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TWI412550B - 光學膜及包含其之資訊技術裝置 - Google Patents

光學膜及包含其之資訊技術裝置 Download PDF

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TWI412550B
TWI412550B TW098114365A TW98114365A TWI412550B TW I412550 B TWI412550 B TW I412550B TW 098114365 A TW098114365 A TW 098114365A TW 98114365 A TW98114365 A TW 98114365A TW I412550 B TWI412550 B TW I412550B
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optical film
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copolymer
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Jun-Geun Um
Min-Hee Lee
Nam-Jeong Lee
Jong-Hun Lee
Dong-Ryul Kim
Sae-Han Cho
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Lg Chemical Ltd
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Description

光學膜及包含其之資訊技術裝置
本發明係關於一種具有優秀之耐熱性以及光學穿透度、低霧度、以及優秀光學特性、且不易毀損、並具有優秀機械強度以及耐久性之光學膜，本發明亦關於包含此光學膜之偏光板以及資訊技術裝置。
本發明申請專利範圍優先權為2008年4月30日以及2009年1月9日(向KIPO提出申請)，而韓國專利申請號為分別第10-2008-0040843號以及第10-2009-0002070號，且其所揭露之申請專利範圍皆可併入本發明中。
近年來，隨著光學技術之發展及商業化，如電漿顯示器(PDP)、液晶顯示器(LCD)及其相似技術等各種顯示器技術係用以取代習知之陰極射線管。故對於具有高品質之顯示器用之聚合物材料之需求也逐漸增加。例如，在液晶顯示器領域中，隨著圖像區域之薄膜化、輕型化、及大面積之發展，對於圖像顯示之視角及均勻性而言，圖像色調之廣視角、高對比度、及低失真度等問題特別重要。
因此，可使用如偏光膜、偏光片保護膜、延遲膜、塑膠基板、導光板及其相似物等各種聚合物薄膜，且就液晶而言，目前已發展如扭轉向列型(TN)、超扭轉向列型(STN)、垂直配向型(VA)、平面轉換型(IPS)液晶面板單元等各種型態之液晶顯示器。由於這些液晶面板其本身之液晶配向特性，可確保液晶本身之光學異向性，同時，為了補償光學異向性，可使用由各種不同聚合物拉伸而成之具延遲功能之薄膜。
更詳細而言，由於液晶顯示器係採用具有高雙折射性及配向性之液晶分子，故隨著視角改變而產生不同的雙折射率，而可改變圖像之色彩及亮度。因此，需使用能夠配合液晶分子形式之延遲補償膜。例如，在液晶顯示面上，多數用於垂直配向型之液晶分子之厚度折射率係大於平均平面折射率，故為了補償折射率差，需使用厚度折射率之延遲特性小於平均平面折射率之補償膜。
此外，光線並無法穿透兩相互垂直之偏光片前側，但若角度偏斜，則兩偏光片之光軸則無相互垂直，而造成漏光情形產生。為了改善這種情形，則需使用具有平面延遲性之補償膜。此外，使用液晶之顯示器裝置需同時具有厚度延遲補償性及平面延遲補償性，以增加視角。
延遲補償膜其必要特性為可輕易調整雙折射率。然而，薄膜內材料及聚合物主鏈排列之基礎雙折射率，即是薄膜雙折射率。其中，聚合物主鏈之排列大多由外力所決定，或由材料之本身特性所決定，且利用外力排列分子的方法可單軸或雙軸地拉伸聚合物薄膜。
因此，就本技術領域而言，需發展出一種可滿足上述需求特性之聚合物材料，以適用於顯示器中。
本發明之目的係在提供一種光學膜，其具有優秀之光學特性以及光穿透度，並具有低霧度，且在拉伸過程中不易損壞(不如丙烯酸基薄膜一樣容易損壞)且具有極佳機械強度及加工性、及如耐熱性之耐久性，尤其，本發明之光學膜無論拉伸過程如何，均具有低的平面延遲性以及厚度延遲性之絕對值，以及低的光彈性係數(photoelasticity coefficient)之絕對值。同時，本發明亦提供包含此光學膜之偏光板以及資訊技術裝置。
本發明提供一種光學膜，其包括：一芳香基單元，其具有一具有含羥基構部之主鏈及一芳香構部；以及一苯乙烯基單元，其包括一種或以上之苯乙烯基衍生物，其中無論拉伸過程如何，其平面延遲性(in-plane retardation(Rin ))以及厚度延遲性(thickness retardation(Rth ))之絕對值係為10nm或以下。在此，平面延遲性(Rin )以及厚度延遲性(Rth )係由以下公式所定義出。
Rin =(nx -ny )×d
Rth =[(nx +ny )/2-n2 ]×d
公式1及2中，nx 係為光學膜之面內折射係數(in-plane refractive index)中之最大折射係數，ny 係為與光學膜之面內折射係數nx 之方向垂直之折射係數，nz 係為該光學膜之厚度折射係數，並且d係為該光學膜之厚度。
此外，本發明亦提供一種偏光板，係包括偏光片；以及此光學膜，係配置於該偏光片之至少一側。
並且，本發明復提供一種液晶顯示裝置，係包括此光學膜。
再者，本發明又提供一種資訊技術裝置，係包括此光學膜。
[優點及效用]
本發明之光學膜係具有優秀之光學特性以及光穿透度，並具有低霧度，且在拉伸過程中不易損壞(不如丙烯酸基薄膜一樣容易損壞)且具有極佳機械強度及加工性、及耐熱性，尤其，本發明之光學膜無論拉伸過程如何，均具有低的平面延遲性以及厚度延遲性之絕對值，以及低的光彈性係數之絕對值。並且，當本發明之光學膜可適用於當延遲度以及光彈性係數與偏光板之保護膜差不多低的情形下。
本發明之光學膜包括一芳香基單元，其包括一主鏈及一具有含羥基構部之芳香構部；以及一苯乙烯基單元，其包括一種或以上之苯乙烯基衍生物，且無論拉伸過程如何，其平面延遲性(in-plane retardation(Rin ))以及厚度延遲性(thickness retardation(Rth ))之絕對值係為10nm或以下，且較佳為5nm或以下。此外，本發明之光學膜無論拉伸過程如何，其光彈性係數之絕對值較佳係為3 X 10-12 m2 /N或以下。
由於本發明之光學膜具有小的平面延遲性以及厚度延遲性，可將偏光片之保護膜及具有小延遲值之光學膜應用於所需求的領域上。再者，由於本發明之光學膜具有低光彈性係數，因此外部壓力所能造成延遲值之改變不大，故可減少露光現象。
芳香基單元以及苯乙烯基單元含量之莫爾比較佳為65至75:100。此外，芳香基單元以及該苯乙烯基單元含量之重量比較佳為45至55:100。當組成之比例在上述範圍內時，可容易地達到上述延遲值以及光彈性係數。
本發明之光學膜可更包括有含有一種或以上之(甲基)丙烯酸基衍生物之(甲基)丙烯酸基單元。
此外，芳香基單元及苯乙烯基單元之總含量與(甲基)丙烯酸基單元含量之重量比較佳為1:99至50:50。當組成之比例在上述範圍內時，可容易地達到上述延遲值以及光彈性係數。
該些包含有一或多個(甲基)丙烯酸基衍生物之(甲基)丙烯酸基單元、包含有一主鏈及一具有含羥基構部之芳香構部之芳香基單元、以及包含有一或多個苯乙烯基衍生物之苯乙烯基單元皆可包含於不同的化合物中，或是上述該等單元之二個或以上可包含於一化合物中。
在本發明中，(甲基)丙烯酸酯基單元係提供一微小負型平面延遲度(Rin)、以及一微小厚度延遲度(Rth)；芳香基單元係包含主鏈及芳香構部，其中此芳香構部具有含羥基構部，且此芳香基單元係提供一正型平面延遲(Rin)特性、以及一正型厚度延遲(Rth)特性；而苯乙烯基單元係提供一較大負型平面延遲度(Rin)、及一負型厚度延遲度(Rth)。在此，負型平面延遲度係指與拉伸方向正交之最高平面折射率，正型平面延遲度係指拉伸方向之最高折射率，負型厚度延遲度係指厚度延遲性較平面平均折射率高，而正型厚度延遲度係指平面平均折射率較厚度延遲度高。基於上述單元之延遲特性，光學膜之延遲特性可透過組成物、拉伸方向、拉伸比、及拉伸法(如單軸或雙軸拉伸各個組成物)而有所不同。因此，於本發明中，當適當地將組成份之組成物組合而進行拉伸時，可使各單元之雙折射性得以互相補償。因此，本發明中，由於薄膜維持著光學折射指數(optical refractive index)之等相特性，因此可製造出平面延遲性以及厚度延遲性之絕對值為10nm之薄膜，且可提供不易殘留延遲性之光學膜。
此外，本發明之樹脂組成物可提供一種具有極佳機械特性之光學膜，其不似丙烯酸基薄膜容易損壞。此外，(甲基)丙烯酸基單元可提供極佳光學特性，且(甲基)丙烯酸基單元可與包含(甲基)丙烯酸基單元之化合物具有極佳相容性。再者，由於本發明之樹脂組成物可根據包含具有含羥基構部之主鏈以及芳香構部之芳香基單元含量控制光彈力係數數值，故可透過外力製作出在延遲值上具有較小偏差之薄膜。
本發明之光學膜可更包括一具有環狀構部之環狀基單元。具有環狀構部之環狀基單元可包含在，(甲基)丙烯酸基單元、包含主鏈以及具含羥基構部之芳香構部之芳香基單元、以及苯乙烯基單元中之至少一者之化合物中，且可包含在(甲基)丙烯酸基單元、包含主鏈以及具含羥基構部之芳香構部之芳香基單元、苯乙烯基單元之至少一者化合物以外之不同化合物中。其中，該具有環狀構部之環狀基單元可使薄膜具有極佳耐熱性。
於本發明之一實施例中，可使用包含(甲基)丙烯酸基單元及具有環狀構部之環狀基單元之共聚物、包含(甲基)丙烯酸基單元及苯乙烯基單元之共聚物、包含苯乙烯基單元及具有環狀構部之環狀基單元之共聚物、及包含(甲基)丙烯酸基單元及包含主鏈以及具含羥基構部之芳香構部之芳香基單元及苯乙烯基單元之共聚物。同時，上述共聚物可包含兩種類型或以上單元之至少一者。
本發明之詳細實施例中，可使用包含如甲基丙烯酸甲酯、及如N-環己基順丁烯二亞醯胺(N-cyclohexylmaleimide)之共聚物，即聚(N環己基順丁烯二亞醯胺-甲基丙烯酸甲酯)。此外，亦可使用包含如苯乙烯之苯乙烯基單元、及如順丁烯二酸酐(maleic anhydride)之環狀基單元之共聚物。再者，可使用包含作為(甲基)丙烯酸基單元之甲基丙烯酸甲酯、作為苯乙烯基單元之苯乙烯及α-甲基苯乙烯、及作為環狀基單元之N-環己基順丁烯二亞醯胺(N-cyclohexylmaleimide)之共聚物。此外，可使用包含作為(甲基)丙烯酸基單元之甲基丙烯酸甲酯、作為苯乙烯基單元之苯乙烯或α-甲基苯乙烯、及作為環狀基單元之N-環己基順丁烯二亞醯胺及順丁烯二酸酐之共聚物。然而，上述實施例僅用於本發明說明，而不應用以限制本發明。
各個單元之含量並無特殊限制，且若考量到各個組成物之功能，為了達到所需平面延遲性、厚度延遲性、光學特性、機械特性、透光度、相容性及相似特性，則可限制各個單元之含量。例如，(甲基)丙烯酸基單元、具有含羥基構部之主鏈以及芳香構部之芳香基樹脂、苯乙烯基單元、以及環狀基單元之含量，可選擇性地介於約0.1至約99wt%之間。更詳細而言，(甲基)丙烯酸基單元之含量較佳介於約50至約98wt%之間，具有含羥基構部之主鏈以及芳香構部之芳香基樹脂之含量較佳介於約0.5至約40wt%之間，苯乙烯基單元之含量較佳介於約0.5至約30wt%之間。環狀基單元之含量較佳介於約0.5至約45wt%之間。
於本發明中，該包含有(甲基)丙烯酸基單元、具有含羥基構部之主鏈以及芳香構部之芳香基單元、苯乙烯基單元、以及環狀基單元之化合物可為單一聚合物或一共聚物，且於本發明中，此化合物可更包括不同於(甲基)丙烯酸基單元、具有含羥基構部之主鏈以及芳香構部之芳香基單元、苯乙烯基單元、以及環狀基單元之其他單元。同時，此共聚物可為無規則共聚物或嵌段共聚物。
應了解的是，本發明中之(甲基)丙烯酸基單元可包括(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸酯衍生物。更具體而言，(甲基)丙烯酸酯基單體，可為甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸十二酯、甲基丙烯酸芐酯、及其相似物，但本發明並不僅限於此。特別是，本發明更佳係使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)。
於本發明中，包含(甲基)丙烯酸基單元之化合物可採用包含甲基丙烯酸酯基單元及具環狀構部之環狀基單元之共聚物。於包含(甲基)丙烯酸酯基單元及具環狀構部之環狀基單元之共聚物中，(甲基)丙烯酸酯基單元之含量係介於約50至99wt%之間，且較佳係介於70至98wt%之間；而具環狀構部之環狀基單元之含量係介於約1至50wt%之間，且較佳係介於約2至30wt%之間。當具環狀構部之環狀基單元之含量為50wt%或以下，則可有效降低薄膜霧度。
於包含(甲基)丙烯酸酯基單元及具環狀構部之環狀基單元之共聚物中，具環狀構部之環狀基單元可提升薄膜之耐熱性。具環狀構部之環狀基單元之例子係如下所述。然而，包含在共聚物中且與(甲基)丙烯酸酯基單元共軛鍵結之具環狀構部之環狀基單元，較佳係為一包含順丁烯二亞醯胺構部之順丁烯二亞醯胺基單元。順丁烯二亞醯胺基單元可包含一由N-環己基順丁烯二亞醯胺、N-苯基順丁烯二亞醯胺、N-甲基順丁烯二亞醯胺、N-丁基順丁烯二亞醯胺、及其相似物所衍生之環狀構部，但本發明不僅限於此。特別是，順丁烯二亞醯胺基單元更佳係包括由N-環己基順丁烯二亞醯胺所衍生之環狀構部。
包含(甲基)丙烯酸酯基單元及具環狀構部之環狀基單元之共聚物，可使用(甲基)丙烯酸基單體及環狀基單體(如順丁烯二亞醯胺基單體)，透過本體聚合反應、溶液聚合反應、懸浮液聚合反應、乳液聚合反應、及其相似方法所製作而成。
於本發明中，具有一含羥基構部之主鏈及一芳香構部(具有一具含羥基構部之主鏈及一芳香構部)之芳香基單元，其數量平均分子量較佳係介於1,500至2,000,000g/mol之間。其中，芳香基樹脂較佳係包括苯氧基樹脂。在此，苯氧基樹脂係包括一結構，其中至少一氧自由基係與苯環鍵結。例如，具有一具含羥基構部之主鏈及一芳香構部(具有一含羥基構部之主鏈及一芳香構部)之芳香基單元，可包含一種或以上如下式1所示之單元。具有一含羥基構部之主鏈及一芳香構部之芳香基單元係包括5至10,000個下式1所示之單元，較佳係包括5至7,000個下式1所示之單元，且更佳係包括5至5,000個下式1所示之單元。當具有一含羥基構部之主鏈及一芳香構部之芳香基單元包含兩種或以上之下式1單元，這些單元可為無規則形式、交替形式、或嵌段形式。
其中，X係為一包含至少一苯環之二價基團，而R係為一具1至6碳原子之直鏈或支鏈亞烷基。
更具體而言，X較佳為一自下列式2至4所示之化合物所衍生之二價基團，但不僅限於此。
R1 為直接鍵結、具1至6個碳原子之直鏈或支鏈亞烷基、或具3至20個碳原子之亞環烷基，R2 及R3 係各自為氫、具1至6個碳原子之直鏈或支鏈烷基、或具2至6個碳原子之直鏈或支鏈烯基，且n及m係各自為1至5之整數。
R4 係各自為氫、具1至6個碳原子之直鏈或支鏈烷基、或具2至6個碳原子之直鏈或支鏈烯基，而p係為1至6之整數。
R6 及R7 係各自為直接鍵結、具1至6個碳原子之直鏈或支鏈亞烷基、或具3至20個碳原子之亞環烷基，R5 及R8 係各自為氫、具1至6個碳原子之直鏈或支鏈烷基、或具2至6個碳原子之直鏈或支鏈烯基，而q及r係各自為1至5之整數。
R4 係各自為氫、具1至6個碳原子之直鏈或支鏈烷基、或具2至6個碳原子之直鏈或支鏈烯基，而p係為1至6之整數。
R6 及R7 係各自為直接鍵結、具1至6個碳原子之直鏈或支鏈亞烷基、或具3至20個碳原子之亞環烷基，R5 及R8 係各自為氫、具1至6個碳原子之直鏈或支鏈烷基、或具2至6個碳原子之直鏈或支鏈烯基，而q及r係各自為1至5之整數。
式2至4所示之化合物詳細示例係如下列化合物所示，但並不僅限於此。
芳香基單元較佳係包含一種或以上之5至10,000個如下式5所示之苯氧基單元。
其中，R9 係為直接鍵結、具1至6個碳原子之直鏈或支鏈亞烷基，而R10 係為直接鍵結、具1至6個碳原子之直鏈或支鏈亞烷基。
較佳為，式5係如下式6所示。
芳香基樹脂之一端可為一OH基團。
於本發明中，苯乙烯基單元係包括苯乙烯基衍生物、及苯乙烯。苯乙烯基衍生物係包括一包含一個或以上取代基之化合物，該取代基係在苯乙烯之苯環或乙烯基上且具有脂肪族碳氫基團或雜原子；更詳細而言，該苯乙烯基衍生物係包含α-甲基苯乙烯。
於本發明中，包含苯乙烯基單元及環狀構部之共聚物，可做為包含單元之化合物。於包含苯乙烯基單元及具有環狀構部之環狀基單元之共聚物中，苯乙烯基單元之含量係介於約1至約99wt%之間，較佳係介於約30至約99wt%之間，而更佳係介於約40至約95wt%之間；而具有環狀構部之環狀基單元之含量係介於約1至約99wt%之間，較佳係介於約1至約70wt%之間，而更佳係介於約5至約60wt%之間。透過熔融及混合包含苯乙烯基單元及具有環狀構部之環狀基單元之共聚物，並且使用此共聚物，可提升薄膜之黏著性及耐熱性。若具有環狀構部之環狀基單元之含量過低，會造成相容性稍微的降低。具有環狀構部之環狀基單元之示例如後所述。然而，包含在共聚物中且與環狀基單元共軛鍵結之具有環狀構部之環狀基單元，較佳為包含順丁烯二酸酐構部之順丁烯二酸酐基單元。
於本發明中，環狀基單元可提升薄膜之耐熱性。環狀基單元之含量係介於約0.1至約99wt%之間，而較佳係介於約0.5至約45wt%之間。環狀基單元之環狀構部係包括順丁烯二酸酐、順丁烯二亞醯胺、戊二酸酐、戊二亞醯酐、內酯、以及內醯胺，但並不僅限於此。
於本發明之一實施例中，包含該等單元之組成份可為：1)包含(甲基)丙烯酸酯基單元及順丁烯二亞醯胺基單元之共聚物，2)包含苯氧基(苯氧基-基)單元之樹脂，以及3)包含苯乙烯基單元及順丁烯二酸酐單元之共聚物。其中，各組成份之含量較佳係介於1至99wt%之間。更具體而言，1)共聚物之含量較佳係介於約50至約99wt%之間，且更佳係介於約75至約98wt%之間。2)樹脂之含量較佳係介於約0.5至約40wt%之間，且更佳係介於約1至約30wt%之間。3)共聚物之含量較佳係介於約0.5至約30wt%之間，且更佳係介於約1至約20wt%之間。
特別是，當包含1)(甲基)丙烯酸酯基單體及順丁烯二亞醯胺基單體之共聚物中，順丁烯二亞醯胺基單體含量為50wt%或以下時，無論1)至2)組成物之混合比例，整個含量範圍均具有相容性，且具有樹脂組成物之光學膜，其具有單一玻璃轉移溫度Tg之優點。
本發明之光學膜之厚度係介於5至500μm之間，且較佳係介於5至300μm之間，但並不僅限於此。光學膜之穿透度為90%或以上，霧度為2.5%或以下，較佳為1%或以下，更佳為0.5%或以下。本發明之光學膜其玻璃轉移溫度較佳為100℃或以上。
隨著具有含羥基構部之主鏈以及芳香構部之芳香基單元、及苯乙烯基單元之含量的改變，光學膜之光彈力係數可受到小幅度的控制，且在此情形下，可保護因外力所導致之延遲特性改變，使得漏光情形減低。
本發明之製備光學膜之方法係包括：製備上述樹脂組成物之步驟；以及使用該樹脂組成物進行鑄膜之步驟。此製備方法可更包括：單軸或雙軸拉伸薄膜之步驟。
本發明之樹脂組成物可透過熔融及混合上述組成分所製備而成。其中，組成份之熔融及混合係透過擠壓機進行。
此樹脂組成物可更包括一般常用之潤滑劑、抗氧化劑、UV穩定劑、熱穩定劑及吸收劑、及其相似物。
當製作本發明之光學膜時，可使用本技術領域已知之方法製作，更詳細而言，可使用擠壓成型法。例如，在於真空下乾燥樹脂組成物並移除水分且溶解在氧氣中後，將此組成物從原料貯料槽移至填充有氮氣之單一或成對擠出器，且於高溫下熔融而可得到一原料顆粒；而後，將所得之原料顆粒於真空下乾燥，並從原料貯料槽至填充有氮氣之單一擠出器熔融此原料顆粒，穿過一衣架型T型模具，並藉由一鍍鉻鑄軋輥及一烘燥滾筒以製作本發明之光學膜。
當製作本發明之光學膜時，生產步驟中可更包括單軸或雙軸拉伸薄膜之步驟。拉伸步驟可使用縱向(longitudinal direction，MD)拉伸以及橫向(transverse direction，TD)拉伸之任何一種，或是同時使用縱向拉伸以及橫向拉伸。當同時使用縱向拉伸以及橫向拉伸時，可先進行其中一種拉伸，再進行另一種拉伸，或是兩種拉伸同時進行。拉伸步驟可以單一次進行，或是透過多次步驟進行。當進行縱向拉伸時，可藉由軋輥間不同速率的差異來達成，且當進行橫向拉伸時，則可使用拉幅機(tenter)。拉幅機之軌條(rail)起始角度可為10°或以下，可使橫向拉伸時產生之曲折現象(bowing phenomenon)受到抑制，且可使光學軸之角度得到適當控制。藉由，多步驟之橫向拉伸，可使曲折現象得到適當抑制。
當樹脂組成物之玻璃轉移溫度定義為Tg時，拉伸之步驟可於(Tg-20℃)至(Tg+30℃)之溫度中進行。玻璃轉移溫度所指為一個溫度範圍，係為當樹脂組成物之存儲彈性開始下降且所損失之彈性開始大於存儲彈性時之溫度，至聚合物鏈之排列開始鬆散並喪失時之溫度的範圍。玻璃轉移溫度可使用掃描式熱分析儀(Mettler Toledo Co.,Ltd.,DSC823)進行測量。
當使用小的拉伸機器時(Universal testing machine,Zwick Z010)，拉伸速率較佳為1至100mm/min。當使用引導式拉伸機器時，拉伸速率較佳為0.1至2mm/min。此外，較佳係使用5至300%的拉伸比例對薄膜進行拉伸。
該拉伸步驟可使用一不同於薄膜塑型之分開的步驟進行，或是與薄膜塑型相同之步驟之單一步驟進行。
每個單元之組成可與縱向拉伸比例、橫向拉伸比例、拉伸溫度、以及拉伸速率作組合。
此外，由於拉伸膜之韌度增加，(甲基)丙烯酸基薄膜之易破損的缺點可以得到有效的補償。
本發明之光學膜之平面延遲性以及厚度延遲性，無論拉伸過程如何，其絕對值係為10nm或以下，且較佳為5nm或以下。此外，本發明之光學膜之光彈性係數，無論拉伸過程如何，其絕對值為3 X 10-12 m2 /N或以下。
本發明之光學膜可與一至少一側包含有有機基板以及無機基板中之至少一者之額外膜層一同提供，且其與延遲值相關之黏著性、補償特性及/或偏光片皆可得到控制。有機基板之例子包括有：纖維素、聚醯亞胺、聚酯、聚氨酯、液晶、及/或其衍生物；而無機基板之例子包括有：TiO2 、ITO、及其相似物，但不限於此。
再者，本發明提供一種偏光板，其包括：偏光片；以及配置於該偏光片之至少一側之光學膜。
由於偏光片包括有二色性顏料且係由單軸拉伸之聚乙烯醇膜所組成，因此其非常脆弱，且其保存性會隨著溫度以及溼度的變化而降低，且(因此)其與保護膜一同壓合。於相關技術中，含有偏光板之液晶顯示裝置大部分包含有一個具相對小的顯示區域之裝置，如時鐘或儀表板、或是一發光裝置，且其表面係須經過防反射處理。近來，液晶顯示裝置中具有大面積顯示區域(如，具有大影像)，或使用多層反射法(multilayered reflection way)將表面經如表面拋光之抗反射處理。因此，形成於偏光板之保護膜表面上的缺陷(如線缺陷、弧線記號、疤痕、汙漬、或類似的缺陷)則會被觀察出。此係由於大部分偏光板之保護膜係使用三醋酸纖維素膜。
纖維素衍生物具有優秀的溼度擴散性，於製備偏光板之步驟中，偏光片內所含之濕氣可透過該膜而揮發出來。然而，於高溫及高濕之環境中，因溼度吸收所造成之尺度改變或是光學特性改變相對顯著，同時，於室溫環境中之溼度改變，對於延遲值的改變會很大，且穩定視角(stable angle view)的改善會有限制，因此則會降低偏光板光學特性之耐久性。
再者，聚碳酸酯基中，由於具有高的玻璃轉移溫度，因此拉伸步驟須於高溫中進行，且由於薄膜之光彈性係數很大，因此壓力會造成光變形產生。當使用降冰片烯(norbornene)基薄膜進行拉伸時，其拉伸過程中會有應力產生的問題、或是拉伸過程中應力不均勻的問題。為了解決上述問題，可使用具有良好的視角補償效應以及可於環境改變狀況下仍使延遲值無太大改變之丙烯基延遲膜。
若光彈性係數(即，當接受到壓力時雙折射的改變速率)為高時，由於當與液晶層或偏光板之結合不均勻，故背光或外部所吸收的熱會造成組成材料間熱膨脹的差異增加，且偏光膜收縮所產生之壓力或其他類似應力而造成的延遲改變增加，導致顯示裝置的色均勻性或是對比性會因此降低。丙烯基膜可將光彈性係數控制在很小的數值，因此，可確保因外部壓力所造成的延遲性變化情形不易產生，藉此可減少露光的情形產生。
本發明之光學膜可配置於偏光片之單一側，或同時配置於偏光片之二側。
當本發明之光學膜配置於偏光片之任何一側時，可將任何習知之保護膜配置於其另一側。作為該保護膜，習知之三醋酸纖維素(TAC)膜、使用開環複分解聚合(ring opening metathesis polymerization，ROMP)所製得之聚降冰片烯基膜、藉由將開環烯烴基聚合物再次水解所得到之開環複分解聚合接著水解(HROMP，ring opening metathesis polymerization followed by hydrogenation)之聚合物膜、聚酯膜、額外聚合所製得之聚降冰片烯基膜、以及其相似物皆可採用。除此之外，使用透明聚合物材料所製得之薄膜可用來作為保護膜，但不限於此。
包含有碘或二色染料之聚乙烯醇(PVA)之薄膜可使用作為偏光片。偏光膜可經由將PVA薄膜以碘或二色染料進行染色而得到，但其製法不限於此。本說明書中，偏光膜(polarizing film)係表示不含有保護膜，而偏光板係表示含有偏光膜以及保護膜。
本發明中，偏光片以及保護膜可使用一般的習知技術進行組合。
此外，本發明亦提供一種液晶顯示裝置，係包含有該等偏光板。例如，本發明之液晶顯示裝置係為一種包含有液晶面板、且於液晶面板二表面分別包含有一第一偏光板以及一第二偏光板之液晶顯示裝置，且該第一偏光板以及第二偏光板之至少一者為本發明之偏光板。較佳地，液晶面板上之光學膜或偏光保護膜係配置於具有UV吸收劑之偏光板之相對側。
再者，本發明提供一種資訊技術裝置，係包括該等光學膜。資訊技術裝置之例子包括有液晶顯示裝置(LCD)、有機發光二極體、以及相似物。
於一實施態樣中，本發明之液晶顯示裝置係為一種液晶顯示裝置，其包含有液晶面板(liquid cell)、以及配置於液晶面板二側之第一偏光板以及第二偏光板、以及本發明之光學膜，其係可配置於第一偏光板以及第二偏光板之至少一者與液晶面板之間。亦即，一個或以上之本發明之光學膜可配置於第一偏光板與液晶面板之間、第二偏光板與液晶面板之間、或同時配置於第一偏光板與液晶面板之間以及第二偏光板與液晶面板之間。
以下係藉由特定的具體實施例說明本發明之實施方式。本說明書中的各項細節亦可基於不同觀點與應用，在不悖離本發明之精神下進行各種修飾與變更。實施例僅係為了方便說明而舉例而已。
[實施例1]
將聚(N-環己基順丁烯二亞醯胺-甲基丙烯酸甲酯)共聚物(poly(N-cyclohexylmaleimide-co-methylmethacrylate))、苯乙烯-順丁烯二酸酐(styrene-maleic anhydride)樹脂、以及苯氧基樹脂以100:2.5:5的重量比例均勻混合，形成一樹脂組成物，並將此樹脂組成物由原料貯料槽通入至填充有氮氣之24φ擠壓機，而後於250℃熔融，以製得原料顆粒。
苯氧基樹脂係採用InChemRez,Co.,Ltd.所製造之苯氧基樹脂PKFE樹脂(Mw=60,000、Mn=16,000、而Tg=95℃)；而苯乙烯-順丁烯二酸酐共聚物樹脂則採用Dylarck 332(苯乙烯含量為85wt%，而順丁烯二酸酐含量為15wt%)。由NMR分析結果可知，聚(N-環己基順丁烯二亞醯胺-甲基丙烯酸甲酯)樹脂中，N-環己基順丁烯二亞醯胺(N-cyclohexylmaleimide)之含量為6.5wt%。
將所得之原料顆粒於真空下乾燥，再使用擠壓機於260℃熔融原料顆粒，而後穿過一衣架型T型模具，並藉由一鍍鉻鑄軋輥及一烘燥滾筒以製作厚度為150μm之薄膜。將薄膜於125℃，使用導引式拉身裝置(pilot stretching device)，使用滾筒速率差，使於MD方向進行如下表1中所示之比例的拉伸；並於125℃，使用拉幅機(tenter)，使於TD方向進行如下表1中所示之比例的拉伸，以製得此薄膜。薄膜之平面延遲值以及厚度延遲性係如下表1中所示。此外，寬度方向之延遲性分布係如圖1所示。
[實施例2]
將聚(N-環己基順丁烯二亞醯胺-甲基丙烯酸甲酯)(poly(N-cyclohexylmaleimide-co-methylmethacrylate))、苯乙烯-順丁烯二酸酐(styrene-maleic anhydride)樹脂、以及苯氧基樹脂以100:2.5:5的重量比例均勻混合，形成一樹脂組成物，並將此樹脂組成物由原料貯料槽通入至填充有氮氣之24φ擠壓機，而後於250℃熔融，以製得原料顆粒。
將所得之原料顆粒於真空下乾燥，再使用擠壓機於260℃熔融原料顆粒，而後穿過一衣架型T型模具，並藉由一鍍鉻鑄軋輥及一烘燥滾筒以製作厚度為150μm之薄膜。
將薄膜於125℃至140℃，使用導引式拉伸裝置，使用滾筒速率差，使於MD方向進行如下表2中所示之170%之比例的拉伸；並使用拉幅機，於125℃至140℃，使於TD方向進行如下表2中所示之250%之比例的拉伸，以製得此薄膜。薄膜之平面延遲值以及厚度延遲性係如下表2中所示。
[實施例3至5以及比較例1至3]
聚(N-環己基順丁烯二亞醯胺-甲基丙烯酸甲酯)係使用LGMMA,Co.,Ltd.所製造之IH830HR樹脂；苯氧基樹脂係採用InChem Corporation所製造之苯氧基樹脂InChemRez Phenoxy PKFE樹脂；而苯乙烯-順丁烯二酸酐共聚物樹脂則採用NOVA Chemicals,Co.,Ltd.所製造之DYLARK332(苯乙烯含量為85wt%，而順丁烯二酸酐含量為15wt%)，並使用如同實施例1中所描述之相同方法製造出薄膜，並以相同方法測量其物理特性。此些薄膜之組成以及物理特性係如下表3以及4所示。
由上述該些實施例可知，本發明之光學膜中，在拉伸之前及之後，其平面延遲性、厚度延遲性、以及光彈性係數之絕對值各自係幾乎為0。
上述實施例僅係為了方便說明而舉例而已，本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準，而非僅限於上述實施例。
圖1係本發明一較佳實施例之光學膜其寬度方向之延遲性分布圖。

Claims (9)

  1. 一種光學膜，係包括：一芳香基單元，該芳香基單元包含有5至10,000個由式6所示之單元；一具有一苯乙烯衍生物及一順丁烯二酸酐之共聚物；以及一具有一(甲基)丙烯酸酯衍生物及一順丁烯二亞醯胺之共聚物。 其中，無論拉伸過程如何，該光彈性係數(photoelasticity coefficient)之絕對值為3 X 10-12 m2 /N或以下，且由以下公式所定義之平面延遲性(Rin )以及厚度延遲性(Rth )之絕對值係為10 nm或以下：Rin =(nx -ny )×d，Rth =[(nx +ny )/2-nz ]×d nx 係為該膜之面內折射係數(in-plane refractive index)中之最大折射係數，ny 係為與該膜之面內折射係數nx 之方向垂直之折射係數，nz 係為該膜之厚度折射係數，並且d係為該膜之厚度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜，其中，該共聚物之(甲基)丙烯酸衍生物之含量為該共聚物之重量之50%至99%。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜，其中，該共聚物係包括該共聚物之重量之30%至99%之苯乙烯基衍生物、以及1%至70%之順丁烯二酸酐。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜，其中，該芳香基單元之數目平均分子量(number average molecular weight)為1,500至2,000,000 g/mol。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜，其中，該(甲基)丙烯酸衍生物以及順丁烯二亞醯胺(maleimide)之共聚物之含量係為該樹脂之重量之50%至99%，該芳香基單元之含量係為該樹脂之重量之0.5%至40%，且該苯乙烯衍生物以及順丁烯二酸酐(maleic anhydride)之共聚物之含量係為該樹脂之重量之0.5%至30%。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜，其中，該光學膜係為一偏光片之保護膜。
  7. 一種偏光板，係包括：一偏光片；以及如申請專利範圍第1至6項中之任何一項所述之光學膜，其係配置於該偏光片之至少一側。
  8. 一種液晶顯示裝置，係包括：如申請專利範圍第7項所述之偏光板。
  9. 一種資訊技術裝置，係包括： 如申請專利範圍第1至6項中之任何一項所述之光學膜。
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090076754A (ko) * 2008-01-08 2009-07-13 주식회사 엘지화학 광학 필름, 위상차 필름, 보호 필름 및 이들을 포함하는액정 표시 장치
KR20090076753A (ko) * 2008-01-08 2009-07-13 주식회사 엘지화학 투명한 수지 조성물
KR101091534B1 (ko) * 2008-04-30 2011-12-13 주식회사 엘지화학 광학 필름 및 이를 포함하는 정보전자 장치
KR101105424B1 (ko) * 2008-04-30 2012-01-17 주식회사 엘지화학 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 광학 필름
US8613986B2 (en) 2008-04-30 2013-12-24 Lg Chem, Ltd. Optical film and information technology apparatus comprising the same
JP5912277B2 (ja) * 2010-04-22 2016-04-27 株式会社日本触媒 光学フィルム、偏光子保護フィルム、偏光板および画像表示装置
KR101279612B1 (ko) * 2010-08-13 2013-06-28 주식회사 엘지화학 편광판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
KR101536505B1 (ko) * 2011-07-01 2015-07-13 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 아크릴계 열가소성 수지 조성물 및 그 성형체
KR101304591B1 (ko) * 2011-07-06 2013-09-05 주식회사 엘지화학 위상차 필름, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
WO2013051847A2 (ko) * 2011-10-04 2013-04-11 주식회사 엘지화학 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 광학 보상필름
TWI516537B (zh) * 2011-10-04 2016-01-11 Ｌｇ化學股份有限公司 樹脂組成物及使用其形成之光學補償膜
US20140091288A1 (en) * 2012-09-28 2014-04-03 Samsung Display Co., Ltd. Organic light emitting diode display and method of manufacturing the same
KR20160033892A (ko) * 2014-09-18 2016-03-29 주식회사 효성 위상차 발현성이 우수한 셀룰로오스 에스테르 필름
CN107109019B (zh) * 2014-11-14 2020-04-24 株式会社可乐丽 甲基丙烯酸类树脂组合物及成型体
US10663621B2 (en) 2015-04-17 2020-05-26 Kaneka Corpation Retardation film and utilization thereof
KR102417139B1 (ko) 2016-01-07 2022-07-04 삼성전자주식회사 보상 필름, 광학 필름 및 표시 장치
KR102063204B1 (ko) * 2017-02-16 2020-01-07 삼성에스디아이 주식회사 광학필름, 이를 포함하는 디스플레이 소자 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
CN111640373B (zh) * 2020-06-09 2023-06-23 京东方科技集团股份有限公司 盖板和显示装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5905554A (en) * 1994-05-27 1999-05-18 The University Of Akron Non-birefringent optical adhesives and films
TW200303451A (en) * 2002-01-09 2003-09-01 Clariant Int Ltd Negative-working photoimageable bottom antireflective coating

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4419399A (en) * 1981-07-06 1983-12-06 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Transparent conductive film
US4607079A (en) * 1985-06-24 1986-08-19 General Electric Company Blend of polycarbonate, acrylate elastomeric copolymer and a phenoxy resin
US5004777A (en) * 1985-08-27 1991-04-02 Rohm And Haas Company Imide polymers
US5049313A (en) * 1989-09-05 1991-09-17 Advanced Products Inc. Thermoset polymer thick film compositions and their use as electrical circuitry
NL9002345A (nl) * 1990-10-29 1992-05-18 Stamicarbon Polymeersamenstelling.
US5200492A (en) * 1990-10-29 1993-04-06 Kuraray Co., Ltd. Polymer blends
US5244862A (en) * 1992-07-31 1993-09-14 Bailey David B Thermal dye transfer receiving element with modified bisphenol-A epichlorohydrin polymer dye-image receiving layer
US5344868A (en) * 1993-03-23 1994-09-06 Rohm And Haas Company Polyglutarimide/glass fiber combinations
DE4444378A1 (de) * 1994-12-14 1996-06-20 Basf Ag Thermoplastische Formmassen auf der Basis von teilaromatischen Polyamiden und Polymethacrylimiden
JPH09152501A (ja) * 1995-09-27 1997-06-10 Fuji Xerox Co Ltd 光学素子およびその製造方法、並びに光学素子用高分子液晶組成物
US6080833A (en) * 1996-07-31 2000-06-27 Mitsui Chemicals, Inc. Low-birefringent organic optical component and a spirobiindan polymer
JP3695024B2 (ja) * 1996-11-14 2005-09-14 Ｊｓｒ株式会社 半導体デバイス製造用感放射線性樹脂組成物
US6197898B1 (en) * 1997-11-18 2001-03-06 General Electric Company Melt-mixing thermoplastic and epoxy resin above Tg or Tm of thermoplastic with curing agent
JP2001220515A (ja) 2000-02-08 2001-08-14 Kawamura Inst Of Chem Res 共連続構造を有する樹脂複合体及びその製造方法
EP1195758B1 (en) * 2000-03-29 2007-05-30 Teijin Limited Protective coat for optical recording medium and optical recording medium
JP3560532B2 (ja) * 2000-05-02 2004-09-02 株式会社巴川製紙所 ディスプレイ用帯電防止フィルム
JP3679976B2 (ja) * 2000-05-31 2005-08-03 株式会社巴川製紙所 ディスプレイ用貼着フィルム
US6887729B2 (en) * 2002-01-14 2005-05-03 Reveo, Inc. Twisted nematic micropolarizer and its method of manufacturing
EP1477828A1 (en) * 2002-02-19 2004-11-17 Nitto Denko Corporation Graded optical compensation film, process for producing the same and liquid crystal display including the same
US20050129895A1 (en) * 2002-05-27 2005-06-16 Ajinomoto Co., Inc. Adhesive film and prepreg
JP2004045893A (ja) * 2002-07-12 2004-02-12 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 透明フィルム、偏光子保護フィルム、および偏光板
TW200404842A (en) * 2002-07-30 2004-04-01 Nitto Denko Corp Optical film and manufacturing method thereof
JP2004269842A (ja) * 2002-09-30 2004-09-30 Tosoh Corp 透明耐熱樹脂光学材料及びフィルム
KR100519516B1 (ko) * 2002-11-25 2005-10-07 주식회사 하이닉스반도체 유기 반사방지막 중합체, 이의 제조 방법과 상기 중합체를포함하는 유기 반사 방지막 조성물
EP1574882B1 (en) * 2002-12-20 2013-01-23 Teijin Limited Transparent conductive laminate, touch panel and liquid crystal display unit with touch panel
CN1816439A (zh) * 2003-05-02 2006-08-09 通用电气公司 用于光学器件的聚合物共混物及其制造方法
JP4117231B2 (ja) * 2003-08-05 2008-07-16 Ｈｏｙａ株式会社 プラスチックレンズ及びその製造方法
JP4679808B2 (ja) * 2003-08-26 2011-05-11 Ｊｓｒ株式会社 位相差膜形成用組成物
JP4369194B2 (ja) * 2003-09-30 2009-11-18 Ｈｏｙａ株式会社 プラスチックレンズ及びその製造方法
KR100570211B1 (ko) * 2003-12-24 2006-04-12 주식회사 하이닉스반도체 유기 반사방지막용 가교제 중합체, 이를 포함하는 유기반사 방지막 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 패턴형성 방법
KR20060113791A (ko) * 2004-02-25 2006-11-02 간사이 페인트 가부시키가이샤 광도파로용 경화성 수지 조성물, 광도파로용 경화성드라이 필름, 광도파로 및 광도파로용 코어 부분의 형성방법.
JP2005266464A (ja) * 2004-03-19 2005-09-29 Teijin Ltd 偏光子保護フィルム、偏光板および液晶表示素子
US20060252234A1 (en) * 2004-07-07 2006-11-09 Lintec Corporation Hardenable pressure sensitive adhesive sheet for dicing/die-bonding and method for manufacturing semiconductor device
JP5335175B2 (ja) * 2004-09-15 2013-11-06 三星ディスプレイ株式會社 インク組成物及び前記インク組成物を含むカラーフィルター
JP3985969B2 (ja) * 2004-09-29 2007-10-03 日東電工株式会社 液晶パネル及び液晶表示装置
US7486442B2 (en) * 2004-09-30 2009-02-03 Industrial Technology Research Institute Polarizer protective film, polarizing plate, and visual display
US7329465B2 (en) * 2004-10-29 2008-02-12 3M Innovative Properties Company Optical films incorporating cyclic olefin copolymers
EP1847567A4 (en) * 2004-12-27 2008-03-26 Jsr Corp THERMOPLASTIC COMPOSITION, OPTICAL FILM AND ORIENTED FILM
JP4618675B2 (ja) * 2005-02-08 2011-01-26 日東電工株式会社 位相差フィルム、偏光素子、液晶パネルおよび液晶表示装置
CN100549739C (zh) * 2005-03-31 2009-10-14 株式会社日本触媒 偏振镜保护膜、偏振片以及图像显示装置
JP5288150B2 (ja) * 2005-10-24 2013-09-11 株式会社スリーボンド 有機ｅｌ素子封止用熱硬化型組成物
KR20090076754A (ko) * 2008-01-08 2009-07-13 주식회사 엘지화학 광학 필름, 위상차 필름, 보호 필름 및 이들을 포함하는액정 표시 장치
KR101105424B1 (ko) * 2008-04-30 2012-01-17 주식회사 엘지화학 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 광학 필름
KR101091534B1 (ko) * 2008-04-30 2011-12-13 주식회사 엘지화학 광학 필름 및 이를 포함하는 정보전자 장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5905554A (en) * 1994-05-27 1999-05-18 The University Of Akron Non-birefringent optical adhesives and films
TW200303451A (en) * 2002-01-09 2003-09-01 Clariant Int Ltd Negative-working photoimageable bottom antireflective coating

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