳基等。
式(3-1-2)的L表示鍵結R12與苯環來形成環之2價的連結基。作為2價的連結基，可舉出選自由-CO-、-O-、-NH-、碳原子數1~10的伸烷基及該些的組合構成之群組之2價的連結基。
式(3-1-1)的n3及式(3-1-2)的n4表示0~2的整數，0或1為較佳，0更為佳。
另外，式(1)中，陽離子以如下方式非定域化而存在。
Figure 105122875-A0305-02-0037-28
本發明中，方酸內鎓鹽化合物(1)是以式(1A)表示之化合物為較佳。以(1A)表示之化合物亦為本發明的化合物。
Figure 105122875-A0305-02-0037-30
式(1A)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲 基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團，且A及B的至少一個表示以式(10)表示之基團；
Figure 105122875-A0305-02-0038-31
式(2)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基，m1表示0~mA的整數，mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環；
Figure 105122875-A0305-02-0038-32
式(10)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，A2表示芳香族烴環或芳香族雜環，Ar11及Ar12分別獨立地表示芳基或雜芳基，RX10表示取代基，Ar11及Ar12可相互鍵結而形成環，亦可與A2鍵結而形成環。
(1A)中的、X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基。X1及X2為O為較佳。(1A)中的以式(2)表示之基團 的含義與上述之式(1)中說明之以式(2)表示之基團相同，較佳範圍亦相同。
式(1A)中，A及B的至少一個表示以式(10)表示之基團，從紅外遮蔽性、可見透明性、耐熱性及耐光性的觀點考慮，A及B為以式(10)表示之基團為較佳。
式(10)中，A2表示芳香族烴環或芳香族雜環。式(10)的A2的含義與式(2)的A1相同，苯環或萘環為較佳，苯環更為佳。
式(10)中，Ar11及Ar12分別獨立地表示芳基或雜芳基。關於芳基及雜芳基的詳細內容，其含義與式(3)的R1及R2中說明之芳基及雜芳基相同。芳基及雜芳基可以是無取代，亦可以具有取代基。作為取代基，可舉出上述之RZ中說明之基團。例如，可舉出烷基、烷氧基、芳基等。並且，取代基為上述之以式(W)表示之基團亦較佳。
Ar11及Ar12可相互鍵結而形成環，亦可與A2鍵結而形成環。 作為環，可舉出脂環、芳香族環、雜環等。環可以是單環亦可以是複環。作為形成環時的連結基，選自由-CO-、-O-、-NH-、碳原子數1~10的伸烷基及該些的組合構成之群組之2價的連結基為較佳。
式(10)中，RX10表示取代基。作為取代基，可舉出烷基、芳基等，烷基為較佳。烷基的碳原子數為1~20為較佳，1~15更為佳，1~8為進一步較佳，1~5尤為佳。烷基可以是直鏈、 分支、環狀的任一個，直鏈或分支為較佳。芳基的碳原子數為6~30為較佳，6~20更為佳，6~12為進一步較佳。
烷基及芳基可具有取代基，亦可以是無取代，具有取代基為較佳。作為取代基，可舉出RZ中說明之取代基。例如，可舉出鹵素原子、芳基、烷氧基等，從耐熱性及耐光性的觀點考慮，鹵素原子為較佳，氟原子更為佳。
RX10為具有氟原子之基團為較佳，具有氟原子之烷基或具有氟原子之芳基更為佳，具有氟原子之烷基進一步較佳，碳原子數1~5的全氟烷基尤為佳。
以下，作為方酸內鎓鹽化合物(1)的具體例，可舉出下述中記載的化合物，但並不限定於該些。
【化學式26】
Figure 105122875-A0305-02-0041-35
【化學式27】
Figure 105122875-A0305-02-0042-38
【化學式28】
Figure 105122875-A0305-02-0043-39
【化學式29】
Figure 105122875-A0305-02-0044-41
【化學式30】
Figure 105122875-A0305-02-0045-43
【化學式31】
Figure 105122875-A0305-02-0046-46
【化學式32】
Figure 105122875-A0305-02-0047-49
【化學式33】
Figure 105122875-A0305-02-0048-50
【化學式34】
Figure 105122875-A0305-02-0049-52
Figure 105122875-A0305-02-0049-53
【化學式36】
Figure 105122875-A0305-02-0050-54
【化學式37】
Figure 105122875-A0305-02-0051-55
【化學式38】
Figure 105122875-A0305-02-0052-57
【化學式39】
Figure 105122875-A0305-02-0053-58
【化學式40】
Figure 105122875-A0305-02-0054-59
【化學式41】
Figure 105122875-A0305-02-0055-60
【化學式42】
Figure 105122875-A0305-02-0056-61
<<其他近紅外線吸收性化合物>>
本發明的組成物可進一步含有上述之方酸內鎓鹽化合物(1) 以外的近紅外線吸收性化合物(以下，還稱為其他近紅外線吸收性化合物)。其他近紅外線吸收性化合物是在700~1200nm的範圍具有極大吸收波長之化合物為較佳，在700~1000nm的範圍具有極大吸收波長之化合物更為佳。
作為其他近紅外線吸收性化合物，例如可舉出酞菁化合物、萘酞菁化合物、苝化合物、吡咯并吡咯化合物、花青化合物、二硫醇金屬錯合物、萘醌化合物、亞銨化合物、偶氮化合物等。作為吡咯并吡咯化合物，例如可舉出日本特開2009-263614號公報的段落號0016~0058中記載的化合物等。並且，還可利用上述之以式(1)表示之方酸內鎓鹽化合物以外的方酸內鎓鹽化合物。酞菁化合物、萘酞菁化合物、亞銨化合物、花青化合物、方酸內鎓鹽化合物及克酮酸化合物可使用日本特開2010-111750號公報的段落號0010~0081中公開的化合物，該內容編入本說明書中。並且，花青化合物例如可參閱「功能性色素、大河原信/松岡賢/北尾悌次郎/平嶋恆亮‧著、講談社Scientific」，該內容編入本說明書中。
本發明的組成物含有其他近紅外線吸收性化合物時，其他近紅外線吸收性化合物的含量設為在本發明的組成物的總固體含量中為0.1~70質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為較佳，1.0質量%以上更為佳。上限為60質量%以下為較佳，50質量%以下更為佳。本發明的組成物包含2種以上的其他近紅外線吸收性化合物時，其合計量為上述範圍內為較佳。
並且，本發明的組成物還能夠設為不包含其他近紅外線吸收 性化合物之態樣。本發明的組成物實質上不包含其他近紅外線吸收性化合物表示例如其他近紅外線吸收性化合物的含量在本發明的組成物的總固體含量中為0.05質量%以下，為0.01質量%以下，或者完全不包含。
<<彩色著色劑>>
本發明的組成物能夠含有彩色著色劑。本發明中，彩色著色劑表示「白色著色劑及黑色著色劑」以外的著色劑。彩色著色劑是在400~650nm的範圍具有極大吸收波長之著色劑為較佳。
本發明中，彩色著色劑可以是顏料，亦可以是染料。顏料為較佳。
顏料是有機顏料為較佳，可舉出以下的有機顏料。但是，本發明並不限定於此。
比色指數(C.I.)Pigment Yellow 1，2，3，4，5，6，10，11，12，13，14，15，16，17，18，20，24，31，32，34，35，35：1，36，36：1，37，37：1，40，42，43，53，55，60，61，62，63，65，73，74，77，81，83，86，93，94，95，97，98，100，101，104，106，108，109，110，113，114，115，116，117，118，119，120，123，125，126，127，128，129，137，138，139，147，148，150，151，152，153，154，155，156，161，162，164，166，167，168，169，170，171，172，173，174，175，176，177，179，180，181，182，185，187，188，193，194，199，213，214等(以上，黃色顏料)、 C.I.Pigment Orange 2，5，13，16，17：1，31，34，36，38，43，46，48，49，51，52，55，59，60，61，62，64，71，73等(以上，橙色顏料)、C.I.Pigment Red 1，2，3，4，5，6，7，9，10，14，17，22，23，31，38，41，48：1，48：2，48：3，48：4，49，49：1，49：2，52：1，52：2，53：1，57：1，60：1，63：1，66，67，81：1，81：2，81：3，83，88，90，105，112，119，122，123，144，146，149，150，155，166，168，169，170，171，172，175，176，177，178，179，184，185，187，188，190，200，202，206，207，208，209，210，216，220，224，226，242，246，254，255，264，270，272，279等(以上，紅色顏料)、C.I.Pigment Green 7，10，36，37，58，59等(以上，綠色顏料)、C.I.Pigment Violet 1，19，23，27，32，37，42等(以上，紫色顏料)、C.I.Pigment Blue 1，2，15，15：1，15：2，15：3，15：4，15：6，16，22，60，64，66，79，80等(以上，藍色顏料)，該些有機顏料可單獨使用或組合多種來使用。
作為染料，並無特別限制，可使用公知的染料。例如，吡唑偶氮系、苯胺偶氮系、三芳甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、亞苄基系、氧雜菁系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑甲亞胺系、呫噸(xanthene)系、酞菁系、 苯并吡喃系、靛藍系、亞甲基吡咯系等染料。並且，亦可使用該些染料的多聚體。並且，可使用日本特開2015-028144號公報、日本特開2015-34966號公報中記載的染料。
並且，作為染料，有時能夠適當使用酸性染料和/或其衍生物。
此外，還可有效地使用直接染料、鹼性染料、媒染染料、酸性媒染染料、冰染染料(Azoic dye)、分散染料、油溶性染料、食品染料和/或該些的衍生物等。
以下舉出酸性染料的具體例，但並不限定於該些。例如，可舉出以下染料及該些染料的衍生物。
acid alizarin violet N、acid blue 1，7，9，15，18，23，25，27，29，40~45，62，70，74，80，83，86，87，90，92，103，112，113，120，129，138，147，158，171，182，192，243，324：1、acid chrome violet K、acid Fuchsin；acid green 1，3，5，9，16，25，27，50、acid orange 6，7，8，10，12，50，51，52，56，63，74，95、acId red 1，4，8，14，17，18，26，27，29，31，34，35，37，42，44，50，51，52，57，66，73，80，87，88，91，92，94，97，103，111，114，129，133，134，138，143，145，150，151，158，176，183，198，211，215，216，217，249，252，257，260，266，274、 acid violet 6B，7，9，17，19、acid yellow 1，3，7，9，11，17，23，25，29，34，36，42，54，72，73，76，79，98，99，111，112，114，116，184，243、Food Yellow 3
並且，上述以外的偶氮系、呫噸系、酞菁系的酸性染料亦較佳，還較佳地使用C.I.Solvent Blue 44、38；C.I.Solvent Orange 45；Rhodamine B、Rhodamine 110等酸性染料及該些染料的衍生物。
其中，作為染料，為選自三芳甲烷系、蒽醌系、偶氮甲鹼系、亞苄基系、氧雜菁系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑甲亞胺系、呫噸系、酞菁系、苯并吡喃系、靛藍系、吡唑偶氮系、苯胺偶氮系、吡唑并偶氮系、吡啶酮偶氮系、蒽吡啶酮系、亞甲基吡咯系之著色劑為較佳。
而且，還可組合顏料與染料來使用。
本發明的組成物含有彩色著色劑時，彩色著色劑的含量設為在本發明的組成物的總固體含量中為0.1~70質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為較佳，1.0質量%以上更為佳。上限為60質量%以下為較佳，50質量%以下更為佳。
彩色著色劑的含量相對於方酸內鎓鹽化合物(1)的100質量份，10~1000質量份為較佳，50~800質量份更為佳。
並且，彩色著色劑、方酸內鎓鹽化合物(1)、上述之其他近紅外線吸收性化合物的合計量設為在本發明的組成物的總固體含量中為1~80質量%為較佳。下限為5質量%以上為較佳，10質量 %以上更為佳。上限為70質量%以下為較佳，60質量%以下更為佳。
本發明的組成物包含2種以上的彩色著色劑時，其合計量在上述範圍內為較佳。
<<顏料衍生物>>
本發明的組成物能夠含有顏料衍生物。作為顏料衍生物，可舉出具有藉由酸性基、鹼性基取代顏料的一部分之結構之化合物。從分散性及分散穩定性的觀點考慮，含有具有酸性基或鹼性基之顏料衍生物之為較佳。
<<具有交聯性基團之化合物(交聯性化合物)>>
本發明的組成物含有具有交聯性基團之化合物(以下，還稱為交聯性化合物)。藉由本發明的組成物含有交聯性化合物，能夠製造耐熱性、耐光性及耐溶劑性優異之硬化膜。
本發明中，交聯性化合物是指如下化合物：藉由自由基、酸、熱等的作用，交聯性化合物所具有之交聯性基團彼此發生反應，和/或藉由交聯性化合物所具有之交聯性基團與本發明的組成物中包含之交聯性化合物以外的化合物且具有能夠與交聯性基團反應之官能基(還稱為反應性基)之化合物的反應性基發生反應，藉此可形成交聯結構。
本發明中，交聯性化合物例如可以是單體、預聚物、寡聚物、聚合物等化學形態的任一者。單體為較佳。交聯性化合物可參閱日本特開2013-253224號公報的段落號0031~0202的記載， 該內容編入本說明書中。
本發明中，交聯性化合物是具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物、具有環狀醚基之化合物、具有烷氧基矽烷基之化合物、具有氯矽烷基之化合物、具有異氰酸酯基之化合物及羧酸酐為較佳，是具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物、具有環狀醚基之化合物、具有烷氧基矽烷基之化合物及具有氯矽烷基之化合物更為佳。作為具有乙烯性不飽和鍵之基團，可舉出乙烯基、苯乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基等，(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基為較佳。作為環狀醚基，可舉出環氧基或氧雜環丁基，環氧基為較佳。作為烷氧基矽烷基，可舉出單烷氧基矽烷基、二烷氧基矽烷基及三烷氧基矽烷基，二烷氧基矽烷基、三烷氧基矽烷基為較佳，三烷氧基矽烷基更為佳。作為氯矽烷基，可舉出單氯矽烷基、二氯矽烷基及三氯矽烷基，二氯矽烷基、三氯矽烷基為較佳，三氯矽烷基更為佳。
另外，作為交聯性化合物使用具有異氰酸酯基之化合物或羧酸酐時，進一步包含後述之交聯助劑為較佳。具有異氰酸酯基之化合物或羧酸酐能夠與後述之交聯助劑發生反應而形成牢固的交聯結構。
交聯性化合物的含量相對於組成物的總固體含量，為1~90質量%為較佳。下限為2質量%以上為較佳，5質量%以上進一步較佳，10質量%以上尤為佳。上限為80質量%以下為較佳，75質量%以下更為佳。
並且，交聯性化合物相對於上述之方酸內鎓鹽化合物(1)的100質量份，含有1~1000質量份為較佳。下限為10質量份以上為較佳，50質量份以上更為佳。上限為500質量份以下為較佳，200質量份以下更為佳。
交聯性化合物可以為僅1種，亦可以為2種以上。為2種以上時，合計量成為上述範圍為較佳。
(具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物)
本發明中，作為交聯性化合物能夠使用具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物。具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物是單體為較佳。具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物的分子量為100~3000為較佳。上限為2000以下為較佳，1500以下為進一步較佳。下限為150以上為較佳，250以上為進一步較佳。具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物是3~15官能的(甲基)丙烯酸酯化合物為較佳，為3~6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物更為佳。
作為上述化合物的例子，可參閱日本特開2013-253224號公報的段落號0033~0034的記載，該內容編入本說明書中。作為上述化合物，乙烯基氧基改質季戊四醇四丙烯酸酯(作為市售品，NK酯ATM-35E；Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd製)、二季戊四醇三丙烯酸酯(作為市售品，KAYARAD D-330；Nippon Kayaku Co.,Ltd製)、二季戊四醇四丙烯酸酯(作為市售品，KAYARAD D-320；Nippon Kayaku Co.,Ltd製)二季戊四醇戊(甲基)丙烯酸酯(作為 市售品，KAYARAD D-310；Nippon Kayaku Co.,Ltd製)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作為市售品，KAYARAD DPHA；Nippon Kayaku Co.,Ltd製、A-DPH-12E；Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd製)、及該種(甲基)丙烯醯基經由乙二醇、丙二醇殘基鍵結之結構為較佳。並且，還能夠使用該些的寡聚物類型。並且，可參閱日本特開2013-253224號公報的段落號0034~0038的針對聚合性化合物的記載，該內容編入本說明書中。並且，可舉出日本特開2012-208494號公報的段落號0477(對應之美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的段落號0585)中記載的聚合性單體等，該些內容編入本說明書中。
並且，是二甘油EO(環氧乙烷)改質(甲基)丙烯酸酯(作為市售品，M-460；Toagosei Co.,Ltd.製)為較佳。季戊四醇四丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd製、A-TMMT)、1，6-己二醇二丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.,Ltd製、KAYARAD HDDA)亦較佳。還能夠使用該些的寡聚物類型。例如，可舉出RP-1040(Nippon Kayaku Co.,Ltd製)等。
具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物可具有羧基、磺基、磷酸基等酸基。作為具有酸基之上述化合物，可舉出脂肪族聚羥基化合物與不飽和羧酸的酯等。使脂肪族聚羥基化合物的未反應的羥基與非芳香族羧酸酐發生反應來使其具有酸基之化合物為較佳，尤佳為該酯中，脂肪族聚羥基化合物是季戊四醇和/或二季戊四醇者。作為市售品，例如，可舉出ARONIX系列的M-305、 M-510、M-520等，作為Toagosei Co.,Ltd.製的多元酸改質丙烯酸寡聚物。具有酸基之化合物的酸值為0.1~40mgKOH/g為較佳。下限為5mgKOH/g以上為較佳。上限為30mgKOH/g以下為較佳。
作為具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物，具有己內酯結構之化合物亦為較佳態樣。作為具有己內酯結構之化合物，只要在分子內具有己內酯結構，則並無特別限定，例如，例如可舉出藉由使三羥甲基乙烷、雙三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、雙三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、丙三醇、二丙三醇、三羥甲基三聚氰胺等多元醇與(甲基)丙烯酸及ε-己內酯進行酯化來獲得之ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯。作為具有己內酯結構之化合物，可參閱日本特開2013-253224號公報的段落號0042~0045的記載，該內容編入本說明書中。具有己內酯結構之化合物例如可舉出由Nippon Kayaku Co.,Ltd作為KAYARAD DPCA系列來市售之DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等、Sartomer Co.Inc.製的作為具有4個乙烯氧基鏈之4官能丙烯酸酯之SR-494、作為具有3個異伸丁烯氧基鏈之3官能丙烯酸酯之TPA-330等。
作為具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物，日本特公昭48-41708號公報、日本特開昭51-37193號公報、日本特公平2-32293號公報、日本特公平2-16765號公報中記載之胺酯丙烯酸酯類、或日本特公昭58-49860號公報、日本特公昭56-17654號公報、日本特公昭62-39417號公報、日本特公昭62-39418號公報記 載的具有環氧乙烷系骨架之胺基甲酸酯化合物類亦較佳。並且，藉由使用日本特開昭63-277653號公報、日本特開昭63-260909號公報、日本特開平1-105238號公報中記載之在分子內具有胺基結構或硫醚結構之加成聚合性化合物類，能夠獲得感光速度非常快的組成物。
作為市售品，可舉出胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140(Sanyo Kokusaku Pulp Co.,Ltd.製)、UA-7200(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製)、DPHA-40H(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(KYOEISHA CHEMICAL Co.,LTD製)。
本發明中，作為具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物，還能夠使用在側鏈具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之聚合物。在側鏈具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之重複單元的含量為構成聚合物之所有重複單元的5~100質量%為較佳。下限為10質量%以上更為佳，15質量%以上為進一步較佳。上限為90質量%以下更為佳，80質量%以下為進一步較佳，70質量%以下尤為佳。
上述聚合物除了包含在側鏈具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之重複單元以外，還可包含其他重複單元。其他重複單元可包含酸基等官能基，但亦可不包含官能基。作為酸基，可例示羧基、磺基、磷酸基。酸基可僅包含1種，亦可包含2種以上。具有酸基之重複單元的比例為構成聚合性聚合物之所有重複單元的0~50質量%為較佳。下限為1質量%以上更為佳，3質量%以上為進 一步較佳。上限為35質量%以下更為佳，30質量%以下為進一步較佳。
作為上述聚合物的具體例，例如，可舉出(甲基)烯丙基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸共聚物等。作為聚合性聚合物的市售品，可舉出DIANAL NR系列(Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.製)、Photomer6173(COOH含有polyurethane acrylic oligomer.Diamond Shamrock Co.,Ltd.製)、VISCOAT R-264、KS抗蝕劑106(均為OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.製)、CYCLOMER P系列(例如，ACA230AA)、PLACCEL CF200系列(均為Daicel Corporation製)、Ebecryl3800(Daicel UCB Co.,Ltd.製)、ACRYCURE-RD-F8(NIPPON SHOKUBAI CO.,LTD.製)等。
(具有環狀醚基之化合物)
本發明中，作為交聯性化合物，還能夠使用具有環狀醚基之化合物。作為環狀醚基，可舉出環氧基及氧雜環丁基，環氧基為較佳。
具有環狀醚基之化合物可舉出在側鏈具有環狀醚基之聚合物、在分子內具有2個以上的環狀醚基之單體或寡聚物等。例如，可舉出作為苯酚化合物的縮水甘油醚化物之環氧樹脂、作為各種酚醛清漆樹脂的縮水甘油醚化物之環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂肪族系環氧樹脂、雜環式環氧樹脂、縮水甘油酯系環氧樹脂、縮水甘油胺系環氧樹脂、使鹵化苯酚類縮水甘油化之環氧樹脂、具有環氧 基之矽化合物與其以外的矽化合物的縮合物、具有環氧基之聚合性不飽和化合物與其以外的其他聚合性不飽和化合物的共聚物等。
作為具有環狀醚基之化合物，還能夠使用縮水甘油(甲基)丙烯酸酯或烯丙基縮水甘油醚等具有縮水甘油基之化合物。例如，可舉出單官能或多官能縮水甘油醚化合物，多官能脂肪族縮水甘油醚化合物為較佳。
具有環狀醚基之化合物是具有脂環式環氧基之化合物亦較佳。作為該種化合物，例如可參閱日本特開2009-265518號公報的段落號0045等的記載，該些內容編入本說明書中。
具有環狀醚基之化合物可包含具有環氧基或氧雜環丁基作為重複單元之聚合體。
具有環狀醚基之化合物的重量平均分子量為500~5000000為較佳，1000~500000更為佳。該種化合物可使用市售品，亦可使用藉由向聚合物的側鏈導入環氧基來獲得者。
作為苯酚類化合物的縮水甘油醚化物亦即環氧樹脂，例如可舉出2-〔4-(2，3-環氧丙氧)苯基〕-2-〔4-〔1，1-雙〔4-(2，3-羥基)苯基〕乙基〕苯基〕丙烷、雙酚A、雙酚F、雙酚S、4，4’-聯苯酚、四甲基雙酚A、二甲基雙酚A、四甲基雙酚F、二甲基雙酚F、四甲基雙酚S、二甲基雙酚S、四甲基-4，4’-聯苯酚、二甲基-4，4’-聯苯酚、1-(4-羥基苯基)-2-〔4-(1，1-雙-(4-羥基苯基)乙基)苯基〕丙烷、2，2’-亞甲基-雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、4，4’-亞丁基-雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、三羥基苯基甲 烷、間苯二酚、對苯二酚、鄰苯三酚、間苯三酚、具有二異亞丙基骨架之苯酚類；1，1-二-4-羥基苯基茀等具有茀骨架之苯酚類；苯酚化聚丁二烯等作為多酚化合物的縮水甘油醚化物之環氧樹脂等。
作為酚醛清漆樹脂的縮水甘油醚化物亦即環氧樹脂，例如可舉出將苯酚、甲酚類、乙基苯酚類、丁基苯酚類、辛基苯酚類、雙酚A、雙酚F及雙酚S等雙酚類、萘酚類等各種苯酚作為原料之酚醛清漆樹脂、含亞二甲苯骨架的苯酚酚醛清漆樹脂、含二並環戊二烯骨架的苯酚酚醛清漆樹脂、含聯苯基骨架之苯酚酚醛清漆樹脂、含茀骨架的苯酚酚醛清漆樹脂等各種酚醛清漆樹脂的縮水甘油醚化物等。
作為脂環式環氧樹脂，例如可舉出3,4-環氧環己基甲基-(3,4-環氧)環己基羧酸酯、雙(3,4-環氧環己基甲基)己二酸酯等具有脂肪族環骨架之脂環式環氧樹脂。
作為脂肪族系環氧樹脂，例如可舉出1,4-丁二醇、1,6-己二醇、聚乙二醇、季戊四醇等多元醇的縮水甘油醚類。
作為雜環式環氧樹脂，例如可舉出異氰脲環、乙內醯脲環等具有雜環之雜環式環氧樹脂。
作為縮水甘油酯系環氧樹脂，例如可舉出由六氫鄰苯二甲酸二縮水甘油酯等羧酸酯類構成之環氧樹脂。
作為縮水甘油胺系環氧樹脂，例如可舉出使苯胺、甲苯胺等胺類縮水甘油化之環氧樹脂。
作為使鹵化酚類縮水甘油化之環氧樹脂，例如可舉出使溴化 雙酚A、溴化雙酚F、溴化雙酚S、溴化苯酚酚醛、溴化甲酚酚醛、氯化雙酚S、氯化雙酚A等鹵化酚類縮水甘油化之環氧樹脂。
作為具有環氧基之聚合性不飽和化合物與其以外的其他聚合性不飽和化合物的共聚物，作為可從市場獲得之產品，可舉出Marr proof G-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758等。作為具有環氧基之聚合性不飽和化合物，例如可舉出丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、4-乙烯-1-環己烯-1,2-環氧化物等。並且，作為其他聚合性不飽和化合物的共聚物，例如可舉出甲基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯、乙烯基環己烷等，尤其甲基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯為較佳。
環氧樹脂(具有環氧基之化合物)的較佳環氧當量為310~3300g/eq，更佳為310~1700g/eq，進一步較佳為310~1000g/eq。環氧樹脂可使用1種或混合2種以上來使用。
作為具有環狀醚基之化合物的市售品，例如可參閱日本特開2012-155288號公報的段落號0191等的記載，該些內容編入本說明書中。
並且，可舉出DENACOL EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L(以上，Nagase Chemtex Corption製)等多官能脂肪族縮水甘油醚化合物。該些是低氯品，但同樣能夠使用非低氯品之EX-212、EX-214、EX-216、EX-321、EX-850等。
此外，還可舉出ADEKA RESIN EP-4000S、EP-4003S、EP-4010S、EP-4011S(以上，ADEKA CORPORATION製)、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上，ADEKA CORPORATION製)、JER1031S、CELLOXIDE 2021P、CELLOXIDE 2081、CELLOXIDE 2083、CELLOXIDE 2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、PB 4700(以上，Daicel Corporation製)、CYCLOMER P ACA 200M、ACA 230AA、ACA Z250、ACA Z251、ACA Z300、ACA Z320(以上，Daicel Corporation製)等。
而且，作為苯酚酚醛清漆型環氧樹脂的市售品，可舉出JER-157S65、JER-152、JER-154、JER-157S70(以上，Mitsubishi Chemical Corporation製)等。
並且，作為在側鏈具有氧雜環丁基之聚合物、在分子內具有2個以上的氧雜環丁基之聚合性單體或寡聚物的市售品，可舉出ARON OXETANE OXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX(以上，Toagosei Co.,Ltd.製)。
(具有烷氧基矽烷基之化合物、具有氯矽烷基之化合物)
本發明中，作為交聯性化合物，還能夠使用具有烷氧基矽烷基之化合物及具有氯矽烷基之化合物。作為具體例，可舉出甲基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、正丙基三甲氧基矽烷、正丙基三乙氧基矽烷、己基三甲氧基矽烷、己基三乙氧 基矽烷、辛基三乙氧基矽烷、癸基三甲氧基矽烷、1,6-雙(三甲氧基矽烷基)己烷、三氟丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油醚丙基甲基二甲氧基矽烷、3-縮水甘油醚丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油醚丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油醚丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺丙基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基-亞丁基)丙胺、N-苯基-3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-(乙烯基苄基)-2-胺基乙基-3-胺丙基三甲氧基矽烷的鹽酸鹽、三-(三甲氧基矽烷基丙基)異氰脲酸酯、3-脲丙基三乙氧基矽烷、3-巰丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫醚、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、甲基三氯矽烷、乙基三氯矽烷、苯基三氯矽烷、二氯(甲基)苯基矽烷、二甲基二氯矽烷、二乙基二氯矽烷等。
作為市售品，可舉出Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製的KBM-13、KBM-22、KBM-103、KBE-13、KBE-22、KBE-103、KBM-3033、KBE-3033、KBM-3063、KBE-3063、KBE-3083、KBM-3103、KBM-3066、KBM-7103、SZ-31、KPN-3504、KBM-1003、KBE-1003、KBM- 303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBM-9659、KBE-585、KBM-802、KBM-803、KBE-846、KBE-9007等。
並且，作為具有烷氧基矽烷基之化合物及具有氯矽烷基之化合物，還能夠使用在側鏈具有烷氧基矽烷基或氯矽烷基之聚合物。例如，能夠使用下述聚合物。以下中，Me表示甲基。
Figure 105122875-A0305-02-0074-62
(具有異氰酸酯基之化合物)
本發明中，作為交聯性化合物，能夠使用具有異氰酸酯基之化合物。作為具有異氰酸酯基之化合物，在一分子中具有1個以上的異氰酸酯基之化合物為較佳，具有2個以上之化合物更為佳。例如，可舉出如2,4-甲苯二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯的二聚體、2,6-甲苯二異氰酸酯、對亞二甲苯基二異氰酸酯、m-亞二甲苯基二異氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、3,3’-二甲基聯苯-4,4’-二異氰酸酯等的芳香族二異氰酸酯化合物；如六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、賴氨酸二異 氰酸酯、二聚體酸二異氰酸酯等的脂肪族二異氰酸酯化合物；如異佛爾酮二異氰酸酯、4,4’-亞甲基雙(環己基異氰酸酯)、甲基環己烷-2,4(或2,6)二異氰酸酯、1,3-(異氰酸酯甲基)環己烷等的脂環族二異氰酸酯化合物；如1,3-丁二醇1莫耳與甲苯二異氰酸酯2莫耳的加成體等的二醇與二異氰酸酯的反應物亦即二異氰酸酯化合物；等。並且，還能夠使用日本特開2013-253224號公報的段落號0104~0106、0113~0120中記載的異氰酸酯。
(羧酸酐)
本發明中，作為交聯性化合物，能夠使用羧酸酐。作為羧酸酐，脂肪族羧酸酐、芳香族羧酸酐為較佳，芳香族羧酸酐更為佳。並且，羧酸酐是四羧酸二酐為較佳。作為羧酸酐的具體例，例如可舉出均苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基四羧酸二酐、2,3,6,7-萘四羧酸二酐、1,4,5,8-萘四羧酸二酐、4,4’-磺醯基二鄰苯二甲酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐、4,4’-〔3,3’-(烷基磷醯基二亞苯基)-雙(亞胺基羰基)〕二鄰苯二甲酸二酐；對苯二酚二乙酸酯與偏苯三酸酐的加成體、二乙醯二胺與偏苯三酸酐的加成體的芳香族四羧酸二酐；5-(2,5-二氧代四氫呋喃)-3-甲基-3-環己烯-1,2二羧酸酐(DIC Corporation製、EPICLON B-4400)、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐、1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、四氫呋喃四羧酸二酐等脂環族四羧酸二酐；1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、1,2,4,5-戊烷四羧酸二酐等脂肪族四羧酸二酐。關於羧酸酐的詳細內容，可參閱日本 特開2013-253224號公報的段落號0166~0170的記載，該內容編入本說明書中。
<<光聚合起始劑>>
本發明的組成物中，使用上述之具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物作為交聯性化合物時，含有光聚合起始劑為較佳。
作為光聚合起始劑，只要具有引發交聯性化合物的交聯之能力，則並無特別限制，能夠從公知的光聚合起始劑中適當選擇。例如，相對於紫外線區域至可見光區域的光線具有光敏性之光聚合起始劑為較佳。光聚合起始劑是光自由基聚合起始劑為較佳。
並且，光聚合起始劑含有至少1種在約300nm~800nm(330nm~500nm更為佳。)的範圍內具有至少約50莫耳吸光係數之化合物為較佳。
作為光聚合起始劑，可舉出鹵代烴衍生物(例如，具有三嗪骨架者、具有噁二唑骨架之化合物等)、醯基氧化膦等醯基膦化合物、六芳基聯咪唑、肟衍生物等肟化合物、有機過氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、酮肟醚、胺基苯乙酮化合物、羥基苯乙酮等。作為具有三嗪骨架之鹵代烴化合物，例如可舉出若林等著、Bull.Chem.Soc.Japan，42、2924(1969)記載的化合物、英國專利第1388492號說明書中記載的化合物、日本特開昭53-133428號公報中記載的化合物、德國專利第3337024號說明書中記載的化合物、基於F.C.Schaefer等之J.Org.Chem.；29、1527(1964)記載的化合物、日本特開昭62-58241號公報中記載的化合物、日 本特開平5-281728號公報中記載的化合物、日本特開平5-34920號公報中記載的化合物、美國專利第4212976號說明書中記載的化合物等。
並且，從曝光感度的觀點考慮，選自由三鹵甲基三嗪化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚體、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵絡合物及其鹽、鹵代甲基噁二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物構成之組群之化合物為較佳。
其中，選自由三鹵甲基三嗪化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚體、鎓化合物、二苯甲酮化合物及苯乙酮化合物構成之群組之至少一種化合物為較佳，選自由三鹵甲基三嗪化合物、α-胺基酮化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚體及二苯甲酮化合物構成之群組至少一種化合物更為佳。
尤其，將本發明的硬化膜使用於固體攝像元件時，需要以清晰的形狀形成微細的圖案，因此硬化性以及在未曝光部無殘渣地顯影較重要。從該種觀點考慮，使用肟化合物作為光聚合起始劑尤為佳。尤其，在固體攝像元件中形成微細的圖案時，硬化用曝光中使用步進曝光，但該曝光機有時會受到鹵素引起之損傷，因此需將光聚合起始劑的添加量亦抑制為較低。若考慮到該些方面，為了形成固體攝像元件的該種微細圖案，作為光聚合起始劑，使用肟化 合物尤為佳。作為光聚合起始劑的具體例，例如可參閱日本特開2013-29760號公報的段落號0265~0268，該內容編入本說明書中。
作為光聚合起始劑，還能夠較佳地使用α-羥基酮化合物(羥基乙醯苯化合物)、α-胺基酮化合物(胺基苯乙酮化合物)及醯基膦化合物。更具體而言，例如，還能夠使用日本特開平10-291969號公報中記載的胺基苯乙酮系起始劑、日本專利第4225898號公報中記載的醯基膦系起始劑。
作為α-羥基酮化合物，能夠使用IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959，IRGACURE-127(商品名：均為BASF公司製)。
作為α-胺基酮化合物，可使用作為市售品之IRGACURE-907、IRGACURE-369及IRGACURE-379EG(商品名：均為BASF公司製)。作為α-胺基酮化合物，還能夠使用吸收波長與365nm或405nm等長波光源匹配之日本特開2009-191179號公報中記載的化合物。
作為醯基膦化合物，可使用作為市售品之IRGACURE-819或DAROCUR-TPO(商品名：均為BASF公司製)。
作為光聚合起始劑，更佳地可舉出肟化合物。
作為肟化合物的具體例，可使用日本特開2001-233842號公報中記載的化合物、日本特開2000-80068號公報中記載的化合物、日本特開2006-342166號公報中記載的化合物。
本發明中，作為能夠較佳地使用之肟化合物，例如，可舉出 3-苯甲醯氧基亞胺丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺醯氧基)亞胺丁烷-2-酮、及2-乙氧基羰基氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。
並且，還可舉出J.C.S.Perkin II(1979年)PP.1653-1660、J.C.S.Perkin II(1979年)PP.156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年)PP.202-232、日本特開2000-66385號公報、日本特開2000-80068號公報、日本特表2004-534797號公報、日本特開2006-342166號公報的各公報中記載的化合物等。作為市售品，還可較佳地舉出IRGACURE OXE01、IRGACURE OXE02、IRGACURE OXE03、IRGACURE OXE04(以上，BASF公司製)。並且，能夠使用TR-PBG-304(常州強力電子新材料有限公司製)、Adeka arc Luz NCI-930(ADEKA CORPORATION製)、Adekaoptomer N-1919(ADEKA CORPORATION製、日本特開2012-14052號公報中記載的光聚合起始劑2)。
並且，作為上述記載以外的肟化合物，可使用咔唑環的N位上連結有肟之日本特表2009-519904號公報中記載的化合物、在二苯甲酮部位導入有雜取代基之美國專利第7626957號公報中記載之化合物、在色素部位導入有硝基之日本特開2010-15025號公報及美國專利公開2009-292039號公報中記載的化合物、國際公開WO2009/131189號公報中記載的酮肟化合物、在同一分子內 含有三嗪骨架及肟骨架之美國專利第7556910號公報中記載的化合物、在405nm下具有極大吸收波長且相對於g射線光源具有良好的感度之日本特開2009-221114號公報中記載之化合物等、日本特開2014-137466號公報的段落號0076~0079中記載之化合物等。
較佳地，例如可參閱日本特開2013-29760號公報的段落號0274~0275，該內容編入本說明書中。
具體而言，作為肟化合物，以下述式(OX-1)表示之化合物為較佳。另外，可以是肟的N-O鍵為(E)體的肟化合物，亦可以是(Z)體的肟化合物，還可以是(E)體與(Z)體的混合物。
Figure 105122875-A0305-02-0080-64
式(OX-1)中，R及B分別獨立地表示一價的取代基，A表示二價的有機基團，Ar表示芳基。
式(OX-1)中，作為以R表示之一價的取代基，一價的非金屬原子團為較佳。
作為一價的非金屬原子團，可舉出烷基、芳基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環基、烷基硫羰基、芳基硫羰基等。並且，該些基團可具有1個以上的取代基。並且，所述之取代基可進一步被其他取代基取代。
作為取代基，可舉出鹵素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧 基羰基、醯氧基、醯基、烷基、芳基等。
式(OX-1)中，作為以B表示之一價的取代基，芳基、雜環基、芳基羰基或雜環羰基為較佳。該些基團可具有1個以上的取代基。作為取代基，可例示所述之取代基。
式(OX-1)中，作為以A表示之二價的有機基團，碳原子數1~12的伸烷基、伸環烷基、伸炔基為較佳。該些基團可具有1個以上的取代基。作為取代基，可例示所述之取代基。
肟化合物是在350nm~500nm的波長區域具有極大吸收波長者為較佳，在360nm~480nm的波長區域具有吸收波長者更為佳，365nm及405nm的吸光度較高者尤為佳。
關於肟化合物的365nm或405nm中的莫耳吸光係數，從感度的觀點考慮，1,000~300,000為較佳，2,000~300,000更為佳，5,000~200,000尤為佳。
化合物的莫耳吸光係數能夠利用公知的方法測定。例如，藉由紫外可見分光光度計(Varian公司製Cary-5 spectrophotometer)，利用乙酸乙酯溶劑，以0.01g/L的濃度測定為較佳。
以下示出本發明中較佳地使用之肟化合物的具體例，但本發明並不限定於該些。
【化學式45】
Figure 105122875-A0305-02-0082-65
本發明中，作為光聚合起始劑，還能夠使用具有氟原子之肟化合物。作為具有氟原子之肟化合物的具體例，可舉出日本特開2010-262028號公報中記載的化合物、日本特表2014-500852號公報中記載的化合物24、36~40、日本特開2013-164471號公報中記載的化合物(C-3)等。該些內容編入本說明書中。
本發明中，作為光聚合起始劑，能夠使用具有硝基之肟起始劑。具有硝基之肟化合物設為二聚體亦較佳。作為具有硝基之肟化合物的具體例，可舉出日本特開2013-114249號公報的段落號0031~0047、日本特開2014-137466號公報的段落號0008~0012、0070~0079中記載之化合物、日本專利第4223071號公報的段落號0007~0025中記載之化合物、Adeka arc Luz NCI-831(ADEKA CORPORATION製)。
本發明中，作為光聚合起始劑，還能夠使用具有苯并呋喃骨架之肟化合物。作為具體例，可舉出國際公開WO2015/036910公報中記載的化合物OE-01~OE-75。
光聚合起始劑包含肟化合物及α-胺基酮化合物亦較佳。藉由併用兩者，顯影性得到提高，易形成矩形性優異之圖案。併用肟化合物與α-胺基酮化合物時，相對於肟化合物100質量份，α-胺基酮化合物為50~600質量份為較佳，150~400質量份更為佳。
光聚合起始劑的含量相對於本發明的組成物的總固體含量，為0.1~50質量%為較佳，更佳為0.5~30質量%，進一步較佳為1~20質量%。藉由該範圍，可獲得更良好的感度及圖案形成 性。本發明的組成物可僅包含1種光聚合起始劑，亦可包含2種以上。包含2種以上時，其合計量成為上述範圍為較佳。
<<酸產生劑>>
本發明的組成物能夠含有酸產生劑。尤其，作為交聯性化合物含有具有環狀醚基之化合物等陽離子聚合性化合物時，含有酸產生劑為較佳。酸產生劑是藉由光照射而產生酸之化合物(光酸產生劑)為較佳。作為酸產生劑，可舉出藉由光照射分解而產生酸之重氮鹽、鏻鹽、硫鎓鹽、碘鎓鹽等鎓鹽化合物、醯亞胺磺酸鹽、肟磺酸鹽、重氮二碸、二碸、鄰硝基苄基磺酸鹽等磺酸鹽化合物等。作為酸產生劑的種類、具體的化合物及較佳例子，可舉出日本特開2008-13646號公報的段落號0066~0122中記載的化合物等，該些亦適用於本發明中。
作為可在本發明中使用之酸產生劑而較佳之化合物可舉出以下述式(b1)、(b2)、(b3)表示之化合物。
Figure 105122875-A0305-02-0084-66
式(b1)中，R201、R202及R203分別獨立地表示有機基團。X-表示非親核性陰離子，較佳為磺酸陰離子、羧酸陰離子、雙(烷磺醯基)醯胺基陰離子、三(烷磺醯基)甲基化物陰離子、BF4 -、PF6 -及SbF6 -，更佳為BF4 -、PF6 -及SbF6 -。
作為酸產生劑的市售品，可舉出WPAG-469(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.製)、CPI-100P(San-Apro Ltd.製)等。
酸產生劑的含量相對於組成物的總固體含量，為0.1~50質量%為較佳，更佳為0.5~30質量%，進一步較佳為1~20質量%。本發明的組成物可僅包含1種酸產生劑，亦可包含2種以上。包含2種以上時，其合計量成為上述範圍為較佳。
<<交聯助劑>>
為了促進交聯性化合物的反應等，本發明的組成物包含交聯助劑為較佳。作為交聯助劑，可舉出選自多官能硫醇、醇、胺及羧酸之至少1種。交聯助劑的含量相對於交聯性化合物的100質量份，為1~1000質量份為較佳，更佳為1~500質量份，進一步較佳為1~200質量份。本發明的組成物可僅包含1種交聯助劑，亦可包含2種以上。包含2種以上時，其合計量成為上述範圍為較佳。
(多官能硫醇)
本發明中，作為多官能硫醇，可舉出在分子內具有2個以上的硫醇基之化合物。多官能硫醇是2級烷基硫醇類為較佳，具有以下述式(T1)表示之結構之化合物尤為佳。
Figure 105122875-A0305-02-0085-67
(式(T1)中，n表示2~4的整數，L表示2~4價的連結基。)
式(T1)中，連結基L是碳原子數2~12的脂肪族基為較佳，n為2且L為碳原子數2~12的伸烷基尤為佳。作為多官能硫醇的具體例，可舉出以下述結構式(T2)~(T4)表示之化合物，以式(T2)表示之化合物尤為佳。多官能硫醇能夠使用1種或組合複數種來使用。
Figure 105122875-A0305-02-0086-68
(胺)
本發明中，作為交聯助劑的胺是多元胺為較佳，二胺更為佳。例如，己二胺、三伸乙基四胺、聚乙烯亞胺等。
(醇)
本發明中，作為交聯助劑的醇是多元醇為較佳，二醇更為佳。例如，可舉出聚醚二醇化合物、聚酯二醇化合物、聚碳酸酯二醇化合物等。關於醇的具體例，例如可參閱日本特開2013-253224號公報的段落號0128~0163、0172的記載，該內容編入本說明書中。
(羧酸)
本發明中，作為交聯助劑的羧酸，可舉出、3,3’，4,4’-聯苯四羧酸(酐)、馬來酸、鄰苯二甲酸、偏苯三酸等。
<<交聯觸媒>>
本發明的組成物能夠進一步包含交聯觸媒。尤其，作為交聯性化合物含有具有烷氧基矽烷基或氯矽烷基之化合物時，藉由含有交聯觸媒，促進溶膠凝膠反應，可獲得牢固的硬化膜。作為交聯觸媒，可舉出酸觸媒、鹼觸媒等。作為酸觸媒，可舉出鹽酸、硝酸、硫酸、亞硫酸、硫化氫、過氯酸、過氧化氫、碳酸、甲酸或乙酸乙酸等羧酸、藉由其他元素或取代基取代以RCOOH表示之結構式的R之取代羧酸、苯磺酸等磺酸、磷酸等。而且，還可使用氯化鋁、乙醯丙酮鋁、氯化鋅、氯化錫、三氟化硼二乙醚絡合物、三甲基矽烷基碘等路易斯酸。並且，作為鹼觸媒，可舉出氨水等氨鹼化合物、乙胺或苯胺等有機胺等。並且，交聯觸媒還能夠使用日本特開2013-201007號公報的段落號0070~0076中記載的觸媒。
交聯觸媒的含量相對於交聯性化合物的100質量份，為0.1~100質量份為較佳，更佳為0.1~50質量份，進一步較佳為0.1~ 20質量份。本發明的組成物可僅包含1種交聯觸媒，亦可包含2種以上。包含2種以上時，其合計量成為上述範圍為較佳。
<<樹脂>>
本發明的組成物可含有樹脂。樹脂例如以將顏料等分散於組成物中之用途、黏合劑用途而調配。另外，將主要用於使顏料等分散之樹脂還稱作分散劑。但是，樹脂的該種用途為一例，還能夠以該種用途以外的目的使用。
樹脂的重量平均分子量(Mw)為2,000~2,000,000為較佳。上限為1,000,000以下為較佳，500,000以下更為佳。下限為3,000以上為較佳，5,000以上更為佳。
樹脂的含量為組成物的總固體含量的10~80質量%為較佳，20~60質量%更為佳。上述組成物可僅包含1種樹脂，亦可包含2種以上。包含2種以上時，其合計量成為上述範圍為較佳。
(分散劑)
作為分散劑，可舉出高分子分散劑〔例如，具有胺基之樹脂(聚醯胺胺(polyamide amines)及其鹽等)、低聚亞胺系樹脂、聚羧酸及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸甲醛縮合物〕等。作為低聚亞胺樹脂，例如可舉出日本特開2012-255128號公報的段落號0102~0174中記載的樹脂等。
高分子分散劑依據其結構，可進一步分類成直鏈狀高分子、末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。並且，作 為高分子分散劑，還可較佳地舉出酸值為60mgKOH/g以上(酸值60mgKOH/g以上且300mgKOH/g以下更為佳)的樹脂。
作為末端改質型高分子，例如可舉出日本特開平3-112992號公報、日本特表2003-533455號公報等中記載之於末端具有磷酸基之高分子、日本特開2002-273191號公報等中記載之於末端具有磺基之高分子、日本特開平9-77994號公報等中記載之具有有機色素的部分骨架或雜環之高分子等。並且，日本特開2007-277514號公報中記載之在高分子末端導入2個以上的針對顏料表面的固定部位(酸基、鹼性基、有機色素的部分骨架或雜環等)之高分子的分散穩定性亦優異，因此為較佳。
作為接枝型高分子，例如，可舉出日本特開昭54-37082號公報、日本特表平8-507960號公報、日本特開2009-258668公報等中記載之聚(低級伸烷基亞胺)與聚酯的反應產物、日本特開平9-169821號公報等中記載的聚烯丙基胺與聚酯的反應產物、日本特開平10-339949號公報、日本特開2004-37986號公報等中記載之大分子單體與具有含氮原子之基團之單體的共聚物、日本特開2003-238837號公報、日本特開2008-9426號公報、日本特開2008-81732號公報等中記載的具有有機色素的部分骨架或雜環之接枝型高分子、日本特開2010-106268號公報等中記載的大分子單體與含有酸基單體的共聚物等。並且，日本特開2012-255128號公報的段落號0025~0094中記載的接枝共聚物亦較佳。
作為藉由自由基聚合來製造接枝型高分子時使用之大分 子單體，能夠使用公知的大分子單體，可舉出Toagosei Co.,Ltd.製的大分子單體AA-6(末端基為甲基丙烯醯基之聚甲基丙烯酸甲酯)、AS-6(末端基為甲基丙烯醯基之聚苯乙烯)、AN-6S(末端基為甲基丙烯醯基之苯乙烯與丙烯腈的共聚物)、AB-6(末端基為甲基丙烯醯基之聚丙烯酸丁酯)、Daicel Corporation製的PLACCEL FM5(甲基丙烯酸2-羥乙基的ε-己內酯5莫耳當量加成物)、FA10L(丙烯酸2-羥乙基的ε-己內酯10莫耳當量加成物)、及日本特開平2-272009號公報中記載之聚酯系大分子單體等。該些中，尤其從顏料分散物的分散性、分散穩定性及使用顏料分散物之組成物所示之顯影性的觀點考慮，柔軟性且親溶劑性優異之聚酯系大分子單體尤為佳，進而，日本特開平2-272009號公報中記載之以聚酯系大分子單體所表示之聚酯系大分子單體為最佳。
作為嵌段型高分子，日本特開2003-49110號公報、日本特開2009-52010號公報等中記載的嵌段型高分子為較佳。
樹脂(分散劑)能夠作為市售品來獲得，作為該種具體例，可舉出BYKChemie公司製「Disperbyk-101(聚醯胺胺燐酸鹽)、107(羧酸酯)、110、111(包含酸基之共聚物)、130(聚醯胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚物)」、「BYK-P104、P105(高分子量不飽和聚羧酸)」、EFKA公司製「EFKA4047、4050~4165(聚胺基甲酸酯系)、EFKA4330~4340(嵌段共聚物)、4400~4402(改質聚丙烯酸酯)、5010(聚酯醯胺基)、5765(高分子量聚羧酸鹽)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750 (偶氮顏料衍生物)」、Ajinomoto Fine-Techno Co.,Inc.製「AJISPER PB821、PB822、PB880、PB881」、KYOEISHA CHEMICAL CO.,LTD製「FLOREN TG-710(胺基甲酸酯寡聚物)」、「POLYFLOW No.50E、No.300(丙烯酸系共聚物)」、Kusumoto Chemicals,Ltd.製「DISPARLON KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多價羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725」、Kao Corporation製「DEMOL RN、N(萘磺酸甲醛縮聚物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸甲醛縮聚物)」、「Homogenol L-18(高分子聚羧酸)」、「EMULGEN 920、930、935、985(聚氧乙烯壬基苯基醚)」、「ACETAMIN 86(硬脂胺乙酸酯)」、The Lubrizol Corporation製「SOLSPERSE 5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮顏料衍生物)、13240(聚酯胺基)、3000、17000、27000(在末端部具有功能部之高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)」、NIKKO CHEMICALS CO.,LTD.製「Nikkol T106(聚氧乙烯山梨醇酐單油酸酯)、MYS-IEX(聚氧乙烯單硬脂酸酯)」、Kawaken Fine Chemicals Co.,Ltd.製「Hinoact T-8000E」、MORISHITA CO.,LTD.製「EFKA-46、EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA聚合物100、EFKA聚合物400、EFKA聚合物401、EFKA聚合物450」、SAN NOPCO LIMITED製「Disperse Aid6、Disperse Aid8、Disperse Aid15、Disperse Aid9100」、ADEKA CORPORATION製「Adeka pluronic L31、F38、L42、L44、L61、L64、F68、L72、P95、F77、P84、F87、P94、L101、P103、F108、L121、P-123」、及Sanyo Chemical Industries,Ltd.製「Ionet S-20」等。
該些樹脂可單獨使用亦可組合2種以上來使用。並且，還能夠將後述的鹼可溶性樹脂用作分散劑。作為鹼可溶性樹脂，可舉出(甲基)丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物等、以及在側鏈具有羧基之酸性纖維素衍生物、於具有羥基之聚合物中使酸酐改質之樹脂，(甲基)丙烯酸共聚物尤為佳。並且，日本特開平10-300922號公報中記載的N位取代馬來醯亞胺單體共聚物、日本特開2004-300204號公報中記載的醚二聚體共聚物、日本特開平7-319161號公報中記載的含有聚合性基之鹼可溶性樹脂亦較佳。
分散劑的含量相對於顏料100質量份，為1~80質量份為較佳，5~70質量份更為佳，10~60質量份進一步較佳。
(鹼可溶性樹脂)
本發明的組成物能夠含有鹼可溶性樹脂作為樹脂。藉由含有鹼可溶性樹脂，顯影性及圖案形成性得到提高。另外，鹼可溶性樹脂能夠用作分散劑或黏合劑。另外，不形成圖案時，可不使用鹼可溶性樹脂。
作為鹼可溶性樹脂的分子量，並無特別規定，重量平均分子量(Mw)為5,000~100,000為較佳。並且，數量平均分子量(Mn)為1,000~20,000為較佳。
作為鹼可溶性樹脂，可以是線狀有機高分子聚合物，能夠從在分子(較佳為將丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物作為主鏈之分 子)中具有至少1個促進鹼溶解之基團之鹼可溶性樹脂中適當選擇。
作為鹼可溶性樹脂，從耐熱性觀點考慮，聚羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂為較佳，從顯影性控制觀點考慮，丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂為較佳。
作為促進鹼溶解之基團(以下，還稱為酸基)，例如可舉出羧基、磷酸基、磺基、苯酚性羥基等，羧基為較佳。酸基可僅為1種，亦可為2種以上。
作為鹼可溶性樹脂，在側鏈具有羧基之聚合物為較佳，可舉出甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物、酚醛清漆型樹脂等鹼可溶性苯酚樹脂等、以及在側鏈具有羧基之酸性纖維素衍生物、對具有羥基之聚合物加成酸酐者之樹脂等。尤其，(甲基)丙烯酸與可與(甲基)丙烯酸共聚之其他單體的共聚物作為鹼可溶性樹脂而較佳。作為可與(甲基)丙烯酸共聚之其他單體，可舉出烷基(甲基)丙烯酸酯、芳基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基化合物等。作為烷基(甲基)丙烯酸酯及芳基(甲基)丙烯酸酯，可舉出甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丙基(甲基)丙烯酸酯、丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、戊基(甲基)丙烯酸酯、己基(甲基)丙烯酸酯、辛基(甲基)丙烯酸酯、苯基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、甲苯基(甲基)丙烯酸酯、 萘基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯等，作為乙烯基化合物，可舉出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸四氫糠酯、聚苯乙烯大分子單體、聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體等。並且，作為其他單體，可舉出日本特開平10-300922號公報中記載的N位取代馬來醯亞胺單體(例如，N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺等)。另外，該些可與(甲基)丙烯酸共聚之其他單體可僅為1種，亦可為2種以上。
作為鹼可溶性樹脂，可較佳地使用苄基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸共聚物、苄基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸/2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯共聚物、苄基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸/由其他單體構成之多元共聚物。並且，還能夠較佳地使用共聚2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯者、日本特開平7-140654號公報中記載的(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羥基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物等。並且，作為市售品，例如還能夠使用FF-426(Fujikura Kasei Co.Ltd.製)等。
鹼可溶性樹脂包含將含有以下述式(ED1)表示之化合物和/或以下述式(ED2)表示之化合物(以下，有時將該些化合物還 稱為「醚二聚體」。)之單體成分聚合而成之聚合物亦較佳。
Figure 105122875-A0305-02-0095-69
式(ED1)中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或可具有取代基之碳原子數1~25的烴基。
Figure 105122875-A0305-02-0095-70
式(ED2)中，R表示氫原子或碳原子數1~30的有機基團。作為式(ED2)的具體例，可參閱日本特開2010-168539號公報的記載。
關於醚二聚體的具體例，例如可參閱日本特開2013-29760號公報的段落號0317，該內容編入本說明書中。醚二聚體可僅為1種，亦可以為2種以上。
鹼可溶性樹脂可包含從以下述式(X)表示之化合物衍生之結構單元。
【化學式51】
Figure 105122875-A0305-02-0096-71
式(X)中，R1表示氫原子或甲基，R2表示碳原子數2~10的伸烷基，R3表示可包含氫原子或苯環之碳原子數1~20的烷基。n表示1~15的整數。
上述式(X)中，R2的伸烷基的碳原子數為2~3為較佳。並且，R3的烷基的碳原子數為1~20，1~10為較佳。R3的烷基可包含苯環。作為以R3表示之包含苯環之烷基，可舉出苄基、2-苯基(異)丙基等。
關於鹼可溶性樹脂，可參閱日本特開2012-208494號公報的段落號0558~0571(對應之美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的段落號0685~0700)的記載，該些內容編入本說明書中。
而且，還能夠使用日本特開2012-32767號公報的段落號0029~0063中記載的共聚物(B)及實施例中使用之鹼可溶性樹脂、日本特開2012-208474號公報的段落號0088~0098中記載的黏合劑樹脂及實施例中使用之黏合劑樹脂、日本特開2012-137531號公報的段落號0022~0032中記載的黏合劑樹脂及實施例中使用之黏合劑樹脂、日本特開2013-024934號公報的段落號0132~0143中記載之黏合劑樹脂及實施例中使用之黏合劑樹脂、日本特開2011-242752號公報的段落號0092~0098及實施例中使用之黏合劑樹 脂、日本特開2012-032770號公報的段落號0030~0072中記載之黏合劑樹脂。該些內容編入本說明書中。
鹼可溶性樹脂的酸值為30~500mgKOH/g為較佳。下限為50mgKOH/g以上更為佳，70mgKOH/g以上為進一步較佳。上限為400mgKOH/g以下更為佳，200mgKOH/g以下為進一步較佳，150mgKOH/g以下尤為佳，120mgKOH/g以下為更佳。
鹼可溶性樹脂的含量相對於組成物的總固體含量，為0.1~50質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為較佳，1質量%以上更為佳，2質量%以上為進一步較佳，3質量%以上尤為佳。上限為30質量%以下更為佳，10質量%以下為進一步較佳。本發明的組成物可僅包含1種鹼可溶性樹脂，亦可包含2種以上。包含2種以上時，其合計量成為上述範圍為較佳。
<<其他樹脂>>
樹脂是具有以式(A3-1)~(A3-7)表示之重複單元之樹脂亦較佳。
【化學式52】
Figure 105122875-A0305-02-0098-73
式中，R5表示氫原子或烷基，L4~L7分別獨立表示單鍵或2價的連結基，R10~R13分別獨立地表示烷基或芳基。R14及R15分別獨立地表示氫原子或取代基。
R5表示氫原子或烷基。烷基的碳原子數為1~5為較佳，為1~3進一步較佳，1尤為佳。R5為氫原子或甲基為較佳。
L4~L7分別獨立地表示單鍵或2價的連結基。作為2價的連結基，可舉出伸烷基、伸芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2-、-NR10-(R10表示氫原子或者烷基，氫原子為較佳)或由該些的組合構成之基團，伸烷基、伸芳基及由伸烷基的至少1個與-O-的組合構成之基為較佳。伸烷基的碳原子數為1~30為較佳，1~15更為佳，1~10為進一步較佳。伸烷基可具有取代基，但無取代為較佳。伸烷基可以是直鏈、分支、環狀的任一個。並且，環狀的伸烷基可以是單環、多環的任一個。伸芳基的碳原子數為6~18為較佳，6~14更為佳，6~10進一步較佳。
R10所表示之烷基可以是直鏈狀、分支狀或環狀的任一個，環狀為較佳。烷基可具有上述之取代基，亦可以是無取代。烷基的碳原子數為1~30為較佳，1~20更為佳，1~10為進一步較佳。R10所表示之芳基的碳原子數為6~18為較佳，6~12更為佳，6為進一步較佳。R10為環狀的烷基或芳基為較佳。
R11、R12所表示之烷基可以是直鏈狀、分支狀或環狀的任一個，直鏈狀或分支狀為較佳。烷基可具有上述之取代基，亦可以是無取代。烷基的碳原子數為1~12為較佳，1~6更為佳，1~4為進一步較佳。R11及R12所表示之芳基的碳原子數為6~18為較佳，6~12更為佳，6為進一步較佳。R11及R12為直鏈狀或分支狀的烷基為較佳。
R13所表示之烷基可以是直鏈狀、分支狀或環狀的任一個，直鏈狀或分支狀為較佳。烷基可具有上述之取代基，亦可以為無取代。烷基的碳原子數為1~12為較佳，1~6更為佳，1~4為進一步較佳。R13所表示之芳基的碳原子數為6~18為較佳，6~12更為佳，6為進一步較佳。R13為直鏈狀或分支狀的烷基或芳基為較佳。
R14及R15所表示之取代基可舉出上述之式(2)的RZ中說明之基團。
其中，R14及R15的至少一個表示氰基或-COORa為較佳。Ra表示氫原子或取代基。作為Ra所表示之取代基，可舉出式(2)的RZ中說明之基團。作為Ra，例如烷基、芳基為較佳。
作為具有以上述的式(A3-7)表示之重複單元之樹脂的市售品，可舉出ARTON F4520(JSR Corporation製)等。
<<溶劑>>
本發明的組成物能夠含有溶劑。作為溶劑，可舉出水、有機溶劑。溶劑只要滿足各成分的溶解性或組成物的塗佈性，則基本上並無特別限制。考慮組成物的塗佈性、安全性來選擇為較佳。
作為有機溶劑的例子，例如，可舉出以下的有機溶劑。
作為酯類，例如，可舉出乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、乙酸環己酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸異丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧乙酸烷基酯(例如，氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸丁酯(例如，甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-氧丙酸烷基酯類(例如，3-氧丙酸甲酯、3-氧丙酸乙酯等(例如，3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-氧丙酸烷基酯類(例如2-氧丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯等(例如，2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧-2-甲基丙酸甲酯及2-氧-2-甲基丙酸乙酯(例如，2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧丁酸甲酯、2-氧丁酸乙酯等。作為醚類，例如，可舉出二甘醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、 乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二甘醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單丙基醚乙酸酯等。作為酮類，例如，可舉出甲基乙基酮、環己酮、環戊酮、2-庚酮、3-庚酮等。作為芳烴類，例如，可較佳地舉出甲苯、二甲苯等。但是，關於作為溶劑的芳烴類(苯、甲苯、二甲苯、乙基苯等)，由於環境方面等的理由，有時減少為佳(例如，相對於有機溶劑總量，能夠設為50質量ppm(parts per million)以下，亦能夠設為10質量ppm以下，還能夠設為1質量ppm以下)。
有機溶劑可單獨使用1種，亦可組合2種以上來使用。
組合2種以上來使用有機溶劑時，由選自上述的3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二甘醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡比醇乙酸酯、丁基卡比醇乙酸酯、丙二醇甲醚及丙二醇甲醚乙酸酯之2種以上構成之混合溶劑尤為佳。
本發明中，有機溶劑中，過氧化物的含有率為0.8mmol/L以下為較佳，實質上不含有過氧化物更為佳。
本發明中，作為溶劑使用金屬含量較少之溶劑為較佳。溶劑的金屬含量例如為10質量ppb(parts per billion)以下為較佳。可依據需要使用質量ppt(parts per trillion)級別的溶劑，該種高純度的溶劑例如由Toyo Gosei Co.,Ltd提供(化學工業日報、2015年11月13日)。
作為從溶劑去除金屬等雜質之方法，例如，可舉出蒸餾(分子蒸餾或薄膜蒸餾等)或使用過濾器之過濾。作為用於過濾之過濾器的過濾器孔徑，10nm以下為較佳，5nm以下更為佳，3nm以下為進一步較佳。濾波器的材質為聚四氟乙烯、聚乙烯或尼龍為較佳。
溶劑中可含有異構物(相同原子數且不同結構的化合物)。並且，異構物可僅包含有1種，亦可包含有複數種。
溶劑的含量相對於組成物的總量，為10~90質量%為較佳，20~80質量%更為佳，25~75質量%為進一步較佳。
<<聚合禁止劑>>
本發明的組成物中，在組成物的製造期間或保存期間，為了阻止交聯性化合物的不必要的熱聚合，可含有聚合禁止劑。作為聚合禁止劑，例如可舉出苯酚系含羥基化合物類、N-氧化物化合物類、哌啶1-氧自由基化合物類、吡咯烷1-氧自由基化合物類、N-亞硝基苯基羥基胺類、重氮化合物類、陽離子染料類、含硫醚基化合物類、含硝基化合物類、磷系化合物類、內酯系化合物類、過渡金屬化合物類(FeCl3、CuCl2等)。並且，該些化合物類中，聚合禁止劑可以是在同一分子內存在複數個苯酚骨架或含磷骨架等顯現聚合禁止功能之結構之複合系化合物。例如，還可較佳地使用日本特開平10-46035號公報中記載的化合物等。作為聚合禁止劑的具體例，可舉出氫醌、對甲氧基苯酚、二-三級丁基-對甲苯酚、鄰苯三酚、三級丁基鄰苯二酚、對苯醌、4,4’-硫代雙(3-甲基-6-三級 丁基苯酚)、2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-三級丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥基胺第一鈰鹽等。其中，對甲氧基苯酚為較佳。
聚合禁止劑的含量相對於組成物的總固體含量，為0.01~5質量%為較佳。
<<界面活性劑>>
從更提高塗佈性之觀點考慮，本發明的組成物可以含有各種界面活性劑。作為界面活性劑，可使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。
藉由在上述組成物中含有氟系界面活性劑，作為塗佈液來製備時的液體特性(尤其，流動性)進一步得到提高，能夠更加改善塗佈厚度的均勻性或省液性。亦即，使用應用了含有氟系界面活性劑之組成物之塗佈液來形成膜時，被塗佈面與塗佈液之間的界面張力下降，對於被塗佈面的潤濕性得到改善，對被塗佈面的塗佈性提高。因此，能夠更適當地進行厚度不均較小的均勻厚度的膜形成。
氟系界面活性劑中的氟含有率為3~40質量%為較佳，更佳為5~30質量%，尤佳為7~25質量%。氟含有率在該範圍內之氟系界面活性劑在塗佈膜的厚度的均勻性和省液性方面有效，組成物中的溶解性亦良好。
作為氟系界面活性劑，例如，可舉出Megafac F171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、 F479、F482、F554、F780、RS-72-K(以上，DIC CORPORATION製)、FLUORAD FC430、FC431、FC171(以上，3M Japan Limited製)、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上，ASAHI GLASS CO.,LTD.製)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上，OMNOVA SOLUTIONS INC.製)等。
作為氟系界面活性劑，能夠使用日本特開2015-117327號公報的段落號0015~0158中記載的化合物。作為氟系界面活性劑，還能夠使用嵌段聚合物，作為具體例，例如可舉出日本特開2011-89090號公報中記載之化合物。
作為氟系界面活性劑，還能夠較佳地使用包含以下重複單元之含氟高分子化合物：從具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物衍生之重複單元；從具有2個以上(5個以上為較佳)的伸烷基氧基(乙烯氧基、丙烯氧基為較佳)之(甲基)丙烯酸酯化合物衍生之重複單元，下述化合物亦作為本發明中使用之氟系界面活性劑而例示。
Figure 105122875-A0305-02-0104-74
上述的化合物的重量平均分子量為3,000~50,000為較佳，例如為14,000。
作為氟系界面活性劑，能夠使用在側鏈具有乙烯性不飽和基之含氟聚合物。作為具體例，可舉出日本特開2010-164965號公報的段落號0050~0090及段落號0289~0295中記載之化合物，例如DIC CORPORATION製的Megafac RS-101、RS-102、RS-718K。
並且，氟系界面活性劑還能夠較佳地使用具有含有氟原子之官能基之分子結構且若加熱則含有氟原子之官能基的部分被切斷而氟原子揮發之丙烯酸系化合物。作為該種氟系界面活性劑，可舉出並使用DIC CORPORATION製的Megafac DS系列(化學工業日報、2016年2月22日)(日經產業新聞、2016年2月23日)，例如Megafac DS-21。
作為非離子系界面活性劑，可舉出丙三醇、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷以及該些的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，丙三醇丙氧基化物、丙三醇乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬酯醚、聚氧乙烯油烯醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸、聚乙二醇二硬脂酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯、(BASF公司製的Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、TETRONIC 304、701、704、901、904、150R1、SOLSPERSE 20000(The Lubrizol Corporation製)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.製)、Pionin D-6112、D-6112-W、D-6315(TAKEMOTO OIL & FAT CO.,LTD製)、 Olfin E1010、Surfynol 104、400、440(Nissin Chemical Industry Co.,Ltd.製)等。
作為陽離子系界面活性劑，具體而言，可舉出有機基矽氧烷聚合物KP341(Shin-Etsu Chemica.Co.,Ltd.製)、(甲基)丙烯酸系(共)聚物POLYFLOW NO.75、NO.90、NO.95(KYOEISHA CHEMICAL CO.,Ltd.製)、W001(Yusho Co.,Ltd.製)等。
作為陰離子系界面活性劑，具體而言，可舉出W004、W005、W017(Yusho Co.,Ltd.製)、Sandetto BL(Sanyo Chemical Industries,Ltd.製)等。
作為矽酮系界面活性劑，例如，可舉出Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(以上，Dow Corning Toray Co.,Ltd製)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上，Momentive Performance Materials Inc.製)、KP341、KF6001、KF6002(以上，Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製)、BYK307、BYK323、BYK330(以上，BYKChemie公司製)等。
界面活性劑可僅使用1種，亦可組合2種以上。
界面活性劑的含量相對於組成物的總固體含量，為0.001~2.0質量%為較佳，0.005~1.0質量%更為佳。
<<紫外線吸收劑>>
本發明的組成物可含有紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑是 共軛二烯系化合物為較佳，以下述式(1)表示之化合物更為佳。若使用該共軛二烯系化合物，則尤其在進行低照度曝光時的之後的顯影性能變動受到抑制，能夠更有效地抑制與圖案的線寬、膜厚、分光光譜等與圖案形成性有關之曝光照度依賴性。
Figure 105122875-A0305-02-0107-75
R1及R2分別獨立地表示氫原子、碳原子數1~20的烷基或碳原子數6~20的芳基，R1和R2可彼此相同亦可互不相同，但不會同時表示氫原子。
R3及R4表示拉電子性基團。拉電子性基團是哈密特取代基常數σp值(以下，簡稱為「σp值」。)為0.30以上且1.0以下的基團為較佳，σp值為0.30以上且0.8以下的基團更為佳。作為R3、R4，醯基、胺甲醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、硝基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、磺醯基氧基、胺磺醯基為較佳，尤其醯基、胺甲醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、磺醯基氧基、胺磺醯基為較佳。
關於上述式(1)，可參閱日本特開2010-049029號公報的段落號0148~0158的記載，該內容編入本說明書中。
作為以上述式(1)表示之化合物的具體例，可舉出以下的化合物。並且，可舉出日本特開2010-049029號公報的段落號0160~0162中記載的化合物，該內容編入本說明書中。
Figure 105122875-A0305-02-0108-76
作為紫外線吸收劑的市售品，例如可舉出UV503(DAITO CHEMICAL CO.,LTD.)等。
作為紫外線吸收劑，能夠使用胺基二烯化合物、水楊酸鹽化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、三嗪化合物等紫外線吸收劑。作為具體例，可舉出日本特開2013-68814號公報中記載之化合物。作為苯并三唑化合物，可使用Miyoshi Oil & Fat Co.,Ltd.的MYUA系列(化學工業日報、2016年2月1日)。
紫外線吸收劑的含量相對於本發明的組成物的總固體含量，為0.01~10質量%為較佳，0.01~5質量%更為佳。
<<其他成分>>
本發明的紅外線吸收性組成物可依據需要含有鏈轉移劑、熱聚合起始劑、熱聚合成分、增塑劑、顯影性提高劑、抗氧化劑、抗絮凝劑、填充劑等各種添加物。
<本發明的組成物的製備方法>
本發明的組成物能夠混合所述成分來製備。製備組成物時，可總括調配各成分，亦可將各成分溶解和/或分散於溶劑之後依次調配。並且，調配時的投入順序和操作條件並不特別受限。例如，可將所有成分同時溶解和/或分散於溶劑來製備組成物，亦可依據 需要，將各成分適當設為2個以上的溶液和/或分散液，使用時(塗佈時)混合該些來製備組成物。
並且，製備包含粒子之組成物時，包括使粒子分散之工藝為較佳。在使粒子分散之工藝中，作為用於粒子的分散之機械力，可舉出壓縮、擠壓、衝擊、剪切、空化(cavitation)等。作為該些工藝的具體例，可舉出珠磨機、砂磨機、輥磨機、球磨機、塗料振盪器、微射流均質機、高速葉輪、砂磨機、噴流混合器、高壓濕式微粒化、超音波分散等。並且，砂磨機(珠磨機)中的粒子的粉碎中，於藉由使用直徑較小之微珠、加大微珠的填充率等來提高粉碎效率之條件下進行處理為較佳。並且，粉碎處理之後藉由過濾、離心分離等去除粗粒子為較佳。並且，使粒子分散之工藝及分散機可較佳地使用「分散技術大全、株式會社情報機構發行、2005年7月15日」和「以懸浮液(suspension)(固/液分散體系)為中心之分散技術與工業應用的實際綜合資料集、經營開發中心出版部發行、1978年10月10日」、日本特開2015-157893號公報的段落號0022中記載之工藝及分散機。並且，使粒子分散之工藝中，可藉由鹽磨製程進行粒子的微細化處理。用於鹽磨製程之原材料、設備、處理條件等例如可參閱日本特開2015-194521號公報、日本特開2012-046629號公報的記載，該些內容編入本說明書中。
製備組成物時，為了去除異物和降低缺陷等，用過濾器進行過濾為較佳。作為用於過濾之過濾器，只要是先前用於過濾用途等者，則可不受特別限定而使用。例如，可舉出基於聚四氟乙烯 (PTFE)等氟樹脂、尼龍(例如尼龍-6、尼龍-6,6)等聚醯胺系樹脂、聚乙烯、聚丙烯(PP)等使用聚烯烴樹脂(包含高密度、超高分子量的聚烯烴樹脂)等原材料之過濾器。該些原材料中，聚丙烯(包含高密度聚丙烯)及尼龍為較佳。
過濾器的孔徑為0.01~7.0μm左右為適當，較佳為0.01~3.0μm左右，進一步較佳為0.05~0.5μm左右。藉由設為該範圍，，能夠可靠地去除阻礙後製程中製備均勻及平滑的組成物之微細的異物。並且，使用纖維狀濾材亦較佳。作為濾材，例如可舉出聚丙烯纖維、尼龍纖維、玻璃纖維等，具體而言，可使用ROKI GROUP CO.,LTD.製的SBP類型系列(SBP008等)、TPR類型系列(TPR002、TPR005等)、SHPX類型系列(SHPX003等)的濾芯。
使用過濾器時，可組合不同過濾器。此時，藉由第1過濾器的過濾可以僅進行1次，亦可進行2次以上。
並且，可組合在上述範圍內不同的孔徑的第1過濾器。此處的孔徑可參考過濾器廠商的標稱值。作為市售的過濾器，例如，可從由Pall Corporation(DFA4201NXEY等)、ADVANTEC TOYO KAISHA,LTD.、Nihon Entegris K.K.Nihon Entegris K.K.(formerly Nippon Mykrolis Corporation)或KITZ MICRO FILTER CORPORATION等提供之各種過濾器中選擇。
第2過濾器能夠使用以與上述第1過濾器相同的材料等形成者。
例如，藉由第1過濾器的過濾僅進行分散液的過濾，在混合 其他成分之後，用第2過濾器進行過濾亦可。
<硬化膜>
接著，對本發明的硬化膜進行說明。本發明的硬化膜是使上述之本發明的組成物硬化而成者。本發明的硬化膜的紅外遮蔽性及可見透明性優異，因此能夠較佳地用作紅外線截止濾波器。
本發明的硬化膜可具有圖案，亦可以是不具有圖案之膜(平坦膜)。
本發明的硬化膜的膜厚可依據目的適當調整。膜厚為20μm以下為較佳，10μm以下更為佳，5μm以下為進一步較佳。膜厚的下限為0.1μm以上為較佳，0.2μm以上更為佳，0.3μm以上為進一步較佳。本發明的硬化膜夠較佳地用作CCD(電荷耦合元件)或CMOS(互補型金屬氧化膜半導體)等固體攝像元件等紅外線截止濾波器。並且，還能夠用於各種圖像顯示裝置。
本發明的硬化膜(紅外線截止濾波器)能夠與包含彩色著色劑之濾色器組合使用。
濾色器能夠使用包含彩色著色劑之著色組成物來製造。作為彩色著色劑，可舉出本發明的組成物中說明之彩色著色劑。著色組成物可進一步含有樹脂、具有交聯性基團之化合物、光聚合起始劑、界面活性劑、溶劑、聚合禁止劑、紫外線吸收劑等。關於該些的詳細內容，可舉出在本發明的紅外線吸收性組成物中說明之材料，能夠使用該些。並且，還可在本發明的硬化膜(紅外線截止濾波器)中有含彩色著色劑來設為具備作為紅外線截止濾波器及濾 色器的功能之濾波器。
另外，本發明中，紅外線截止濾波器是指使可見光區域的波長的光(可見光)透射，且屏蔽紅外區域的波長的光(紅外線)之濾波器。紅外線截止濾波器可以是使可見光區域的波長的光全部透射者，亦可以是使可見光區域的波長的光中的特定波長區域的光透射而屏蔽特定波長區域的光者。
並且，本發明中，濾色器是指，使可見光區域的波長的光中的特定波長區域的光透射而屏蔽特定波長區域的光之濾波器。
本發明的硬化膜(紅外線截止濾波器)還能夠與本發明的硬化膜以外的其他紅外線截止濾波器組合使用。作為其他紅外線截止濾波器，例如，可舉出含有銅之透明層、帶通濾波器等。
作為含有銅之透明層，還能夠使用由含有銅之玻璃構成之玻璃基材(含銅之玻璃基材)、包含銅絡合物之層(銅絡合物含有層)。並且，作為含有銅之透明層使用銅絡合物含有層時，可單獨使用銅絡合物含有層，亦可組合銅絡合物含有層與支撐體來使用。
作為帶通濾波器，可舉出高折射率層與低折射率層交替積層而成之積層體。帶通濾波器的分光特性可依據光源的波長、紅外線截止濾波器的分光特性等而適當選擇。藉由組合使用硬化膜與帶通濾波器，還能夠屏蔽較寬區域的紅外線。
並且，本發明的紅外線截止濾波器還能夠與紅外線透射濾波器組合使用。藉由組合紅外線截止濾波器與紅外線透射濾波 器來使用，能夠較佳地用於檢測特定波長的紅外線之紅外線感測器的用途。另外，本發明中，紅外線透射濾波器是指屏蔽可見光區域的波長的光，且使紅外區域的波長的光(紅外線)透射之濾波器。紅外線透射濾波器使其透射之紅外線的波長可依據用途適當選擇。
本發明的紅外線截止濾波器可在厚度方向上與濾色器相鄰，亦可不相鄰。紅外線截止濾波器與濾色器在厚度方向上不相鄰時，可於與形成有濾色器之基材不同之基材上形成紅外線截止濾波器，紅外線截止濾波器與濾色器之間可介入有構成固體攝像元件之其他構件(例如，微透鏡、平坦化層等)。
<圖案形成方法>
本發明的圖案形成方法包含：利用本發明的組成物在支撐體上形成組成物層之製程；及藉由光微影法或乾式蝕刻法，對組成物層形成圖案之製程。
製造由紅外線截止濾波器與濾色器積層之積層體時，可分別進行紅外線截止濾波器的圖案形成與濾色器的圖案形成。並且，亦可對紅外線截止濾波器與濾色器的積層體進行圖案形成(亦即，可同時進行紅外線截止濾波器與濾色器的圖案形成)。
分別進行紅外線截止濾波器與濾色器的圖案形成的情況是指以下態樣。對紅外線截止濾波器及濾色器的任一個進行圖案形成。接著，在已圖案形成之濾波器層上形成另一濾波器層。接著，對未進行圖案形成之濾波器層進行圖案形成。
圖案形成方法可以是基於光微影法之圖案形成方法，亦 可以是基於乾式蝕刻法之圖案形成方法。
若為基於光微影法之圖案形成方法，則無需乾蝕刻製程，因此可獲得能夠削減製程數之效果。
若為基於乾式蝕刻法之圖案形成方法，則紅外線吸收性組成物無需光刻功能，因此可獲得能夠提高紅外線吸收劑的濃度之效果。
分別進行紅外線截止濾波器的圖案形成與濾色器的圖案形成時，各濾波器層的圖案形成方法可僅藉由光微影法或僅藉由乾式蝕刻法進行。並且，可藉由光微影法對其中一個濾波器層進行圖案形成，並藉由乾式蝕刻法對另一濾波器層進行圖案形成。併用乾式蝕刻法與光微影法來進行圖案形成時，第1層圖案藉由乾式蝕刻法進行圖案形成，第2層之後的圖案藉由光微影法進行圖案形成為較佳。
基於光微影法之圖案形成包含利用各組成物在支撐體上形成組成物層之製程、將組成物層曝光成圖案狀之製程、對未曝光部進行顯影去除來形成圖案之製程為較佳。可依據需要，設置對組成物層進行烘烤之製程(前烘烤製程)及對所顯影之圖案進行烘烤之製程(後烘烤製程)。
並且，基於乾式蝕刻法之圖案形成包含利用各組成物在支撐體上形成組成物層並使其硬化來形成硬化物層之製程、在硬化物層上形成光阻劑層之製程、藉由曝光及顯影來對光阻劑層進行圖案形成並獲得光阻圖案之製程、將光阻圖案作為蝕刻遮罩對硬化 物層進行乾蝕刻來形成圖案之製程為較佳。以下，對各製程進行說明。
<<形成組成物層之製程>>
形成組成物層之製程中，利用各組成物在支撐體上形成組成物層。
作為支撐體，例如，能夠使用在基板(例如，矽基板)上設置有CCD或CMOS等固體攝像元件(受光元件)之固體攝像元件用基板。
本發明中的圖案可形成於固體攝像元件用基板的固體攝像元件形成面側(表面)，亦可形成於固體攝像元件的非形成面側(背面)。
支撐體上可依據需要，為了改善與上部層之間的黏附性、防止物質的擴散或者基板表面的平坦化而設置底塗層。
作為組成物在支撐體上的適用方法，可使用狹縫塗佈、噴墨法、旋轉塗佈、流延塗佈、輥塗佈、網版印刷法等各種方法。
形成於支撐體上之組成物層可進行乾燥(前烘烤)。藉由低溫工藝形成圖案時，可不進行前烘烤。
進行前烘烤時，前烘烤溫度為150℃以下為較佳，120℃以下更為佳，110℃以下為進一步較佳。下限例如能夠設為50℃以上，還能夠設為80℃以上。藉由將前烘烤溫度設為150℃以下來進行，例如，以有機原材料構成圖像感測器的光電轉換膜時，能夠更有效地維持該些特性。
前烘烤時間為10秒~300秒為較佳，40~250秒更為佳，80~220秒進一步較佳。乾燥能夠藉由加熱板、烘箱等進行。
對複數個層同時進行圖案形成時，在上述組成物層上應用用於形成各層的組成物來形成其他組成物層為較佳。
(藉由光微影法圖案形成之情況)
<<曝光製程>>
接著，將組成物層曝光成圖案狀(曝光製程)。例如，對組成物層，利用步進機等曝光裝置，經由具有規定遮罩圖案之遮罩進行曝光，藉此能夠進行圖案曝光。藉此，能夠使曝光部分硬化。
作為曝光時能夠使用之放射線(光)，可較佳地使用g射線、i射線等紫外線(i射線尤為佳)。照射量(曝光量)例如為0.03~2.5J/cm2為較佳，0.05~1.0J/cm2更為佳，0.08~0.5J/cm2為最佳。
能夠適當選擇曝光時的氧濃度，除了在大氣下進行以外，例如可在氧濃度為19體積%以下的低氧氣氛下(例如，15體積%、5體積%、實質上無氧)曝光，亦可在氧濃度超過21體積%之高氧氣氛下(例如，22體積%、30體積%、50體積%)曝光。並且，能夠適當設定曝光照度，通常可從1000W/m2~100000W/m2(例如，5000W/m2、15000W/m2、35000W/m2)的範圍選擇。氧濃度與曝光照度可組合適當條件，例如能夠設為氧濃度10體積%且照度10000W/m2、氧濃度35體積%且照度20000W/m2等。
<<顯影製程>>
接著，顯影去除未曝光部來形成圖案。未曝光部的顯影去除 能夠利用顯影液進行。藉此，曝光製程中的未曝光部的組成物層溶出於顯影液，僅殘留光硬化之部分。
作為顯影液，不會對基底的固體攝像元件或回路等帶來損傷之有機鹼性顯影液為較佳。
顯影液的溫度例如為20~30℃為較佳。顯影時間為20~180秒為較佳。並且，為了提高殘渣去除性，可反覆進行數次如下製程：每隔60秒甩去顯影液，進一步重新供給顯影液。
作為用於顯影液之鹼性試劑，例如可舉出氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、苄基三甲基氫氧化銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1，8-二氮雜雙環〔5,4,0〕-7-十一碳烯等有機鹼性化合物。作為顯影液，較佳地使用藉由純水以成為濃度0.001~10質量%、較佳為成為0.01~1質量%之方式稀釋該些鹼性試劑之鹼性水溶液。
並且，作為顯影液可使用無機鹼。作為無機鹼，例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等為較佳。
並且，顯影液中可添加界面活性劑。作為界面活性劑的例子，可舉出上述之組成物中說明之界面活性劑，非離子系界面活性劑為較佳。
另外，使用由該種鹼性水溶液構成之顯影液時，通常在顯影後用純水清洗(沖洗)為較佳。
顯影後，還能夠在實施乾燥之後進行加熱處理(後烘烤)。 後烘烤是用於使膜的硬化完整的顯影後的加熱處理。進行後烘烤時，後烘烤溫度例如為100~240℃為較佳。從膜硬化的觀點考慮，200~230℃更為佳。並且，作為發光光源使用有機電致發光(有機EL)元件時、或以有機原材料構成圖像感測器的光電轉換膜時，後烘烤溫度為150℃以下為較佳，120℃以下更為佳，100℃以下為進一步較佳，90℃以下尤為佳。下限例如能夠設為50℃以上。
關於後烘烤，對顯影後的膜，能夠以成為上述條件之方式，利用加熱板或對流式烘箱(熱風循環式乾燥機)、高頻加熱器等加熱機構，以連續式或者間斷式進行。並且，藉由低溫工序形成圖案時，可不進行後烘烤。
(藉由乾式蝕刻法進行圖案形成之情況)
利用乾式蝕刻法的圖案形成中，使形成於支撐體上之組成物層硬化來形成硬化物層，接著，將所獲得之硬化物層，以被圖案化之光阻劑層作為遮罩並利用蝕刻氣體進行。
具體而言，在硬化物層上塗佈正型或負型感放射線性組成物，藉由使其乾燥來形成光阻劑層為較佳。光阻劑層的形成中，進一步實施前烘烤處理為較佳。尤其，作為光阻劑的形成工藝，實施曝光後的加熱處理、顯影後的加熱處理(後烘烤處理)之形態為較佳。關於利用乾式蝕刻法中的圖案形成，可參閱日本特開2013-064993號公報的段落號0010~0067的記載，該內容編入本說明書中。
<固體攝像元件>
本發明的固體攝像元件具有上述之本發明的硬化膜。作為本 發明的固體攝像元件的結構，是具有本發明的硬化膜(紅外線截止濾波器)之結構，只要是作為固體攝像元件發揮功能之結構，則並無特別限定，例如可舉出如下結構。
是如下結構：在支撐體上，具有構成固體攝像元件的受光區域之複數個光電二極體及由多晶矽等構成之轉移電極，在光電二極體及轉移電極上具有僅光電二極體的受光部開口之由鎢等構成之屏蔽膜，在屏蔽膜上具有以覆蓋屏蔽膜整個面及光電二極體受光部之方式形成之由氮化矽等構成之設備保護膜，在設備保護膜上具有本發明的膜。
而且，亦可以是在設備保護膜上且在本發明的紅外線截止濾波器的下方(靠近支撐體側)具有聚光機構(例如，微透鏡等。以下相同)之結構、或在本發明的硬化膜(紅外線截止濾波器)上具有聚光機構之結構等。
<圖像顯示裝置>
本發明的硬化膜還能夠用於液晶顯示裝置或有機電致發光(有機EL)顯示裝置等圖像顯示裝置。例如，藉由與各著色像素(例如紅色、綠色、藍色)一同使用硬化膜，屏蔽顯示裝置的背光(例如白色發光二極體(白色LED))中包含之紅外光，能夠以防止周邊設備的誤動作之目的或除了各著色顯示像素之外形成紅外像素之目的而使用。
關於顯示裝置的定義和各顯示裝置的詳細內容，例如記載於「電子顯示器設備(佐佐木 昭夫著、(株)工業調查會1990 年發行)」、「顯示器設備(伊吹 順章著、產業圖書(株)平成元年發行)」等中。並且，關於液晶顯示裝置，例如記載於「下一代液晶顯示器技術(內田 龍男編輯、(株)工業調查會1994年發行)」中。能夠適用本發明之液晶顯示裝置並無特別限制，例如能夠適用於上述「下一代液晶顯示器技術」中記載之各種方式的液晶顯示裝置。
圖像顯示裝置可以是具有白色有機EL元件之圖像顯示裝置。作為白色有機EL元件，是串聯結構為較佳。關於有機EL元件的串聯結構，記載於日本特開2003-45676號公報、三上明義監修、「有機EL技術開發的最前線-高亮度‧高精度‧長壽命化‧技術集-」、技術情報協會、326-328頁、2008年等中。有機EL元件所發光之白色光的光譜在藍色區域(430nm-485nm)、綠色區域(530nm-580nm)及黃色區域(580nm-620nm)具有較強的極大發光峰值為較佳。除了該些發光峰值以外，進一步在紅色區域(650nm-700nm)具有極大發光峰值更為佳。
<紅外線吸收劑、化合物>
接著，對本發明的化合物進行說明。
本發明的化合物是本發明的組成物中說明之以式(1A)表示之化合物(方酸內鎓鹽化合物)，較佳範圍亦與上述之範圍相同。
本發明的化合物能夠較佳地用作紅外線吸收劑。
本發明的化合物例如能夠較佳地用於形成屏蔽波長700~1000nm的光之紅外線截止濾波器等。並且，還能夠用作電漿顯示 平板或固體攝像元件用等的紅外線截止濾波器、熱線屏蔽膜等光學濾波器、追記型光盤(CD-R)或閃光熔融固定材料中的光熱轉換材料。並且，還能夠用作防偽油墨或隱形條碼油墨中的情報顯示材料。
[實施例]
以下舉出實施例，對本發明進行更具體說明。關於以下的實施例所示之材料、使用量、比例、處理內容、處理步驟等，只要不脫離本發明的宗旨，則能夠適當變更。因此，本發明的範圍並不限定於以下所示之具體例。另外，除非另外指明，則「份」、「%」是質量基準。
另外，用作紅外線吸收劑之化合物的結構為上述紅外線吸收劑中說明之化學結構的化合物。
<重量平均分子量(Mw)測定>
用以下方法測定了重量平均分子量(Mw)。
柱的種類：TSKgel SuperHZ4000(TOSOH製、4.6mm(內徑)×15cm)
顯影溶劑：四氫呋喃
柱溫度：40℃
流量(樣品注入量)：60μL
裝置名：TOSOH CORPORATION製高速GPC(HLC-8220GPC)
校正曲線樹脂：聚苯乙烯
<化合物的合成>
(合成例1)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ13。
Figure 105122875-A0305-02-0122-77
中間體M1及中間體M2的合成依據上述的方案，利用Tetrahedron Lett.1996,37,9207-9210中記載的方法進行。中間體M3依據上述的方案，利用Tetrahedron Lett.2008,49,6300-6303中記載的方法，對中間體M2進行單磺醯胺基化來合成。
在正丁醇/甲苯(5.2cm3/16.0cm3)中，對中間體M3(3.1g、7.5mmol)與方酸(0.43g、3.7mmol)進行共沸脫水之同時加熱回流12小時。冷卻反應液之後，對溶劑進行減壓、蒸餾去除，藉由矽膠柱色譜法(顯影溶劑：氯仿)對殘渣進行提純。減壓、蒸餾去除氯仿之後，在甲醇中對固體進行超音波分散，並吸引過濾固體，藉此獲得了目標化合物(化合物SQ13)(綠色結晶、1,2g、收率37%)。
化合物SQ13的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型 質譜法)
Calc.for[M+H]+：919.2,found：919.2
(合成例2)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ14。
Figure 105122875-A0305-02-0123-78
中間體M4的合成中，代替三氟甲磺酸酐使用九氟丁烷磺酸酐，除此以外以與中間體M3相同的方法進行。
(化合物SQ14的合成)
化合物SQ14的合成中，代替中間體M3使用中間體M4，除此以外以與化合物SQ13的合成方法相同的方法進行。
化合物SQ14的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M+H]+：1219.2,found：1219.3
(合成例3)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ56。
【化學式58】
Figure 105122875-A0305-02-0124-79
中間體M5的合成依據上述的方案，利用WO2014/088063 A1中記載的方法進行。
中間體M6的合成中，代替中間體M2使用中間體M5，除此以外以與中間體M3相同的方法進行。
化合物SQ56的合成中，代替中間體M3使用中間體M6，除此以外以與化合物SQ13的合成方法相同的方法進行。
化合物SQ56的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M+H]+：779.2,found：779.2
(合成例4)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ49。
【化學式59】
Figure 105122875-A0305-02-0125-81
中間體M7的合成依據上述的方案，利用Tetrahedron Letters 44(2003)145-147中記載的方法進行。中間體M8依據上述的方案，藉由利用Tetrahedron Letters 48(2007)8659-8664中記載的方法對中間體7進行硝化來合成。中間體M9的合成中，代替中間體M2使用中間體M8，除此以外以與中間體M3相同的方法進行。中間體M10的合成中，代替中間體M1使用中間體M8，除此以外以與中間體M2相同的方法進行。
化合物SQ49的合成中，代替中間體M3使用中間體M10，除此以外以與化合物SQ13的合成方法相同的方法進行。
化合物SQ49的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M+H]+：831.3,found：831.2
(合成例5)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ10。
Figure 105122875-A0305-02-0126-83
將中間體M2(2.5g、8．5mmol)、吡啶(0.81g、10.2mmol)溶解於乙腈20ml中，在0℃下滴加辛基磺酸氯化物。在室溫下攪拌4小時之後，對反應液添加水來淬滅，藉由乙酸乙酯提取了目標物。用水將所獲得之油層清洗3次，用硫酸鎂對油層進行乾燥之後，減壓、蒸餾去除乙酸乙酯。藉由矽膠柱色譜法(顯影溶劑：己烷/乙酸乙酯=5/1)對殘渣進行提純，藉此獲得了中間體M11(無色液體、2.7g、收率70%)。化合物SQ10的合成中，代替中間體M3使用中間體M11，除此以外以與化合物SQ13的合成方法相同的方法進行。
化合物SQ10的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M+H]+：1007.5,found：1007.5
(合成例6)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ3。
Figure 105122875-A0305-02-0127-84
將中間體M2(3.6g、12.6mmol)、三乙胺(2.6g、25.2mmol)及觸媒量的N,N-二甲胺基吡啶溶解於氯仿63ml中，在0℃下滴加2-乙基己酸氯化物(3.1g、18.9mmol)。在0℃下攪拌1小時之後添加水來淬滅，藉由氯仿提取了目標物。用水將所獲得之油層清洗2次，用硫酸鎂進行乾燥之後減壓、蒸餾去除氯仿。藉由柱層析(顯影溶劑：己烷/乙酸乙酯=7/1)對殘渣進行提純，藉此獲得了中間體M12(無色液體、3.9g、收率75%)。化合物SQ3的合成中，代替中間體M3使用中間體M12，除此以外以與化合物SQ13的合成方法相同的方法進行。
化合物SQ3的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M+H]+：907.5,found：907.5
(合成例7)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ52。
Figure 105122875-A0305-02-0128-85
中間體M13的合成中，代替中間體M2使用中間體M5，除此以外以與中間體M12相同的方法進行。
化合物SQ52的合成中，代替中間體M3使用中間體M13，除此以外以與化合物SQ13的合成方法相同的方法進行。
化合物SQ52的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M+H]+：768.5,found：768.4
(合成例8)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ41。
【化學式63】
Figure 105122875-A0305-02-0129-87
中間體M14的合成依據上述的方案，利用Chem.Mater.2011,23,4789-4798中記載的方法進行。
化合物SQ41的合成中，代替中間體M3使用中間體M14，除此以外以與化合物SQ13的合成方法相同的方法進行。
化合物SQ41的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M+H]+：833.3,found：833.3
(合成例9)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ66。
Figure 105122875-A0305-02-0129-88
化合物SQ66的合成依據上述的方案，利用J.Phys.Chem.B、2002、106、4370-4376中記載的方法進行。
化合物SQ66的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M+H]+：496.3,found：497.2
(合成例10)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ93。
Figure 105122875-A0305-02-0130-89
中間體M0-0的合成依據上述方案，利用與J.Am.Chem.Soc.2010,132,7478-7487中記載的方法相同的方法進行。
中間體M0-1的合成依據上述方案，利用與國際公開WO2012/121936號公報中記載的方法相同的方法進行。
中間體M0-2依據上述的方案，並依據Tetrahedron Lett.1996,37,9207-9210中記載的方法合成。
中間體M0-3依據上述的方案，藉由利用Tetrahedron Lett.2008,49,6300-6303中記載的方法對中間體M0-2進行單磺醯胺基化來合成。
在正丁醇/甲苯(5.2cm3/16.0cm3)中，對中間體M0-3(4.6g、7.5mmol)與方酸(0.43g、3.7mmol)進行共沸脫水之同時，加熱回流12小時。冷卻反應液之後，減壓、蒸餾去除溶劑，藉由矽膠柱色譜法(顯影溶劑：氯仿)對殘渣進行提純。減壓、蒸餾去除氯仿之後，在甲醇中對固體進行超音波分散，並吸引過濾固體，藉此獲得了目標化合物(化合物SQ93)(綠色結晶、1.2g、收率24%)。
化合物SQ93的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M+H]+：1311.6,found：1311.7
(合成例11)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ95。
Figure 105122875-A0305-02-0131-90
中間體X1-a依據上述方案，作為原料使用二丁基胺基苯，除此以外以與Chem.Commun.1999、997-978相同的方法合成。
化合物SQ95中，代替中間體M3使用中間體X1-a，除此以 外以與化合物SQ13的合成方法相同的方法合成。
化合物SQ95的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M]-：756.4,found：756.4
(合成例12)
依據以下的合成方案合成了化合物SQ97。
Figure 105122875-A0305-02-0132-91
中間體X2-a的合成中，作為原料使用N,N-二丁基甲醯胺基，除此以外利用J.Mater.Chem.1998,8,833-835中記載的方法進行。
中間體X2-b的合成依據上述方案，利用Helvetica Chemica Acta 2004、87、1109-1118中記載的方法進行。
化合物SQ97的合成中，代替中間體M3使用中間體X2-b，除此以外以與化合物SQ13的合成方法相同的方法進行。
化合物SQ97的鑒定資料：MALDI TOF-MASS(飛行時間型質譜法)
Calc.for[M]-：770.3,found：770.3
<近紅外線吸收性硬化性組成物的製備>
(實施例1~21)
混合下述組成所示之原料來製備了近紅外線吸收性硬化性組成物。
<組成1>
表1所示之化合物：2.3份
樹脂1：12.9份
交聯性化合物1：12.9份
聚合起始劑1：2.5份
紫外線吸收劑1：0.5份
界面活性劑1：0.04份
聚合禁止劑(對甲氧基苯酚)：0.006份
環己酮：49.6份
丙二醇單甲基醚乙酸酯：19.3份
<組成2>
表1所示之化合物：2.3份
樹脂2：12.9份
交聯性化合物1：12.9份
聚合起始劑1：2.5份
紫外線吸收劑1：0.5份
界面活性劑1：0.04份
聚合禁止劑(對甲氧基苯酚)：0.006份
環己酮：49.6份
丙二醇單甲基醚乙酸酯：19.3份
<組成3>
表1所示之化合物：2.3份
樹脂3：12.9份
交聯性化合物2：12.9份
酸產生劑1：2.5份
紫外線吸收劑1：0.5份
界面活性劑1：0.04份
環己酮：49.6份
丙二醇單甲基醚乙酸酯：19.3份
<組成4>
表1所示之化合物：23份
交聯性化合物3(聚合物)：12.9份
酸觸媒(磷酸)：2.5份
紫外線吸收劑1：UV503(DAITO CHEMICAL CO.,LTD)：0.5份
界面活性劑1：下述混合物(Mw=14000)：0.04份
環己酮：58.9份
丙二醇單甲基醚乙酸酯：22.9份
<組成5>
表1所示之化合物：各取1.2份
樹脂2：12.8份
交聯性化合物1：12.9份
聚合起始劑1：2.5份
紫外線吸收劑1：0.5份
界面活性劑1：0.04份
聚合禁止劑(對甲氧基苯酚)：0.006份
環己酮：49.6份
丙二醇單甲基醚乙酸酯：19.3份
<組成6>
表1所示之化合物：2.3份
樹脂4：12.9份
交聯性化合物1：12.8份
聚合起始劑1：2.5份
紫外線吸收劑1：0.5份
界面活性劑1：0.04份
聚合禁止劑(對甲氧基苯酚)：0.006份
環己酮：49.6份
丙二醇單甲基醚乙酸酯：19.3份
(樹脂)
‧樹脂1：甲基丙烯酸芐酯(BzMA)、甲基丙烯酸酸(MAA)的共聚物(組成比(質量比)：(BzMA/MAA)=(80/20)、Mw=15,000)
‧樹脂2：甲基丙烯酸烯丙酯(AMA)、甲基丙烯酸酸(MAA)的共聚物(組成比(質量比)：(AMA/MAA)=(80/20)、Mw=15,000)
‧樹脂3：甲基丙烯酸縮水甘油酯(GlyMA)、甲基丙烯酸酸(MAA)的共聚物(組成比(質量比)：(GlyMA/MAA)=(80/20)、Mw=15,000)
‧樹脂4：ARTON F4520(JSR CORPORATION製)
(交聯性化合物)
交聯性化合物1：二季戊四醇六丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.,Ltd製、製品名KAYARAD DPHA)
交聯性化合物2：OXT-221(Toagosei Co.,Ltd.(株)製)
交聯性化合物3：下述構造(標記在重複單元之數值是莫耳比)
Figure 105122875-A0305-02-0136-92
(聚合起始劑)
聚合起始劑1：IRGACURE-OXE01(BASF公司製)〔2-(O- 苯甲醯基肟)-1-〔4-(苯硫基)苯基〕-1,2-辛二酮〕
(酸產生劑)
酸產生劑1：CPI-100P(San-Apro Ltd.製)
(紫外線吸收劑)
紫外線吸收劑1：UV503(DAITO CHEMICAL CO.,LTD)
(界面活性劑)
界面活性劑1：下述混合物(Mw=14000)
Figure 105122875-A0305-02-0137-93
實施例中使用之化合物如下。
【化學式70】
Figure 105122875-A0305-02-0138-96
<硬化膜的製造>
(製作例1)
(利用組成1~3、5、6的近紅外線吸收性硬化性組成物之硬化膜的製作方法)
以乾燥後的膜厚成為1.0μm之方式，在玻璃基板(Corning Inc.製1737)上利用旋轉塗佈機塗佈各組成物，利用100℃的加熱板進行120秒的加熱處理(預烘烤)。
接著，使用i射線步進曝光裝置FPA-3000i5+(Canon Inc.製)，以500mJ/cm2對整個面進行曝光。接著，利用顯影機(CD-2060、FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.製)，在23℃下進行60秒 的覆葉顯影，接著，用純水進行沖洗處理，接著進行旋轉乾燥。而且，利用200℃的加熱板進行300秒的加熱處理(後烘烤)，從而獲得了硬化膜(紅外線截止濾波器)。
(製作例2)
(利用組成4的近紅外線吸收性硬化性組成物之硬化膜的製作方法)
以乾燥後的膜厚成為1.0μm之方式，在玻璃基板(Corning Inc.製1737)上利用旋轉塗佈機塗佈組成4的組成物，利用100℃的加熱板進行120秒的加熱處理(預烘烤)。接著，利用200℃的加熱板進行300秒的加熱處理(後烘烤)，從而獲得了硬化膜(紅外線截止濾波器)。
<硬化膜的極大吸收波長(λmax)>
利用分光光度計UV-3100PC(SHIMADZU CORPORATION製)，測定所獲得之硬化膜的吸收譜，測定了硬化膜的極大吸收波長(λmax)。
<近紅外線遮蔽性評價>
利用分光光度計U -4100(Hitachi High-Technologies Corporation.製)測定了各硬化膜在波長700nm中的透射率。以以下基準評價了近紅外線遮蔽性。結果示於以下的表中。
A：波長700nm的透射率
Figure 105122875-A0305-02-0139-115
5%
B：5%<波長700nm的透射率
Figure 105122875-A0305-02-0139-116
7%
C：7%<波長700nm的透射率
Figure 105122875-A0305-02-0139-117
10%
D：10%<波長700nm的透射率
<可見透明性評價>
利用分光光度計U -4100(Hitachi High-Technologies Corporation.製)測定了各硬化膜在波長450~600nm中的透射率。以以下基準評價了可見透明性。結果示於以下的表中。
A：95%
Figure 105122875-A0305-02-0140-118
波長450~600nm的透射率的最小值
B：90%
Figure 105122875-A0305-02-0140-119
波長450~600nm的透射率額最小值<95%
C：80%
Figure 105122875-A0305-02-0140-120
波長450~600nm的透射率的最小值<90%
D：波長450~600nm的透射率的最小值<80%
<耐熱性>
對所獲得之硬化膜，在200℃下進行5分鐘加熱。利用色度計MCPD-1000(Otsuka Electronics Co.,Ltd.製)，測定了耐熱測試前後的色差的△Eab值。△Eab值越小越表示耐熱性良好。
另外，△Eab值是依據基於CIE1976(L*,a*,b*)空間表色系統之以下的色差公式求出之值(日本色彩學會編 新編色彩科學小冊子(昭和60年)p．266)。
△Eab={(△L*)2+(△a*)2+(△b*)2}1/2
<<判定基準>>
A：△Eab值<3
B：3
Figure 105122875-A0305-02-0140-121
△Eab值<5
C：5
Figure 105122875-A0305-02-0140-122
△Eab值<10
D：10
Figure 105122875-A0305-02-0140-123
△Eab值
<耐光性>
對所獲得之硬化膜，利用Xe燈通過紫外線截止濾波器照射10小時的1萬勒克斯的光。利用色度計MCPD-1000(Otsuka Electronics Co.,Ltd.製)測定了耐光測試前後的色差的△Eab值。
<<判定基準>>
A：△Eab值<3
B：3
Figure 105122875-A0305-02-0141-124
△Eab值<5
C：5
Figure 105122875-A0305-02-0141-125
△Eab值<10
D：10
Figure 105122875-A0305-02-0141-126
△Eab值
<耐溶劑性>
將各硬化膜在下述表所示之各溶劑(丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙酮、乙醇)中浸漬120秒之後，在100℃下乾燥2分鐘。將各效果膜浸漬於溶劑之前後中，將分光、膜厚及外觀上沒有變動者設為A，將分光、膜厚及外觀中的任一個上出現變化者設為B。
(比較例1~2)
混合下述組成11所示之原料來製備了近紅外線吸收性硬化性組成物。利用所獲得之近紅外線吸收性硬化性組成物，以與上述製作例1相同的方法獲得了硬化膜(紅外線截止濾波器)。利用所獲得之硬化膜，以與實施例相同的方法評價了近紅外線遮蔽性、可見透明性、耐熱性、耐光性及耐溶劑性。並且，測定了剛製造之後的硬化膜的極大吸收波長(λmax)。
<組成11>
表1所示之化合物：2.3份
樹脂2：12.9份
交聯性化合物1：12.9份
聚合起始劑1：2.5份
紫外線吸收劑1：0.5份
界面活性劑1：0.04份
聚合禁止劑(對-甲氧基苯酚)：0.006份
環己酮：49.6份
丙二醇單甲基醚乙酸酯：19.3份
(比較例3)
混合下述組成12所示之原料來製備了近紅外線吸收性硬化性組成物。利用所獲得之近紅外線吸收性硬化性組成物，以與上述製作例1相同的方法獲得了膜(紅外線截止濾波器)。利用所獲得之膜，以與實施例相同的方法評價了近紅外線遮蔽性、可見透明性、耐熱性、耐光性及耐溶劑性。並且，測定了剛製造之後的膜的極大吸收波長(λmaX)。
<組成12>
表1所示之化合物：2.3份
樹脂1：28.3份
紫外線吸收劑1：0.5份
界面活性劑1：0.04份
環己酮：49.6份
丙二醇單甲基醚乙酸酯：19.3份
Figure 105122875-A0305-02-0143-97
Figure 105122875-A0305-02-0144-98
如上述表所示，實施例的紅外遮蔽性及可見透明性優異，且耐熱性及耐光性優異。而且，耐溶劑性亦優異。
另一方面，比較例中，耐熱性及耐光性的至少一個比實施例差。而且，耐溶劑性較差。
Figure 105122875-A0305-02-0002-2

Claims (15)

  1. 一種固體攝像元件，其具有使用近紅外線吸收性硬化性組成物而成的硬化膜，所述近紅外線吸收性硬化性組成物包含以式(1)表示之化合物及具有交聯性基團之化合物；
    Figure 105122875-A0305-02-0146-99
     式(1)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團；
    Figure 105122875-A0305-02-0146-100
     式(2)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基，m1表示0~mA的整數，mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環。
  2. 一種近紅外線吸收性硬化性組成物，其包含以式(1)表示之化合物及具有交聯性基團之化合物；
    Figure 105122875-A0305-02-0147-102
     式(1)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團；
    Figure 105122875-A0305-02-0147-103
     式(2)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS以式(Y-2)表示，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基，m1表示0~mA的整數，mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環；-NH-T......(Y-2)T表示哈密特取代基常數σp值為0.3以上的基團，所述T是-SO2-Rx3，Rx3是取代基。
  3. 一種近紅外線吸收性硬化性組成物，其包含以式(1)表示之化合物及具有交聯性基團之化合物；
    Figure 105122875-A0305-02-0147-104
     式(1)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團；
    Figure 105122875-A0305-02-0148-105
     式(2)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基，m1表示0~mA的整數，mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環，所述A及所述B的至少一個以式(3-1-1)或式(3-1-2)表示；
    Figure 105122875-A0305-02-0148-106
     式(3-1-1)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，Ar1及Ar2分別獨立地表示芳基或雜芳基，RS11表示取代基，n11表示0~2的整數，Ar1及Ar2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環；式(3-1-2)中，波線表示式(1)中的鍵結位置，YS以式(Y-1)表示，R11表示烷基、芳基或雜芳基，R12表示伸烷基，L表示 鍵結R12與苯環而形成環之2價的連結基，RS12表示取代基，n12表示0~2的整數，R11可與YS所鍵結之苯環鍵結而形成環；-W-Z......(Y-1)W表示單鍵或2價的連結基，Z表示-NHCORx1、-NHCONRx1Rx2、-NHCOORx1、-NHSO2Rx1或-NHBRx1Rx2，Rx1及Rx2分別獨立地表示取代基，Rx1及Rx2可相互鍵結而形成環，亦可與YS所鍵結之芳香族烴環或芳香族雜環鍵結而形成環。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，所述X1及所述X2是O。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，所述A1是苯環、噻吩環、呋喃環、吡咯環、吡啶環、薁環或包含該些環之稠環。
  6. 如申請專利範圍第3項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，所述A1是苯環或萘環。
  7. 如申請專利範圍第3項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，所述A及所述B的至少一個以所述式(3-1-1)表示。
  8. 如申請專利範圍第3項至第7項中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其中，所述具有交聯性基團之化合物是選自具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物、具有環狀醚基之 化合物、具有烷氧基矽烷基之化合物及具有氯矽烷基之化合物之至少1種。
  9. 如申請專利範圍第3項至第7項中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物，其更包含選自多官能硫醇、醇、胺及羧酸之至少1種。
  10. 一種硬化膜，其使用如申請專利範圍第3項至第9項中任一項所述之近紅外線吸收性硬化性組成物而成。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之硬化膜，其中，所述硬化膜是紅外線截止濾波器。
  12. 一種固體攝像元件，其具有如申請專利範圍第10項所述之硬化膜。
  13. 一種紅外線吸收劑，其以式(1A)表示；
    Figure 105122875-A0305-02-0150-108
     式(1A)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團，且A及B的至少一個表示以式(10)表示之基團；
    Figure 105122875-A0305-02-0150-109
     式(2)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基，m1表示0~mA的整數，mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環；
    Figure 105122875-A0305-02-0151-110
     式(10)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，A2表示芳香族烴環或芳香族雜環，Ar11及Ar12分別獨立地表示芳基或雜芳基，RX10表示取代基，Ar11及Ar12可相互鍵結而形成環，亦可與A2鍵結而形成環。
  14. 一種化合物，其以式(1A)表示；
    Figure 105122875-A0305-02-0151-111
     式(1A)中，X1及X2分別獨立地表示O、S或二氰基亞甲基，A及B分別獨立地表示以式(2)表示之基團，且A及B的至少一個表示以式(10)表示之基團；
    Figure 105122875-A0305-02-0152-112
     式(2)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，YS表示具有活性氫之基團，A1表示芳香族烴環或芳香族雜環，RZ表示取代基，m1表示0~mA的整數，mA表示RZ能夠取代於A1的最大的整數，YS可與A1或RZ鍵結而形成環，RZ可與A1鍵結而形成環；
    Figure 105122875-A0305-02-0152-113
     式(10)中，波線表示式(1A)中的鍵結位置，A2表示芳香族烴環或芳香族雜環，Ar11及Ar12分別獨立地表示芳基或雜芳基，RX10表示取代基，Ar11及Ar12可相互鍵結而形成環，亦可與A2鍵結而形成環。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之化合物，其中，所述RX10是具有氟原子之基團。
TW105122875A 2015-09-09 2016-07-20 近紅外線吸收性硬化性組成物、硬化膜、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物 TWI694113B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015177692 2015-09-09
JP2015-177692 2015-09-09
JP2016-107394 2016-05-30
JP2016107394 2016-05-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201710408A TW201710408A (zh) 2017-03-16
TWI694113B true TWI694113B (zh) 2020-05-21

Family

ID=58239401

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW105122875A TWI694113B (zh) 2015-09-09 2016-07-20 近紅外線吸收性硬化性組成物、硬化膜、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20180163022A1 (zh)
JP (1) JP6689864B2 (zh)
CN (1) CN107924007B (zh)
TW (1) TWI694113B (zh)
WO (1) WO2017043175A1 (zh)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018207776A1 (ja) * 2017-05-08 2018-11-15 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置
JP6853363B2 (ja) * 2017-07-26 2021-03-31 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP7041159B2 (ja) * 2017-08-24 2022-03-23 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
KR20200120614A (ko) * 2018-02-15 2020-10-21 제이에스알 가부시끼가이샤 적외선 투과막용 조성물 및 커버 부재의 제조 방법
EP3761078A4 (en) * 2018-02-26 2021-11-10 Sumitomo Chemical Company Limited COMPOSITION OF GREEN COLORED RESIN
JP6964752B2 (ja) * 2018-02-28 2021-11-10 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び画像表示装置
JP7045456B2 (ja) * 2018-07-13 2022-03-31 富士フイルム株式会社 着色組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び画像表示装置
JPWO2020054627A1 (ja) * 2018-09-14 2021-09-02 コニカミノルタ株式会社 スクアリリウム化合物、発光性組成物及び発光性フィルム
TWI822853B (zh) * 2018-09-14 2023-11-21 日商富士軟片股份有限公司 近紅外線吸收性組成物、分散液之製造方法、膜、濾光器、圖案形成方法、積層體、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器
WO2020202773A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 赤外線吸収画像形成用インクジェットインク、赤外線吸収画像形成方法、及び画像形成方法
JP7535383B2 (ja) * 2019-04-26 2024-08-16 住友化学株式会社 カラーフィルタ及び表示装置
JP7392381B2 (ja) * 2019-10-17 2023-12-06 Ａｇｃ株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
JP7625975B2 (ja) 2021-06-02 2025-02-04 Ａｇｃ株式会社 二色性色素組成物、液晶素子、位相差板および偏光子
WO2024262339A1 (ja) * 2023-06-19 2024-12-26 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201316122A (zh) * 2011-09-30 2013-04-16 Fujifilm Corp 著色感光性組成物、彩色濾光片及其製造方法以及液晶顯示裝置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2001282593A1 (en) * 2000-09-04 2002-03-22 Mitsubishi Chemical Corporation Diphenylsquarylium compound and display filter containing the same
JP2006241459A (ja) * 2002-06-10 2006-09-14 Mitsubishi Chemicals Corp 電子ディスプレイ用フィルター及び該フィルターを用いた電子ディスプレイ装置
US8394435B2 (en) * 2004-02-11 2013-03-12 Novozymes A/S Preparation of dough-based product
JP2008145480A (ja) * 2006-12-06 2008-06-26 Konica Minolta Holdings Inc 光学フィルター用組成物、光学フィルター及びディスプレイ用前面フィルター
JP5810604B2 (ja) * 2010-05-26 2015-11-11 Jsr株式会社 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置
JP2012077153A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Fujifilm Corp 着色組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示装置
US9052458B2 (en) * 2011-03-17 2015-06-09 Fujifilm Corporation Radiation-sensitive colored composition, colored cured film, color filter and method of producing the same, solid-state imaging device, liquid crystal display apparatus, and method of producing dye
KR101878013B1 (ko) * 2011-06-06 2018-08-09 에이지씨 가부시키가이샤 광학 필터, 고체 촬상 소자, 촬상 장치용 렌즈 및 촬상 장치
WO2013038938A1 (ja) * 2011-09-15 2013-03-21 Jsr株式会社 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置
US9090776B2 (en) * 2012-09-04 2015-07-28 Exciton, Inc. Squarylium dyes
JP6674733B2 (ja) * 2013-09-26 2020-04-01 東友ファインケム株式会社Ｄｏｎｇｗｏｏ Ｆｉｎｅ−Ｃｈｅｍ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． 化合物
JP6334262B2 (ja) * 2014-05-27 2018-05-30 三菱電機株式会社 空気調和機
JP2016027400A (ja) * 2014-07-04 2016-02-18 株式会社日本触媒 積層用樹脂組成物及びその用途

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201316122A (zh) * 2011-09-30 2013-04-16 Fujifilm Corp 著色感光性組成物、彩色濾光片及其製造方法以及液晶顯示裝置

Also Published As

Publication number Publication date
CN107924007B (zh) 2021-05-14
JP6689864B2 (ja) 2020-04-28
CN107924007A (zh) 2018-04-17
TW201710408A (zh) 2017-03-16
JPWO2017043175A1 (ja) 2018-07-05
WO2017043175A1 (ja) 2017-03-16
US20180163022A1 (en) 2018-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI694113B (zh) 近紅外線吸收性硬化性組成物、硬化膜、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物
TWI741010B (zh) 組成物、膜、近紅外線截止濾波器、圖案形成方法、積層體、固體攝像元件、圖像顯示裝置、照相機模組及紅外線感測器
TWI681015B (zh) 紅外線吸收性組成物、紅外線截止濾波器、積層體、圖案形成方法及固體攝像元件
TWI687489B (zh) 近紅外線吸收性色素多聚體、組成物、膜、光學濾波器、圖案形成方法及裝置
US11708479B2 (en) Resin composition, film, near infrared cut filter, infrared transmitting filter, solid image pickup element, image display device, infrared sensor, and camera module
CN108291989B (zh) 近红外线吸收性组合物、膜、红外线截止滤波器、固体摄像元件、红外线吸收剂及化合物
TWI746450B (zh) 材料、組成物、硬化性組成物、硬化膜、光學濾波器、固體攝像元件、紅外線感測器、照相機模組及材料的製造方法
TW201635026A (zh) 著色感光性組成物、硬化膜、圖案形成方法、帶遮光膜的紅外線截止濾光片、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外感測器
TWI682973B (zh) 硬化性組成物、硬化性組成物的製造方法、膜、紅外截止濾波器、紅外透射濾波器、圖案形成方法及裝置
US11945887B2 (en) Curable composition, film, near-infrared cut filter, solid-state imaging element, image display device, infrared sensor, and camera module
TWI859132B (zh) 硬化性組成物、近紅外線吸收劑、膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器
TWI740063B (zh) 著色組成物、硬化膜、圖案形成方法、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置
JP6745329B2 (ja) 感放射線性組成物、光学フィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
TW201741319A (zh) 組成物、硬化性組成物、硬化膜、近紅外線截止濾波器、紅外線透過濾波器、固體攝像元件、紅外線感測器及照相機模組
JP7113907B2 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、光学フィルタの製造方法、カメラモジュール、化合物、及び、分散組成物
TW201843242A (zh) 樹脂組成物、膜、紅外線截止濾波器及其製造方法、固體攝像元件、紅外線感測器以及照相機模組
US11169439B2 (en) Coloring composition and method for producing film
JP2018146630A (ja) カラーフィルタの下地膜用組成物、積層体、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
WO2019065456A1 (ja) 硬化性組成物、硬化膜、固体撮像装置、及び、硬化膜の製造方法