TWI426044B

TWI426044B - 基板處理裝置及使用於其之基板搬送裝置

Info

Publication number: TWI426044B
Application number: TW098130024A
Authority: TW
Inventors: Ichiro Mitsuyoshi; Ryo Muramoto
Original assignee: Dainippon Screen Mfg
Priority date: 2008-09-12
Filing date: 2009-09-07
Publication date: 2014-02-11
Also published as: KR20110105757A; KR101181597B1; TW201020194A

Description

基板處理裝置及使用於其之基板搬送裝置

本發明係關於對複數片基板統括施行處理的基板處理裝置，以及在該基板處理裝置中所設置基板搬送裝置。成為處理或搬送對象的基板係包括有例如：半導體晶圓、液晶顯示裝置用基板、電漿顯示器用基板、FED(Field Emission Display，場效發射顯示器)用基板、光碟用基板、磁碟用基板、磁光碟用基板、光罩用基板等。

對諸如半導體晶圓等基板施行使用藥液之處理的基板處理裝置，係有如對複數片基板統括地施行處理之批次式者。批次式基板處理裝置之一例在日本專利特開平11-354604號公報中有揭示。該基板處理裝置係具備有：承載器載置部、水平移載機器人、姿勢轉換機構、推動器(pusher)、主搬送機構、及基板處理部。

承載器載置部係載置著承載器(收容器)，該承載器係將複數片基板依水平姿勢，且在垂直方向上呈積層狀態下進行保持。

水平移載機器人係由垂直多關節機械臂型搬送機器人構成，構成為使多關節機械臂進行伸縮，且圍繞鉛直軸線進行迴轉狀態。藉此，水平移載機器人便將多關節機械臂朝向承載器，並使依水平姿勢且在垂直方向上積層的複數片基板，對該承載器進行出入，且將多關節機械臂朝向姿勢轉換機構，並將依水平姿勢且在垂直方向上積層的複數片基板，轉讓給該姿勢轉換機構。

水平移載機器人係具備有可裝卸於多關節機械臂上的批次式機械臂與單片式機械臂。批次式機械臂係用於將複數片基板進行統括搬送，而單片式機械臂係用於每次將1片基板進行搬送。機械臂的更換係藉由水平移載機器人對機械臂更換部進行存取而實施。機械臂更換部係設有3個機械臂固定架，俾分別用於保持著：批次式機械臂、未處理基板用單片式機械臂、及處理畢基板的單片式機械臂。水平移載機器人係例如當拆卸批次式機械臂並裝設單片式機械臂時，便依在批次式機械臂用機械臂固定架上收納著批次式機械臂，並將在單片式機械臂用機械臂固定架上所收容的單片式機械臂進行裝設之方式，產生動作。藉此便可不需要人工而自動地更換機械臂。

姿勢轉換機構係將複數片積層的基板，統括地在水平姿勢與垂直姿勢間轉換姿勢。

推動器係具備有能上下動作與水平移動的固定架，並在與姿勢轉換機構之間統括地進行垂直姿勢之複數片基板的轉讓，並在與主搬送機構之間統括地進行垂直姿勢之複數片基板的轉讓。固定架係依姿勢轉換機構所保持複數片基板節距的一半節距，保持著基板。例如從姿勢轉換機構將25片基板傳遞給固定架後，便使固定架朝沿基板積層方向的水平方向僅移動微小距離。此狀態下，從姿勢轉換機構將另外的25片基板傳遞給固定架。後面所傳遞的25片基板將插入先前所傳遞的25片基板間，便在固定架上形成由合計50片基板所構成批次。依此，將組合複數基板組而形成的批次稱「批次組」。從推動器將基板傳遞給姿勢轉換機構時，固定架上所保持的50片基板中，會有25片傳遞給姿勢轉換機構，在將該25片基板轉換姿勢為水平姿勢後，便傳遞給水平移載機器人。然後，將固定架上剩餘的25片基板傳遞給姿勢轉換機構，經姿勢轉換成水平姿勢後，便利用水平移載機器人搬出。依此，50片基板便被分離為各25片的2組基板組。依此將形成批次的複數片基板分離為複數基板組之事，稱「批次解除」。

主搬送機構係具有將形成批次的複數片基板，依垂直姿勢進行保持的基板夾具，藉由使該基板夾具朝水平方向移動，便可將構成批次的複數片基板對基板處理部進行搬入/搬出。為著將基板夾具進行洗淨，例如在推動器與主搬送機構之間，於基板轉讓位置下方設置夾具洗淨單元。

基板處理部係設有沿主搬送機構移動方向而配置的複數處理部。處理部係包括有：藥液槽、水洗槽、及乾燥部。藥液槽係使垂直姿勢的複數片基板，浸漬於槽內所儲存的藥液中，而對複數片基板統括地施行藥液處理。水洗槽係使垂直姿勢的複數片基板，浸漬於槽內所儲存的純水(脫離子水)中，而對複數片基板統括地施行水洗(清洗)處理。乾燥部係對複數片基板統括地施行有機溶劑(例如異丙醇)供應、或液體成分甩乾的處理。

前述先前技術的基板處理裝置中，因為從推動器朝主搬送機構的基板搬送路徑係屬於1系統，所以將未處理基板送入主搬送機構中之時，便無法從主搬送機構將推動器與處理畢基板搬出，且在將處理畢基板搬出時，將無法送入未處理基板。且，將未處理基板送入主搬送機構時，因為在推動器的固定架上必需進行批次組動作，因而主搬送機構截至搬出處理畢基板之前，會有無奈地長時間待機情形。

有考慮追加推動器，將其中一推動器使用於從姿勢轉換機構朝主搬送機構的前進路徑搬送中，並將另一推動器使用於從主搬送機構朝姿勢轉換機構的折返路徑搬送。但是，若依此種構造，則裝置佔用面積(涵蓋面積)的增加係免不了。

本發明一目的係提供在抑制裝置佔用面積的情況下，能提升基板處理速度的基板處理裝置。

本發明另一目的係提供可縮短複數片基板之統括搬送及單片基板之單片搬送間之切換所需時間，且構造亦可簡略化的基板搬送裝置。本發明再另一目的係提供具有此種基板搬送裝置的基板處理裝置。

本發明一形態的基板處理裝置，係包括有：基板處理部、第1橫行機構、第2橫行機構、升降機構、及主搬送機構；而，該基板處理部係對垂直姿勢的複數片基板統括地施行處理；該第1橫行機構係使統括保持垂直姿勢之複數片基板的第1橫行保持部，在基板移載位置與基板轉讓位置之間，沿第1橫行路徑橫行；該第2橫行機構係使統括保持垂直姿勢之複數片基板的第2橫行保持部，在上述基板移載位置與上述基板轉讓位置之間，沿較上述第1橫行路徑更靠下方的第2橫行路徑橫行；該升降機構係使統括保持垂直姿勢之複數片基板的升降保持部，在上述基板移載位置處升降；該主搬送機構係在上述基板轉讓位置與上述基板處理部之間，將垂直姿勢之複數片基板統括搬送。

根據此構造，在基板移載位置與基板轉讓位置間的基板搬送，係利用第1橫行機構與第2橫行機構，通過呈上下配置的第1與第2橫行路徑實施。即，可利用2系統的搬送路徑進行基板移載位置與基板轉讓位置間的基板搬送。藉此，從基板移載位置朝基板轉讓位置的基板搬送，可由第1與第2橫行機構中任一者實施，且從基板轉讓位置朝基板移載位置的基板搬送，可由第1與第2橫行機構中之另一者實施。

例如經基板處理部施行處理過的處理畢基板，將由主搬送機構搬送至基板轉讓位置，在該基板轉讓位置處轉讓給第1橫行保持部。第1橫行保持部係通過第1橫行路徑而橫行至基板移載位置。在該基板移載位置處，利用升降機構的升降保持部進行升降，由第1橫行保持部所保持的基板便被移載至升降保持部。

另一方面，在搬入未處理基板時，第2橫行保持部將移動至基板移載位置。然後，由升降保持部預先保持的未處理基板，便利用該升降保持部的升降，而被移載至第2橫行保持部。然後，第2橫行保持部將從移載位置橫行至基板轉讓位置。然後，在該基板轉讓位置處，由第2橫行保持部所保持的基板將轉讓給主搬送機構，主搬送機構便將該基板朝基板處理部進行搬送。

所以，主搬送機構係在將處理畢基板搬出於第1橫行保持部之後，便可由第2橫行保持部進行未處理基板收取的動作，可在不必等待未處理基板對基板轉讓位置的搬入完成，便將處理畢基板搬出。結果，可抑制基板搬送滯留情形，因而可提升基板處理速度。

且，由於第1與第2橫行機構係通過上下設定的第1與第2橫行路徑，並使第1與第2橫行保持部橫行，因此儘管搬送路徑係設置2系統，仍可抑制裝置佔用面積。

上述第1橫行機構較佳係設為處理畢基板的搬出專用，而上述第2橫行機構較佳係設為未處理基板的搬入專用。藉此，可使處理畢基板通過上方的路徑進行搬送，因此可將處理畢基板保持於潔淨狀態。

上述基板處理裝置較佳係更進一步包括有姿勢轉換機構，該姿勢轉換機構係將水平姿勢的複數片基板統括地從水平姿勢轉換姿勢為垂直姿勢，並轉讓給位於上述基板移載位置處的上述升降機構，同時由位於上述基板移載位置處的上述升降機構，統括地收取以垂直姿勢保持的複數片基板，並從垂直姿勢轉換姿勢為水平姿勢。

在此構造中，上述基板處理裝置較佳係更進一步包括有收容器保持部與搬出入機構，而該收容器保持部係保持收容器，該收容器係收容水平姿勢之複數片基板；該搬出入機構係對由上述收容器保持部所保持的收容器，統括地進行水平姿勢之複數片基板的搬出入，並在與上述姿勢轉換機構之間，統括地進行水平姿勢之複數片基板的轉讓。

藉由此種構造，可從依水平姿勢收容複數片基板的收容器中，統括地取出複數片基板並施行處理。且，可將經處理後的複數片基板收容於收容器中。

在上述搬出入機構與上述升降機構間的第1基板搬送路徑、與在上述升降機構與上述基板轉讓位置間的第2基板搬送路徑，較佳係依既定角度交叉。此情況，較佳在上述第1與第2基板搬送路徑的交叉點，配置上述升降機構。

藉由此構造，相較於第1基板搬送路徑與第2基板搬送路徑呈直線狀連接的情況下，可輕易地確保搬出入機構的設置空間。其結果，可削減裝置的佔用面積。且，搬出入機構、姿勢轉換機構、升降機構及基板轉讓位置的對位亦可趨於容易。即，施行該等的對位時，只要使搬出入機構及姿勢轉換機構沿第1基板搬送路徑對齊，使升降機構及基板轉讓機構沿第2基板搬送路徑對齊，並將升降機構配置於第1與第2基板搬送路徑的交叉點處便可。若施行此種對位，相較於使搬出入機構、姿勢轉換機構、升降機構及基板轉讓位置在同一直線上對齊的情況，前者明顯地較容易。

上述搬出入機構亦可包括有：保持水平姿勢之複數片基板的批次式機械臂、使上述批次式機械臂在水平方向上進退的機械臂進退機構、以及使上述批次式機械臂圍繞鉛直軸線進行迴轉的迴轉機構。此情況，亦可為上述批次式機械臂對上述收容器保持部所保持的收容器進行存取時的機械臂進退方向，係垂直於上述第2基板搬送路徑的水平方向。

該構造係使批次式機械臂進退，並從收容器中統括地取出水平姿勢之複數片基板，然後，使批次式機械臂迴轉，便可將該等基板傳遞給姿勢轉換機構。此外，利用批次式機械臂從姿勢轉換機構中統括地收取水平姿勢之複數片基板，然後，使批次式機械臂迴轉，更使批次式機械臂進退，便可將該等基板統括地收容於收容器中。因為第1與第2基板搬送路徑係依既定角度而交叉，因而可在確保批次式機械臂對收容器進行存取時的衝程，並可輕易地確保搬出入機構的設置空間。所以，有利於裝置佔用面積的削減。

上述升降機構較佳係含有旋轉驅動機構，該旋轉驅動機構係在沿上述第1基板搬送路徑而保持垂直姿勢之複數片基板的第1姿勢、與沿上述第2基板搬送路徑而保持垂直姿勢之複數片基板的第2姿勢之間，使上述升降保持部圍繞鉛直軸線進行轉動。藉此，升降保持部便可在第1與第2橫行機構、及姿勢轉換機構之間進行基板的轉讓。

再者，上述升降機構較佳係利用使上述升降保持部在上下方向升降，而從上述升降保持部將垂直姿勢之複數片基板統括地轉讓給上述第2橫行保持部，同時利用上述升降保持部在上下方向升降，而將上述第1橫行保持部所保持的垂直姿勢之複數片基板，統括地由上述升降保持部收取。藉此，便可將第2橫行保持部使用於基板的搬入，並將第1橫行保持部使用於基板的搬出。藉由將在較第2橫行保持部更靠上方所配置的第1橫行保持部，使用於處理畢基板的搬出，便可防止異物從未處理基板上掉落於處理畢基板上。

上述基板處理裝置較佳係更進一步含有仲介機構，該仲介機構係使統括保持複數片基板的仲介保持部，在上述基板轉讓位置處升降。

根據此構造，藉由使仲介保持部升降，便可在與第1及/或第2橫行保持部之間進行基板的轉讓。

例如上述仲介機構較佳係藉由使上述仲介保持部在上述基板轉讓位置處升降，便可在與上述第2橫行保持部之間，統括地進行複數片基板的轉讓。

藉此，例如第2橫行保持部在將未處理基板從基板移載位置搬送至基板轉讓位置後，便可將該未處理基板轉讓給仲介保持部。藉此，第2橫行保持部便可進行用以從升降機構中收取下一個未處理基板的動作。所以，未處理基板係截至利用主搬送機構進行收取之前，均可在仲介保持部中待機，因而便可縮短截至第2橫行保持部產生用以搬入下一個未處理基板的動作之等待時間。藉此，便可更加提升基板處理速度。

此情況，上述主搬送機構較佳係在上述基板轉讓位置處，在與上述第1橫行保持部及上述仲介保持部之間，統括地進行複數片基板的轉讓。

藉此，可以例如主搬送機構係依將處理畢基板搬出於第1橫行保持部中，並將未處理基板從仲介保持部收取的方式產生動作。此情況，仲介保持部係利用第2橫行保持部將未處理基板搬入於基板轉讓位置處，因此可發揮在將該未處理基板轉讓給主搬送機構前的緩衝器(待機場所)機能。結果，例如藉由基板處理條件的變更，當基板搬入的時間間隔有變動時，該時間間隔的變動便會由仲介保持部吸收。藉此，便可抑制基板搬入的停滯，因而可更加提升基板處理速度。

上述基板處理裝置較佳係更進一步含有：在上述基板轉讓位置而設置於較上述第2橫行路徑更靠下方處，並使複數片基板的方向對齊之基板方向對齊機構。

根據此構造，因為在基板轉讓位置處設置基板方向對齊機構，因而將可在不致增加佔用面積的情況下，設置基板方向對齊機構。

基板方向對齊機構亦可在基板轉讓位置處，對由第2橫行保持部所保持狀態的基板，施行基板方向對齊處理。所謂「基板方向對齊處理」係例如在如半導體晶圓之類的圓形基板上形成表示結晶方向等的缺口部(缺口或定向平面)時，便指使該缺口部進行對齊的處理。

再者，上述第1橫行保持部較佳係包含有：相互平行的一對基板導件、以及導件開閉單元；該導件開閉單元係將上述一對基板導件的間隔，在張開較大於基板寬度的開狀態、與張開較窄於基板寬度但較大於上述升降保持部寬度的閉狀態之間變更。若閉狀態的一對基板導件依保持著基板狀態，通過該一對基板導件間之方式使升降保持部上升，便可從基板導件將基板傳遞給升降保持部。將基板傳遞給升降保持部之後，若一對基板導件呈開狀態，便可通過該一對基板導件之間，使升降保持部及其所保持的基板下降。依此的話，便可從第1橫行保持部將基板傳遞給升降保持部。

本發明另一形態的基板搬送裝置，係包括有：批次式機械臂、批次式機械臂進退機構、單片式機械臂、單片式機械臂進退機構、保持基座、升降機構、及迴轉機構，而該批次式機械臂係將複數片基板統括地依積層狀態予以保持；該批次式機械臂進退機構係使該批次式機械臂進退；該單片式機械臂係保持1片基板；該單片式機械臂進退機構係使該單片式機械臂進退；該保持基座係保持上述批次式機械臂進退機構與單片式機械臂進退機構；該升降機構係使該保持基座進行上下動作；該迴轉機構係使上述保持基座圍繞沿鉛直方向的轉動軸線進行迴轉。

前述日本專利特開平11-354604號公報所記載先前技術的構造，因為除使用中機械臂以外的其餘機械臂均由機械臂更換部保管，因而必需設置機械臂更換部用的空間。況且，因為每次更換機械臂時，水平移載機器人便必需對機械臂更換部進行存取，因而需要時間，且機械臂更換亦需要時間。所以，在施行需要機械臂更換的處理時，將會大幅損及基板處理速度。

再者，為能對機械臂更換部進行存取而實現機械臂的自動更換，水平移載機器人將採用垂直多關節機械臂型機器人。但是，因為垂直多關節機械臂型機器人的構造複雜，且因而亦呈高單價，故會有成本提高的問題。

況且，為著利用垂直多關節機械臂型機器人使基板朝水平方向移動，便必須對複數驅動軸進行同步驅動。所以，若將基板依高速進行搬送，機械臂便會出現振動，恐有發生搬送不良的可能性。所以，較難提高基板搬送速度，而因此現象亦會有較難提升基板處理裝置生產性的問題。

另一方面，根據具有前述構造的本發明之基板搬送裝置，係使批次式機械臂進行進退的批次式機械臂進退機構、與使單片式機械臂進行進退的單片式機械臂進退機構，由共通的保持基座所保持。然後，該共通的保持基座將利用升降機構進行上下動作，並利用迴轉機構圍繞鉛直軸線進行迴轉。所以，對於搬送對象場所，使批次式機械臂或單片式機械臂呈相對向狀態下，藉由使批次式機械臂或單片式機械臂對該搬送對象場所進行進退，便可對該搬送對象場所進行基板的搬入/搬出。因為批次式機械臂進退機構及單片式機械臂進退機構係屬於個別設置，因此批次式機械臂及單片式機械臂將可獨立地進退。

依此的話，由於不需要進行機械臂的更換，因此利用批次式機械臂所進行的複數片基板之統括搬送、與利用單片式機械臂所進行的1片基板之單片搬送間之切換，便可利用選擇使批次式機械臂進退機構或單片式機械臂進退機構中任一者產生動作而達成。所以，不同於前述先前技術，統括搬送與單片搬送間的切換將不需要長時間。藉此，即使需要統括搬送與單片搬送間之切換時，仍可有效率地施行基板搬送。

再者，因為不需要進行機械臂的更換，因此不需要如先前技術般的複雜構造之垂直多關節機械臂型機器人，只要設置使保持基座升降的升降機構、與使保持基座迴轉的迴轉機構，且在保持基座上設置批次式機械臂進退機構與單片式機械臂進退機構便可。所以，相較於先前技術，因為構造較為簡易，因而可大幅削減成本。且，水平方向的基板移動係可利用保持基座的迴轉及機械臂的進退實施，而亦不需要如垂直多關節機械臂型機器人般，需要進行複數驅動軸的同步驅動。故，可提高基板的搬送速度。

再者，因為不需要機械臂更換部，因此可削減裝置的專有面積(涵蓋面積)，亦可達成本削減。

另外，批次式機械臂的進退方向、與單片式機械臂的進退方向，雖亦可不同，但較佳係平行。

上述批次式機械臂與單片式機械臂較佳係該等分別位於各自的後退位置時，便呈上下方向積層配置狀態。根據此構造，因為可縮小使批次式機械臂及單片式機械臂執行後退狀態時的迴轉半徑，因而可縮小基板搬送裝置的設置空間。

上述單片式機械臂較佳係具備有在水平方向上離開而配置的2個機械臂要件，而各機械臂要件係具有不同高度的第1與第2基板支撐部。此情況，上述基板搬送裝置較佳係更進一步含有利用將上述2個機械臂要件分別朝水平方向驅動而進行開閉的機械臂開閉機構；而上述單片式機械臂係在張開上述2個機械臂要件的狀態下，利用該2個機械臂要件的上述第1基板支撐部，在第1高度保持基板，並在關閉上述2個機械臂要件的狀態下，利用該2個機械臂要件的上述第2基板支撐部，在第2高度保持基板。

根據此構造，利用機械臂開閉機構將2個機械臂要件進行開閉，藉此便可選擇由第1基板支撐部支撐著基板的狀態、或由第2基板支撐部支撐著基板的狀態。而，因為第1與第2基板支撐部係屬於不同高度，因此當由其中一基板支撐部支撐著基板時，便可形成該基板不會接觸到另一基板支撐部的狀態。所以，便可將第1與第2基板支撐部分開使用而支撐基板。

例如可將第1與第2基板支撐部其中一者使用於未處理基板的支撐，而將另一者使用於處理畢基板的支撐。藉此，便可將單片式機械臂分開使用於2種用途，而不需要如前述先前技術，個別準備未處理基板用的單片式機械臂與處理畢基板用的單片式機械臂，且亦不需要該等的更換。藉此，除不需要更換用的機械臂之外，亦可以不需要耗費機械臂更換的時間，而針對未處理基板與處理畢基板由個別的基板支撐部負責。

本發明另一形態的基板處理裝置係包括有：收容器保持部、基板保持部、及前述基板搬送裝置；而，該收容器保持部係保持將複數片基板依積層狀態而收容的收容器；該基板保持部係保持複數片基板；該基板搬送裝置係在上述收容器保持部所保持的收容器、與上述基板保持部之間進行基板搬送。

根據此構造，在由收容器保持部所保持的收容器、與基板保持部之間的基板搬送，係可利用使用批次式機械臂的統括搬送而實施、或利用使用單片式機械臂的單片搬送而實施。當進行統括搬送與單片搬送間之切換時，將可不需要諸如進行機械臂更換所耗費的時間等，可迅速地施行該切換。藉此，可使基板搬送高速化，因而可達基板處理速度的提升。

本發明的上述或其他目的、特徵及效果，係可利用參照所附圖式進行下述實施形態說明而清楚明瞭。

圖1所示係用於說明本發明一實施形態的基板處理裝置整體構造的圖解式俯視圖。該基板處理裝置10係具備有：晶圓盒(FOUP，Front Opening Unified Pod，前開口式通用容器，即晶圓盒)保持部1、基板處理部2、主搬送機構3、搬出入機構4、姿勢轉換機構5、推動器6、轉讓機構7、夾具洗淨單元8、及控制器9(控制單元)。

晶圓盒保持部1係配置於俯視大致形成長方形的基板處理裝置10一角部。該晶圓盒保持部1係屬於保持晶圓盒F的收容器保持部，該晶圓盒F係將水平姿勢的複數片(例如25片)基板W，依在Z方向(上下方向、垂直方向)積層的狀態進行收容的收容器。依與基板處理裝置10的前面10a(對應於俯視的一短邊)呈相對向方式，配置著依二點鏈線所示自動晶圓盒搬送裝置11。自動晶圓盒搬送裝置11係具有下述作用：將已收容未處理基板W的晶圓盒F，供應給晶圓盒保持部1的作用；將待收容已處理畢基板W的晶圓盒F(空晶圓盒)，供應給晶圓盒保持部1的作用；以及用以更換由晶圓盒保持部1所保持的晶圓盒，而使由晶圓盒保持部1所保持的晶圓盒F退縮之作用。基板W在本實施形態中，係如半導體晶圓般的圓形基板。例如半導體晶圓係在周緣部設有表示結晶方向的缺口。

基板處理部2係具備有沿基板處理裝置10側面(對應俯視的一長邊)10b的Y方向(水平方向)而排列的複數處理部20(處理單元)。複數處理部20係包括有：第1藥液槽21、第1清洗液槽22、第2藥液槽23、第2清洗液槽24、及乾燥處理部25。第1藥液槽21與第2藥液槽23分別係儲存同種或異種藥液，在該藥液中統括浸漬複數片基板W而施行藥液處理。第1清洗液槽22與第2清洗液槽24分別係儲存清洗液(例如純水)，並在該清洗液中統括浸漬複數片(例如52片)基板W，而對表面施行清洗處理。

本實施形態中，第1藥液槽21、與其所鄰接的第1清洗液槽22係形成配對，而第2藥液槽23、與其所鄰接的第2清洗液槽24係形成配對。且，具備有第1升降機27與第2升降機28；該第1升降機27係用以將在第1藥液槽21中經施行藥液處理過的基板W，移至第1清洗液槽22中的專用搬送機構；而該第2升降機28係用以將在第2藥液槽23中經施行藥液處理過的基板W，移至第2清洗液槽24用的專用搬送機構。第1與第2升降機27、28係具備有：基板支撐部、升降驅動機構、及橫行驅動機構；其中，該基板支撐部係將垂直姿勢之複數片(例如52片)之基板W，沿X方向(水平方向)，依積層狀態支撐；該升降驅動機構係使該基板支撐部進行上下動作；而該橫行驅動機構係使基板支撐部沿Y方向橫行。另外，X方向係沿基板處理裝置10之前面10a的水平方向，屬於與Y方向呈正交之方向。

藉由此構造，第1升降機27將從主搬送機構3統括地收取依垂直姿勢在X方向積層的複數片基板W，並使該複數片基板W下降至第1藥液槽21中且浸漬於藥液中。此外，經待機既定藥液處理時間後，第1升降機27便使基板支撐部上升，並將複數片基板W從藥液中拉起，且使基板支撐部朝第1清洗液槽22橫行，再使該基板支撐部下降於第1清洗液槽22內，並浸漬於清洗液中。經待機既定清洗處理時間後，第1升降機27便使基板支撐部上升而從清洗液中將基板W上拉。然後，從第1升降機27將複數片基板W統括地傳遞給主搬送機構3。第2升降機28亦同樣地，從主搬送機構3統括地收取依垂直姿勢在X方向積層的複數片基板W，並使該複數片基板W下降至第2藥液槽23中，且浸漬於藥液中。此外，經待機既定藥液處理時間後，第2升降機28便使基板支撐部上升，並將複數片基板W從藥液中拉起，且使基板支撐部朝第2清洗液槽24橫行，再使該基板支撐部下降於第2清洗液槽24內，並浸漬於清洗液中。經待機既定清洗處理時間後，第2升降機28便使基板支撐部上升而從清洗液中將基板W上拉。然後，從第2升降機28將複數片基板W統括地傳遞給主搬送機構3。

乾燥處理部25係具有將複數片(例如52片)之基板W，依垂直姿勢且在X方向積層之狀態進行保持的基板保持機構，藉由在減壓環境中將有機溶劑(異丙醇等)供應給基板W、或利用離心力將基板W表面的液體成分甩乾，便使基板W乾燥。該乾燥處理部25係可在與主搬送機構3之間進行基板W的轉讓。

主搬送機構3係具備有：一對基板夾具(挾持機構)30、夾具驅動機構、橫行驅動機構、及升降驅動機構；其中，該等一對基板夾具(挾持機構)30係將垂直姿勢之複數片(例如52片)之基板W，依X方向積層之狀態而統括保持的基板統括保持單元；該夾具驅動機構係使該基板夾具30產生動作；該橫行驅動機構係使基板夾具30沿Y方向進行水平移動(橫行)；而該升降驅動機構係使基板夾具30沿Z方向升降。一對基板夾具30分別具有朝X方向延伸的軸狀支撐導件31，在各支撐導件31相對向之側，在軸方向隔開間隔而形成複數基板支撐溝；該等複數基板支撐溝係接收垂直姿勢的複數片基板W並從下方支撐。夾具驅動機構係藉由使一對基板夾具30朝箭頭33方向轉動，而進行一對支撐導件31間的距離擴縮。藉此，基板夾具30便進行在夾持且保持基板W的保持狀態、與鬆開基板W挾持的解除狀態間切換的開閉動作。利用該開閉動作、與第1及第2升降機27、28的上下動作，便可在第1與第2升降機27、28、與基板夾具30之間進行基板W的轉讓。主搬送機構3更在與乾燥處理部25之間，依垂直姿勢且在X方向積層之狀態，統括地進行複數片基板W的轉讓。

主搬送機構3係依在基板轉讓位置P收取依垂直姿勢且在X方向積層的複數片未處理基板W，並在基板轉讓位置P搬出依垂直姿勢且在X方向積層的複數片處理畢基板W的方式，產生動作。

夾具洗淨單元8係配置於基板轉讓位置P與處理部20之間。夾具洗淨單元8係具有洗淨槽35；該洗淨槽35係上面形成分別插入一對基板夾具30的一對開口。該洗淨槽35內，基板夾具30(特別係支撐導件31)係使用洗淨液進行洗淨。主搬送機構3係在將已完成利用乾燥處理部25施行乾燥處理的處理畢基板W進行搬送前，便將基板夾具30插入於夾具洗淨單元8的洗淨槽35中。然後，在洗淨槽35內將基板夾具30洗淨後，主搬送機構3便依從乾燥處理部25統括地收取處理畢基板W之方式產生動作。主搬送機構3係可將在基板夾具30下端所設置的一對支撐導件31之間隔變狹窄。在此，若在將支撐導件31的間隔變狹窄狀態下，施行洗淨槽35中的洗淨處理，則由於可將洗淨槽35小型化，因而可抑制基板處理裝置10的佔用面積。

在夾具洗淨單元8與基板轉讓位置P之間設置擋門15。擋門15係當主搬送機構3從基板轉讓位置P朝處理部20側進行移動時，以及主搬送機構3從處理部20側朝基板轉讓位置P移動時將呈開啟，而在其他期間內則均保持閉狀態。藉此，便可抑制或防止處理部20側的藥液漏洩於環境。

圖2A所示係用以說明在晶圓盒F與主搬送機構3間而與基板搬送相關聯之構造的放大俯視圖。晶圓盒保持部1係與搬出入機構4呈相對向。在晶圓盒保持部1靠搬出入機構4側，配置有開啟器12，俾將阻塞晶圓盒F前面的蓋子進行開閉。

在搬出入機構4靠基板轉讓位置P側，配置著姿勢轉換機構5。此外，在姿勢轉換機構5靠基板轉讓位置P側配置推動器6。然後，在基板轉讓位置P配置轉讓機構7。轉讓機構7係依在屬於推動器6位置的基板移載位置S、與基板轉讓位置P之間進行基板W搬送的方式，產生動作。

搬出入機構4與推動器6間的搬送路徑TP1、及推動器6與基板轉讓位置P間的搬送路徑TP2，係呈既定角度(例如170度~185度)的交叉。即，相對於搬送路徑TP2平行於X方向，搬送路徑TP1係形成有斜行路徑；該斜行路徑係依從推動器6隨朝向搬出入機構4，而離開前面10a的方式呈斜行。沿該搬送路徑TP1，排列著：搬出入機構4、姿勢轉換機構5、及推動器6。此外，沿搬送路徑TP2，排列著推動器6所配置的基板移載位置S、及基板轉讓位置P。藉此，推動器6便被配置於搬送路徑TP1、TP2的交叉位置處。

此種配置係具有能確保搬出入機構4對晶圓盒F沿Y方向進行存取時的機械臂衝程，且削減基板處理裝置10之佔用面積(涵蓋面積)的作用。此外，若從搬出入機構4起至基板轉讓位置P的搬送路徑係設為直線，則搬出入機構4、姿勢轉換機構5、推動器6及基板轉讓位置P便必需排列於直線上，而為能確保其精度的調整將成為艱難作業。相對於此，本實施形態中，由於搬送路徑TP1、TP2係成為既定角度而交叉的構造，因而只要使搬出入機構4與姿勢轉換機構5沿搬送路徑TP1對齊，並使推動器6與基板轉讓位置P沿搬送路徑TP2對齊，且在搬送路徑TP1、TP2的交叉點處配置推動器6便可，因而調整將趨於容易。

圖2B所示係從圖2A中的箭頭A1所觀看到立面圖。但，省略夾具洗淨單元8的圖示。搬出入機構4係本發明一實施形態的基板搬送裝置，其具備有：單片式機械臂39、批次式機械臂40、保持基座(機械臂支撐部)41、迴轉塊體42、升降塊體43、及基台部44；其中，該單片式機械臂39係可保持1片基板W；該批次式機械臂40係可將複數片基板W依積層狀態統括保持的複數片保持機械臂；該保持基座(機械臂支撐部)41係共通保持該等機械臂39、40；該升降塊體43係以可圍繞鉛直軸線進行轉動之狀態支撐迴轉塊體42；而該基台部44係升降自如地支撐著該升降塊體43。在保持基座41中，內建有用以使單片式機械臂39與批次式機械臂40獨立地在水平方向上進退的進退驅動機構47。迴轉塊體42係支撐著保持基座41，並利用內建迴轉機構45的作用而圍繞鉛直軸線進行迴轉，藉此便使保持基座41與機械臂39、40一起圍繞鉛直軸線進行迴轉。藉由該迴轉，機械臂39、40便可與晶圓盒F相對向、或與姿勢轉換機構5相對向。在基台部44中內建有用以使升降塊體43沿Z方向升降的升降機構46。利用該升降機構46的作用，便可使機械臂39、40進行上下動作。利用該上下動作、與利用上述進退驅動機構47進行的進退動作，機械臂39、40便可執行對晶圓盒F進行基板W的搬入與搬出、以及執行在與姿勢轉換機構5間的基板W轉讓。

批次式機械臂40係具備有依與晶圓盒F中的基板保持間隔為相同間隔而進行積層之複數(例如25個)機械臂要件，利用該複數機械臂要件便可統括保持例如25片基板W。所以，藉由使用批次式機械臂40，便可將例如25片基板W統括地對晶圓盒F進行搬入/搬出，並在與姿勢轉換機構5之間統括地進行25片基板W的轉讓。

單片式機械臂39係保持1片基板W，使用於例如為追加除25片基板W以外的測試用虛設基板且同時施行處理、或為依照與晶圓盒F內的基板W排列順序不同的順序對基板W施行排列替換的處理。藉由使用該單片式機械臂39，便可將1片基板W對晶圓盒F進行搬入/搬出，並將1片基板W在與姿勢轉換機構5之間進行轉讓。

姿勢轉換機構5係將基板W的姿勢在水平姿勢與垂直姿勢間轉換姿勢者。更具體而言，姿勢轉換機構5係從搬出入機構4統括收取依水平姿勢且在鉛直方向積層的複數片基板W，並將該等基板W轉換姿勢為依垂直姿勢且在水平方向積層的姿勢。將該垂直姿勢的複數片基板W對推動器6進行轉讓。此外，姿勢轉換機構5係從推動器6統括地收取依垂直姿勢且在水平方向積層的複數片基板W，並將該等基板W轉換姿勢為水平姿勢且在鉛直方向上積層的姿勢。將該水平姿勢的複數片基板W轉讓給搬出入機構4。

推動器6係具有從姿勢轉換機構5將垂直姿勢且在水平方向積層的複數片基板W進行統括收取之升降保持部105的升降機構。推動器6係在基板移載位置S，可使升降保持部105在Z方向進行上下動作，並可圍繞鉛直軸進行旋轉，可沿X方向僅直線移動微小距離(例如5mm)。更具體而言，升降保持部105係針對原點高度H10、較原點高度更高的第1移載高度H11、及較第1移載高度H11更高的第2移載高度H12等之高度進行變更。

推動器6係藉由升降保持部105的上下動作，可在與姿勢轉換機構5之間，進行複數片基板W的轉讓。升降保持部105係將先經姿勢轉換機構5進行一次轉換姿勢的片數(例如26片)之2倍片數(例如52片)基板W，依姿勢轉換機構5中的基板保持節距(等於晶圓盒F內的基板保持節距)之一半節距(半節距)而保持。

例如從姿勢轉換機構5將25片基板W傳遞給升降保持部105後，便使升降保持部105進行180度迴轉。升降保持部105的迴轉中心軸係相對於複數基板保持位置的中心，朝基板對齊方向偏心上述半節距的一半。所以，藉由180度的迴轉，所保持的25片基板W便僅移動半節距而已。在此狀態下，從姿勢轉換機構5將另一25片基板W傳遞給升降保持部105。藉此，後面所傳遞的25片基板W，將插入於先前所傳遞的25片基板W之間，而在升降保持部105上形成由合計50片基板構成的批次。依此，執行組合複數基板組而形成批次的批次組。此時，每相鄰之一對基板W係各表面彼此間(或背面彼此間)形成相對向狀態(面對面)。

亦有期待在所有基板W表面朝向同方向，且各基板W表面與鄰接基板W背面相對向的狀態(面對背)下，施行處理之情況。此情況，取代前述180度迴轉動作，改為使升降保持部105僅水平移動半節距份的微小距離。藉此，便可依面對背施行批次組。

從推動器6將基板W傳遞給姿勢轉換機構5時，由升降保持部105所保持例如50片基板W中的25片，將被傳遞給姿勢轉換機構5，該25片基板W在被轉換姿勢為水平姿勢後，便傳遞給搬出入機構4。然後，執行升降保持部105的180度迴轉或半節距份的水平移動。此狀態，升降保持部105上所剩餘的25片基板W將被傳遞給姿勢轉換機構5，經轉換姿勢為水平姿勢後，便利用搬出入機構4搬出。依此，50片基板W便被分離為各25片的2組基板組。

轉讓機構7係具備有：搬出機構70、搬入機構71、及仲介機構72，該等係分別具備有將依垂直姿勢且水平方向(X方向)積層的複數片基板W，統括地保持之夾具73、74、75。

搬出機構70的夾具73(以下稱「搬出夾具73」)，係配置於較搬入機構71的夾具74(以下稱「搬入夾具74」)更靠上方。搬出機構70係藉由沿在搬出高度H0上所設定的第1橫行路徑101中，使第1橫行保持部的搬出夾具73沿X方向橫行(水平移動)，便將基板W從基板轉讓位置P搬送至基板移載位置S(推動器6位置)的第1橫行機構。即，搬出夾具73係在基板轉讓位置P的搬出高度H0上，從主搬送機構3收取處理畢基板W，並將該等基板W依搬出高度H0搬出至基板移載位置S。推動器6係藉由使升降保持部105上升至第2移載高度H12，而從搬出夾具73中收取該基板W。

搬入機構71係藉由沿設定在較低於搬出高度H0的搬入高度H1上之第2橫行路徑102，使第2橫行保持部的搬入夾具74沿X方向橫行(水平移動)，而將基板W從基板移載位置S搬送至基板轉讓位置P的第2橫行機構。即，搬入夾具74係從推動器6的升降保持部105傳遞未處理基板W，並將該等之基板W搬送至基板轉讓位置P，且保持於搬入高度H1。

仲介機構72係藉由使仲介保持部的夾具75(以下稱「仲介夾具75」)，在較搬出高度H0更靠下方的區域進行上下動作，而從搬入夾具74收取基板W，並使該基板W上升至位於搬出高度H0與搬入高度H1間的移載高度H2之仲介機構。在該移載高度H2處，由仲介夾具75所保持的基板W，將由主搬送機構3進行收取。

仲介機構72係藉由從搬入夾具74收取基板W，便可形成在搬入夾具74不需等待主搬送機構3的動作情況下，從推動器6收取下一批次基板W的狀態。即，由於仲介夾具75係提供所謂緩衝器位置，因此將會吸收搬出入機構4、姿勢轉換機構5及推動器6等的動作、與主搬送機構3的動作時序偏移。藉此，便可使利用搬入夾具74進行的基板搬入動作順暢執行。特別係當基板處理條件(所謂配方)有所變更時，雖在基板轉讓位置P會有出現等待時間的情況，但由於在仲介夾具75中可使基板W待機，因而可解除或縮短諸如搬出入機構4、姿勢轉換機構5及推動器6等的動作所產生等待時間。

在基板轉讓位置P，於搬入高度H1的下方，視需要而配置基板方向對齊機構13。基板方向對齊機構13係在基板轉讓位置P的搬入高度H1處，使構成由搬入夾具74所保持批次的基板W方向(例如半導體晶圓的缺口方向)對齊。利用該基板方向對齊機構13，經施行基板對齊處理後的基板W，便利用仲介夾具75而被運送至移載高度H2。

基板方向對齊機構13係具有對齊處理頭16、以及使該對齊處理頭16升降的升降機構17(合併參照圖5)。對齊處理頭16係具備有：在Y方向上隔開間隔而呈相對向配置的一對基板導件18、以及在該一對基板導件18間配置的輥機構19。雖省略詳細圖示，但輥機構19係具備有：抵接於水平方向上積層的複數片下方周緣部、且使各基板W圍繞中心進行旋轉的輥，以及卡合於在基板W周緣部所形成之缺口並規範基板W旋轉的卡合構件。

執行基板對齊處理時，使對齊處理頭16上升至搬入高度H1附近，並將由搬入夾具74所保持的基板W支撐於輥機構19的輥上，並從搬入夾具74僅上舉微小距離。在此狀態下，若使輥機構19產生動作，基板W便一邊利用基板導件18進行導引一邊旋轉。若經基板W進行一圈旋轉所需的時間後便使輥機構19產生動作，便使所有基板W的缺口卡合於卡合構件中，使缺口呈直線狀對齊。藉此，基板W的方向(於半導體晶圓的情況便為結晶方向)呈對齊狀態。依此的話，在施行基板對齊處理後，對齊處理頭16便利用升降機構17下降，再將經對齊處理後的基板W傳遞給搬入夾具74。

圖3A所示係姿勢轉換機構5的俯視圖，圖3B所示係用以說明內部構造的透視立面圖。姿勢轉換機構5係具備有：基座49、轉動塊體50、一對第1保持機構51、一對第2保持機構52、及基板規範機構53；其中，該基座49係固定於該基板處理裝置的框架上；該一對第1保持機構51係安裝於該轉動塊體50上。該一對第2保持機構52係同樣的安裝於轉動塊體50上。

轉動塊體50係安裝成為可相對基座49而圍繞轉動軸50a進行轉動狀態。轉動軸50a係其軸線方向沿水平方向，而其軸線方向係位於與搬送路徑TP1正交的平面內。在基座49上，經由齒輪頭54安裝著用以使轉動塊體50圍繞轉動軸50a進行轉動用的馬達55。所以，藉由驅動馬達55，便可變更第1與第2保持機構51、52的姿勢。

一對第1保持機構51係具備有：在垂直於搬送路徑TP1的水平方向上隔開間隔而配置的一對棒狀水平保持構件56、以及嵌入各水平保持構件56中的支撐棒57。在水平保持構件56的周面，於包夾中心軸且相對向的位置，形成一對保持溝群58、59。各保持溝群58、59係由複數保持溝58a、59a構成。各保持溝58a、59a係沿與水平保持構件56長邊方向的垂直方向而形成。此外，複數保持溝58a、59a係在水平保持構件56的長邊方向上依既定間距排列。該間距係等於搬出入機構4的批次式機械臂40保持複數片基板W的節距，即晶圓盒F內的基板保持節距。

一對水平保持構件56係依相互平行姿勢而安裝於轉動塊體50上。所以，當一對水平保持構件56呈沿鉛直方向(Z方向)的姿勢時，便可將水平姿勢的複數片基板W，由保持溝群58、59中任一者從下方支撐。一對保持溝群58、59的其中一者(例如保持溝群58)係供使用於保持未處理基板W用，而另一者(例如保持溝群59)則供使用於保持處理畢基板W用。例如當保持從搬出入機構4所傳遞的未處理基板W時，便使一對水平保持構件56的各保持溝群58呈相對向。此外，當保持從推動器6所傳遞的處理畢基板W時，便使一對水平保持構件56的各保持溝群59呈相對向。

一對第2保持機構52係具有在垂直於搬送路徑TP1的水平方向上隔開間隔而配置的一對棒狀垂直保持構件60。該等垂直保持構件60係依平行於水平保持構件56的姿勢安裝於轉動塊體50上。各垂直保持構件60係具備有：支撐棒61、以及在該支撐棒61上所安裝的複數保持溝構件62。複數保持溝構件62係在支撐棒61的長邊方向由依既定間距而固定的板狀體構成。該間距係等於搬出入機構4的批次式機械臂40中之基板保持節距。各保持溝構件62係在包夾支撐棒61且相對向的端面設有一對保持溝63、64。複數保持溝構件62係依該等保持溝63、64沿支撐棒61長邊方向對齊的方式而排列。各保持溝63、64係沿與支撐棒61長邊方向正交的平面而形成。

一對垂直保持構件60係依相互平行姿勢而安裝於轉動塊體50上。所以，當一對垂直保持構件60呈沿水平方向的姿勢時，垂直姿勢的複數片基板W便由任一保持溝63、64從下方支撐。一對保持溝63、64的其中一者(例如保持溝63)係使用於供保持未處理基板W用，而另一者(例如保持溝64)係使用於供保持處理畢基板W用。例如保持從搬出入機構4所傳遞的未處理基板W時，便使由一對支撐棒61所保持的保持溝構件62之各保持溝63呈相對向。此外，當保持從推動器6所傳遞的處理畢基板W時，便使由一對支撐棒61所保持的保持溝構件62之各保持溝64呈相對向。

轉動塊體50係在第1與第2保持機構51、52及基板規範機構53呈垂直姿勢的水平保持姿勢(圖3A及圖3B所表示的姿勢)、以及第1與第2保持機構51、52及基板規範機構53呈水平姿勢的垂直保持姿勢(圖2A及圖2B中依二點鏈線所表示姿勢)之間進行轉動。以下，將轉動塊體50呈水平保持姿勢時的第1與第2保持機構51、52及基板規範機構53的姿勢，亦稱「水平保持姿勢」，而將轉動塊體50呈垂直保持姿勢時的第1與第2保持機構51、52及基板規範機構53的姿勢，亦稱「垂直保持姿勢」。轉動塊體50呈水平保持姿勢時，水平姿勢的基板W周緣部係利用第1保持機構51的水平保持構件56，在相對向的2處從下方支撐。垂直保持姿勢時，垂直姿勢的基板W周緣部係利用第2保持機構52的保持溝構件62，由下方的2處支撐。

當轉動塊體50呈垂直保持姿勢時，第2保持機構52係位於較第1保持機構51更靠下方位置處。第2保持機構52所具有的保持溝構件62，係隔開較大於基板W厚度的間隙65而安裝於支撐棒61上。此外，一對支撐棒61間的間隔係較大於基板W的寬度(圓形基板的情況係直徑)。此外，一對水平保持構件56相對向的保持溝58a、59a之底部間間隔，係較大於基板W寬度(圓形基板的情況係直徑)。所以，當將第1與第2保持機構51、52形成垂直保持姿勢、並在與推動器6之間進行基板W的轉讓時，在對應於間隙65的位置所保持之基板W，將通過第1與第2保持機構51、52間。

基板規範機構53係由平行於第1與第2保持機構51、52而設置的圓棒狀構件構成。當該基板規範機構53呈水平保持姿勢時，便依位於較第2保持機構52更靠近推動器6的方式，安裝於轉動塊體50上。基板規範機構53係可沿一對第2保持機構52的對向方向進行移動。即，基板規範機構53係在一對第2保持機構52間的中間位置附近，可在抵接於基板W周端面的規範位置(圖3A中依實線所示之位置)、與不會干涉基板W的退縮位置(圖3A中依二點鏈線所示之位置)之間進行移動。當基板規範機構53位於退縮位置時，於沿第1與第2保持機構51、52的排列方向(沿搬送路徑TP1的方向)而使基板W進行移動時，便呈不會干涉該基板W的狀態。

轉動塊體50係收容著用以驅動第1與第2保持機構51、52及基板規範機構53的驅動機構。

用以驅動第1保持機構51的驅動機構81，係具有：軸承82、馬達83、及氣壓缸85；其中，該軸承82係將支撐棒57依可圍繞軸線進行轉動的狀態而支撐；該馬達83係對支撐棒57賦予圍繞其軸線的旋轉力；而該氣壓缸85係使支撐馬達83的支撐板84，沿支撐棒57的長邊方向依既定衝程進行滑動。藉由驅動馬達83，便可進行由保持溝群58、59中任一者相對向並用以保持基板W的選擇。此外，藉由驅動氣壓缸85，便可使保持溝58a、59a的位置沿支撐棒57的長邊方向僅移動微小距離，藉此當轉動塊體50呈垂直保持姿勢時，便可使保持溝58a、59a的壁面從基板W退縮。

用以驅動第2保持機構52的驅動機構87，係具備有：固定於支撐板88上的滑軌89、沿滑軌89進行移動的移動基座90、以及安裝於移動基座90上的軸承91。軸承91係將第2保持機構52的支撐棒61依可圍繞其軸線進行轉動的狀態而支撐。驅動機構87係更進一步具備有對支撐棒61賦予旋轉力的馬達92，該馬達92係在移動基座90上，而安裝於與軸承91的對向側表面上。藉由驅動馬達92，便可進行由保持溝構件62的保持溝63、64中任一者用以保持基板W的選擇。

滑軌89係沿第1與第2保持機構51、52的對齊方向(搬送路徑TP1的平行方向)而配置。在該滑軌89上進行移動的移動基座90，係經由連結構件93，而結合於氣壓缸94的驅動桿。所以，藉由驅動氣壓缸94，便使第2保持機構52沿滑軌89進行移動。藉此，當轉動塊體50呈水平保持姿勢時，便可相對於由第1保持機構51依水平姿勢所保持的基板W，使第2保持機構52靠近、或離開。

用以驅動基板規範機構53的驅動機構96係具備有：在一對第2保持機構52的對向方向呈平行而配置的滑軌97、沿該滑軌97進行移動的移動基座98、以及用以使移動基座98沿滑軌97進行移動的致動器100(例如由滾珠螺桿機構構成)。移動基座98係結合於基板規範機構53的基端部。移動基座98係經由連結構件99而結合於致動器100的動作部。藉由驅動該致動器100，便使基板規範機構53在前述的規範位置與退縮位置間進行移動。

圖4所示係用以說明推動器6的構造的立面圖。推動器6係具備有：將複數片基板W依垂直姿勢、且在水平方向上依半節距進行積層排列狀態而保持的升降保持部105。升降保持部105係結合於圍繞鉛直軸線進行旋轉的旋轉軸部106上端。旋轉軸部106係由橫行基座107旋轉自如地支撐。橫行基座107係由升降基座108支撐。升降基座108係結合於線性致動器110的動作構件110a。線性致動器110係內建有滾珠螺桿機構與線性導件，並獲得來自上端所結合馬達111的驅動力，而將動作構件110a朝上下驅動者。藉此便使升降基座108進行上下動作。

藉由升降基座108進行上下動作，升降保持部105便在原點高度H10、第1移載高度H11及第2移載高度H12之間升降。

在橫行基座107中，內建有使旋轉軸部106圍繞鉛直軸線進行旋轉的旋轉驅動機構112。藉此，便可使升降保持部105形成沿搬送路徑TP1(圖2A中依二點鏈線所示姿勢)的姿勢、或沿搬送路徑TP2的姿勢(圖2A中依實線所示的姿勢)。此外，因為可組合面對面的批次、或將該批次解除，所以可使升降保持部105的方向(稱「複數片基板W的積層方向」)進行180度反轉。

在升降基座108中設置一對滑軌113。滑軌113係沿由升降保持部105所保持複數片基板W的積層方向(水平方向)而配置。橫行基座107係可在滑軌113上進行移動。在升降基座108上，設有用以使橫行基座107沿滑軌113進行微小距離(半節距份)移動的滑動驅動機構114。該滑動驅動機構114係由例如具有螺桿軸及其所螺合的滾珠螺帽之滾珠螺桿機構構成，對該滾珠螺帽，經由連結構件結合著橫行基座107。藉由此構造，便形成面對背的批次、或解除該批次，因而可使升降保持部105水平移動僅半節距份的距離。

升降保持部105係具備有第1導件116及第2導件117，構成為該等係分開使用於未處理基板W的保持、與處理畢基板W的保持。第1導件116係具有沿水平方向呈平行配置的3支支撐構件118。此外，第2導件117係具有平行於水平方向配置的3支支撐構件119。在支撐構件118、119的各自上面，依半節距形成複數(例如52個)基板保持溝。

第2導件117係固定於旋轉軸部106的上端，另一方面，第1導件116係利用升降軸120進行支撐。該升降軸120係利用在移動基座107上所內建的上下驅動機構(省略圖示)僅進行微小距離的上下動作。藉此，便使第1導件116的基板支撐高度，較高於第2導件117的基板支撐高度、或相反的使第1導件116的基板支撐高度，較低於第2導件117的基板支撐高度。藉此，便可將第1與第2導件116、117中屬於基板支撐高度之較高者，使用於基板W的支撐。所以，例如可將第1導件116使用於從姿勢轉換機構5所收取到的未處理基板W之保持，並將第2導件117使用於從轉讓機構7所收取到的處理畢基板W之保持。

圖5所示係用以說明轉讓機構7的相關聯構造之圖，從圖2A中的箭頭A2方向所觀看到的立面圖。搬出機構70係具備有：搬出夾具73、以及使該搬出夾具73沿X方向橫行的橫行機構76。搬入機構71係具備有：搬入夾具74、以及使該搬入夾具74沿X方向橫行的橫行機構77。仲介機構72係具備有：仲介夾具75、以及使該仲介夾具75進行上下動作的升降驅動機構78。升降驅動機構78係具備有：內建有滾珠螺桿與線性導件的線性致動器125、以及對該線性致動器125賦予驅動力的馬達126。線性致動器125係獲得來自馬達126的驅動力，而使動作元件125a進行上下動作。該動作元件125a係經由連結支撐架127結合著仲介夾具75。

圖6所示係用以說明搬出機構70的橫行機構76之構造的透視側視圖，表示從圖5中的箭頭A3方向所觀看到的構造圖解。以下，請合併參照圖5。

橫行機構76係包括有：滾珠螺桿機構131、移動板133、固定板134、及上下一對滑軌135；其中該滾珠螺桿機構131係內建於板狀支撐塊130中，而該支撐塊130係依鉛直姿勢安裝於基板處理裝置10的前面10a側之框架上；該移動板133係在滾珠螺桿機構131的上方位置處，將支撐塊130於從搬出夾具73側穿越形成的動作空間132(參照圖5)內，朝X方向進行水平移動；該固定板134係依將動作空間132從搬出夾具73側覆蓋的方式，固定於支撐塊130上；而該上下一對滑軌135係在固定板134面臨動作空間132之表面上，沿X方向(沿搬送路徑TP2的方向)而設置。

移動板133係結合於滑軌135，構成為可沿該滑軌135而在X方向上進行水平移動狀態。移動板133係結合於滾珠螺桿機構131的滾珠螺帽136。且，移動板133係經由連結構件137結合於搬出夾具73。

在固定板134中，沿該連結構件137之朝X方向的移動路徑，形成缺口139。所以，若藉由驅動滾珠螺桿機構131的馬達138，而使滾珠螺帽136朝X方向移動，便可使移動板133一起與搬出夾具73朝X方向進行移動。

因為搬入夾具74的橫行機構77構造亦屬同樣，因而圖5中，就橫行機構77的對應處便賦予相同元件符號並省略說明。

圖7A、7B及7C係用以說明搬出夾具73的構造之圖。圖7A係俯視圖，圖7C係從-Y方向所觀看到的側視圖，圖7B係從-X方向所觀看到的後視圖。

搬出夾具73係具備有：沿X方向呈相互平行延伸的懸臂樑狀之一對基板導件140、以及將該等基板導件140懸臂支撐的基座部141。在基板導件140的上面形成複數保持溝，俾支撐著依垂直姿勢且在水平方向積層的複數片基板W之下方緣部。保持溝的間隔係半節距。基座部141係朝Y方向延伸的截面C字狀長條體。在基座部141中，一對氣壓缸142係依動作桿呈相對向狀態而保持。在基座部141靠基板導件140側之側面，沿Y方向固定著線性導件143。一對基板導件140係經由連結構件144安裝於該線性導件143上。藉此，一對基板導件140便在相同高度位置處，於Y方向上呈相對向，且可沿Y方向進行移動。

連結構件144係結合於基板導件140的基端部，從該基端部立起的立起壁部145係結合於線性導件143，且，從立起壁部145的內側緣部上端朝水平延伸的水平部146，係通過基座部141的貫通孔147，而結合於氣壓缸142的動作桿。貫通孔147係沿基座部141的長邊方向延伸的長孔。

一對氣壓缸142係同步的驅動。藉由該等氣壓缸142的動作桿進行伸縮，一對基板導件140便可形成相互間隔較狹窄的閉位置(依實線所示之位置)、或相互間隔較寬廣的開位置(依二點鏈線所示之位置)。藉由將基板導件140形成閉位置，便可將基板W從下方支撐。依此的話，一對氣壓缸142便構成使一對基板導件在閉位置與開位置間進行變更的導件開閉單元。

將一對基板導件140形成於閉位置、並將搬出夾具73形成閉狀態時，基板導件140相互間的間隔便形成較寬於推動器6的升降保持部105寬度。所以，在基板移載位置S(參照圖2A)，便可依將搬出夾具73形成閉狀態、並保持基板W的狀態，而使推動器6的升降保持部105通過一對基板導件140間，並上升至第2移載高度H12。藉此，便可將基板W從搬出夾具73移載至推動器6的升降保持部105。

將一對基板導件140形成開位置、並將搬出夾具73形成開狀態時，基板導件140相互間的間隔便較寬於基板W的寬度(圓形基板的情況係直徑)，便形成可使基板W通過該等基板導件140間的狀態。所以，在基板移載位置S，從搬出夾具73將基板W移載至推動器6的升降保持部105後，若將搬出夾具73形成開狀態，便可通過一對基板導件140間，而使推動器6及其所保持的基板W下降。

圖8A、8B及8C所示係用以說明搬入夾具74的構造的圖。圖8A係俯視圖，圖8C係從-Y方向所觀看到的側視圖，圖8B係從-X方向所觀看到的後視圖。

搬入夾具74係具備有：在相同高度位置朝X方向平行延伸的懸臂樑狀之一對基板導件148、以及結合於該等一對基板導件148的基端部之基座部149。在基板導件148的上面形成複數保持溝，俾支撐著依垂直姿勢且在水平方向積層的複數片基板W之下方緣部。保持溝的間隔係半節距。一對基板導件148相互的間隔係固定，該間隔係較寬於推動器6的升降保持部105寬度。

在基板移載位置S，當從推動器6的升降保持部105將基板W移載於搬入夾具74時，保持基板W的升降保持部105便被配置於第1移載高度H11，且搬入夾具74將被引導於其下方位置處。若從該狀態，使升降保持部105通過一對基板導件148間並下降，便從升降保持部105將基板W移載於搬入夾具74上。

圖9A、9B及9C所示係用以說明仲介夾具75的構造的圖。圖9A係俯視圖，圖9C係從-Y方向所觀看到的側視圖，圖9B係從-X方向所觀看到的後視圖。

仲介夾具75係具備有：沿X方向呈相互平行延伸的懸臂樑狀之一對基板導件150、以及將該等基板導件150懸臂支撐的基座部151。在基板導件150上面形成複數保持溝，俾支撐著依垂直姿勢且在水平方向積層的複數片基板W之下方緣部。保持溝的間隔係半節距。基座部151係朝Y方向延伸的截面C字狀長條體。在基座部151中，一對氣壓缸152係依動作桿呈相對向狀態而保持。在基座部151靠基板導件150側之側面，沿Y方向固定著線性導件153。一對基板導件150係經由連結構件154安裝於該線性導件153上。藉此，一對基板導件150便在相同高度位置處，於Y方向上呈相對向，且可沿Y方向進行移動。

連結構件154係結合於基板導件150的基端部，從該基端部立起的立起壁部155係結合於線性導件153，且，從立起壁部155的內側緣部上端朝水平延伸的水平部156，係通過基座部151的貫通孔157，而結合於氣壓缸152的動作桿。貫通孔157係沿基座部151的長邊方向延伸的長孔。

一對氣壓缸152係同步的驅動。藉由該等氣壓缸152的動作桿進行伸縮，一對基板導件150便可形成相互間隔較狹窄的閉位置(依實線所示位置)、或相互間隔較寬廣的開位置(依二點鏈線所示位置)。藉由將基板導件150形成閉位置，便可將基板W從下方支撐。

將一對基板導件150形成開位置、並將仲介夾具75形成開狀態時，基板導件150相互間的間隔係較寬於基板W寬度(圓形基板的情況係直徑)，便可使基板W通過該等基板導件150間。所以，在基板轉讓位置P，當搬入夾具74在搬入高度H1保持基板W時，若將仲介夾具75形成開狀態並下降，則該基板導件150便可在不會干涉到由搬入夾具74所保持之基板W的情況下，朝搬入夾具74的下方移動。

將一對基板導件150形成閉位置、並將仲介夾具75形成閉狀態時，一對基板導件150相互間的間隔係較狹窄於搬入夾具74的一對基板導件148間之間隔。所以，在基板轉讓位置P(參照圖2A)處，當搬入夾具74將基板W依搬入高度H1保持時，若使仲介夾具75形成閉狀態，並從搬入夾具74的下方上升至移載高度H2，便可從搬入夾具74將基板W轉讓給仲介夾具75。

圖10A~圖10Q所示係用以說明基板搬入動作流程的圖解式說明圖。該基板搬入動作係藉由控制器9(參照圖1)，對主搬送機構3、搬出入機構4、姿勢轉換機構5、推動器6及轉讓機構7等各構件進行控制便可達成。

如圖10A所示，搬出入機構4係利用批次式機械臂40，從由晶圓盒保持部1所保持的晶圓盒F中，取出複數片(例如25片)未處理基板W，並朝姿勢轉換機構5進行搬送。此時，姿勢轉換機構5係被控制為水平保持姿勢，而一對第1保持機構51係被控制呈與未處理基板用保持溝群(例如保持溝群58)相對向的姿勢，一對第2保持機構52係被控制為與未處理基板用保持溝(例如保持溝63)呈相對向的姿勢。且，一對第2保持機構52係依未抵接於基板W的方式，配置於後退至與搬出入機構4之對向側的後退位置(圖3A中二點鏈線所示位置)。此外，基板規範機構53係配置於退縮位置(圖3A中二點鏈線所示位置)。另一方面，搬出夾具73係配置於推動器6的升降保持部105上方(基板移載位置S的搬出高度H0)。其理由係不會阻礙到主搬送機構3與仲介機構72間的基板轉讓。推動器6的升降保持部105係旋轉於原點位置(接受批次最初一半的旋轉位置)，且，移動至較垂直支撐姿勢時的第2保持機構52更靠下方的原點高度H10。

在此狀態下，如圖10B所示，從搬出入機構4將構成批次的最初一半之複數片基板W，統括地傳遞給姿勢轉換機構5。此時，姿勢轉換機構5的第1保持機構51係使各基板W插入於在水平方向呈相對向的一對保持溝58a中，並從下方支撐著該基板W相互對向的一對周緣部。

其次，姿勢轉換機構5係使第2保持機構52依靠近第1保持機構51的方式進行橫行。藉此，便形成圖10C的狀態。此時，第2保持機構52係位於前進位置(圖3A中實線所示之位置)，且成為在保持溝構件62的未處理基板用保持溝63中插入基板W的狀態。

從該狀態使姿勢轉換機構5的轉動塊體50進行轉動，便如圖10D所示形成垂直支撐姿勢。藉此，複數片基板W便從水平姿勢轉換姿勢為垂直姿勢，形成利用第2保持機構52保持下方側周緣部的狀態。在此狀態下，第1保持機構51係沿其軸方向朝轉動塊體50側移動，而使各保持溝58a離開基板W。

其次，如圖10E所示，使推動器6的升降保持部105上升至第1移載高度H11(未處理基板收取高度)。此時，升降保持部105係藉由通過第1與第2保持機構51、52間並上升，便從第2保持機構52統括地收取複數片基板W。藉此，便形成一批次的一半片數基板W依垂直姿勢由升降保持部105保持。此時，升降保持部105係由未處理基板用第1導件116保持基板W。

其次，如圖10F所示，使姿勢轉換機構5的轉動塊體50朝水平保持姿勢進行轉動。此外，第1保持機構51係沿其軸方向朝離開轉動塊體50的方向移動，而返回原點位置。且，第2保持機構52將返回後退位置(圖3A中二點鏈線所示位置)。在姿勢轉換機構5回復呈水平保持姿勢後，推動器6便使升降保持部105圍繞鉛直軸線進行180度旋轉。然後，升降保持部105將下降至原點高度H10。

其次，如圖10G~10J所示，關於構成批次其餘部分的其他複數片未處理基板W，施行如同圖10A~10D情況的相同動作。藉此，則成為例如25片基板W將依垂直姿勢由姿勢轉換機構5的第2保持機構52所保持，且在其下方則利用升降保持部105將其他(例如25片)基板W依垂直姿勢保持的狀態。此時，利用姿勢轉換機構5所保持之複數片基板W的節距、與由升降保持部105所保持複數片基板W的節距係相等，該等基板W係相互平行。所以，俯視中，二基板組係平行於基板面的水平方向位置呈相等，而垂直於基板面的水平方向位置僅偏移半節距。

從此狀態，如圖10K所示，若使推動器6的升降保持部105上升至第1移載高度H11，便從姿勢轉換機構5的第2保持機構52，將基板W轉讓給升降保持部105，便形成在升降保持部105上，將例如50片基板W依半節距保持的狀態。依此，便完成批次組。當升降保持部105上升時，由該升降保持部105所保持的複數片基板W，將通過第2保持機構52的保持溝構件62間之間隙65(參照圖3B)並上升。所以，該等基板W便不會干涉到第2保持機構52。

然後，如圖10L所示，使姿勢轉換機構5的轉動塊體50朝水平保持姿勢轉動。且，第1保持機構51係沿軸方向朝前端側移動而返回原點位置處，而第2保持機構52將返回後退位置(圖3A中二點鏈線所示之位置)。

其次，如圖10M所示，搬入夾具74將沿搬入高度H1的第2橫行路徑102(參照圖2B)進行橫行(水平移動)，並從基板轉讓位置P，在基板移載位置S前進至升降保持部105的下方位置。且，升降保持部105係依基板W的對齊方向整合於搬送路徑TP2之方式，圍繞鉛直軸線進行轉動。搬入高度H1係較高於升降保持部105的原點高度H10，且較低於第1移載高度H11。

從該狀態，如圖10N所示，推動器6係使升降保持部105從第1移載高度H11下降至原點高度H10。搬入夾具74的一對基板導件148之間隔係較窄於基板W寬度，並較寬於升降保持部105寬度。所以，升降保持部105係通過搬入夾具74的一對基板導件140間並下降，在此過程中，將從升降保持部105朝搬入夾具74統括地轉讓複數片(例如50片)未處理基板W。

其次，如圖100所示，搬入夾具74在搬入高度H1進行橫行，而從基板移載位置S朝基板轉讓位置P移動。接著，仲介夾具75便朝較搬入高度H1更靠下方(即搬入夾具74的下方位置)移動。在該下方移動之前，仲介夾具75便被控制呈將一對基板導件150的間隔打開之開狀態。藉此，基板導件150間的間隔便較寬於基板W的直徑。所以，仲介夾具75便可在不致干涉到由搬入夾具74所保持基板W的情況下，朝搬入夾具74的下方移動。

依此的話，如圖10P所示，若仲介夾具75移動至搬入夾具74的下方，仲介夾具75便形成將一對基板導件150的間隔變窄的閉狀態。此時，該一對基板導件150將形成位於較搬入夾具74的一對基板導件148更靠內側位置處。

從該狀態，依如圖10Q所示，使仲介夾具75上升至移載高度H2。在該上升過程中，由搬入夾具74所保持的複數片(例如50片)基板W，將統括地轉讓給仲介夾具75。然後，由該仲介夾具75所保持的複數片基板W，將利用主搬送機構3收取，並朝基板處理部2進行搬送。

當利用基板方向對齊機構13執行使基板W方向對齊的對齊動作時，便從圖100的狀態，在使仲介夾具75下降之前，便使基板方向對齊機構13的對齊處理頭16上升。然後，在使由搬入夾具74所保持的基板W僅上舉微小距離之狀態下，執行使基板W方向對齊的對齊處理。然後，藉由使對齊處理頭16下降，經對齊處理後的基板W便再度轉讓給搬入夾具74。

當搬入夾具74前進至推動器6位置(基板移載位置S)的狀態時，若仲介夾具75呈未保持基板W的狀態，亦可從圖10N的狀態使仲介夾具75預先下降，然後，使搬入夾具74後退至基板轉讓位置P。依此的話，因為可使仲介夾具75依閉狀態下降，便可將動作簡略化。

圖11A~11K所示係用以說明基板搬出動作流程的圖解式說明圖。該基板搬出動作係利用控制器9(參照圖1)對主搬送機構3、搬出入機構4、姿勢轉換機構5、推動器6、及轉讓機構7等各構件進行控制，便可達成。

經基板處理部2施行處理後的基板W，將利用主搬送機構3進行搬送，並傳遞給搬出夾具73。搬出夾具73係以不會妨礙主搬送機構3對仲介夾具75存取的方式，通常係設置於推動器6的升降保持部105上方(基板移載位置S)。所以，當利用主搬送機構3將處理畢基板W搬出時，搬出夾具73將沿搬出高度H0的第1橫行路徑101(參照圖2B)而橫行(水平移動)，並移動至基板轉讓位置P。該項移動後，藉由從主搬送機構3將處理畢基板W轉讓給搬出夾具73，便形成圖11A的狀態。

此時，姿勢轉換機構5係被控制為水平保持姿勢。一對第1保持機構51係被控制為使處理畢基板用保持溝群(例如保持溝群59)相對向的姿勢，而一對第2保持機構52係被控制為使處理畢基板用保持溝(例如保持溝64)相對向的姿勢。此外，一對第1保持機構51係控制呈沿軸方向且靠近轉動塊體50的位置(可確保在與依垂直姿勢且由第2保持機構52保持的基板W間之間隔的位置)。此外，一對第2保持機構52係配置於靠近第1保持機構51的前進位置(圖3A中實線所示之位置)。而，基板規範機構53係配置於退縮位置。推動器6的升降保持部105係控制呈處理畢基板保持用第2導件117的基板保持位置，較未處理基板保持用第1導件116的基板保持位置更靠上方狀態。

從該狀態，如圖11B所示，搬出夾具73將依搬出高度H0進行橫行，並朝推動器6的升降保持部105上方(基板移載位置S)移動。然後，升降保持部105將上升至搬出夾具73的位置(第2移載高度H12)，並從搬出夾具73中統括地收取經處理畢的複數片基板W。截至該基板W的收取完成為止前，搬出夾具73將處於閉狀態，即將一對基板導件140的間隔變狹的狀態。該閉狀態時，一對基板導件140的間隔係較寬於升降保持部105的寬度，且較狹於基板W的寬度(直徑)。所以，升降保持部105係通過一對基板導件140間並上升至第2移載高度H12，再從搬出夾具73中收取基板W。

在升降保持部105從搬出夾具73中收取到處理畢基板W之後，搬出夾具73便被控制呈開狀態，使一對基板導件140的間隔較寬於基板W的寬度(直徑)。藉此，升降保持部105便可一邊避免所保持基板W與搬出夾具73間發生干涉情形，並一邊下降。

從該狀態，依如圖11C所示，姿勢轉換機構5的轉動塊體50將轉動而形成垂直保持姿勢。然後，如圖11D所示，推動器6的升降保持部105將通過一對第1保持機構51與一對第2保持機構52之間，並下降至原點高度H10。在此過程中，批次的一半基板W將從升降保持部105轉讓給第2保持機構52。此時，批次的其餘一半基板W將通過第2保持機構52的保持溝構件62間之間隙65，仍維持由升降保持部105保持的狀態。依此的話，便進行批次解除。升降保持部105係若基板W位於較搬出夾具73更靠下方，則於基板W到達第1保持機構51前，便圍繞鉛直軸線進行轉動，俾使由升降保持部105所保持的基板W對齊方向與搬送路徑TP1進行整合。

接著，第1保持機構51沿軸方向朝前端側移動，形成用以將基板W依水平姿勢支撐的準備。然後，如圖11E所示，姿勢轉換機構5的轉動塊體50將轉動而形成水平保持姿勢。藉此，基板W便形成利用第1保持機構51依水平姿勢保持的狀態。此外，基板規範機構53將移動至規範基板W的規範位置處。在此狀態下，使第2保持機構52後退至後退位置(圖3A中二點鏈線所示之位置)。此時，若有欲追隨第2保持機構52的基板W，此種基板W的移動便利用基板規範機構53進行規範。所以，基板W係保持於由第1保持機構51所保持的狀態。

其次，如圖11F所示，利用搬出入機構4的批次式機械臂40，將由第1保持機構51所保持的複數片基板W統括地搬出，並收容於由晶圓盒保持部1所保持的晶圓盒F中。

其次，如圖11G所示，一對第1保持機構51係沿軸方向朝基端部側移動，當由第2保持機構52依垂直姿勢保持基板W時，便可確保與基板W間的間隔。此外，一對第2保持機構52係配置於靠近第1保持機構51的前進位置(圖3A中實線所示之位置)。基板規範機構53係配置於退縮位置。此外，推動器6將使升降保持部105上升。

從該狀態，依如圖11H所示，姿勢轉換機構5將使轉動塊體50轉動而呈垂直保持姿勢。然後，推動器6將在第1與第2保持機構51、52的上方，使升降保持部105圍繞鉛直軸線進行180度旋轉。藉此，由升降保持部105所保持複數片基板W的位置、與第2保持機構52的基板保持位置便整合。

然後，如圖111所示，推動器6將使升降保持部105下降至原點高度H10。在此過程中，由升降保持部105所保持的複數片基板W，將統括地轉讓給第2保持機構52。在基板W轉讓給第2保持機構52之後，第1保持機構51便沿軸方向朝前端側移動，並形成可抵接於基板W表面的狀態，且準備基板W的水平保持。

接著，如圖11J所示，姿勢轉換機構5的轉動塊體50進行轉動而形成水平保持姿勢。藉此，基板W係形成利用第1保持機構51依水平姿勢保持的狀態。此外，基板規範機構53將移動至規範基板W的規範位置處。在此狀態下，第2保持機構52將後退至後退位置(圖3A中二點鏈線所示位置)。此時，若有欲追隨第2保持機構52的基板W，則此種基板W的移動便由基板規範機構53進行規範。所以，基板W將保持於由第1保持機構51所保持的狀態。

其次，如圖11K所示，利用搬出入機構4的批次式機械臂40，將由第1保持機構51所保持的複數片基板W統括地搬出，並收容於由晶圓盒保持部1所保持的晶圓盒F中。該晶圓盒F係不同於收容著構成批次的最初一半基板W之晶圓盒F。

依此，根據本實施形態，利用沿第1橫行路徑101橫行的搬出夾具73，將處理畢基板W從基板轉讓位置P搬送至基板移載位置S，並利用沿第1橫行路徑101下方的第2橫行路徑102橫行之搬入夾具74，將未處理基板W從基板移載位置S搬送至基板轉讓位置P。藉此，因為基板移載位置S與基板轉讓位置P間的基板搬送便可利用2系統實施，因而在將未處理基板W朝基板轉讓位置P進行搬送的期間，主搬送機構3亦可將處理畢基板W搬出。藉此，便可提升基板處理速度。且，由於第1與第2橫行路徑101、102係上下方向重疊，因而可在抑制基板處理裝置10的佔用面積情況下，設置2系統搬送路徑。

因為將基板移載位置S與基板轉讓位置P間的搬送路徑設為2系統，所以可考慮設置一對推動器，並使該一對推動器在基板移載位置S與基板轉讓位置P間橫行。但是，若形成此種構造，除會大幅增加基板處理裝置10的佔用面積之外，亦因設置一對複雜構造的推動器，因而將導致成本大幅增加。

相對於此，本實施形態構造的情況，如前述，由於有配置第1與第2橫行路徑101、102，因而可抑制佔用面積。除此之外，只要搬出夾具73與搬入夾具74可以橫行便可，因而用以驅動該等的構造便不會如何的複雜，而因應此情形，亦會減少成本之增加。所以，能依成本較低的構造，確保2系統的搬送路徑，且能提升基板處理速度。

再者，本實施形態中，在基板轉讓位置P設置進行上下動作的仲介夾具75，藉此便可確保所謂的緩衝器位置。藉由此種構造，便可在抑制基板搬送滯留的情況下，有助於基板處理速度的提升。且，因為仲介夾具75只要可上下動作便足夠，並不需要橫行，因而該驅動機構的構造並不會複雜。所以，能依低成本的構造，確保緩衝器位置，並可達基板處理速度的提升。

圖12所示係用以說明搬出入機構4的迴轉及上下動作之相關構造的剖視圖。保持基座41係固定於迴轉塊體42的上端，迴轉塊體42係對升降塊體43安裝成可圍繞鉛直軸線進行轉動狀態，升降塊體43係對基台部44安裝成可在Z方向升降自如。在迴轉塊體42中內建有迴轉機構45，而在基台部44中設置有升降機構46。

迴轉塊體42係形成筒狀。迴轉機構45係具備有：固定於迴轉塊體42內部的馬達161、以及輸入該馬達161驅動力的齒輪頭162。齒輪頭162係結合於迴轉塊體42的下端。該齒輪頭162的輸出軸162a係結合於升降塊體43的上端。

藉由該項構造，若驅動馬達161，則該驅動力便經由齒輪頭162傳動給升降塊體43。由於升降塊體43係依非轉動狀態結合於基台部44，因此利用來自該升降塊體43的反作用力，使齒輪頭162及其所結合的迴轉塊體42圍繞鉛直軸線進行轉動。

升降機構46係具備有馬達165與滾珠螺桿機構166。馬達165係收容於基台部44中，並對該基台部44進行固定。馬達165的驅動力係經由齒輪頭167而傳動給滾珠螺桿機構166的螺桿軸168。螺桿軸168係沿鉛直方向配置。該螺桿軸168係螺合於滾珠螺帽169。該滾珠螺帽169係結合於升降塊體43。升降塊體43朝Z方向的升降移動係利用未圖示線性導件進行導引。

藉由此構造，便可利用馬達165的驅動，而使滾珠螺帽169進行上下動作，因應此情形，便可使升降塊體43及其所保持的迴轉塊體42升降。依此的話，因為可使由迴轉塊體42所支撐的保持基座41升降，因而可使由保持基座41所支撐的單片式機械臂39及批次式機械臂40升降。

圖13A所示係用以說明單片式機械臂39、批次式機械臂40、及用以使該等進行進退的進退驅動機構47之構造的透視側視圖。此外，圖13B所示係從圖13A的箭頭A4方向所觀看到的後視圖。批次式機械臂40係具備有機械臂要件組175。機械臂要件組175係由在Z方向積層的複數機械臂要件176構成。各機械臂要件176係朝水平方向延伸，並在正交於其延伸方向的另一水平方向上，形成每一對各自相對向。而，在水平方向呈相對向的各一對機械臂要件176，係構成可將1片基板W依水平姿勢從下方支撐狀態。機械臂要件176在Z方向的排列節距，係等於晶圓盒F內的基板收容位置排列節距。

左側的機械臂要件176係利用左支撐塊177(圖13A中省略圖示)而懸臂支撐，右側的機械臂要件176係利用右支撐塊178而懸臂支撐。左支撐塊177係將在水平方向呈相對向的各對機械臂要件176其中一側，依在Z方向積層的狀態而支撐。右支撐塊178係將上述各對機械臂要件的另一側，依在Z方向積層的狀態而支撐。該等左右支撐塊177、178係結合於機械臂開閉機構180。機械臂開閉機構180係更進一步經由進退支撐架179，而結合於保持基座41。

在批次式機械臂40的下方，配置著單片式機械臂39。更正確言之，當批次式機械臂40或單片式機械臂39中任一者位於後退位置時，該等便依Z方向積層的狀態而配置。

單片式機械臂39係具有如同批次式機械臂40的機械臂要件176的相同機械臂要件186。即，機械臂要件186係朝水平方向延伸，且在正交於該延伸方向的另一水平方向上，依呈相對向方式而設置一對。該一對機械臂要件186係可將該1片基板W依水平姿勢從下方支撐。其中一機械臂要件186係由左機械臂支撐構件187懸臂支撐，而另一機械臂要件186係由右機械臂支撐構件188懸臂支撐。該等左右機械臂支撐構件187、188係結合於機械臂開閉機構190。機械臂開閉機構190係經由進退支撐架189而結合於保持基座41。

供批次式機械臂40用的進退支撐架179，係具備有：支撐著機械臂開閉機構溝180的支撐部182、以及該支撐部182固定於頂面且後視呈略橫向C字形的連結部183。連結部183係依當單片式機械臂39位於後退位置時，便內含機械臂開閉機構190的方式形成，並依當單片式機械臂39或批次式機械臂40進退時，便可迴避與單片式機械臂39等間發生干涉的方式形成。更具體言之，連結部183係具備有：固定支撐部182的頂面部183a、配置於單片式機械臂39的側邊且從頂面部183a的二側緣下垂的一對側面部183b、以及從該等一對側面部183b的下緣朝相互靠近的方向而伸出之一對底面部183c。在一對底面部183c之間，確保供單片式機械臂39用的進退支撐架189進行移動之移動空間。

圖14所示係用以說明進退驅動機構47構造的圖解俯視圖。將該圖14一併參照於圖13A與圖13B。

進退驅動機構47係具備有：用以使單片式機械臂39進行進退的單片式機械臂進退機構201、以及用以使批次式機械臂40進行進退的批次式機械臂進退機構202。

單片式機械臂進退機構201係具備有線性導件205與皮帶驅動機構206。線性導件205係在機械臂要件186的延伸方向上平行地延伸配置，並固定於在保持基座41內底面所立設的板狀支撐構件207之上端面。皮帶驅動機構206係具備有：馬達208、驅動滑輪209、從動滑輪210、皮帶211、及惰輪212。馬達208係固定於保持基座41的下面側。驅動滑輪209係配置於保持基座41的底面壁上面，形成賦予來自馬達208的驅動力狀態。從動滑輪210係配置成為對驅動滑輪209在平行於線性導件205的方向上呈相對向狀態。皮帶211係繞掛於該等驅動滑輪209及從動滑輪210之間。惰輪212係依對皮帶211賦予張力的方式，從外周側接觸皮帶211。供單片式機械臂39用的進退支撐架189係結合於線性導件205，並利用該線性導件205進行導引，而可進行直線移動。在進退支撐架189的下端部設置皮帶固定部189a。該皮帶固定部189a係與皮帶按壓213一起夾持著皮帶211。

若驅動馬達208，驅動滑輪209便旋轉，隨此動作，皮帶211便進行繞圈。其結果，對進退支撐架189賦予驅動力的結果，該進退支撐架189將一邊被線性導件205導引、一邊進行直線移動。藉此，便可使由進退支撐架189經由機械臂開閉機構190所支撐的單片式機械臂39進行進退。

批次式機械臂進退機構202係具備有：左右一對線性導件215、與皮帶驅動機構216。一對線性導件205係相互平行，並在機械臂要件176延伸方向呈平行延伸配置。該等一對線性導件205係分別固定於在保持基座41內底面所立設之板狀的一對支撐構件217的上端面。皮帶驅動機構216係具備有：馬達218、驅動滑輪219、從動滑輪220、皮帶221、及惰輪222。馬達218係固定於保持基座41的下面。驅動滑輪219係配置於保持基座41的底面壁上面，並賦予來自馬達218的驅動力。從動滑輪220係配置成為對驅動滑輪219在線性導件215的平行方向上呈相對向狀態。皮帶221係繞掛於該等驅動滑輪219與從動滑輪220間。惰輪222係依對皮帶221賦予張力的方式，從外周側接觸皮帶221。供批次式機械臂40用的進退支撐架179係其連結部183的一對底面部183c分別結合於一對線性導件215，並利用該等線性導件215進行導引，便可進行直線移動。從連結部183其中一底面部183c的內緣，下垂著皮帶固定部183d。該皮帶固定部183d係與皮帶按壓223一起夾持著皮帶221。

若驅動馬達218，驅動滑輪219便旋轉，隨此動作，皮帶221便繞圈。其結果，對進退支撐架179賦予驅動力的結果，該進退支撐架179將一邊被線性導件215導引、一邊進行直線移動。藉此，便可使由進退支撐架179經由機械臂開閉機構溝180所支撐的批次式機械臂40進行進退。

線性導件205、215係在保持基座41上相互平行而固定，所以，單片式機械臂39及批次式機械臂40係在相互平行的方向上進退。本實施形態中，單片式機械臂39及批次式機械臂40的進退路徑係上下方向重疊，在該等後退位置處，單片式機械臂39及批次式機械臂40將形成上下積層的位置關係。更具體而言，單片式機械臂39的進退路徑係位於批次式機械臂40的進退路徑下方，當機械臂39、40均位於後退位置時，單片式機械臂39便位於批次式機械臂40的正下方。所以，使保持基座41進行迴轉時，藉由將機械臂39、40控制於後退位置，便可縮小搬出入機構4的迴轉半徑，因而可縮小搬出入機構4的設置空間，因應於此，便可抑制基板處理裝置10的佔用面積。

圖15所示係用以說明單片式機械臂39及機械臂開閉機構190的構造的剖視圖。將該圖15一併參照於圖13A與圖13B。

將在水平方向呈相對向配置的一對機械臂要件186，區分並稱為「左機械臂要件186L」及「右機械臂要件186R」。左機械臂要件186L係由左機械臂支撐構件187懸臂支撐，而右機械臂要件186R係由右機械臂支撐構件188懸臂支撐。

左右機械臂要件186L、186R的前端緣，係形成隨朝外邊而朝基端部側後退的傾斜邊(正確言之係在途中彎曲的彎曲傾斜邊)，而在該前端緣配置著第1與第2基板支撐部的內側基板導件225及外側基板導件226。內側基板導件225係與由該單片式機械臂39所保持之狀態的基板W中心之距離，較短於外側基板導件226。即，相對於基板W的中心，內側基板導件225係位於相對內側，而外側基板導件226係位於相對外側。

在機械臂要件186L、186R的基端部上面，配置著第1與第2基板支撐部的內側基板導件227及外側基板導件228。內側基板導件227係相對於基板W的中心，位於相對內側，而外側基板導件228則位於相對外側。

基板導件225~228係形成俯視圓形(其中，前端側的基板導件225、226係半圓形)，如圖16所示，在中央部將形成圓柱狀突出部240。該突出部的周圍係形成隨朝外邊而逐漸降低的圓錐面狀傾斜面241。在該傾斜面241上，基板W的周端緣係形成點接觸狀態。所以，基板W的水平移動便利用突出部240的周面進行規範。

外側基板導件226、228係整體形成較高於內側基板導件225、227。即，利用外側基板導件226、228所形成的基板保持高度，係較高於由內側基板導件225、227所形成的基板保持高度。更具體而言，當利用外側基板導件226、228保持基板W時，該基板W下面的高度係較高於內側基板導件225、227的突出部240，所以，基板W便不會接觸到內側基板導件225、227。

若從左右機械臂要件176L、176R的對向方向(機械臂要件的開閉方向)觀看，內側基板導件225、227係較外側基板導件226、228位於更靠外側。所以，在將左右機械臂要件186L、186R的間隔相對性擴大之開狀態(圖15所示狀態)下，利用內側基板導件225、227保持基板W，而外側基板導件226、228係較基板W的外周緣更靠外側，且不會接觸到基板W。相對於此，在將左右機械臂要件186L、186R的間隔相對性變狹窄之閉狀態下，利用外側基板導件226、228保持基板W，而內側基板導件225、227係較基板W下面更靠下方，且不會接觸到基板W。所以，利用左右機械臂要件186L、186R的開閉，便可選擇由內側基板導件225、227或外側基板導件226、228中之任一者保持基板W。

本實施形態中，係以將未處理基板W進行搬送時，便依將單片式機械臂39形成閉狀態，並利用外側基板導件226、228支撐著基板W，而當將處理畢基板W進行搬送時，便將單片式機械臂39形成開狀態，並利用內側基板導件225、227支撐著基板W的方式，控制著機械臂開閉機構190的動作。當然，亦可將未處理基板W及處理畢基板W、與單片式機械臂39之開閉狀態間的對應關係反轉，使未處理基板W由內側基板導件225、227支撐，另一方面使處理畢基板W由外側基板導件226、228支撐。

機械臂開閉機構190係具備有：開閉導件部231、左氣壓缸232L、及右氣壓缸232R。開閉導件部231係具備有：導件座233、以及插通於該導件座233中的4支導軸234。4支導軸234係沿平行於機械臂要件186開閉方向的水平方向，而插通於導件座233中。該等導軸234係沿單片式機械臂39的進退方向排列。在4支導軸234中相隔一支配置的2支導軸234，各一端係結合於朝左機械臂支撐構件187後方伸出的腕部，而各另一端則插通於在朝右機械臂支撐構件188後方伸出的腕部上所形成插通孔188a中。插通該插通孔188a的端部間係利用連結板235相結合。其餘的2支導軸234係各一端結合於右機械臂支撐構件188，而各另一端係插通於在左機械臂支撐構件187上所形成的插通孔187a中。插通該插通孔187a的端部間係利用連結板236相結合。

左右氣壓缸232L、232R係由保持導件座233的進退支撐架189所保持。該等氣壓缸232L、232R的動作桿係分別結合於朝左右機械臂支撐構件187、188的後方伸出之腕部上。

藉由該項構造，藉由驅動氣壓缸232L、232R，機械臂支撐構件187、188便一邊由開閉導件部231導引，一邊相互靠近或離開。藉此，便可將左右機械臂要件186L、186R的間隔變狹窄而將單片式機械臂39形成閉狀態，或將該等的間隔擴大而使單片式機械臂39形成開狀態。

圖17所示係用以說明批次式機械臂40等的構造的俯視圖。將該圖17一併參照於圖13A及圖13B。

批次式機械臂40的機械臂要件組175係每一對均在水平方向上呈相對向配置。將該等在水平方向呈相對向配置的一對機械臂要件176，區分並稱為「左機械臂要件176L」及「右機械臂要件176R」。左機械臂要件176L係由左支撐塊177懸臂支撐，而右機械臂要件176R係由右支撐塊178懸臂支撐。

左右機械臂要件176L、176R的前端緣，係形成隨朝外邊而朝基端部側後退的傾斜邊(正確言之係在途中彎曲的彎曲傾斜邊)，在該前端緣配置著內側基板導件245與外側基板導件246。內側基板導件245係與由機械臂要件176L、176R所保持狀態的基板W中心之距離，較短於外側基板導件246。即，相對於基板W的中心，內側基板導件245係位於相對內側，而外側基板導件246係位於相對外側。在機械臂要件176L、176R的基端部上面，配置著內側基板導件247與外側基板導件248。內側基板導件247係相對於基板W的中心，位於相對內側，而外側基板導件248則位於相對外側。

基板導件245~248係如同在單片式機械臂39上所設置之前述基板導件225~228而為相同構造。即，基板導件245~248係形成俯視圓形(其中，前端側的基板導件245、246係半圓形)，在中央部將形成圓柱狀突出部。該突出部的周圍係形成隨朝外邊而逐漸降低的圓錐面狀傾斜面。在該傾斜面上，基板W的周端緣係形成點接觸狀態。所以，基板W的水平移動便利用突出部的周面進行規範。

外側基板導件246、248係整體形成較高於內側基板導件245、247。即，利用外側基板導件246、248所形成的基板保持高度，係較高於由內側基板導件245、247所形成的基板保持高度。更具體而言，當利用外側基板導件246、248保持基板W時，該基板W下面的高度係較高於內側基板導件245、247的突出部，所以，基板W便不會接觸到內側基板導件245、247。

若從左右機械臂要件176L、176R的對向方向(機械臂要件的開閉方向)觀看，內側基板導件245、247係較外側基板導件246、248位於更靠外側。所以，在將左右機械臂要件176L、176R的間隔相對性擴大之開狀態下，利用內側基板導件245、247保持基板W，而外側基板導件246、248係較基板W的外周緣更靠外側，且不會接觸到基板W。相對於此，在將左右機械臂要件176L、176R的間隔相對性變狹窄之閉狀態下，利用外側基板導件246、248保持基板W，而內側基板導件245、247係較基板W下面更靠下方，且不會接觸到基板W。所以，利用左右機械臂要件176L、176R的開閉，便可選擇由內側基板導件245、247或外側基板導件246、248中之任一者保持基板W。

本實施形態中，係以將未處理基板W進行搬送時，便依將批次式機械臂40形成閉狀態，並利用外側基板導件246、248支撐著基板W，而當將處理畢基板W進行搬送時，便將批次式機械臂40形成開狀態，並利用內側基板導件245、247支撐著基板W的方式，控制著機械臂開閉機構180的動作。當然，亦可將未處理基板W及處理畢基板W、與批次式機械臂40之開閉狀態間的對應關係反轉，使未處理基板W由內側基板導件245、247支撐，而使處理畢基板W由外側基板導件246、248支撐。

機械臂開閉機構180係具備有：開閉導件部251、左氣壓缸252L、及右氣壓缸252R。開閉導件部251係具備有：導件座253、以及插通於該導件座253中的4支導軸254。導件座253係朝上下方向形成長立方體形狀，而4支導軸254係沿平行於機械臂要件176L、176R開閉方向的水平方向，插通於導座253中。該等導軸254係側視(參照圖13A)分別配置於矩形4個頂點所對應位置處。在該矩形的對角位置處所配置之2支導軸254，係各一端結合於左支撐塊177的後方伸出部，而各另一端則插通於在右支撐塊178的後方伸出部所形成插通孔178a中。插通該插通孔178a的端部間係利用連結板255相結合。在上述矩形的另一對角位置所配置其餘2支導軸254，係各一端結合於右支撐塊178的後方伸出部，而各另一端則插通於在左支撐塊177的後方伸出部所形成插通孔177a中。插通該插通孔177a的端部間係利用連結板256相結合。

在導件座253中，於背面視在中央部形成矩形開口部253a。在該開口部253a的二側面，固定著左右氣壓缸252L、252R。該等氣壓缸252L、252R的動作桿分別結合於左右支撐塊177、178。

藉由該項構造，藉由驅動氣壓缸252L、252R，支撐塊177、178便一邊由開閉導件部251導引，一邊相互靠近或離開。藉此，便可形成將左右機械臂要件176L、176R的間隔擴大而使批次式機械臂40形成開狀態，或將機械臂要件176L、176R的間隔變狹窄而使批次式機械臂40形成閉狀態。

其次，針對搬出入機構4的動作例進行說明。搬出入機構4的動作係利用控制器9針對搬出入機構4的各構件，特別係迴轉機構45、升降機構46、單片式機械臂進退機構201及批次式機械臂進退機構202進行控制而達成。

第1動作例係就在晶圓盒F中收容25片未處理基板W，並將該等統括地搬送於姿勢轉換機構5中的動作(統括搬送)進行說明。

搬出入機構4係利用迴轉機構45使保持基座41進行迴轉，而使批次式機械臂40與晶圓盒F相對向。在此狀態下，批次式機械臂進退機構202係使批次式機械臂40朝晶圓盒F前進，而使各機械臂要件176進入晶圓盒F內的各基板W下方。此時，批次式機械臂40係呈閉狀態(由外側基板導件246、248支撐著基板W的狀態)。接著，利用升降機構46的作用，藉由使保持基座41僅上升微小距離(例如，等於晶圓盒F內的基板保持位置之節距)，而使批次式機械臂40上升，並統括地收取圓盒F內的25片基板W。在此狀態下，批次式機械臂進退機構202將使批次式機械臂40後退。藉此，便將晶圓盒F內的25片基板W統括地搬出。

其次，利用迴轉機構45使保持基座41進行迴轉，而使批次式機械臂40與姿勢轉換機構5相對向。在此狀態下，批次式機械臂進退機構202係使批次式機械臂40朝姿勢轉換機構5前進，而使複數片基板W進入第1保持機構51的複數保持溝中。此時，一對第1保持機構51係被控制成與未處理基板用保持溝群呈相對向的姿勢。接著，利用升降機構46的作用，使保持基座41僅下降微小距離(例如，等於第1保持機構51中的保持溝節距)，藉此便使批次式機械臂40下降，再將25片基板W從批次式機械臂40統括地傳遞給第1保持機構51。在此狀態下，批次式機械臂進退機構202係使批次式機械臂40後退。藉此，便完成從晶圓盒F對姿勢轉換機構5的統括搬送。

第2動作例係就由姿勢轉換機機構5保持25片處理畢基板W，並將該等統括地搬送入晶圓盒F中的動作(統括搬送)進行說明。

搬出入機構4係利用迴轉機構45使保持基座41進行迴轉，而使批次式機械臂40與姿勢轉換機構5相對向。在此狀態下，批次式機械臂進退機構202係使批次式機械臂40朝姿勢轉換機構5前進，而使各機械臂要件176進入由第1保持機構51的各保持溝所保持之各基板W下方。此時，一對第1保持機構51係使未處理基板用保持溝群呈相對向。且，批次式機械臂40係形成開狀態(由內側基板導件245、247支撐著基板W的狀態)。接著，利用升降機構46的作用，使保持基座41僅上升微小距離(例如等於第1保持機構51中的保持溝節距)，藉此便使批次式機械臂40上升，而統括地收取由第1保持機構51所保持的25片基板W。在此狀態下，批次式機械臂進退機構202係使批次式機械臂40後退。藉此，便從第1保持機構51中統括地搬出25片基板W。

接著，利用迴轉機構45使保持基座41進行迴轉，而使批次式機械臂40與晶圓盒F呈相對向。在此狀態下，批次式機械臂進退機構202係使批次式機械臂40朝晶圓盒F前進，而使複數片基板W進入較晶圓盒F內的基板保持高度之若干上方位置處。接著，利用升降機構46的作用，使保持基座41僅下降微小距離(例如等於晶圓盒F內的基板保持位置節距)，便使批次式機械臂40下降，再將25片基板W統括地從批次式機械臂40傳遞給晶圓盒F內的基板保持架。在此狀態下，批次式機械臂進退機構202係使批次式機械臂40後退。藉此，便完成從姿勢轉換機構5對晶圓盒F的統括搬送。

第3動作例係就將晶圓盒F中所收容的未處理基板W，每次1片搬送入姿勢轉換機構5中的動作(單片搬送)進行說明。

搬出入機構4係利用迴轉機構45使保持基座41進行迴轉，而使單片式機械臂39與晶圓盒F相對向。此外，藉由利用升降機構46的作用使保持基座41升降，將單片式機械臂39的高度控制成較晶圓盒F內的搬送對象基板W收容位置，更靠下方微小距離(較短於晶圓盒F內的基板收容位置間隔之距離)的高度。在此狀態下，單片式機械臂進退機構201係使單片式機械臂39朝晶圓盒F前進，而使單片式機械臂39進入搬送對象基板W的下方。此時，單片式機械臂39係呈閉狀態(由外側基板導件226、228支撐著基板W的狀態)。接著，利用升降機構46的作用，使保持基座41僅上升微小距離(例如，等於晶圓盒F內的基板保持位置節距)，藉此便使單片式機械臂39上升，並收取晶圓盒F內的1片搬送對象基板W。在此狀態下，單片式機械臂進退機構201係使單片式機械臂39後退。藉此，便將晶圓盒F內的1片搬送對象基板W搬出。

接著，利用迴轉機構45使保持基座41進行迴轉，而使單片式機械臂39與姿勢轉換機構5相對向。且，視需要，利用升降機構46的作用，使保持基座41升降，藉以變更單片式機械臂39的高度。藉此，便可將由單片式機械臂39所保持的基板W，傳遞給第1保持機構51的任意高度保持溝中。

接著，單片式機械臂進退機構201係使單片式機械臂39朝姿勢轉換機構5前進，而使1片基板W進入第1保持機構51的複數保持溝中任一者中(對應於單片式機械臂39高度的保持溝)。此時，一對第1保持機構51係被控制成與未處理基板用保持溝群呈相對向之姿勢。

接著，利用升降機構46的作用，使保持基座41僅下降微小距離(例如，等於第1保持機構51中的保持溝節距)，藉此便使單片式機械臂39下降，再將1片基板W從單片式機械臂39傳遞給第1保持機構51。在此狀態下，單片式機械臂進退機構201係使單片式機械臂39後退。藉此，便完成從晶圓盒F朝姿勢轉換機構5的單片搬送。

藉由重複執行此單片搬送，便可將複數片基板W從晶圓盒F搬送給姿勢轉換機構5。此時，可將在晶圓盒F內被保持於任意基板保持位置的基板W，搬送至第1保持機構51的任意高度保持溝中。所以，可依與晶圓盒F內的基板W排列狀態不同的排列狀態，由第1保持機構51保持基板W。具體而言，可依與晶圓盒F內的基板W排列順序不同的順序，由第1保持機構51保持基板W。此外，當晶圓盒F內依不相等間隔保持未滿25片(例如數片)基板W時，可使該等基板W依等間隔由第1保持機構51保持。此外，當在晶圓盒F內的中段位置保持數片基板W時，便可使該等基板W固定排列於第1保持機構51的上段位置或下段位置。

第4動作例係就將由姿勢轉換機構5所保持的處理畢基板W，每次1片搬送入晶圓盒F中的動作(單片搬送)進行說明。

搬出入機構4係利用迴轉機構45使保持基座41進行迴轉，而使單片式機械臂39與姿勢轉換機構5相對向。且，利用升降機構46的作用，使保持基座41升降，藉此便將單片式機械臂39的高度控制為較由姿勢轉換機構5的第1保持機構51所保持之搬送對象基板W的收容位置，更靠下方微小距離(較短於第1保持機構51之保持溝間隔的距離)的高度。在此狀態下，單片式機械臂進退機構201係使單片式機械臂39朝姿勢轉換機構5前進，而使單片式機械臂39進入搬送對象基板W的下方。此時，一對第1保持機構51係被控制成與處理畢基板用保持溝群呈相對向的姿勢。此外，單片式機械臂39係呈開狀態(由內側基板導件225、227支撐著基板W的狀態)。

其次，利用升降機構46的作用，使保持基座41僅上升微小距離(例如，等於第1保持機構51中的保持溝節距)，藉此便使單片式機械臂39上升，再從第1保持機構51中收取1片搬送對象基板W。在此狀態下，單片式機械臂進退機構201係使單片式機械臂39後退。藉此，便從第1保持機構51中搬出1片搬送對象基板W。

接著，利用迴轉機構45使保持基座41進行迴轉，便使單片式機械臂39與晶圓盒F相對向。且，視需要，利用升降機構46的作用，使保持基座41升降，藉以變更單片式機械臂39的高度。藉此，便可將由單片式機械臂39所保持的基板W，傳遞給晶圓盒F的任意高度基板保持架。

接著，單片式機械臂進退機構201係使單片式機械臂39朝晶圓盒F前進，而使1片基板W進入晶圓盒F內的複數基板保持架中任一者(對應於單片式機械臂39高度的基板保持架)。

接著，利用升降機構46的作用，使保持基座41僅下降微小距離(例如等於晶圓盒F內的基板保持位置節距)，藉此便使單片式機械臂39下降，再將1片基板W從單片式機械臂39傳遞給晶圓盒F的基板保持架。在此狀態下，單片式機械臂進退機構201係使單片式機械臂39後退。藉此，便完成從姿勢轉換機構5朝晶圓盒F的單片搬送。

藉由重複執行此單片搬送，便可將複數片基板W從姿勢轉換機構5搬送給晶圓盒F。此時，可將由第1保持機構51的任意保持部溝所保持之基板W，搬送給晶圓盒F的任意高度基板保持架。所以，可依與第1保持機構51中的基板W排列狀態不同的排列狀態，將基板W收容於晶圓盒F中。具體而言，可依與第1保持機構51中的基板W排列順序不同之順序，將基板W收容於晶圓盒F中。例如上述第3動作例所述，當一邊變更晶圓盒F內的未處理基板W排列，一邊搬送入第1保持機構51的情況，在對該等基板W施行處理後，便可將該等處理畢基板W依原本的排列狀態送返晶圓盒F中。

第5動作例係就統括搬送與單片搬送的組合進行說明。

例如從一個晶圓盒F中取出25片未處理基板W，並搬送給姿勢轉換機構5，再從另一晶圓盒F中取出1片未處理基板W(例如測試用之虛設基板)，並搬送給姿勢轉換機構5，使姿勢轉換機構5中合計保持26片基板W的情況。

此情況，首先利用上述第1動作例中所說明使用批次式機械臂40進行的統括搬送，將25片未處理基板W從一個晶圓盒F搬送入姿勢轉換機構5。接著，利用上述第3動作例所說明使用單片式機械臂39進行的單片搬送，從另一晶圓盒F將1片未處理基板W搬送給姿勢轉換機構5。

再者，另一動作例亦可從一個晶圓盒F中利用批次式機械臂40統括地搬出25片未處理基板W，並從另一晶圓盒F中利用單片式機械臂39搬出1片未處理基板W，而使合計26片未處理基板W由搬出入機構4保持。然後，利用迴轉機構45，使單片式機械臂39與批次式機械臂40迴轉至與姿勢轉換機構5相對向為止之後，便利用批次式機械臂40將25片基板W統括地搬入姿勢轉換機構5中，更利用單片式機械臂39將剩餘的1片基板W搬入姿勢轉換機構5中便可。

另一方面，有由姿勢轉換機構5保持經處理畢26片基板W，將其中的25片基板W收容於一個晶圓盒F中，並將剩餘的1片基板W(例如測試用之虛設基板)收容於另一晶圓盒F中的情況。

此情況，首先，利用上述第2動作例所說明使用批次式機械臂40進行的統括搬送，將25片處理畢基板W從姿勢轉換機構5搬送給一個晶圓盒F。接著，利用上述第4動作例所說明使用單片式機械臂39進行的單片搬送，從姿勢轉換機構5將剩餘的1片基板W搬送給另一晶圓盒F。

再者，另一動作例亦可從姿勢轉換機構5中將25片處理畢基板W利用批次式機械臂40統括地搬出，並利用單片式機械臂39將剩餘的1片處理畢基板W搬出，而使合計26片處理畢基板W由搬出入機構4保持。然後，利用迴轉機構45，使單片式機械臂39與批次式機械臂40迴轉至與晶圓盒F相對向為止之後，便利用批次式機械臂40將25片基板W統括地搬入一個晶圓盒F中，更利用單片式機械臂39將剩餘的1片基板W搬入至另一晶圓盒F中便可。

統括搬送與單片搬送的切換，亦可依照由晶圓盒保持部1所保持晶圓盒F內的基板片數實施。例如當晶圓盒F內收容著既定片數以上的未處理基板W時，便執行依照上述第1動作例的統括搬送，另一方面，當晶圓盒F內收容著未滿上述既定片數的未處理基板W時，亦可執行依照上述第3動作例所進行的單片搬送。當然，即使在晶圓盒F內收容著25片基板W時，為能變更基板W的排列順序，亦可採用依照上述第3動作例的單片搬送。

如上述，根據本實施形態，構成由保持基座41共通地保持單片式機械臂進退機構201及批次式機械臂進退機構202，並利用該等使單片式機械臂39及批次式機械臂40獨立地進退。此外，保持基座41係利用迴轉機構45圍繞鉛直軸線進行迴轉，並利用升降機構46升降，因而利用單片式機械臂39及批次式機械臂40便共享迴轉機構45及升降機構46。

藉由此種構造，因為可立即切換依批次式機械臂40進行的統括搬送、和依單片式機械臂39進行的單片搬送，所以不需要用以更換機械臂的時間。此外，因為非如垂直多關節機械臂型機器人般，需要構成為進行基板W水平搬送用的複數軸同步驅動構造，因而可使基板W的搬送高速化。所以，可提升基板處理速度。

再者，因為不需要使用如垂直多關節機械臂型機器人般的複雜構造搬送機構，且亦不需要機械臂更換部，因而可使構造趨於簡單，因應此情形，便可削減成本。且，因為不需要機械臂更換部，因而亦有助於基板處理裝置的佔用面積削減。

再者，單片式機械臂39係藉由變更在水平方向上隔開配置的2個機械臂要件186之間隔，便可依未處理基板W與處理畢基板W而分開使用基板導件225、227；226、228。所以，因為不需要機械臂的更換，因而有助於基板處理的高速化。

以上，針對本發明一實施形態進行說明，惟本發明尚可依其他形態實施。例如前述實施形態中，雖設置仲介機構72，但亦可省略該仲介機構72。此情況，利用搬入夾具74搬送至基板轉讓位置P的未處理基板W，將從搬入夾具74直接轉讓給主搬送機構3。

再者，前述實施形態中，將搬出夾具73配置於較搬入夾具74更靠上方處，惟亦可將該等的上下關係反轉。

再者，前述實施形態中，在單片式機械臂39的上方配置著批次式機械臂40，惟亦可將該等的上下關係反轉。

再者，前述實施形態中，針對在晶圓盒F與姿勢轉換機構5之間進行搬送基板W的搬出入機構4，係使用本發明的例子進行說明，惟在除該等以外的搬送對象場所間之基板搬送，亦可使用本發明的基板搬送裝置。

雖已針對本發明實施形態進行詳細說明，惟該等僅止於為能明瞭本發明技術內容而使用的具體例而已，本發明不應解釋為僅侷限於該等具體例，本發明的精神與範圍僅由所附申請專利範圍限定。

本申請案係對應於2008年9月12日對日本特許廳提出的特願2008-234273號及特願2008-234274號、以及2009年7月14日對日本特許廳提出的特願2009-165681號，該等申請案的全部揭示內容均爰引並融入於本案中。

F．．．晶圓盒

W．．．基板

X．．．沿基板處理裝置前面的水平方向

Y．．．沿基板處理裝置側面的水平方向

Z．．．上下方向，垂直方向

P．．．基板轉讓位置

S．．．基板移載位置

H1．．．搬入高度

H0．．．搬出高度

H2．．．移載高度

TP1．．．搬送路徑

TP2．．．搬送路徑

H10．．．原點高度

H11．．．第1移載高度

H12．．．第2移載高度

1．．．晶圓盒保持部

2．．．基板處理部

3．．．主搬送機構

4．．．搬出入機構

5．．．姿勢轉換機構

6．．．推動器

7．．．轉讓機構

8．．．夾具洗淨單元

9．．．控制器

10．．．基板處理裝置

10a．．．前面

10b．．．側面

11．．．自動晶圓盒搬送裝置

12．．．開啟器

13．．．基板方向對齊機構

15．．．擋門

16．．．對齊處理頭

17．．．升降機構

18．．．基板導件

19．．．輥機構

20．．．處理部(處理單元)

21．．．第1藥液槽

22．．．第1清洗液槽

23．．．第2藥液槽

24．．．第2清洗液槽

25．．．乾燥處理部

27．．．第1升降機

28．．．第2升降機

30．．．基板夾具

31．．．支撐導件

33．．．箭頭

35．．．洗淨槽

39．．．單片式機械臂

40．．．批次式機械臂

41．．．保持基座

42．．．迴轉塊體

43．．．升降塊體

44．．．基台部

45．．．迴轉機構

46．．．升降機構

47．．．進退驅動機構

49．．．基座

50．．．轉動塊體

50a．．．轉動軸

51．．．第1保持機構

52．．．第2保持機構

53．．．基板規範機構

54．．．齒輪頭

55．．．馬達

56．．．水平保持構件

57．．．支撐棒

58．．．保持溝群

58a．．．保持溝

59．．．保持溝群

59a．．．保持溝

60．．．垂直保持構件

61．．．支撐棒

62．．．保持溝構件

63．．．保持溝

64．．．保持溝

65．．．相鄰保持溝構件間的間隙

70．．．搬出機構

71．．．搬入機構

72．．．仲介機構

73．．．搬出夾具

74．．．搬入夾具

75．．．仲介夾具

76．．．橫行機構

77．．．橫行機構

78．．．升降驅動機構

81．．．第1保持機構用驅動機構

82．．．軸承

83．．．馬達

84．．．支撐板

85．．．氣壓缸

87．．．第2保持機構用驅動機構

88．．．支撐板

89．．．滑軌

90．．．移動基座

91．．．軸承

92．．．馬達

93．．．連結構件

94．．．氣壓缸

96．．．基板規範機構用驅動機構

97．．．滑軌

98．．．移動基座

99．．．連結構件

100．．．致動器

101．．．第1橫行路徑

102．．．第2橫行路徑

105．．．升降保持部

106．．．旋轉軸部

107．．．橫行基座

108．．．升降基座

110．．．線性致動器

110a．．．動作構件

111．．．馬達

112．．．旋轉驅動機構

113．．．滑軌

114．．．滑動驅動機構

116．．．第1導件

117．．．第2導件

118．．．支撐構件

119．．．支撐構件

120．．．升降軸

121．．．上下驅動機構

125．．．線性致動器

125a．．．動作元件

126．．．馬達

127．．．連結支撐架

130．．．支撐塊

131．．．滾珠螺桿機構

132．．．動作空間

133．．．移動板

134．．．固定板

135．．．滑軌

136．．．滾珠螺帽

137．．．連結構件

138．．．馬達

139．．．缺口

140．．．基板導件

141．．．基座部

142．．．氣壓缸

143．．．線性導件

144．．．連結構件

145．．．立起壁部

146．．．水平部

147．．．貫通孔

148．．．基板導件

149．．．基座部

150．．．基板導件

151．．．基座部

152．．．氣壓缸

153．．．線性導件

154．．．連結構件

155．．．立起壁部

156．．．水平部

157．．．貫通孔

161．．．馬達

162．．．齒輪頭

162a．．．齒輪頭的輸出軸

165．．．馬達

166．．．滾珠螺桿機構

167．．．齒輪頭

168．．．螺桿軸

169．．．滾珠螺帽

175．．．機械臂要件組

176．．．機械臂要件

176L．．．左機械臂要件

176R．．．右機械臂要件

177．．．左支撐塊

177a．．．插通孔

178．．．右支撐塊

178a．．．插通孔

179．．．進退支撐架

180．．．機械臂開閉機構

182．．．支撐部

183．．．連結部

183a．．．頂面部

183b．．．側面部

183c．．．底面部

183d．．．皮帶固定部

186．．．機械臂要件

186L．．．左機械臂要件

186R．．．右機械臂要件

187．．．左機械臂支撐構件

187a．．．插通孔

188．．．右機械臂支撐構件

188a．．．插通孔

189．．．進退支撐架

189a．．．皮帶固定部

190．．．機械臂開閉機構

201．．．單片式機械臂進退機構

202．．．批次式機械臂進退機構

205．．．線性導件

206．．．皮帶驅動機構

207．．．支撐構件

208．．．馬達

209．．．驅動滑輪

210．．．從動滑輪

211．．．皮帶

212．．．惰輪

213．．．皮帶按壓

215．．．線性導件

216．．．皮帶驅動機構

217．．．支撐構件

218．．．馬達

219．．．驅動滑輪

220．．．從動滑輪

221．．．皮帶

222．．．惰輪

223．．．皮帶按壓

225．．．內側基板導件

226．．．外側基板導件

227．．．內側基板導件

228．．．外側基板導件

229．．．水平線(對稱線)

231．．．開閉導件部

232L．．．左氣壓缸

232R．．．右氣壓缸

233．．．導件座

234．．．導軸

235．．．連結板

236．．．連結板

240．．．突出部

241．．．圓錐狀傾斜面

245．．．內側基板導件

246．．．外側基板導件

247．．．內側基板導件

248．．．外側基板導件

249．．．水平線(對稱線)

251．．．開閉導件部

252L．．．左氣壓缸

252R．．．右氣壓缸

253．．．導件座

253a．．．開口部

254．．．導軸

255．．．連結板

256．．．連結板

圖1為用以說明本發明一實施形態的基板處理裝置之全體構造的圖解式俯視圖。

圖2A為用以說明晶圓盒與主搬送機構間的基板搬送之相關聯構造的放大俯視圖，圖2B為從圖2A中的箭頭A1所觀看到的立面圖。

圖3A為姿勢轉換機構的俯視圖，圖3B為用以說明姿勢轉換機構之內部構造的透視立面圖。

圖4為用以說明推動器之構造的立面圖。

圖5為用以說明轉讓機構相關聯構造的圖，為從圖2A中的箭頭A2方向所觀看到的立面圖。

圖6為用以說明搬出機構的橫行機構構造的透視側視圖。

圖7A、7B及7C為用以說明搬出夾具構造的圖。

圖8A、8B及8C為用以說明搬入夾具構造的圖。

圖9A、9B及9C為用以說明仲介夾具構造的圖。

圖10A至10Q為用以說明基板搬入動作流程的圖解式說明圖。

圖11A至11K為用以說明基板搬出動作流程的圖解式說明圖。

圖12為用以說明搬出入機構的迴轉及上下動作之相關構造的剖視圖。

圖13A為用以說明單片式機械臂、批次式機械臂、及使該等進行進退的進退驅動機構之構造的透視側視圖，圖13B為從圖13A中的箭頭A4方向所觀看到的後視圖。

圖14為用以說明單片式機械臂進退機構及批次式機械臂進退機構之構造的圖解式俯視圖。

圖15為用以說明單片式機械臂及機械臂開閉機構之構造的剖視圖。

圖16為用以說明機械臂中所設置之基板導件構造的部分放大剖視圖。

圖17為用以說明批次式機械臂及機械臂開閉機構之構造的俯視圖。