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TWI431036B - 光敏性樹脂組成物及使用該組成物之遮光層 - Google Patents

光敏性樹脂組成物及使用該組成物之遮光層 Download PDF

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TWI431036B
TWI431036B TW099146889A TW99146889A TWI431036B TW I431036 B TWI431036 B TW I431036B TW 099146889 A TW099146889 A TW 099146889A TW 99146889 A TW99146889 A TW 99146889A TW I431036 B TWI431036 B TW I431036B
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photosensitive resin
meth
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acrylate
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Chang-Min Lee
Kil-Sung Lee
Jun-Seok Kim
Jung-Sik Choi
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Cheil Ind Inc
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Description

光敏性樹脂組成物及使用該組成物之遮光層 發明領域
本揭示係有關於一種光敏性樹脂組成物以及使用該組成物的遮光層。
 發明背景
一液晶顯示裝置包括一個下基材，其含有一遮光層、一濾色片，及一ITO像素電極；一有效電路部件，包括一液晶層、一薄膜電晶體，及一電容器層；以及包括一ITO像素電極之一個上基材。
遮光層阻隔了未經控制的光傳輸離開一基材的一透明像素電極以及因而預防對比降低，由於(lighted)傳輸經過一薄膜電晶體。紅色、綠色及藍色的遮光層傳輸具一預定的波長的白光之光以及顯示色彩。
遮光層一般係藉由色素分散法來製造。色素分散法包括用一含著色劑光可聚合性組成物來塗覆一透明基材，曝光以藉由熱固化來提供一圖案，以及用一溶劑移除未曝光的部分。
然而，當作為一黏結劑樹脂時，一種光敏性聚醯亞胺或酚為主之樹脂係使用於色素分散法中，可以獲得高的抗熱性但是敏感性降低以及需要一有機溶劑作為一顯影溶劑。使用一疊氮化物化合物之光阻劑具有低的敏感性與抗熱性以及可以受曝光的期間之氧的影響。
並且，一丙烯醯基為主之樹脂具有良好的抗熱性、抗收縮性、耐化學性，及類似物，但是具有降低的敏感性、顯影性質，以及緊密的接觸性質。因包括大量的黑色色素俾以調整一遮光層的光學密度，敏感性、顯影性質，及緊密的接觸性質可能會明顯地劣化。
 發明概要
本發明的一態樣提供了一種光敏性樹脂組成物，其具有優良的敏感性、顯影性質、緊密的接觸性質、抗熱性、抗收縮性、耐化學性，以及推拔的性質。
本發明的另一態樣提供了使用該光敏性樹脂組成物來製造的一遮光層。
根據本發明的一態樣，提供了一種光敏性樹脂組成物，其包括(A)一咔哚為主之(cardo-based)樹脂，其包括由下列的化學式1與2表示的重覆單元；(B)一反應性不飽和化合物；(C)一色素；(D)一起始劑；及(E)一溶劑。
於化學式1和2中，R3 、R4 、R13 ，及R14 為相同或不同的，以及為氫、鹵素，或經取代或未經取代的C1至C20烷基，R1 與R2 為相同或不同的，以及為氫或經取代或未經取代的(甲基)丙烯酸酯，R11 與R12 為經取代或未經取代的(甲基)丙烯酸酯，R5 為含有一乙烯屬雙鍵之取代基，Z1 與Z11 為相同或不同的，以及為一單鍵、O、CO、SO2 、CR6 R7 、SiR8 R9 (其中，R6 至R9 為相同或不同的，以及為氫，或經取代或未經取代的C1至C20烷基)，或是為由下列化學式3-1至3-11表示的連接基團之至少一者，Z2 與Z12 為相同或不同的，以及為酸酐殘餘基團或酸二酐殘餘基團，m1 、m2 、m11 ，及m12 獨立地為範圍由0至4的整數，以及n1 與n11 獨立地範圍由1至30。
於化學式3-5中，Ra 為氫、乙基、C2 H4 Cl、C2 H4 OH、CH2 CH=CH2 ，或苯基。
於化學式2中，R5 為由下列化學式4-1或4-2表示的一取代基。
於化學式4-1中，Q為氫，及經取代或未經取代的C1至C20烷基。
於化學式4-2中，X1 至X5 為相同或不同的，以及為氫、鹵素、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C6至C30芳基、經取代或未經取代的胺基，或經取代或未經取代的C1至C20烷氧基，以及i為範圍由0至5的整數。
由化學式1表示的重覆單元之n1 及由化學式2表示的重覆單元之n11 可以以大約1：99至99：1的莫耳比存在。
該咔哚為主之樹脂可以具有大約500至50,000 g/mol的重量平均分子量。
該咔哚為主之樹脂可以包括由下列化學式5表示的一末端基於二個末端端的至少一者。
於化學式5中，Z3 為由下列化學式6-1至6-7表示的連接基團之至少一者。
於化學式6-1中，Rb 與Rc 為相同或不同的，以及為氫、經取代或未經取代的C1至C20烷基、酯基，或醚基。
於化學式6-5中，Rd 為O、S、NH、經取代或未經取代的C1至C20烷基、C1至C20烷基胺基，或是C2至C20丙烯胺基。
該光敏性樹脂組成物可以包括1至30 wt%的該咔哚為主之樹脂(A)；1至40wt%的該反應性不飽和化合物(B)；1至30wt%的該色素(C)；0.01至10wt%的該起始劑(D)；以及差額的該溶劑(E)。
該光敏性樹脂組成物可以進一步包括一丙烯醯基為主之樹脂，以及該丙烯醯基為主之樹脂可以包括第一乙烯屬不飽和單體與第二乙烯屬不飽和單體之一共聚物：該第一乙烯屬不飽和單體為甲基丙烯酸、馬來酸、衣康酸、反丁烯二酸，或其等之組合的第一乙烯屬不飽和單體；以及該第二乙烯屬不飽和單體為苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄基甲基醚、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基丁酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸2-胺基乙酯、甲基丙烯酸2-二甲基胺基乙酯、乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯腈、甲基丙烯醯胺，或其等之組合的第二乙烯屬不飽和單體。
該丙烯醯基為主之樹脂可以具有大約3,000至40,000 g/mol的重量平均分子量。
該咔哚為主之樹脂和丙烯醯基為主之樹脂可以以99：1至30：70的重量比被包括。
該起始劑可以包括一種光聚合化起始劑、一種自由基聚合化起始劑，或其等之一組合。
該光敏性樹脂組成物可以以該光敏性樹脂組成物的100份重量計為基準包括0.01至20份以重量計的環氧化合物。
根據本發明的另一態樣，提供了使用該光敏性樹脂組成物來製造的一遮光層。
下文中，其他的具體例將詳盡地予以說明。
該光敏性樹脂組成物具有優良的敏感性、顯影性質、緊密的接觸性質、抗熱性、抗收縮性、耐化學性，以及推拔的性質以及通常可以實施至一遮光層，及類似物。
圖式簡單說明
第1圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據實施例1的光敏性樹脂組成物的殘餘物；第2圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例4的光敏性樹脂組成物的殘餘物；第3圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例1的光敏性樹脂組成物的殘餘物；第4圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據實施例1的光敏性樹脂組成物的圖案形成性質；第5圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例1的光敏性樹脂組成物的圖案形成性質；第6圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例2的光敏性樹脂組成物的圖案形成性質；第7圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據實施例2的光敏性樹脂組成物的圖案尺寸；第8圖為一光學顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例2的光敏性樹脂組成物的圖案尺寸；第9圖為一光學顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例4的光敏性樹脂組成物的圖案尺寸。
 較佳實施例之詳細說明
在下文中將詳細地說明本揭示之例示性具體例。然而，此等具體例僅供舉例說明之用而不會限制本揭示。
當使用於本文中，當未提供特定定義時，「經取代的」一詞係指用以下的至少一者，代替至少一個氫：鹵素(F、Cl、Br，或I)、羥基、C1至C20烷氧基、硝基、氰基、胺基、亞胺基、疊氮基、甲脒基、肼基、亞肼基、羰基、胺甲醯基、硫醇基、酯基、醚基、羧基或其鹽類、磺酸基或其鹽類、磷酸基或其鹽類、C1至C20烷基、C2至C20烯基、C2至C20炔基、C6至C30芳基、C3至C20環烷基、C3至C20環烯基、C3至C20環炔基、C2至C20雜環烷基、C2至C20雜環烯基、C2至C20雜環炔基、C3至C30雜芳基，或其等之一組合。
當使用於本文中，當未提供特定定義時，「雜」一詞可指包括選自於N、O、S，及P的至少一雜原子於一環系基團中的一者。
當使用於本文中，當未提供特定定義時，「(甲基)丙烯酸酯((meth)acrylate)」係指「丙烯酸酯」與「甲基丙烯酸酯」二者，以及「(甲基)丙烯酸((meth)acrylic acid)」係指「丙烯酸」與「甲基丙烯酸(methacrylic acid)」。
依據一具體例之光敏性樹脂組成物包括(A)一咔哚為主之樹脂、(B)一反應性不飽和化合物、(C)一色素、(D)一起始劑，及(E)一溶劑。
在下文中，詳細地說明各組份。
(A)　咔哚為主之樹脂
該咔哚為主之樹脂包括由下列的化學式1與2表示的重覆單元。
於化學式1和2中，R3 、R4 、R13 及R14 為相同或不同的，以及為氫、鹵素，或經取代或未經取代的C1至C20烷基，R1 與R2 為相同或不同的，氫，或經取代或未經取代的(甲基)丙烯酸酯，各R11 與R12 為經取代或未經取代的(甲基)丙烯酸酯，R5 為含有一乙烯屬雙鍵之取代基，Z1 與Z11 為相同或不同的，以及一單鍵、O、CO、SO2 、CR6 R7 、SiR8 R9 (其中，R6 至R9 為相同或不同的，氫，或經取代或未經取代的C1至C20烷基)，或是為由下列化學式3-1至3-11表示的連接基團之至少一者，Z2 與Z12 為相同或不同的，酸酐殘餘基團或酸二酐殘餘基團，m1 、m2 、m11 ，及m12 獨立地為範圍由0至4的整數，以及n1 與n11 獨立地範圍由1至30。
於化學式3-5中，Ra 為氫、乙基、C2 H4 Cl、C2 H4 OH、CH2 CH=CH2 ，或苯基。
由以上的化學式2表示的重覆單元包括於R11 與R12 位置處之(甲基)丙烯酸酯以及還有於R5 位置處之一乙烯屬雙鍵。既然該咔哚為主之樹脂包括於3個R11 、R12 ，和R5 位置處之雙鍵，可以實現優良的相容性、顯影性質、敏感性、緊密的接觸性質，和機械強度，以及當其被應用至一種光敏性樹脂組成物時，由於優良的抗熱性與耐光性，於高溫下工作可為可能的。
於以上的化學式2中的R5 可以為由下列化學式4-1或4-2表示的取代基，但不限於彼等。
於化學式4-1中，Q為氫、經取代或未經取代的C1至C20烷基。
於化學式4-2中，X1 至X5 為相同或不同的，氫、鹵素、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C6至C30芳基、經取代或未經取代的胺基，或經取代或未經取代的C1至C20烷氧基，以及i為範圍由0至5的整數。
由化學式1表示的重覆單元之n1 及由化學式2表示的重覆單元之n11 可以以大約1：99至99：1的莫耳比存在，以及特別地30：70至70：30。當n1 與n11 以大約1：99至99：1的莫耳比存在時，顯影性質，和固化時之敏感性為優良的，導致精細的圖案形成性質之實現。
該咔哚為主之樹脂可以包括由下列化學式5表示的一末端基於二個末端端的至少一者。
於化學式5中，Z3 為由下列化學式6-1至6-7表示的連接基團之至少一者。
於化學式6-1中，Rb 與Rc 為相同或不同的，氫、經取代或未經取代的C1至C20烷基、酯基，或醚基。
於化學式6-5中，Rd 為O、S、NH、經取代或未經取代的C1至C20烷基、C1至C20烷基胺基，或C2至C20丙烯胺基。
該咔哚為主之樹脂之實例可以包括以下之二或更多者：含氟的化合物，例如9,9'-雙(4-環氧乙基甲氧基苯基)氟，及類似物；酐化合物，例如：苯四甲酸二酐、萘四甲酸二酐、聯苯四甲酸二酐、二苯甲酮四甲酸二酐、焦蜜石酸二酐、環丁四甲酸二酐、苝四甲酸二酐、四氫呋喃四甲酸二酐、四氫鄰苯二甲酐(tetrahydrophthacid anhydride)，及類似物；乙二醇(glycol)化合物，例如：乙二醇(ethyleneglycol)、丙二醇、聚乙二醇，及類似物；一醇化合物，例如：甲醇、乙醇、丙醇、正丁醇、環己醇、苯甲醇，及類似物；一溶劑化合物，例如：丙二醇甲乙醋酸酯、N-甲基吡咯啶酮，及類似物；一磷化合物，例如三苯膦，及類似物；一胺或銨鹽化合物，氯化四甲銨、溴化四乙銨、苄基二乙胺、三乙胺、三丁胺、苄基三乙基氯化銨，及類似物。
該咔哚為主之樹脂可以具有500至50,000g/mol的重量平均分子量，以及特別地1,000至30,000g/mol的重量平均分子量。當該咔哚為主之樹脂具有於此範圍內的重量平均分子量時，在一遮光層的製造期間，一圖案被形成而無殘餘物，以及在顯影期間沒有損失一膜厚度，導致一良好的圖案。
該咔哚為主之樹脂可以以該光敏性樹脂組成物的總重量為基準，以1至30wt%，以及特別地3至20wt%的一量被包括。當包括此範圍內的該咔哚為主之樹脂時，優良的敏感性、顯影性質，和緊密的接觸性質可以被實現。
該光敏性樹脂組成物可以除該咔哚為主之樹脂之外進一步包括一丙烯醯基為主之樹脂。
該丙烯醯基為主之樹脂為一第一乙烯屬不飽和單體以及可與該第一乙烯屬不飽和單體共聚合的一第二乙烯屬不飽和單體之一種共聚物，以及包括至少一丙烯醯基為主之重覆單元的一樹脂。
該第一乙烯屬不飽和單體為包括至少一羧基之一乙烯屬不飽和單體。該單體之實例包括丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸、衣康酸、反丁烯二酸，或其等之組合。
該第一乙烯屬不飽和單體以該丙烯醯基為主之樹脂的總量為基準，可以包括範圍由5至50wt%，以及特別地，由10至40wt%的一量。
該第二乙烯屬不飽和單體之實例可以包括：芳香族乙烯基化合物，例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄基甲基醚，及類似物；不飽和羧酸酯化合物，例如：甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基丁酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸環己酯，甲基丙烯酸苯酯，及類似物；不飽和羧酸胺基烷基酯化合物，例如：甲基丙烯酸2-胺基乙酯、甲基丙烯酸2-二甲基胺基乙酯，及類似物；羧酸乙烯基酯化合物，例如：乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯，及類似物；不飽和羧酸縮水甘油酯化合物，例如甲基丙烯酸縮水甘油酯，及類似物；乙烯基氰化物化合物，例如甲基丙烯腈及類似物；不飽和醯胺化合物，例如甲基丙烯醯胺及類似物；以及類似物。其等可以單一地或如多於二個之混合物來使用。
該丙烯醯基為主之樹脂之實例可以包括甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物，及類似物，但不限於彼等。其等可以單一地或是如二個或更多個之混合物來使用。
該丙烯醯基為主之樹脂可以具有範圍從3,000至150,000g/mol的重量平均分子量，特別地3,000至40,000g/mol的重量平均分子量，以及更特別地5,000至30,000g/mol的重量平均分子量。當該丙烯醯基為主之樹脂具有於此範圍內的重量平均分子量時，該光敏性樹脂組成物具有良好的物理性質與化學性質、適當的黏度，以及與一基材之緊密的接觸性質，當被應用至一遮光層時。
該丙烯醯基為主之樹脂可以具有範圍從20至200 mgKOH/g的酸價，以及特別地50至150 mgKOH/g的酸價。當丙烯醯基為主之樹脂具有於此範圍內的酸價時，可以實現優異的像素解析度。
當該丙烯醯基為主之樹脂被包括於該光敏性樹脂組成物之內時，該咔哚為主之樹脂和該丙烯醯基為主之樹脂可以99：1至1：99的重量比存在，以及特別地95：5至50：50的重量比存在。當該咔哚為主之樹脂和丙烯醯基為主之樹脂係以該重量比被包括時，優良的顯影性質與敏感性係被實現以及可以獲得具有優良的圖案形成能力之遮光層圖案而抑制底切產生。
(B)　反應性不飽和化合物
該反應性不飽和化合物可以是一種光敏性樹脂組成物中之一普遍使用的單體或寡聚物。其可以為包括至少一乙烯屬不飽和雙鍵之單官能或多官能性甲基丙烯酸酯。
該反應性不飽和化合物在曝光時於圖案形成製程期間，由於乙烯屬不飽和雙鍵，引起了充分的光聚合化作用以形成具有優良的抗熱性、耐光性，及耐化學性之圖案。
該反應性不飽和化合物之實例可以包括二丙烯酸乙二醇酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二丙烯酸二乙二醇酯、二丙烯酸三乙二醇酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、雙酚A環氧丙烯酸酯、乙二醇甲醚丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三丙烯醯基氧乙基磷酸酯，及類似物。
該反應性不飽和化合物之商業上可得的實例係如下列。單官能性甲基丙烯酸酯可以包括Aronix M-、M-、M-(TOAGOSEI CHEMICAL INDUSTRY CO.，LTD.)；KAYARAD TC-、TC-(NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)；V-、V-(OSAKA ORGANIC CHEMICAL IND.，LTD.)，及類似物。雙官能性甲基丙烯酸酯之實例可以包括Aronix M-、M-、M-(TOAGOSEI CHEMICAL INDUSTRY CO.，LTD.)、KAYARAD、HX-、R-(NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)、V-、V-、V-335(OSAKA ORGANIC CHEMICAL IND.，LTD.)，及類似物。三官能性甲基丙烯酸酯之實例可以包括Aronix M-、M-、M-、M-、M-、M-、M-(TOAGOSEI CHEMICAL INDUSTRY CO.，LTD.)、KAYARAD、DPCA-、DPCA-、DPCA-、DPCA-(NIPPON KAYAKU CO.，LTD.)、V-、V-、V-、V-、V-、V-(Osaka Yuki Kayaku Kogyo Co. Ltd.)，及類似物。該反應性不飽和化合物可以單一地或是如二個或更多個之混合物來使用。
該反應性不飽和化合物可以用酸酐予以處理以改善顯影性質。
該反應性不飽和化合物以該光敏性樹脂組成物的總量為基準，可以以範圍由1至40wt%，以及特別地1至20wt%的一量被包括。當包括此範圍內的反應未飽和化合物時，固化在曝光時於圖案形成製程期間被充分地執行，以及可以實現可靠性、抗熱性、耐光性，和耐化學性、解析度以及圖案之緊密的接觸性質。
(C)　色素
色素可以為一有機色素或一無機色素。
色素可以包括一紅色色素、一綠色色素、一藍色色素、一黃色色素、一黑色色素，及類似物。
紅色色素之實例包括C.I.紅色色素254、C.I.紅色色素255、C.I.紅色色素264、C.I.紅色色素270、C.I.紅色色素272、C.I.紅色色素177、C.I.紅色色素89，及類似物。綠色色素之實例包括一鹵素取代的銅酞藍色素，例如：C.I.綠色色素36、C.I.綠色色素7，及類似物。藍色色素之實例包括一銅酞藍色素，例如：C.I.藍色色素15：6、C.I.藍色色素15、C.I.藍色色素15：1、C.I.藍色色素15：2、C.I.藍色色素15：3、C.I.藍色色素15：4、C.I.藍色色素15：5、C.I.藍色色素16，及類似物。黃色色素之實例包括一異吲哚啉色素，例如C.I.黃色色素139，及類似物，一喹啉黃色素，例如C.I.黃色色素138，及類似物，一鎳錯合物色素，例如C.I.黃色色素150，及類似物。黑色色素之實例包括苯胺黑、苝黑(perylene black)、鈦黑(titanium black)、碳黑，及類似物。色素可以單一地或是如二個或更多個之混合物來使用以及不限於以上說明的色素。
在其等之中，為了有效地執行一光阻隔層的光阻隔，可以包括黑色色素。當使用黑色色素時，亦可以使用一顏色校正劑，例如蒽醌為主的色素、苝為主的色素、酞花青為主的色素、偶氮為主的色素，及類似物。
該光敏性樹脂組成物可以進一步包括一分散劑俾以改善色素的分散。
特別地，色素可以用一分散劑來表面預處理，或是色素與分散劑可以在該光敏性樹脂組成物的製備期間一起添加。
該分散劑可以包括非離子性分散劑、陰離子性分散劑、陽離子性分散劑，及類似物。分散劑之實例包括聚亞烷基二醇及其之酯、聚氧化烯(polyoxyalkylene)、多羥基醇酯環氧烷加合產物、醇環氧烷加合產物、磺酸酯類、磺酸鹽、羧酸酯類、羧酸鹽、烷基醯胺環氧烷加合產物、烷基胺，及類似物，但不限於彼等。分散劑可以單一地或是如二個或更多個之混合物來使用。
該分散劑之商業上可得的實例係如下列：DISPERBYK-101、DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-160、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、DISPERBYK-166、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-182、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001，及類似物(BYK)；EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-100、EFKA-400、EFKA-450，及類似物(EFKA chemicals)；Solsperse 5000、Solsperse 12000、Solsperse 13240、Solsperse 13940、Solsperse 17000、Solsperse 20000、Solsperse 24000GR、Solsperse 27000、Solsperse 28000，及類似物(Zeneka)；或是PB711、PB821，及類似物(Ajinomoto)。
該分散劑可以以該光敏性樹脂組成物的總量為基準，以0.1至15wt%的一量被包括。當包括以上範圍內的分散劑時，該光敏性樹脂組成物的分散係被改善，導致在一遮光層的製造期間之優良的安定性、顯影性質，及圖案化性質。
色素可選擇性地以水溶性無機鹽與濕潤劑予以預處理。當預處理色素時，其可具有更細緻的基本顆粒尺寸。
此預處理製程包括以水溶性無機鹽與濕潤劑揑揉色素以及另外的過濾並清洗所得色素。
揑揉可於40至100℃執行。過濾並清洗製程係藉由使用水及類似物來清洗而執行。
水溶性無機鹽包括氯化鈉、氯化鉀，或類似物，但不限於彼等。濕潤劑容許色素均勻地和無機鹽混合並磨碎。濕潤劑之實例包括烷二醇單烷醚，例如：乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、二乙二醇單甲醚，及類似物；醇，例如：乙醇、異丙醇、丁醇、己醇、環己醇、乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、甘油聚乙二醇，及類似物。此等可以單一地或是如二個或更多個之混合物來使用。
經揑揉的色素具有範圍由30至100nm之平均顆粒直徑。當色素具有在以上範圍內之平均顆粒直徑時，精細圖案可以有效地形成而具有優良的抗熱性與耐光性。
色素可以以該光敏性樹脂組成物的總量為基準，以1至30 wt%的一量被包括，以及特別地2至20 wt%的一量被包括。當包括以上範圍內的色素時，色彩再現性、固化能力，以及圖案之緊密的接觸性質為優良的。
(D)　起始劑
該起始劑可以包括一種光聚合化起始劑、一種自由基聚合化起始劑，或其等之一組合。
該光聚合化起始劑可以為於一種光敏性樹脂組成物中普遍使用的起始劑，舉例而言：苯乙酮為主的化合物、二苯基酮為主的化合物、噻酮(thioxanthone)為主的化合物、安息香(benzoin)為主的化合物、三為主的化合物，及類似物。
該苯乙酮為主的化合物包括2,2’-二乙氧基苯乙酮、2,2’-二丁氧基苯乙銅、2-羥基-2-甲基苯丙酮(methylpropinophenone)、對-第三-丁基三氯苯乙酮、對-第三-丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2’-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-嗎福啉丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎福啉苯基)-丁-1-酮，及類似物。
該二苯基酮為主的化合物包括二苯基酮、苯甲醯基苯甲酸酯、苯甲醯基苯甲酸甲酯(benzoyl methyl benzoate)、4-苯基二苯基酮、羥基二苯基酮、丙烯酸化二苯基酮(acrylated benzophenone)、4,4’-雙(二甲基胺基)二苯基酮、4,4’-雙(二乙基胺基)二苯基酮、4,4’-二甲基胺基二苯基酮、4,4’-二氯二苯基酮、3,3’-二甲基-2-甲氧基二苯基酮，及類似物。
該噻酮為主的化合物包括噻酮、2-甲基噻酮、異丙基噻酮、2,4-二乙基噻酮、2,4-二異丙基噻酮、2-氯噻酮，及類似物。
該安息香為主的化合物包括安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、安息香二甲基縮醛(benzyldimethylketal)，及類似物。
該三為主的化合物包括2,4,6-三氯-s-三、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(3’,4’-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(4,-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(對-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(對-甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-聯苯基4,6-雙(三氯甲基)-s-三、雙(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三、2-(萘-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(4-甲氧基萘-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-4-三氯甲基(向日葵基)-6-三、2-4-三氯甲基(4’-甲氧基苯乙烯基)-6-三，及類似物。
該聚合化起始劑可以進一步包括咔唑為主的化合物、二酮為主的化合物、硼酸鋶為主的化合物、重氮為主的化合物、雙咪唑為主的化合物，及類似物。
該自由基聚合化起始劑可以包括一過氧化物為主之化合物、一偶氮雙為主(azobis-based)之化合物，及類似物。
該過氧化物為主之化合物之實例包括過氧化酮，舉例而言：過氧化甲乙酮、過氧化環己酮、過氧化甲基環己酮、過氧化乙醯丙酮，及類似物；二醯基過氧化物，舉例而言：過氧化異丁醯基、2,4-二氯苯甲醯過氧化物、鄰甲基苯甲醯過氧化物、雙-3,5,5-三甲基己醯基過氧化物，及類似物；氫過氧化物，舉例而言：2,4,4,-三甲基戊基-2-氫過氧化物、二異丙基苯氫過氧化物、氫過氧化異丙苯、三級丁基氫過氧化物，及類似物；二烷基過氧化物，舉例而言：雙異苯丙基過氧化物、2,5-二甲基-2,5-二(三級丁基氫過氧)己烷、1,3-雙(三級丁氧基異丙基)苯、三級丁基氫過氧戊酸正丁酯，及類似物；烷基過氧化酯，舉例而言：2,4,4-三甲基戊基過氧苯氧乙酸酯、α-異丙苯基過氧新癸酸酯、三級丁基過氧苯甲酸酯、二-三級丁基過氧三甲基己二酸酯，及類似物；過碳酸酯，舉例而言：二-3-甲氧基丁基過氧二碳酸酯、二-2-乙基己基過氧二碳酸酯、雙-4-三級丁基環己基過氧二碳酸酯、二異丙基過氧二碳酸酯、乙醯環己基磺醯基過氧化物、三級丁基過氧化乙醯基碳酸酯，及類似物。
該偶氮雙為主之化合物之實例包括1,1'-偶氮雙環己烷-1-甲腈、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2-偶氮雙(2,4-甲基異丁酸酯)、2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、α,α'-偶氮雙(異丁腈)及、4,4'-偶氮雙(4-氰戊酸)，及類似物。
因該起始劑吸收光且予以激化以及繼而傳遞能量，其可與一光敏劑來使用以產生一化學反應。
該光敏劑之實例包括四甘醇雙-3-巰基丙酸酯、新戊四醇肆-3-巰基丙酸酯、二新戊四醇肆-3-巰基丙酸酯，及類似物。
該起始劑可以以該光敏性樹脂組成物的總量為基準，以0.01wt%至10wt%的一量被包括，以及特別地0.1至5wt%的一量被包括。當包括此範圍內的起始劑時，於圖案形成製程期間在曝光時執行了充分的固化以獲得優良的可靠性、抗熱性、耐光性，及耐化學性、解析度以及緊密的接觸性質而不使透射率劣化，由於非反應性起始劑。
(E)　溶劑
溶劑具有與該咔哚為主之樹脂、反應性不飽和化合物、色素，以及起始劑之相容性，但是與之不具有一反應。
溶劑之實例可以包括醇，例如甲醇、乙醇，及類似物；醚，例如：二氯乙醚、n-丁醚、二異戊醚、甲基苯基醚、四氫呋喃，及類似物；二醇醚，例如：乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚，及類似物；乙酸賽璐蘇，例如：乙酸甲賽璐蘇、乙酸乙賽璐蘇、乙酸二乙賽璐蘇，及類似物；卡必醇，例如：甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇乙醚等等；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如：丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯，及類似物；芳烴，例如甲苯、二甲苯，及類似物；酮，例如：甲乙酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基-n-丙酮、甲基-n-丁酮、甲基-n-戊酮、2-庚酮，及類似物；飽和脂族單羧酸烷基酯，例如：乙酸乙酯、n-丁基乙酸酯、異丁基乙酸酯，及類似物；乳酸酯，例如：乳酸甲酯、乳酸乙酯，及類似物；烷基氧基乙酸酯，例如：甲基氧基乙酸酯、乙基氧基乙酸酯、丁基氧基乙酸酯，及類似物；烷基烷氧基乙酸酯，例如：甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯，及類似物；3-氧基丙酸烷基酯(3-oxy propionate alkylesters)，例如3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯，及類似物；3-烷氧基丙酸烷基酯，例如：3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯，及類似物；2-氧基丙酸烷基酯，例如：2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙基(2-oxy propionic acid propyl)，及類似物；2-烷氧基丙酸烷基酯，例如：2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯，及類似物；2-氧基-2-甲基丙酸酯，例如：2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯，及類似物；2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基的單氧基單羧酸烷基酯，例如：2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯，及類似物；酯，例如：2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯，及類似物；酮酯(ketonate ester)系列，例如丙酮酸乙酯，及類似物。此外，可以進一步添加下列高沸點的溶劑：N-甲基甲醯胺、N、N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯胺、N-甲基乙醯胺、N、N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、二甲亞碸、苄基乙基醚、二己基醚、乙醯丙酮、異佛酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇、乙酸苯甲酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、γ-丁內酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、苯基乙酸賽璐蘇，及類似物。
考慮到相容性與反應性，二醇醚，例如乙二醇單乙醚，及類似物；乙二醇烷基醚乙酸酯，例如：乙酸乙賽璐蘇，及類似物；酯，例如2-羥基丙酸乙酯，及類似物；卡必醇，例如二乙二醇單甲醚，及類似物；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯，及類似物。
溶劑係使用為一差額，以及特別地以該光敏性樹脂組成物的總量為基準為50至90 wt%。包括此範圍內的溶劑時，該光敏性樹脂組成物可具有適當的黏度導致一遮光層的可加工性之改善。
(F)　其他添加劑
該光敏性樹脂組成物可以進一步包括一環氧化合物俾以改善與一基材之緊密的接觸性質。
該環氧化合物之實例包括酚醛環氧化合物、四甲基聯苯環氧化合物、雙酚A環氧化合物、脂環環氧化合物，或其等之一組合。
該環氧化合物可以以該光敏性樹脂組成物的100份重量計為基準，以0.01至20份以重量計，以及特別地0.1至10份以重量計的一量被包括。當包括以上範圍內的環氧化合物時，緊密的接觸性質、儲存性質，以及類似物可以被改善。
該光敏性樹脂組成物可以進一步包括具有一反應性取代基例如羧基、甲基丙烯醯基、異氰酸酯基、環氧基，及類似物的矽烷偶合劑俾以改善對一基材之附著。
矽烷偶合劑之實例包括三甲氧矽烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯酸氧丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油醚氧丙基三甲氧基矽烷、β-(3,4-乙氧環己基)乙基三甲氧基矽烷，及類似物。其等可以單一地或是如二個或更多個之混合物來使用。
該矽烷偶合劑可以以該光敏性樹脂組成物的100份重量計為基準，以0.01至10份以重量計的一量被包括。當包括以上範圍內的矽烷偶合劑時，緊密的接觸性質、儲存性質，及類似物係改善的。
該光敏性樹脂組成物可以進一步包括一界面活性劑俾以改善塗覆性質且抑制斑點。
該界面活性劑之實例可以包括一氟為主的界面活性劑，舉例而言，BM-，及BM-(BM Chemie Inc.)；MEGAFACE F、F、F，與FDAINIPPON INK KAGAKU KOGYO CO.，LTD.)；FULORAD FC-、FULORAD FC-、FULORAD FC-，與FULORAD FC-(SUMITOMO 3M CO.，LTD.)；SURFLON S-、SURFLON S-、SURFLON S-、SURFLON S-，與SURFLON S-(ASAHI GLASS CO.，LTD.)；及SH-、SH-、SH-、SZ-，與SF-，及類似物(TORAY SILICONE CO.，LTD.)。
該界面活性劑可以以該光敏性樹脂組成物的100份重量計為基準，以0.001至5份以重量計的一量被包括。當包括此範圍內的界面活性劑時，可以確保塗覆均勻性，不會產生污斑，以及一玻璃基材之潤濕性質係改善的。
該光敏性樹脂組成物可以進一步其他添加劑，舉例而言，一抗氧化劑、一安定劑，及類似物以預定量，當其等降低性質時。
依據另一個具體例，提供了使用該光敏性樹脂組成物來製造的一遮光層。該遮光層可以製造如下。
(1)　應用及膜形成
前述的光敏性樹脂組成物係使用一旋轉塗覆法或狹縫塗覆法、滾軸塗覆法、網板印刷法、施用器法，及類似物而塗覆以具有一所欲的厚度，舉例而言，範圍由0.5至25μm的厚度，於進行一預定的預處理之一基材上。繼而，該經塗覆的基材係於範圍由70至110℃的溫度下加熱歷時1至10分鐘以移除一溶劑。
(2)　曝光
產生的膜係在放置具一預定的形狀的遮罩之後藉由190至500 nm的活性射線來照射以形成一所欲的圖案。輻射係藉由使用一光源予以執行，例如具低壓、高壓，或是超高壓的一水銀燈，一金屬鹵化物燈，一氬氣雷射，及類似物。然而，其可以使用一X射線、一電子束，及類似物，取決於狀況。
當使用一高壓水銀燈時，曝光製程使用，舉例而言，500 mJ/cm2 或更少的(具365 nm感測器)光劑量。然而，光劑量可以取決於該光敏性樹脂組成物的各組份之種類、其之組合比例，以及一乾燥膜厚度而變化。
(3)　顯影
在曝光製程之後，使用一鹼性水溶液以顯影曝光膜，其係藉由溶解且移除除了曝光部分外之不必要的部分，形成一影像圖案。
(4)　後處理
經顯影的影像圖案可以再次加熱或藉由一活性射線及類似物予以照射用於固化，俾以完成優良的品質，以抗熱性、光阻性、緊密的接觸性質、耐裂性、耐化學性、高強度、儲存安定性，及類似物而論。
因而，前述的光敏性樹脂組成物可以帶來一遮光層所需要的優良的絕緣與光學密度。
在下文中，本發明係更詳盡地參照實施例予以闡釋。然而，此等為本發明的例示性具體例以及為非限制性的。
製備實施例1-1：咔哚為主之樹脂的製備
(1)　將138g的9,9'-雙(4-甘胺醯基氧基苯基)氟(HEAR CHEM.)、54g的丙烯酸、1.4g的苄基三乙基氯化銨(DAEJUNG CHEMICAL & MATERIALS Co.，Ltd.)、1g的三苯膦(Aldrich，Inc.)、128g的丙二醇甲乙醋酸酯(propylglycolmethylethylacetate)(Daicel Chemical Ind.，Ltd.)，以及0.5g的氫醌放至一反應器內，加熱升高至120℃，以及維持在相同的溫度下歷時3小時以合成下列化學式7-1的化合物。
(2)　將60g的由以上的化學式7-1表示的化合物、11g的聯苯四甲酸二酐(Mitsubishi Gas)、3g的四氫鄰苯二甲酐(tetrahydrophthal anhydride)(Aldrich，Inc.)、20g的丙二醇甲乙醋酸酯(propylglycolmethylethylacetate)(Daicel Chemical Ind.，Ltd.)及0.1g的N,N'-氯化四甲銨放至一反應器內，加熱升高至120℃，以及維持在相同的溫度下歷時2小時以合成由下列化學式7-2表示的化合物。由化學式7-2表示的化合物具有5,400 g/mol的重量平均分子量。
(3)　將75g的以上的化學式7-2之化合物、10g的縮水甘油甲基丙烯酸酯，及0.4 g的三苯膦(Aldrich，Inc.)放至一反應器內，加熱升高至100℃，以及維持在相同的溫度下歷時3小時以合成下列化學式7-3的化合物。由化學式7-3表示的化合物具有5,600 g/mol的重量平均分子量。
於化學式7-3中，n1 ：n11 為60：40。
製備實施例1-2：咔哚為主之樹脂的製備
將60g的以上的化學式7-1之化合物、11g的二苯甲酮四甲酸二酐(Mitsubishi Gas)、3g的四氫鄰苯二甲酐(tetrahydrophthal anhydride)(Aldrich，Inc.)，及20g的丙二醇甲乙醋酸酯(propylglycolmethylethylacetate)(Daicel Chemical Ind.，Ltd.)放至一反應器內，加熱升高至120℃，以及維持在維持在相同的溫度下歷時2小時以合成下列化學式7-4的化合物。由化學式7-4表示的化合物具有5,300 g/mol的重量平均分子量。
製備實施例1-3：咔哚為主之樹脂的製備
將70g之下列化學式7-5的化合物、BPEF(HEAR CHEM)、30g的二苯甲酮四甲酸二酐(Mitsubishi Gas) 30g、7.5g的四氫鄰苯二甲酐(tetrahydrophthal anhydride)(Aldrich，Inc.)，及70g的丙二醇甲乙醋酸酯(propylglycolmethylethylacetate)(Daicel Chemical Ind.，Ltd.)放至一反應器內，加熱升高至120℃，以及維持在相同的溫度下歷時2小時。繼而將13g的縮水甘油甲基丙烯酸酯與0.4g的三苯膦(Aldrich，Inc.)放至該反應器內，加熱升高至100℃，以及維持在相同的溫度下歷時3小時以合成下列化學式7-6的化合物。由化學式7-6表示的化合物具有5,300 g/mol的重量平均分子量。
於化學式7-6中，v1 ：v11 為60：40。
製備實施例2：紅色色素分散的製備
將15g的C.I.紅色色素254(Ciba-Geigy Ltd.)、4g的DISPERBYK-163(BYK Additives & Instruments)、3g的丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物(Miwon Commercial Co，Ltd.，NPR8000)，以及78g的丙二醇甲乙醋酸酯於一反應器內混合。混合物係藉由使用一塗料搖動器(Asada Iron Works Co.，Ltd.)予以分散歷時12小時，來製備一紅色色素分散溶液。
製備實施例3：黑色色素分散的製備
將15g的碳黑(Cabot Co.)、4g的DISPERBYK-163(BYK Additives & Instruments)、3g的丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物(NPR8000,Miwon Commercial Co,Ltd.)，以及78g的丙二醇甲乙醋酸酯放至一反應器內。混合物係藉由使用一塗料搖動器(Asada Iron Works Co.,Ltd.)予以分散歷時12小時，來製備一黑色色素分散溶液。
實施例1和2與比較實施例1至6： 光敏性樹脂組成物之製備
依據實施例1和2以及比較實施例1至6的各光敏性樹脂組成物係予以製備以包括下列的表1中提供之下列的組份。
特別地，將一起始劑溶解於一溶劑之中。將溶液於室溫下攪拌歷時2小時。繼而，將一黏結劑樹脂與一反應性不飽和化合物添加至該溶液。將混合物於室溫下攪拌歷時2小時。然後，將依據製備實施例1之紅色色素分散溶液或依據製備實施例2的黑色色素分散溶液與一矽烷偶合劑添加至反應物。將產生的混合物於室溫下攪拌歷時1小時。接而，將產物過濾3次以移除雜質，來製備一種光敏性樹脂組成物。
(A)　黏結劑樹脂
(A-1)　依據製備實施例1-1之由化學式7-3表示的化合物係使用作為一咔哚為主之樹脂。
(A-2)　依據製備實施例1-2之由化學式7-4表示的化合物係使用作為一咔哚為主之樹脂。
(A-3)　依據製備實施例1-3之由化學式7-6表示的化合物係使用作為一咔哚為主之樹脂。
(A-4)　至於一咔哚為主之樹脂，使用由Nippon Steel Chemical Co.所製造的V259ME。
(B)　反應性不飽和化合物
使用二季戊四醇五丙烯酸酯。
(C)　色素分散
(C-1)　使用依據製備實施例2之紅色色素分散溶液。於此，一色素固體係以紅色色素分散溶液的全部量為基準，以15 wt%的一量被包括。
(C-2)　使用依據製備實施例3的黑色色素分散溶液。於此，一色素固體係以黑色色素分散溶液的全部量為基準，以15 wt%的一量被包括。
(D)　起始劑
使用由Ciba Geigy Ltd.所製造的IRGACURE OXE02。
(E)　溶劑
使用丙二醇甲醚乙酸酯。
(F)　添加劑
至於一矽烷偶合劑，使用γ-縮水甘油醚氧丙基三甲氧基矽烷(S-510，Chisso Co.)。
標記*指示出一色素固體的量，以一(C-1)紅色色素分散溶液或一(C-2)之黑色色素分散溶液的總量為基準。
評估1：顯影性質
將依據實施例1和2以及比較實施例1至6的各光敏性樹脂組成物用一旋轉塗覆器(KDNS，K-Spin8)以0.8 μm的厚度塗覆於一矽晶圓之上(LG Siltron)以及以一曝光器(Nikon，I10C)予以曝光歷時350 ms。接而，當曝光產物藉由使用一顯影器(SSP-200，SVS Corp.)、用0.2 wt%氫氧化四甲銨(TMAH)水溶液予以顯影時，顯影性質係用一參考予以評估時差，當水溶液被塗覆時以及當經塗覆的膜開始要被顯影時。結果係提供於下列的表2中。
<顯影性質評估>
○：少於20秒
△：多於20秒且少於30秒
×：多於30秒
評估2：殘餘物
將依據實施例1和2以及比較實施例1至6的各光敏性樹脂組成物用一旋轉塗覆器(KDNS，K-Spin8)、以0.8μm的厚度塗覆於一矽晶圓之上(LG Siltron)以及以一曝光器(Nikon，I10C)予以曝光歷時350ms。接而，曝光膜係藉由使用一顯影器(SSP-200，SVS Corp.)、用0.2wt%氫氧化四甲銨(TMAH)水溶液予以顯影以形成一圖案。接而，圖案係藉由使用一CD掃描式電子顯微鏡分析儀(8100XP，KLA-Tencor Co.)予以檢查以評估是否其具有殘餘物。結果係提供於下列的表2中。此外，經顯影的膜係藉由檢查是否其具有殘餘物而經由於第1至3圖中之CD的掃描式電子顯微鏡圖予以評估。
第1圖為顯示出依據實施例1之光敏性樹脂組成物的殘餘物之掃描式電子顯微鏡圖，第2圖為顯示出依據比較實施例4之光敏性樹脂組成物的殘餘物之掃描式電子顯微鏡圖，以及第3圖為顯示出依據比較實施例1之光敏性樹脂組成物的殘餘物之掃描式電子顯微鏡圖。
<殘餘物評估>
○：如於第1圖中顯示之平滑的圖案
△：如於第2圖中顯示之小量的殘餘物
×：如於第3圖中顯示之大量的殘餘物
參照第1至3圖，依據實施例1的光敏性樹脂組成物具有不帶任何殘餘物之平滑的表面。依據比較實施例1及4的光敏性樹脂組成物具有殘餘物。
評估3：圖案形成性質
依據實施例1和2以及比較實施例1至4的光敏性樹脂組成物係使用一旋轉塗覆器予以塗覆成為1.5μm高於一玻璃基材上以及接而，使用一圖案遮罩與一曝光器(USHIO Inc.)來曝露至45mJ/cm2 的光。經塗覆的玻璃係於23℃用1wt%氫氧化鉀稀釋的一水溶液予以顯影歷時1分鐘以及接而，用純水予以清潔歷時1分鐘。此1.5um-高的圖案係於一220℃烘箱中予以加熱來固化歷時30分鐘。經固化的圖案係使用一掃描式電子顯微鏡就形狀而檢查。結果係提供於下列的表2以及第4至6圖中。
第4圖為顯示出依據實施例1之光敏性樹脂組成物的圖案形成性質之掃描式電子顯微鏡圖，第5圖為顯示出依據比較實施例1之光敏性樹脂組成物的圖案形成性質之掃描式電子顯微鏡圖，以及第6圖為顯示出依據比較實施例2之光敏性樹脂組成物的圖案形成性質之掃描式電子顯微鏡圖。
<圖案形成性質>
◎：如於第4圖中顯示之優良的圖案形成性質
○：如於第5圖中顯示之良好的圖案形成性質
△：如於第6圖中顯示之不好的圖案形成性質
參照第4至6圖，依據實施例1的光敏性樹脂組成物形成了優良的圖案，然而依據比較實施例2的光敏性樹脂組成物沒有良好的圖案。
評估4：細線圖案形成性質評估
使用黑色色素分散之依據實施例2以及比較實施例2及4的光敏性樹脂組成物係於使用於圖案形成性質之相同的條件下用來形成一圖案。圖案係使用一光學顯微鏡予以檢查以評估其之最小的尺寸。結果係提供於第7至9圖中。
第7圖為顯示出依據實施例2之光敏性樹脂組成物的圖案尺寸之掃描式電子顯微鏡圖，第8圖為顯示出依據比較實施例2之光敏性樹脂組成物的圖案尺寸之光學顯微鏡圖，以及第9圖為顯示出依據比較實施例4之光敏性樹脂組成物的圖案尺寸之光學顯微鏡圖。
參照第7至9圖，依據實施例2的光敏性樹脂組成物具有7μm之最小的圖案尺寸，然而依據比較實施例2及4的該等具有9μm之最小的圖案尺寸。
參照表2，使用依據一具體例的咔哚為主之樹脂的依據實施例1和2的光敏性樹脂組成物顯示出優良的顯影性質、殘餘物，以及圖案形成性質，相較於依據比較實施例1至6的該等，其等係藉由使用具有與實施例1和2中使用的咔哚為主之樹脂不同結構之咔哚為主之樹脂。
儘管已以目前視為實際可行例示性具體例來說明本揭示，但要理解到本發明不限於所揭示的具體例，而是，相反地，欲涵蓋包括在隨附申請專利範圍之精神與範疇內的各種修飾與等效配置。前述的具體例為例示性的但無論如何非限制性的。
第1圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據實施例1的光敏性樹脂組成物的殘餘物；
第2圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例4的光敏性樹脂組成物的殘餘物；
第3圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例1的光敏性樹脂組成物的殘餘物；
第4圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據實施例1的光敏性樹脂組成物的圖案形成性質；
第5圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例1的光敏性樹脂組成物的圖案形成性質；
第6圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例2的光敏性樹脂組成物的圖案形成性質；
第7圖為一掃描式電子顯微鏡圖，其顯示出依據實施例2的光敏性樹脂組成物的圖案尺寸；
第8圖為一光學顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例2的光敏性樹脂組成物的圖案尺寸；
第9圖為一光學顯微鏡圖，其顯示出依據比較實施例4的光敏性樹脂組成物的圖案尺寸。

Claims (13)

  1. 一種光敏性樹脂組成物，其包含：(A)　一咔哚為主之(cardo-based)樹脂，其含有由下列的化學式1與2表示的重覆單元；(B)　一反應性不飽和化合物；(C)　一色素；(D)　一起始劑；及(E)　一溶劑： 其中，於化學式1和2中，R3 、R4 、R13 及R14 為相同或不同的，以及為氫、鹵素，或經取代或未經取代的C1至C20烷基，R1 與R2 為相同或不同的，以及為氫或經取代或未經取代的(甲基)丙烯酸酯，R11 與R12 為經取代或未經取代的(甲基)丙烯酸酯，R5 為含有一乙烯屬雙鍵之取代基，Z1 與Z11 為相同或不同的，以及為一單鍵、O、CO、SO2 、CR6 R7 、SiR8 R9 (其中，R6 至R9 為相同或不同的，氫，或經取代或未經取代的C1至C20烷基)，或是為由下列化學式3-1至3-11表示的連接基團之至少一者，Z2 與Z12 為相同或不同的，以及為酸酐殘餘基團或酸二酐殘餘基團，m1 、m2 、m11 ，及m12 獨立地為範圍由0至4的整數，以及n1 與n11 獨立地範圍由1至30， 其中，於化學式3-5中，Ra 為氫、乙基、C2 H4 Cl、C2 H4 OH、CH2 CH=CH2 ，或苯基
  2. 如申請專利範圍第1項之光敏性樹脂組成物，其中於化學式2中，R5 為由下列化學式4-1或4-2表示的一取代基： 其中，於化學式4-1中，Q為氫、經取代或未經取代的C1至C20烷基，以及 其中，於化學式4-2中，X1 至X5 為相同或不同的，氫、鹵素、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C6至C30芳基、經取代或未經取代的胺基，或是經取代或未經取代的C1至C20烷氧基，以及i為範圍由0至5的整數。
  3. 如申請專利範圍第1項之光敏性樹脂組成物，其中由化學式1表示的重覆單元之n1 及由化學式2表示的重覆單元之n11 係以大約1：99至99：1的莫耳比存在。
  4. 如申請專利範圍第1項之光敏性樹脂組成物，其中該咔哚為主之樹脂具有500至50,000g/mol的重量平均分子量。
  5. 如申請專利範圍第1項之光敏性樹脂組成物，其中該咔哚為主之樹脂包含由下列化學式5表示的一末端基於二個末端端的至少一者：[化學式5] 其中，於以上的化學式5中，Z3 為由下列化學式6-1至6-7表示的連接基團之至少一者， 其中，於化學式6-1中，Rb 與Rc 為相同或不同的，氫、經取代或未經取代的C1至C20烷基、酯基，或醚基， 其中，於化學式6-5中，Rd 為O、S、NH、經取代或未經取代的C1至C20烷基、C1至C20烷基胺基，或C2至C20丙烯胺基，
  6. 如申請專利範圍第1項之光敏性樹脂組成物，其中該光敏性樹脂組成物包含1至30 wt%的該咔哚為主之樹脂(A)；1至40 wt%的該反應性不飽和化合物(B)；1至30 wt%的該色素(C)；0.01至10 wt%的該起始劑(D)；以及差額的該溶劑(E)。
  7. 如申請專利範圍第1項之光敏性樹脂組成物，其中該光敏性樹脂組成物進一步包含一丙烯醯基為主之樹脂。
  8. 如申請專利範圍第7項之光敏性樹脂組成物，其中該丙烯醯基為主之樹脂包含第一乙烯屬不飽和單體與第二乙烯屬不飽和單體之一共聚物，該第一乙烯屬不飽和單體為(甲基)丙烯酸、馬來酸、衣康酸、反丁烯二酸，或其等之組合；以及該第二乙烯屬不飽和單體為苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄基甲基醚、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2-二甲基胺基乙酯、乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯醯胺，或其等之組合。
  9. 如申請專利範圍第7項之光敏性樹脂組成物，其中該丙烯醯基為主之樹脂具有3,000至40,000 g/mol的重量平均分子量。
  10. 如申請專利範圍第7項之光敏性樹脂組成物，其中該咔哚為主之樹脂和該丙烯醯基為主之樹脂係以99：1至30：70的重量比被包括。
  11. 如申請專利範圍第1項之光敏性樹脂組成物，其中該起始劑包含一光聚合化起始劑、一自由基聚合化起始劑，或其等之組合。
  12. 如申請專利範圍第1項之光敏性樹脂組成物，其中該光敏性樹脂組成物包含0.01至20份以重量計的環氧化合物，以該光敏性樹脂組成物的100份重量計為基準。
  13. 一種遮光層，其係使用如申請專利範圍第1至12項中任一項之光敏性樹脂組成物來製造的。
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