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TW447028B - Semiconductor process system, its control method, computer readable memory, and device manufacturing method - Google Patents

Semiconductor process system, its control method, computer readable memory, and device manufacturing method Download PDF

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TW447028B
TW447028B TW087108737A TW87108737A TW447028B TW 447028 B TW447028 B TW 447028B TW 087108737 A TW087108737 A TW 087108737A TW 87108737 A TW87108737 A TW 87108737A TW 447028 B TW447028 B TW 447028B
Authority
TW
Taiwan
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work
semiconductor processing
processing equipment
job
semiconductor
Prior art date
Application number
TW087108737A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Kawazome
Original Assignee
Canon Kk
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Publication date
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Description

4 Τ 0 2 8 Α7 Β7 經濟部中央標準局貝工消费合作社印裝 五、發明説明(I ) 發明背景 本發明係關於半導體處理系統,其控制方法,電腦可 讀記憶體及可使用該系統之裝置製造方法β 習用之半導體處理系統包括用以操縱半導體處理之主 電腦,用以實施半導體處理之半導體處理裝置及用以輸送 物料例如晶圓等之構件•及經由此等組件的資訊通信而自 動執行半導體處理。在此系統中,主電腦指令輸送構件輸 送物料至半導體處理裝置同時監控該半導體處理裝置的操 作狀態,於接收經由輸送構件所輸送之物料時,該半導體 處理裝置發送一物料接收報告至主電腦。然後該主電腦發 出一個工作指令至半導體處理裝置,其依照指令而實施半 導體處理。該半導體處理裝置保持工作資料例如,案卷中 之指令的工作所需要之處理狀況等,預告之資料庫.等及 於自主電腦接收工作指令時,執行以所保持之工作資料爲 基礎之各種處理》 以此種方式,在習用之系統中,該半導體處理裝置接 收物料,並依照自主電腦所接收之工作指令,實施以預先 所保持之工作資料爲基礎之各種處理•然而,當該半導體 處理裝置並未保持所指令之工作所需要之任何工作資料時 1它必須取消或中止此等工作,必須將需要之工作資料安 裝在半導體處理裝置上而重起始各個工作。此現象產生不 良之工作效率。 發明摘要 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS) Α4規格(2丨0X297公釐)_4- ---------装------1Τ------^ <請先Muf背面之注意事項再填寫本頁) 44702 8 at B7 經漓部中央標準局負工消费合竹社印製 五、發明説明p ) 於考慮到上述之習見問題時|本發明的一個目的在改 良半導體處理或半導體裝置製造技術的處理效率。 爲了達到上述目的,根據本發明,提供一種半導體處 理系統,它包括半導體處理裝置用以執行各種工作而,製造 半導體裝置:物料輸送構件用以輸送各工作中所使用之物 料至半導體處理裝置,及主電腦用以監控半導體處理裝置 的操作狀態,指令物料輸送構件所需要工作中所使用之物 料,及指令半導體處理裝置執行該工作,其中,主電腦造 成工作保留,它通知半導體處理裝置,與所需要之工作中 所使用之物料的輸送指令同時所執行之工作,該半導體處 理裝置’依照工作保留而證實:是否所保留之工作所需要 之工作資料存在於該裝置中,如果該工作資料不存在,則 採取預定之措施》 亦,根據本發明,提供一種製造裝置之方法用以製造 半導體裝置,即:使用一主電腦•監控用以實施各種工作 之半導體處理裝置的操作狀態而製造該半導體裝置,指令 物料輸送構件輸送所需要之工作中所使用之物料並指令該 半導體處理裝置執行工作,其中該主電腦造成工作保留, 它通知半導體處理裝置,與所需要之工作中所使用之物料 的輸送指令同時所執行之工作,又該半導體處理裝置,依 照工作保留需證實:是否所保留之工作所需要之工作資料 存在於該裝置中’如果該工作資料不存在,則採取預定之 措施* 根據本發明,因爲採取預定之措施,例如,製備所需 -----------^------1T------1 ' . . - (諳先閱讀背^之注意事碲再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4見格(2]0Χ2ί>7公釐)_5_ 4· 4· T 0 2 8 B7 經濟部中央標準局貝工消費合你社印1i 五、發明説明p ) 要之工作資料,同時該輸送構件輸送所需要之物料,所以 可以改良之半導體處理的工作效率。 圖式之簡述 圖1是示意圖顯示:根據本發明具體實施例1之半導 體處理系統; 圖2是流程圖顯示:當圖1中所示之系統中的主電腦 發出一個晶圓載體輸送指令時所執行之處理常式之流程; 圖3是流程圖顯示:當圖1中所示之系統中的步進器 自主電腦接收工作保留時所執行之處理常式之流程; 圖4是流程圖顯示:當圖1.中所示之系統中的工作伺 服器自步進器接收一工作資料轉移請求時所執行之處理常 式之流程: 圖5是示意圖顯示:根據本發明具體實施例2之系統 圖6是流程圖顯示:於製造可經由圖1中所示之系統 所製造之微裝置時之流動:及 圖7是流程圖顯示:圖6中晶圓處理的詳細流程。 主要元件對照 1 步進器 2 輸送遙控機械 3 主電腦 4 工作伺服器 ^^1 tn^ ^^^1 ^^^1 I m --aJ (讀先閲i*背面之注項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公釐)-6- 447028 蛵濟部中央標準局貝工消費合作社印It A7 _ B7五、發明説明& ) 5 控制器 較佳具體實施例之詳述 在本發明的較佳具體實施例中,半導體處理裝置可要 求工作資料轉移構件(其可轉移各種工作所需要之工作資 料至半導體處理裝置)轉移所儲備之工作所需要之工作資 料作爲預定措施。 該半導體處理裝置可輸出一預定之簪告作爲預定之措 施。 又,當半導體處理裝置具有控制器用以控制該裝置本 身時,該控制器接收工作保留,證實工作資料的存在/不 存在,並採取預定之措施。 根據此等特徵,由於裝置中之工作所需要之工作資料 的不存在,可以防止工作被取消或停止,且可避免半導體 處理的任何工作效率下降。 本發明將經由其具體實施例予以更詳述如下。 (具體實施例1〕 圖1是示意圖顯示:根據本發明之半導體處理系統設 備之實例。此系統具有一步進器1用以實施暴露半導體* 一個輸送遙控機械2用以輸送晶圓載體至步進器1,一具 主電腦3用以監控步進器1之操作狀態|指導输送遙控機 械2輸送晶圓載體及供應工作指令至步進器1及一具工作 伺服器4用以轉移步進器1所需要之工作資料而暴露至步進 I---------^------π------ 、 · Γ請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4规格(210X297公釐) '023 4 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 _B7_ 五、發明説明Ρ ) 器1。此等裝置所經由網路,無線電通信等而相互溝通。 圖2顯示:當主電腦3發出晶圓載體輸送指令時所執 行之之處理常式的流程。當開始此声理常式時,主電腦3 ,基於步驟S 1中,步進器1等的操作狀態,核對:是否 晶圓載體被輸送至步進器1。如果主電腦3測定:晶圓載 體被輸送至步進器1 (步驟1中之是),則它作成工作保 留在步進器1上(步驟S2)。於作成工作保留時,主電 腦3傳輸該保留同時附加資訊指示:晶圓載體的型式,欲 使用晶圓載體在其中之工作的型式等至保留。在步驟S 3 中,主電腦3指令输送遙控機械2輸送晶圓載體至步進器 1,因此,結束該常式。如果電腦3測定在步騍S 1 ): 無晶圓載體被輸送至步進器1(步驟S1中之NO),則 它結束該處理常式。 圖3顯示:當步進器彳接收自主電腦3所傳輸之工作 保留時所執行之處理常式。在此處理常式中,在步驟4中 ,它核對:是否已自主電腦3接收工作保留。如果尙未接 收工作保留(步驟S4中之NO),則該處理常式結束。 在另一方面,如果已接收工作保留(步驟S 4中之1是# )*則在步驟S5中,予以證實:是否將經包括在工作保 留中之工作資料保持在步進器1中,而流程進展至步驟 S6。在步驟S6中,經核對:是否證實:工作資料存在 於步進器1中。如果證實工作資料的存在(步驟S 6中之 *是"),則該處理常式結束:否則(步驟S6中之NO ),在步驟S7中,將工作資料轉移請求傳輸至工作伺服 本紙張尺度逋用中國囯家標準(CNS)A4規格(210X297公釐)_8_ I.---------嗛------1T------Λ {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 4470 2 8 Α7 Β7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 五、發明説明鈐) 器4,因此結束處理常式。 圖4顯示:當工作伺服器4自步進器1接收工作資料 轉移請求時所執行之處理常式的流程。在步驟S 8中,經 核對:是否已自步進器1接收工作資料轉移請求。如果已 接收該請求(步驟S 8中之|是#),則流程進展至步騾 S9:否則(步驟S8中之NO),結束該處理常式。在 步驟S 9中•證實:是否將相當於轉移請求之工作資料保 持在工作伺服器4的儲存構件中,而流程進展至步驟S 1 0。在步驟S 1 0中,核對:是否經證實:保持該工作 資料。如果可能證實:保持該工作資料(步驟S 1 0中之 *是# ),則在步驟S 1 1中,.將工作資料轉移至步進器 1,因此結束處理常式。在另一方面,如果尙未經證實: 保持該工作資料(步驟S10之NO),則在步驟S12 ,將一個工作資料轉移否定訊息發送至步進器1,因此結 束該處理常式。 於自工作伺服器4接收工作資料轉移否定訊息時,步 進器1產生一個警告:提醒操作員安裝工作資料。 可使用此系統之製造該裝置方法的一個實例予以解釋 如下:圖6顯示製造一程微裝置(半導體晶片例如: ICs,LSI s等,液晶面板,CCDs,薄膜磁頭, 微機器等)時之流程。在步驟S 1 (電路設計)中,作成 半導體裝置的電路設計。在步驟3 2 (製造掩模)中,製 造以所設計之電路圖型所形成之掩模)》在步驟33(製 造晶圓)中,晶圓使用各種材料例如矽等而製造)。步驟 (诗先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度通用中國國家摞準(CNS ) Α4規格(210Χ:297公釐).9 . »4702 8 A7 B7 經濟部中央梂準局男工消費合作社印装 五、發明説明(7 ) 3 4 (晶圓處理)稱爲預處理’而實際電路係使用所製備 之掩模和晶圓經由石版印刷術予以形成。下一步驟35( 組合)稱爲後處理,其中’將半導體晶片使用步驟3 4中 所獲得之晶圓予以組合,並包括組合步驟(切粒’黏合) ,包裝步驟(包膠晶片)等。在步驟36 (檢驗)中’進 行各種檢驗例如,步騍3 5中所組合之半導體裝置的操作 證實試驗,持久性試驗等。半導體裝置經由此等處理而告 完成並交付(步驟3 7) » 圖7顯示:晶圓處理的詳細流程。在步驟4 1 (氧化 )中,將晶圓的表面氧化。在步騍42 (CVD)中,將 一片絕緣膜形成在晶圓表面上。步驟43(電極形成中) ,電極經由澱積在晶圓上予以形成。在步驟4 4 (離子植 入)中,將離子植入晶圓中。在步驟45 (抗蝕處理)中 ,將一種感光劑施加至晶圓上。在步驟4 6 (曝光)中, 將掩模上之電路圖型經由使用上述曝光裝置曝光而印刷在 晶圓上《在步驟47(顯像中,將經曝光之晶圓顯影。在 步驟4 8 (蝕刻)中|將除去所顯像之抗蝕像以外之一個 部份經由蝕刻而移除。在步驟4 9 (移除抗蝕)中•將在 蝕刻後已變成不須要之抗蝕膜移除》經由重複此等步驟, 將許多電路圖型形成在晶圓上。 使用此具體實施例之製造方法,可以低成本製造經由 習用之方法難以製造之高積體半導體裝置β 〔具體實施例2〕 本紙张尺度適用中7國國家標準(CNS > Α4坑格(210Χ297公t ) . 10. (讀先Μ讀背面之注f項再填弈本頁) 44702 8 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 _B7_五、發明説明魯) 圖5顯示:具有自動控制步進器1之控制器5之系統 的設備。在此系統中,主電腦3作成工作保留在每一控制 器5上。於自主電腦3接收工作保留時,控制器5發送證 實相當之工作資料的存在/不存在之請求至步進器1。於 接收來自控制器5之請求時,步進器1證實:是否該工作資料 存在於步進器中,並發送證實結果至控制器5。當控制器 5接收該證實結果:指示來自步進器1之工作資料不存在 •則它傳輸一個工作資料轉移請求至工作伺服器4 «於接 收來自控制器5之工作資料轉移請求時,工作伺服器4證 實:是否相當之工作資料存在於該工作伺服器4中,如果 它存在,則轉移該工作資料至步進器1。在另一方面•如 果該工作資料不存在於工作伺服器4中,則該工作伺服器 4發送一個工作資料轉移否定訊息至控制器5。於接收來 自工作伺服器4之工作資料轉移否定訊息時,控制器5產 生一個警告,其提醒操作員安裝工作資料。 在此具體實施例中,每一控制器自動控制一個步進器 1 »另種方式,其至當單一控制器5自動控制許多的步進 器1時,可進行相同處理。 〔其他具體實施例〕 在具體實施例1與2中,將步進器例示爲半導體處理 裝置《然而,本發明並非受限爲此等特定裝置,而可施加 至能處理晶圓之任何其他半導體處理裝置。 此外,將晶圓載體例示爲欲被輸送之物料β然而於處 I----------裝------訂------^ · \ (請先閉讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家糅準(CNS>A4規格(210Χ297公釐)_11 _ 44702 8 at B7 經濟部中央橾準局負工消费合作社印掣 五、發明説明昝) 理晶圓(例如標線片,感光劑等)時,所需要之任何可將 本發明施加至其他材料。 槪括,根據本發明,是否所保留之工作所需要之工作 資料存在於裝置中,係回應於工作保留予以證實,且如果 相當之工作資料不存在,則採取預定之措施,即:發出一 個工作資料轉移請求或輸出一個預定之警告·因此,可防 止該工作,由於裝置中之工作所需要之工作資料不存在而 被取消或中止,且可避免半導體處理的任何工作效率下降 〇 備註:本發明的目的亦經由供應一儲存介體予以實現 ,此儲存介體記錄軟體程式的程式碼,其可實行上述各具 體實施例的功能至該系統或裝置•並經由該系統或裝置的 電腦(或C P U或MP U )讀出和執行經儲存在儲存介體 中之程式碼。 在此情況下,自儲存介體所讀出之程式碼本身實行上 述具體實施例的功能,而該儲存介體(其儲存程式碼)構 成本發明。 作爲供應程式碼之儲存介體,舉例而言|可使用軟性 磁碟,硬磁碟,光碟•磁一光碟,CD — ROM,CD_ R,磁帶,不變性記憶卡,ROM等。 上述具體實施例的功能可能不僅經由移用電腦執行所 讀出之程式碼予以實現,而且經由利用以程式碼的指令爲 基礎,在電腦上所進行之US (操作系統)所執行之某些 或所有的實際處理操作予以實現。 I--------^------^------Λ - 、 {婧先《讀背奋之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準< CNS ) Α4規格(210Χ297公釐)-12 - 02 8 A7 B7 五、發明説明(1〇 ) 此外,在將自儲存介體所讀出之程式碼記錄在延伸板 或單元的記億器中後,上述具體實施例的功能可經由利用 經嵌入或連接至電腦上之功能延伸板或功能延伸單元中所 列之C P U或類似者所執行之某些或全部實際處理操作予 以實現。 I.---------- ^------II------A (請先《讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消费合作杜印製 本紙張尺度遑用中國國家梯準< CNS ) Α4规格(210X297公釐).13-

Claims (1)

  1. 4470 2 8 A8 B8 C8 D8 經濟部中央標率局負工消費合作社印*. 六、申請專利範圍 1 種半導體處理系統,此系統包括一種半導體處 理設備用以實施各種工作而製造半導體裝置;物料輸送構 件用以輸送工作中所使用之物料至半導體處理設備及一具 主電腦用以監控該半導體處理設備的操作狀態,指令該物 料輸送構件輸送所需要之工作中所使用之物料,並指令半 導體處理設備執行該工作,其中該主電腦作成工作保留, 它通知半導體處理設備,與所需要之工作中所使用之物料 的輸送指令同時所執行之工作,又該半導體處理設備,依 照該工作保留'而證實:是否所保留之工作所需要之工作資 料存在於該設備中,如果該工作資料不存在,則採取預定 措施。 ..〜 2 .如申請專利範圔第1項之系統,另外包括工作資 料轉移構件,其可轉移用以實施各種工作所需要之工作資 料至半導體處理設備,及其中該半導體處理設備要求工作 資料轉移構件轉移所保留之工作所需要之工作資料作爲預 定之措施。 3,如申請專利範圍第1項之系統,其中,半導體 處理設備输出一預定警告作爲預定之措施》 4 .如申請專利範圔第1項之系統,其中該半導體處 理設備具有控制器用以控制該設備本身,而控制器接收工 作保留,證實工作資料之存在/不存在並採取預定之措施 〇 5 .—種半導體處理系統之控制方法,此方法包括半 導體處理設備用以實施各種工作而製造半導體裝置,物料 本紙張足度逋用中國國家揉率(CNS ) A4洗格(2丨0><297公釐) -14- ϋ _ - - - - - - I -i- ί n ^^1 —ϋ ^^1 <請背面之注意事項再填寫本真) 447028 AB BS C8 D8 經濟部中央標窣局ec工消费合作社印製 六、申請專利範圍 輸送構件用以輸送工作中所使用之物料至半導體處理設備 及一具主電腦用以監控該半導體處理設備的操作狀態,指 令該物料輸送構件輸送所需要之工作中所使用之物料,並 指令半導體處理設備執行該工作,包括: 控制主電腦的第一控制步驟而作成工作保留,它通知 半導體處理設備,與所需要之工作中所使用之物料的輸送 指令同時所執行之工作;及 依照工作保留,控制半導體處理設備的第二控制步驟 來證實:是否所保留之工作所需要之工作資料存在於該設 備中,如果該工作資料不存在,則採取預定措施。 6 ·如申請專利範圍第5項之方法,另外包括轉移用 以實施各種工作所需要之工作資料至半導體處理設備的工 作資料轉移步驟,及其中,經由轉移所保留之工作中所需 要之工作資料在工作資料轉移步驟中而採取預定措施。 7 ·如申請專利範圍第5項之方法,其中經由輸出一 預定之警告而採取預定之措施· 8 .如申請專利範圍第5項之方法,另外包括控制半 導體處理設備的第三控制步驟,及其中該第三控制步驟包 括接收工作保留的步驟,證實工作資料的存在/不存在, 並採取預定措施。 9 . 一種電腦可讀記憶體,它儲存一程式碼用以控制 半導體處理系統,此記憶體包括半導體處理設備用以實施 各種工作而製造半導體裝置,物料輸送構件用以輸送工作 中所使用之物料至半導體處理設備及一具主電腦用以監控 本紙張尺度速用中國困家梂準(CNS ) A4規格(210 X 2打公釐)-15· 1 (請先H讀背面之注意事項再填窝本頁) ^47028 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 該半導體處理設備之操作狀態,指令該物料輸送構件輸送 所需要之工作中所使用之物料,並指令半導體處理設備執 行該工作,包括: 控制主電腦而作成工作保留的第一控制步驟之程式碼 ’它通知半導體處理設備,與所需要之工作中所使用之物 料的輸送指令同時所執行之工作;及 控制半導體處理設備的第二控制步驟之程式碼,依照 工作保留來證實:是否所保留之工作所需要之工作資料存 在於該設備中,如果該工作資料不存在,則採取預定措施 10種用以製造半導體裝置之裝置製造方法•經 由使用一具主電腦,監控半導體處理設備的操作狀態以便 實施各種工作而製造該半導體裝置,指令該物料輸送構件 輸送所需要之工作中所使用之物料,並指令半導體處理設 備執行該工作,其中 該主電腦作成工作保留,它通知半導體處理設備,與 所需要之工作中所使用之物料的輸送指令同時所執行之工 作,及該半導體處理設備,依照工作保留而證實:是否所 保留之工作所需要之工作資料存在於該設備中,如果該工 作資料不存在,則採取預定之措施》 ----;------^------^------ (請先Mtt背面之注意事項再壤寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印装 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS ) ( 210X297公釐)-16-
TW087108737A 1997-06-13 1998-06-03 Semiconductor process system, its control method, computer readable memory, and device manufacturing method TW447028B (en)

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JP (1) JPH118170A (zh)
KR (1) KR100396068B1 (zh)
DE (1) DE69836517T2 (zh)
TW (1) TW447028B (zh)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH118170A (ja) * 1997-06-13 1999-01-12 Canon Inc 半導体処理システムおよびデバイス製造方法
JP2000124095A (ja) * 1998-10-13 2000-04-28 Canon Inc 半導体製造装置、情報処理装置およびデバイス製造方法
JP2000223386A (ja) * 1999-02-02 2000-08-11 Mitsubishi Electric Corp 半導体製造システムおよび当該システムで用いられる半導体製造システム制御装置
DE19921244A1 (de) * 1999-05-07 2000-11-16 Siemens Ag Anlage zur Bearbeitung von Wafern
US6640151B1 (en) * 1999-12-22 2003-10-28 Applied Materials, Inc. Multi-tool control system, method and medium
JP2001217299A (ja) * 2000-02-04 2001-08-10 Nec Corp 半導体搬送設備の特殊ロット搬送制御システム及び方法と装置並びに記録媒体
US6708074B1 (en) 2000-08-11 2004-03-16 Applied Materials, Inc. Generic interface builder
US6591162B1 (en) * 2000-08-15 2003-07-08 Asyst Technologies, Inc. Smart load port with integrated carrier monitoring and fab-wide carrier management system
US7188142B2 (en) 2000-11-30 2007-03-06 Applied Materials, Inc. Dynamic subject information generation in message services of distributed object systems in a semiconductor assembly line facility
JP4213871B2 (ja) * 2001-02-01 2009-01-21 株式会社日立製作所 半導体装置の製造方法
US7698012B2 (en) 2001-06-19 2010-04-13 Applied Materials, Inc. Dynamic metrology schemes and sampling schemes for advanced process control in semiconductor processing
US7160739B2 (en) 2001-06-19 2007-01-09 Applied Materials, Inc. Feedback control of a chemical mechanical polishing device providing manipulation of removal rate profiles
JP2003022945A (ja) * 2001-07-06 2003-01-24 Mitsubishi Electric Corp 工程管理装置、工程管理方法および工程を管理するためのプログラム
US6922593B2 (en) * 2001-08-06 2005-07-26 Gideon Weiss Control of items in a complex system by using fluid models and solving continuous linear programs
US20030199112A1 (en) 2002-03-22 2003-10-23 Applied Materials, Inc. Copper wiring module control
US20030221309A1 (en) * 2002-05-29 2003-12-04 Seagate Technology Llc Modular dice system for slider bar parting
US7433742B2 (en) * 2002-07-26 2008-10-07 Gideon Weiss Control of items in a complex system by using fluid models and solving continuous linear programs
US7272459B2 (en) 2002-11-15 2007-09-18 Applied Materials, Inc. Method, system and medium for controlling manufacture process having multivariate input parameters
TW200535583A (en) * 2003-12-26 2005-11-01 Renesas Tech Corp Mass-production transfer support system and semiconductor manufacturing system
JP2008078630A (ja) * 2006-08-24 2008-04-03 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理システム
US8962353B2 (en) * 2011-09-16 2015-02-24 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System and methods for semiconductor device performance prediction during processing
US9064788B1 (en) 2014-02-19 2015-06-23 Wafertech, Llc Statistical method for monitoring manufacturing equipment and processing operations
CN103760934B (zh) * 2014-02-20 2015-11-11 北京七星华创电子股份有限公司 一种用于半导体热处理设备温度的监控方法及系统
WO2018038892A1 (en) * 2016-08-26 2018-03-01 Applied Materials, Inc. Self-healing semiconductor wafer processing

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4027246A (en) * 1976-03-26 1977-05-31 International Business Machines Corporation Automated integrated circuit manufacturing system
US4974166A (en) * 1987-05-18 1990-11-27 Asyst Technologies, Inc. Processing systems with intelligent article tracking
US5536128A (en) * 1988-10-21 1996-07-16 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for carrying a variety of products
JP2780814B2 (ja) * 1989-06-22 1998-07-30 株式会社日立製作所 生産管理システム
TW276353B (zh) * 1993-07-15 1996-05-21 Hitachi Seisakusyo Kk
JPH07297258A (ja) * 1994-04-26 1995-11-10 Tokyo Electron Ltd 板状体の搬送装置
US5696689A (en) * 1994-11-25 1997-12-09 Nippondenso Co., Ltd. Dispatch and conveyer control system for a production control system of a semiconductor substrate
KR0167881B1 (ko) * 1994-11-28 1999-02-01 김주용 웨이퍼 반송 시스템 및 그 제어방법
US5745364A (en) * 1994-12-28 1998-04-28 Nec Corporation Method of producing semiconductor wafer
US5867388A (en) * 1995-03-17 1999-02-02 Nippondenso Co., Ltd. Controller of conveyance system
JPH08335539A (ja) * 1995-06-06 1996-12-17 Sony Corp 生産管理装置および生産管理方法
JP3501896B2 (ja) * 1996-03-21 2004-03-02 トーヨーエイテック株式会社 ウェハ製造装置
JPH10116875A (ja) * 1996-10-08 1998-05-06 Mitsubishi Electric Corp 半導体製造システム
US6085892A (en) * 1997-02-07 2000-07-11 Quantum Conveyor Systems, Inc. High speed sorting/diverting apparatus, an apparatus controller and systems using same
US6000830A (en) * 1997-04-18 1999-12-14 Tokyo Electron Limited System for applying recipe of semiconductor manufacturing apparatus
JPH118170A (ja) * 1997-06-13 1999-01-12 Canon Inc 半導体処理システムおよびデバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US6148246A (en) 2000-11-14
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JPH118170A (ja) 1999-01-12
DE69836517T2 (de) 2007-06-28
KR19990006909A (ko) 1999-01-25
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EP0884765A3 (en) 2001-05-02
KR100396068B1 (ko) 2003-10-17

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