TW439016B - Positive resist composition - Google Patents
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Description
439016 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 £7_五、發明説明(1 ) 本發明之背景 太發明夕領域— 本發明乃有商對於例如紫外線輻射會感光而提供正圖 案之正光阻組成物,其適合製造半導體。 扭_^^薛之說明_ 包含做為_可溶成分之可熔酚醛(novolak)樹脂及做 為輻射敏感成分之酲二叠氤化合物之正光阻劑受到經過 光軍(所諝之按照圖案的曝光)之曝光,龄性顯像可得正 像,其原理是_二曼氮化合物經照射後分解而産生羧基 ,於是_二叠氮化合物由鹸不溶轉受成鹾可溶。此種可 溶(可熔)酚醛樹脂/醍二叠氮型正光阻劑因一般皆可得 良好的解析度,故往往是用來製造稹體電路。 近來積體電路要大容量,線路須更微細,於是線幅縮 小至1橄米以下。因此所需的正感光瞜不僅有良好解析 度,亦須有良好的聚焦深度。增加輻射敏感的成分量可 改善解析度〇但輻射敏感成分用量增加會使光阻劑之輻 射吸收量增大,且聚焦鷂差時往往會引起薄膜厚度減小 。因此不易同時改善解析度及聚焦深度。 正光阻劑亦要求能製出有良好的輪廓(鼷案構型 亦 卽就更徹細的圓案而言,圖案頂面的圓形,和圖案之頂 及底間之斜率所遭遇的問題是在曝光中所用的光罩不能 精確地轉錄到光阻劑所形成的圖案上。因此,目前急需 一種能改善此等缺點並提供良好的輪廓之正光阻組成物。 提高光阻劑之透明度卽可容易地改菩輪廓,具體而言 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本覓) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 3 90 1 6 at B7五、發明説明(* ) 其方法是減少輻射敏感成分之用量。但輻射敏戲成分量 減少通常是會減損解析度。加強可溶酚醛樹脂之疏水性 亦可改善輪廊。但若可溶(可熔)驗醛樹脂疏水性提高, 通常亦會減損光阻劑之威光性。總之,不易求得可改善 輪廓又不會減損感光性及解析度之技術。 本發明之目的乃提供具有改善解析度,聚焦深度及其 良好平衡性之正光阻組成物β 本發明之另一目的是提供具有良好輪郸但不會減損感 光性及解析度之正光阻組成物,亦即本組成物之感光性 ,解析度及輪廊之平衡性極佳。 本案發明者經廣泛探討,發現含做為齡可溶成分之可 熔酚醛樹脂及做為感光成分之醍二β氤化合物之正光阻 組成物中添加某特殊化合物即可實現前述目的。本案發 明者亦發現在含做為鹼可溶成分之可熔酚醛樹脂及做為 成光成分之酲二叠m化合物之本正光阻組成物中加入酸 産生劑即可顯箸地改善輪廓而不減損感光性及解析度。 據此而完成本發明》 本發明乃提供非化學增強型之正光阻組成物,其中包 含驗可溶之可熔酚醛樹脂,匿二叠氮型增感劑及至少一 種下列化合物(a )及(b ): (a) 受到鹺性顯像液作用會分解而産生酸之酸産生劑,及 (b) 下列式(IV)或(V)所示之化合物: -4 - -------.---^-------訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度1|周命属*家_鼙(CNS ) A4it格< 210X297公釐) 4 3 16 A7 B7 五、發明説明(3 ) R8 R9 R1
(IV) (V) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 ,R 6 , R7及Rs各自獨 立,俗氫,鹵原子,羥基,烷基,烷氣基,芳基或硝基 及以°各自獨立,傜氫,鹵原子.烷基,芳基,硝 基,-(0112)11-01?11或-(0112)〇〇0〇812,其中|^1僳氫 ,烷基,芳基或烷醛,而ϋ12係氫,烷基或芳基; η為0至3之數, R13為氫,鹵原子,烷基,烷氧基或芳基。 本發明之正光阻組成物包含鹼可溶可熔酚醛樹脂,匿 二叠氮型増威劑,是一種非化學增強型正光阻组成物。 因此,本發明之正光阻組成物並非化學增強型正光阻劑 ,不需含有受到酸之作用變成可溶之化合物,例如是ϋ 可溶樹脂,其中有至少一部分的官能基(如羥基)被受到 酸之作用而移除之一種基所保護著。 通常做為普通的正光阻劑之鹼可溶成分的鹼可溶可熔 酚醛樹脂可做為本發明正樹脂組成物中之鹼可溶可熔酚 醛樹脂。用於本發明之鹼可溶可熔酚醛樹脂可由酚化物 -5 - --------.---t-------tr (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X2?7公釐) 439016 A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 五、發明説明( 4 ) 1 1 I 和 醛 在 酸 觸 媒 存 在 下 進 行 缩 合 而 得 〇 用 來 製 造 可 溶 酚 m 1 1 | 樹 脂 之 m 化 物 有 苯 酚 f 鄰 » 間- 1 或 對 -甲酚, 2 ,3 1 I 2, 5- ,3 ,4-或 3 ,5 -二甲苯酚, 2 ,3 ,5 -三甲苯酚, 2 3- 請 先 1 或 4 第 三 丁 苯 酚 » 2- 第 三 丁 基 -4或 -5 -甲苯酚, 2 4 - 或 閱 讀 1 背 ! 5- 甲 基 間 苯 二 酚 > 2 - ,3 -或4 -甲氣苯酚, 2 ,3 2 ,5 -或 面 之 I 3 , 5- 二 甲 氧 苯 酚 9 2- 甲 氧 間 苯 二 酚 » 4驅 第 三 丁 基 苯 鄰 二 事 '1 酚 > 2- > 3- 或 4- 乙 苯 酚 2 , 3 , 5- 三 乙 苯 酚 1 2 - 萘 酚 * 1 , 再 1 填 1 3- 9 1 , 5- 或 1, 7- 二 羥 萘 * 及 由 二 甲 苯 酚 和 羥 苯 m 縮 而 寫 本 裝 得 之 多 羥 三 苯 甲 烷 化 物 〇 此 等 酚 化 物 可 〇〇 早 獨 或 兩 種 或 以 頁 s^· 1 1 上 混 合 使 用 〇 1 1 用 來 製 造 可 溶 酚 醛 樹 脂 之 m 有 例 如 甲 m 9 乙 醛 1 丙 m 1 1 正 丁 m » 正 丁 m » 第 三 戊 m » 正 己 醛 > 丙 烯 及 丁 烯 [ 訂 m 之 脂 族 醛 例 如 環 己 m > 瑗 戊 m 9 糠 m 及 呋 喃 丙 烯 醛 ! 之 脂 環 m 例 如 苯 醛 9 鄰 > 間- 或 對 -甲苯醛, 對- 乙 苯 1 1 m 9 2 , 4 * 2 , 5- * 3 , 4- 或 3 , 5- 二 甲 苯 醛 * 鄰 間- 或 對- [ [ 羥 苯 m 鄰 *" * 間- 或對 -茴香醛及香草醛之芳族醛 及 1 良 例 如 苯 乙 m 及 肉 桂 m 之 芳 脂 族 m 0 此 等 m 可 Etta 単 獨 或 兩 種 1 或 以 上 混 合 使 用 0 在 此 等 m 中 , 較 佳 為 甲 醛 9 因 為 其 為 i 'I 工 業 産 品 〇 ί 1 用 於 m 化 物 和 m 之 縮 合 所 需 的 酸 觸 媒 包 含 無 饿 酸 如 1 1 氫 氮 酸 9 碕 酸 t 過 氣 酸 及 酸 之 無 機 酸 如 甲 酸 1 醋 酸 1 1 f 草 酸 > —* 氛 乙 酸 及 對 -甲苯磺酸之有機酸 及例如醋 1 1 酸 鋅 , 氨 化 鋅 及 醋 酸 m 之 兩 價 金 屬 鹽 〇 此 等 酸 觸 媒 亦 可 1 1 早 獨 使 用 或 兩 種 或 以 上 U 合 6 使 用 〇 縮 合 反 應 可 依 常 法 例 1 1 1 i ί 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS 峰棬(:Κ297公釐) 43 901 6 . A7 B7 五、發明説明(5 ) 如在6 0至1 2 (TC之溫度進行2至3 0小時。 编合所得之可溶可熔樹脂較佳為再經例如分皤之處理 ,使得"謬體滲透層析”(GPC)圔中分子量不大於10DO部 分之面積對於未反應之酚化物除外之全部面積的比率不 大於25%,尤佳為不大於20%。在此之GPC圖乃利用 2 5 4 X 1 0-9米之紫外線偵測器盡出,而分子量則是由已 經濟部中央標準局負工消費合作社印策 於增具化 酚至 粗 基 B 鄰此較述 大可中之95溶3 光1瘦^-!$。。。前 不分子中9 可的 正©-多«80|得氣用之 童成分利6’餘量 為-S之-¾^而ϋ使用 子量為專45為重 用鄰基,2^應磺合配 分子佳列 5’佳金 常之羥gdlb^反5-混意 人分較下利較物 通物Β&ΞΜ下Λ-上任 加高物於專 〇化 為合βΞδ<在HM及 Ψ ^ ^ 0 0 ^ 0 可化三 脂 脂中 SIE美60溶 劑基少-«_3|1-種3£ 。樹脂溶 gg25可 得 β 樹可例以2-齡 增i}具或 W 等 f 或 g . 而酚是鹼 ,1 利及 型具乃-5胺,2獨熔7 算培於之物95專脂 氮乃佳氣^«乙^1單可 -換可 ,00合5’本樹β常較β㈣一二U可溶 稀溶物10化27日S二通 如limPI 乙可化於之 2 及酚 醇,感醍 例 Μ 感佔 革在酚大基利 W 熔 之劑增萘 t 在 增量 聚gis不ϋ專f可 明^此2-“®M型用 之的mss 本99溶 發增。I’-jgwmg 量效鹼子兩日6’可 本之醋的-®磺 MIIIS 子有之分少:45佔。於物酸物-4氮~β二增 分亦00。至物5,物 % 用成磺合氤egr匿為 知10多有合及化40組氮化.昼二 4 等佳 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4规格(210 X 297公釐) 439016 A7 B7 五、發明説明(6 ) 鹺可溶酚化物全重量的10至100%,尤佳為10至50 %。 本發明之正光阻組成物包含至少一種下列化合物(a) 及(b): (a )酸産生劑,及 < b )化合物(I V )或(V ), 以及鹼可溶可熔酚醛樹脂及醇二II氪型增感劑。 酸産生劑乃受到鹺性顯像劑之作用會分解而産生酸之 化合物。在包含鹺可溶之可熔酚醛樹脂及睚二疊氮型增 感劑之正光阻組成物中加入酸産生劑可得改善之輪廓而 不會減損光阻劑之感光性及解析度《•酸産生有例如羧酸 酯或磺酸酯之酯化物,例如羧酵胺或磺醛胺之®胺化物 ,以及具重氮甲烷二磺醯主綾之化合物。較佳之醯胺化 物為叔醯胺。較佳之酯化物及酵胺化物為具環形結構之 化合物,如具二羧醯亞胺主鏈及苯核者。較佳為酸産生 劑分解後所得之産物是鹼可溶的。 適用於本發明之酸産生劑的具體例包含下列之化合物 (I)、 (II)或(III): (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局舅工消費合作社印製 0 II 八X Ν-Υ-Ζ II0 α 0-Ζ0-Ζ (I) ⑴ —8 — 本紙張尺度通用中國國家標準{ CNS ) Α4規格(·2ΐβχΜ7公f - 439016 經濟部中夬標準局貝工消費合作社印装 A7 B7_五、發明説明(7 ) Ο No 0 II II II R-S-C-S—R (1) II II 0 0 式中X像兩價烴基, Y傜直接鍵或氧原子, Z係0 II —S—R 或 —C—R II II0 0 R偽任意被烷氣基,鹵原子或硝基取代之烷基,脂 環烴基,任意被烷基,烷氣基,鹵原子或硝基取代之芳 基,任意被烷基,烷氧基,鹵原子或硝基取代之芳烷基 ,或樟腦基。 式(I)中U)所代表之兩價烴基例如烷撐,烯撐,脂環 烴之兩價基及芳撐。烷撐例如直鏈或分枝Ci-6烷撐。 烷撐之具體例有乙撐,丙撐及三甲撐。烯撐包含例如 C2-4直鍵或分枝之烯指,其具體例有乙烯撐6脂環烴 之兩價基有例如1,2-環己撐之單環基,及例如5-原冰Η 烯-2,3-二基之交連多環基。芳撐例如苯指及萘撐,而 此等苯基及葉基可具有例如烷基為取代基。苯撐通常為 1,2 -苯撐,而萘撐通常為1,2-, 2,3 -或1,8 -萘撐。 較佳的化合物(I)之例子有化合物(la)或(lb): (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 各紙屮尺度遢用t國固家標準{ CNS ) A4規格(210X297公釐) 4 3 90 1 e A7 B7 五、發明説明(8 ) 0 II,α Ν-Υ-Ζ
Cla)
(X
'C II O0 IIC \
N-Y-Z (lb) C If0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消费合作社印^ 式中Y及z如前述e 在式(I), (la), (lb)及(II)中之Z中之R及在式(III 中之R係烷基,脂環烴基,芳基,芳烷基或樟腦基。 R所代表的烷基可含C^iD,未被取代或被取代,若 含(:3或以上,則可呈直鋪或分枝結構β烷基之取代基 有烷氣基(較佳為具Ci-4 ),例如氟,氨及溴之囱原子, 以及硝基。脂環烴基係指衍生自具脂環之烴的單價基, 及可為單環或交連之多環基,其具體例有環己基及環己 甲基之單環基,及如金剛烷基之多環基(金剛烷基乃衍 生自金剛烷之單價基,尤指1-金剛烷基)。芳基例如苯 基》 萘基或憩基,而此等苯基,萊基及憩基各未被取 代或被下列基取代:烷基(較佳含CP4),烷氣基ΐ較佳 鹵原子如氟,氣及溴,和硝基。芳烷基例如 苄基或苯乙基。在此等芳烷基中之芳環亦可具有一個取 代基,如烷基,烷氣基,鹵原子及硝基。樟腦基乃衍生 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > Α4規格(210 X 297公釐) 43 9Q16 A7 B7 經濟部中央椟準局員工消費合作杜印製 五、發明説明( 9 ) 1 1 I 樟 腦 之 單 價 基 較 佳 為 1 0 -樟腦基, 其乃例如由1 0 - 棒 1 1 I 腦 磺 酸 中 移 除 磺 酸 基 所 得 之 基 〇 1 1 I 刖 述 某 些 類 型 之 酸 産 生 劑 亦 可 用 於 所 諝 之 化 學 增 強 型 請 先 1 1 正 光 阻 組 成 物 9 其 中 酸 産 生 劑 受 到 用 於 圖 案 曝 晒 之 輻 射 閱 ik 1 背 線 的 作 用 而 分 解 〇 但 因 本 發 明 之 正 光 阻 组 成 物 並 非 化 學 之 1 | 增 強 型 正 光 阻 劑 > 故 用 於 本 發 明 之 酸 産 生 劑 不 需 要 對 於 意 事 Ί 圖 案 照 射 用 之 輻 射 有 感 光 性 » 而 是 受 到 用 於 鼷 案 曝 光 之 項 再 1 填 性 顯 像 劑 作 用 會 分 解 而 産 生 酸 之 化 合 物 〇 本 發 明 之 酸 寫 本 裝 産 生 劑 用 量 可 多 到 仍 可 當 做 溶 解 促 進 劑 之 用 〇 酸 産 生 劑 頁 1 1 用 量 通 常 佔 光 阻 組 成 物 全 部 固 體 重 童 的 0 . 5至 20 %, 若 1 I 此 量 太 少 1 本 發 明 之 效 果 發 揮 不 出 來 而 若 此 量 太 多 » 1 則 非 曝 光 之 部 分 容 易 溶 於 鹸 性 顯 像 劑 中 » 因 此 輪 IS 變 差。 1 訂 化 合 物 (I )至( II I) 可 依 已 知 方 法 製 得 ; 其 中 某 些 可 購 1 得 9 直 接 使 用 不 必 做 任 伺 處 理 例 如 式 中 Υ % 直 接 鍵 之 1 化 合 物 (I)可由例如琥珀酵亞胺之對應二羧鹺胺和磺醛 I 氮 或 硪 醒 氯 C 1 -Z (式中Z 如前逑) 在 鹺 性 條 件 下 進 行 縮 合 1 而 得 0 此 外 » 式 中 Y 俗 氣 原 子 之 化 合 物 U )可由例如Ν - 1 羥 琥 珀 酵 亞 胺 及 N- 羥 -5 _原冰Η嫌- 2 , 3- 二 羧 m 亞 胺 之 對 ! :! 應 Ν - 羥 二 羧 醯 亞 胺 和 前 述 之 磺 酸 氣 或 硪 醯 氣 在 m 性 條 件 1 I 進 行 縮 合 而 得 0 m 化 物 (I I ) 可 由 苯 鄰 二 酚 和 前 述 之 磺 m J 1 氣 或 磺 醇 氛 在 性 條 件 下 進 行 縮 合 而 得 〇 此 外 , 化 合 物 1 I (I II )可由化合物R -S Η和二氛甲烷在氣化劑存在下先反 1 1 應 成 RSO a CH ί .so: R 9 然 後 用 對 -甲苯磺醯叠氣等進行 1 1 重 氮 化 而 得 〇 市 售 之 化 合 物 (I II )亦可直接使用而不心 1 I 做 任 何 處 理 0 1 1 化 合 物 (I a ) 之 具 體 例 包 含 下 列 化 合 物 ; 1 1 本紙張尺度««家·# ( CNS ) A4说格(~2id>^97公釐)—11 - 3 五 4 —— 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 Ο 1 6 Α7 Β7 ®月説明(1G ) Ο n-oso2ch2
Ο (1) ο ο φΝ-〇δ°2-〇 ο ο (2) (\-oso2-Q-chz
n-oso2^Q 〇 CH3 (4) Ο N-〇SO2H0-C2H5 Ο ¢6) 0 CH(CH3)2 N-0S02h^-CH(CH3)2 0 CH(CH3)2 (8) Ο
(^N-0S02-Q^0CH3 (^\j-〇S〇2-^K 0 (9) 〇 Cl N-0S02 0 Cl (11) 0 ^||^N~QS〇2~^~~^~N〇9 0 --- - - - I- 1^1 ^^1 I I - -- - I -Γ I 丁 -¾-s (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
Cl 0 0 (10) (13) 0 N-0S02-^ 0 n〇2 (12) 0 N-〇S02h^-〇CH3 N02 (14) •12. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 3 ϋ 1 6 - υ Q 1 6_ 五、發明説明(U) Β7 Ο N-0S02-〇 〇 Ο (15) 0 :N-OS〇2(CH2)3CH3 〇 (ΙΌ 0 N-OS〇2〇H2Cl 0 (19) Ο (^N-0S02-(h) Ο (21) Ο :N-S02CH2· Ο 0 (23)
Ο N-0S02CF3 Ο (16) 0 :N_OS〇2(CH2)5CH3 Ο (18) Ο ◊n-oso2ch2·^ ο ο (20) (\-oso2ch2h^h) Ο (22) Ο Ο Ο ιι (請先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁) Ο 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製
Ο N-OC <Η> (25) Ο Ο Ο Ν—OS〇2
(27) N-OCC(CH3)3 Ο (24) 〇 ο ^_0^ νΔ (26) ο -13« 本紙張尺度適用中國國家標单< Α**».蝽(210X297公釐) A7 B7 五、發明説明(12) 化合物(lb)之具體例有: 0 0
n-oso2ch3 00
[| )1 N-0S02CH20 0' (33) CO4-0S〇2^"CH30 C33) 0 (34) 0
0 n-oc-(h)Ο (35) 酯化物(ιι)之具醱例有:
0C oso2ch2- 0 >^ιυ- ml l^i An I JfJH# >lfll »m« HI— 1 _ Ί 4¾. Φ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中夬標準局員工消f合作社印製 oso2ch2
α 〇so2hQ-ch30S02~^3KCH3 Ο (41) (42) 重氮甲烷二磺醯化合物(III)之具體例有: -14 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Μ規格(2!0X297公釐) 4 3^016 ^ Α7 Β7 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 五、發明説明(13)n2 — C —S〇2"^~~^ (51) CH3 n2 CH3 CH3-^^-S〇2~C—S〇2~y^~CH3 (52)n2 ^H^~S〇2 —C—S〇2~^H^ (53) 在包含鹼可溶之可熔酚醛樹脂及醍二疊氮型增感劑之 正光阻組成物中加入化合物(IV)或(V),則提供極佳的 解析度而不滅損聚焦深度β較佳為化合物(IV)或(V)之 用量佔光阻組成物全部固體重量的0.01至5%。 在前述的式(IV)及(V)中,齒原子包含氟,氣及溴; 烷基例如Cn ;烷氧基如^^烷氧基;烷醛包含c2-e 烷醢(此碩原子數包含羰基部分之碳原子);芳基指苯基 ,萘基及蒽基。芳基中之苯環,萊環及饈環可被一或多 倕下列取代基取代:烷基,烷氧基,羥基,羧基,鹵原 子及硝基》 在前述的化合物(IV)或(v)中,較佳為Μ化物(IV)。 待佳為未披取代之蒽及至少在2及/或9位置有一取代 基之蒽,其在其他位置尚可有另個取代基a在2及/或 9位置有一取代基之Μ有:9 -Μ甲醇, 醋酸9-葱甲酯, -15- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4说格(2 [0 > Ί . 經濟部中央橾準局—工消費合作社印褽 43 9ϋ 1 6 Α7 Β7五、發明説明(上4 ) 9-饈羧酸, 2-甲蒽, 2-乙蒽, 2-第三丁餑, 2-甲基-9, 10-二甲氣Μ, 2-甲基-9 , 10-二乙氣憩, 2-乙基-9 , 1 0-二甲氣蒽, 2-乙基-9 , 10-二乙氣蒽, 2-第三丁基-9, 10-二甲氧菌, 2-第三丁基-3,10-二乙氣Μ, 2,3-二甲基-9, 10-二甲氧憩, 4- (9-蒽羰氣)苯酸, 4- (9-蒽羰氧)-3-羥苯酸, 1 , 4 , 9 , 10-ϋ 四酚, 9-饈羧酸-4,9, 10-三羥-1-鯨醏等。 本發明之正光阻组成物可包含(a)酸産生劑或/及(b) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 溶之在光溶纖酯 於片且備阻溶醚 溶晶,製光基酵 可矽率來備甲二 常如速用製酸之 通例燥可來醏醚 分在乾剤用,乙 成塗之溶可劑單 述可適的劑繼醇 前液合膜溶溶二 之溶具塗之基丙 中的又之域乙酸 物得 ,滑領酸醋6-I 成所分平術醋及-1 組。成勻技如醚 t 阻液述均此例甲 Μ 光溶前供於有單 正阻解提用劑醇 t 之光溶可常溶二 Η 明備能後通时丙 VP發製。發 c 用酸 或本以上蒸液適醋 IV在中材劑溶 。, 式劑基溶阻液劑 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2丨ΟΧ2Μ公釐) 經濟部中央標率局員工消f合作社印製 A7 B7五、發明説明(is ) :例如乙基溶鐵劑,甲基鑲維劑,丙二醇單甲醴及丙二 醇單乙ffi之二醇BS;例如乳酸乙酯,醋酸丁酯,醋酸戊 酯及丙阑酸乙酯之酯;例如2-庚酮及環己_之酮;例如 y-丁内酯之環酯〇此等溶劑可單獨或兩種或以上混合 使用。 本發明之光阻組成物可含有少量常用於此技術領域之 添加劑,例如可溶可熔酚醛樹脂以外之樹脂,染料,界 面活性劑等β 光阻溶液塗在基材上所形成之光狙膜用光源經光罩照 射圖案後,以鹾性顯像劑顯像β在此所用的鹼性顯像劑 可為此領域所用之各種鹼性水溶液,通常是採用氫氧化 四甲銨。 茲以非限制範圍之實施例做更詳細的說明。若無特別 註明,則例中所有的份數均以重童計。分子量俗以膠體 滲透層析(G P C )測得(以聚苯乙烯換算)。 例1至24及對照例1 (a)可溶可熔酚醛樹脂Α之製備 依常法在回流的條件及草酸觴媒存在下,使莫耳比 4 0 / 6 0 / 8 0之間-甲酚/對-甲酚/甲g反應,然後分餾 而得可溶可熔酚醛樹脂(以下稱之為可溶可熔酚醛樹脂 Α)β可溶可熔酚醛樹脂A之平均分子量為8,000。其中 分子量不大於6,000之部分及分子量不大於1,000之部分 的_體滲透層析(GPC)圖形面積各佔全部GPC圖形面積 (未反應之甲酚面積除外)的34%及15% β -1 7 - I--------装----J--π------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS ) A4说格(210 X 297公釐> 439016 A7 B7五、發明説明(认) (b)酲二叠氮型增感劑C之製備 使結構式如下之2,4,4-三甲基-2_,4·,7__三羥黃烷
經濟部中央標準局貝工消費合作社印11 及1,2-萊醍二叠氤-5·磺醯氣依1:2.4之莫耳比反窸而 得缩合物(以下稱之為增感劑C)。 (c)酸産生劑 採用下列化合物,其编號乃前面舉例之编號》 (1)N-(10-樟腦磺醯氣)琥珀醯亞胺 (3) N-(對-甲苯磺醯氣)琥珀醛亞胺 (4) N-(鄰-甲苯磺醛氧)琥珀醯亞胺 (lO)N-(對-氯-甲苯磺醯氧)琥珀醯亞胺 (15) N-(1-萊磺醯氣)琥珀酷亞桉 (16) N-(三氟甲基磺醛氧)琥珀醛亞胺 (17) N-(正丁基磺醛氣)琥珀醯亞胺 (18) N-(正己基磺酷氣)琥珀醯亞胺 (19) N-(氮甲基磺醯氣)琥珀醯亞桉 (21) N-(環己基磺醛氧)琥珀醯亞胺 (22) N-(環己基甲基磺醯氧)琥珀醯亞胺 (23) Ν-(1〇-樟腦磺醯)琥珀醯亞胺 (24) H-(第三戊醯氣 > 琥珀醯亞胺 (25) N-(環己基羰氣)琥珀醛亞胺 -18- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 未紙Λ尺度遶用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 43 90 1 S A7 B7五、發明説明(17 ) (26) N-(1-金剛烷羰氣)琥珀酵亞胺 (27) N-(9,10-二甲氣-2-饈磺醯氣)琥珀醯亞胺 (31) N-(甲基磺醛氧)-5-原冰片烯-2 ,3-二羧醛亞胺 (32) 1(正丁基磺醯氣)-5-原冰)={烯-2,3-二羧醛亞胺 (33) 卜(10-樟腦磺醯氣)-5-原冰片烯-2,3-二羧酵亞胺 (41) 1 , 2-苯撐雙(10-樟腦磺酸酯) (52) 雙(2, 4-二甲苯磺醛)重氪甲烷 (53) 雙(璟己基磺酵)重氮甲烷 (d)光阻溶液之製備及評估 混合1Q份可溶可熔酚醛樹脂A, 3.5份增威劑,5份做 為添加劑之H-(2-羥苯叉)雙-2,6-二甲苯酚及45份做 為溶劑之2 -庚酮。在所得溶液中加入表1所示之酸産生 劑。然後經0.2徹米之氟樹脂濾器過濾,可得光阻溶液。 表1中所列之酸産生劑之用量百分率偽對未添加前光阻 溶液中全部固體重量而言》 在六甲基二矽胺烷(HMDS)處理過之矽晶片上旋轉塗佈 前面所得之光阻溶掖,故乾燥後薄膜厚度變成1.06撖米 。在90 °C的直接熱板上進行預烘烤。使如此所得之表面 具光阻膜之晶片利用i-線梯度儀(日本Nikon公司製造之 :NSR 20Q5i9C'’,〇 = 0.57, σ = 0.60)逐漸變化照射最而 經光罩曝光成線及空間之圖案。然後在熱板上於litre 做曝光後之烘烤60秒,接著利用2.38%重量的氫氣化四 甲妓水溶液進行漿拌式顯像60轉》以掃瞄式電子顯撖鏡 觀察顯像後之圓案,依下法評估有效的光敏度,解析度 "19- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公釐) 4 ά ύΟ \ Ο Α7 Β7 五、發明説明(18 ) 及輪廓,結果並記於表1中。 有效光敏度:在0.50撤米截面之線和空間圖案比為 1 : 1時的曝光量。 解析度:在有效光敏度之曝光量下解析出來的線及空 間圖案中之最小線幅。 輪廓:在有效光敏度之0.50微米線和空間圖案中線頂 寬度(Τ)對線底寛度(Β)之比值(Τ/Β)。若Τ/Β為1,則 輪廓呈直角,為較佳之圖案。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 本紙张足虞4»1中爾_家螵率(CNS ) Α4現格(210X297公釐) 439016 A 7 B7 五、發明説明(19 ) 表1 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 例號 酸産生劑 有效光敏度 解析度 輪廓 例1 (1)/5% 255 msec 0 * 3 7 5 // a 0.92 例2 (1)/2% 265 msec 0.40 μ π 0 . 88 例 3 (1) /10% 240 msec 0.40 u m 0.95 例4 (3)/5% 250 msec β . 3 7 5 # 田 0.93 例5 (4)/5% 260 «sec 0 . 3 7 5 // B 0.92 例 6 (10)/5% 2 6 5 is e c 0 . 3 7 5 # n 0.92 例 7 (15)/5% 255 nsec 0 . 3 7 5 yu n 0.92 例8 (16)/5% 2 8 0 s e c 0 . 3 7 5 n 0.90 例9 (17)/5% 250 nsec 0 . 3 7 5 >u n 0.92 例10 (18)/5% 2 5 5 a s e c 0.375# B 0.93 例1 1 (19)/5% 255 msec 0.375# m 0.92 例12 (21)/5% 2 5 5 la s e c 0 . 3 7 5 m 0.92 例13 (2 2)/5% 2 6 0 s e c 0.3 7 5 // m 0.93 例14 (23)/5% 245 msec 0.40 u m 0 . 88 例15 (24)/5% 240 nsec 0.40 μ Hi 0.90 例16 (25)/5% 240 nsec 0.40 μ B 0.92 例17 (26)/5% 2 4 0 B S 6 c 0.40 μ m 0.92 例18 (27)/5% 2 6 0 v s e c 0 . 3 7 5 JU ffi 0.94 例19 (31)/5% 250 nsec 0 . 3 7 5 # id 0.92 例20 (32)/5% 2 5 5 κ s e c 0 . 3 7 5 m 0.93 例2 1 (33)/5% 2 5 5 IB s e c 0 . 3 7 5 # tn 0.93 例22 (41)/5% 280 msec 0 . 3 7 5 // iq 0.93 例23 (52)/5% 280 nsec 0 * 3 7 5 /z m 0.92 例24 (53)/5% 2 7 0 a s e c 0·4〇 M ^ 0.92 對照例1 無 280 nsec 0.40 m ni 0.78 -2 1- (請先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁) .装- 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4^格(210X297公釐) 43 90 1 6 . A7 經濟部中央標丰局員Η消費合作杜印製 B7五、發明説明(2〇 ) 例25至3fi 在此等例中除酸産生劑外,另在正光阻組成物中加人 通式(IV)或(V)(以下以增感劑稱之)所示之下列化合物: A : 9-饈甲醇 B :醋酸9-憩甲酯, C : 9 -蒽羧酸, d : m E: 2-乙基-9 ,10-二甲氧憩 F : 4- (9-M羰氣)苯酸 G: 2 -甲基-9,10-二甲氧蒽 H: 2-第三丁基-9 ,10-二甲氣Μ I : 2-乙基-9,10-二乙氧饈 J : 2-第三丁憩 Κ :吩IS嗪 混合10份可溶可熔酚醛樹脂A, 3. 5份增感劑C,5份做 為添加劑之4, 4'-(2-羥苯叉)雙-2,6-二甲苯酚及45份做 為溶劑之2 -庚酮。在此溶液中加入表2所列之酸産生劑 及前述化合物,然後經0.2徹米氟樹脂濾器過濾,而得 光阻溶液。酸産生劑及增感劑之用量百分率係對未添加 前光阻溶液全部固體重量而言。仿照例1利用此光阻溶 液形成光阻膜及形成圖案並評估。 結果列於表2中。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -22- 本紙張尺度適用中國國家撑爆(AS ‘ MIC格(210X297公釐) 4^^016 A7 B7五、發明説明(U ) 表2 例號 酸産生劑 增威劑 有效光敏度 解析度 輪廊 例25 (1)/5¾ A/0.5% 265 nsec 0.35 // m 0.92 例26 (1)/5% A/1.5% 280 msec 0.33 μ m 0.90 例27 (1) /5% B/1.5% 280 osec 0.32 μ Λ 0.90 例28 (1) /5% C/1.5% 255 msec 0.35 m 0*93 例29 (1)/5% D/1.5% 265 msec 0.34 >u m 0,92 例30 (1) /5% E/1.5% 280 isec 0.32 MM 0.93 例31 (1)/5% F/1.5% 230 isec 0 · 34 // a 0.94 例32 (1)/5% G/1.5% 280 msec 0.32 >u m 0,92 例33 (1)/5% H/1.5% 260 «sec 0.32 μ 0.93 例34 (1) /5% 1/1.5% 260 丨sec 0.32 μ\&. 0.93 例35 (1) /5% J/1.5% 250 nsec 0.34 n 0.94 例36 (1) /5% K/1.5% 280 msec 0.33 # B 0.93 例.Ί 7革5 fi矽對暗例2革3 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 (a) 可溶可熔酚醛樹脂B之製備 按照例]至2 4可溶可熔酚醛樹脂A之製法,但間-甲 酚/對-甲酚/甲醒之某耳比改變成60/40/80,可得可 溶樹脂B (b) 醇二疊m型增感劑D之製法 -2 3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Λ4規格{ 210X297公釐) ^4 S' 1 6 - Λ. Α7 3 1 6 -_Β7_ 五、發明説明(22 ) .^1 I I I I I n n n I n I t— Τ» J3. 、言 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 使2,4,4-三甲基- 2',4’,7·-三羥黃烷及1,2-萊暖二疊 氮-5-磺醯氣依1:2.6之莫耳比反應可得縮合物(以下稱 之為增感劑D), (C)增感劑 除例1至24之增感劑A-K外,尚有用下列增威劑L-S: L : 4- (9-蒽羰氣)-3-羥苯酸, Μ : 9-蒽羧酸4 , 9 , 10-三羥-1-憩酯 Ν : 1 ,4 ,9 , 10-饈四醇 0: 2-第三丁基-9, 10-二乙氣蒽 Ρ: 2 -甲基-9, 10 -二乙氧饈 Q: 2,3-二甲基-9, 10-二甲氧蒽 R : 2-甲饈 S : 2-乙蒽 (d)光阻溶液之製法及評估 在45份2 -庚鋼中混入表3所列的可溶可熔酚醛樹脂A 及B, 3份增感劑D, 4份做為添加劑之4,4'-(2-羥苯叉) 雙-2,6 -二甲苯酚及表3所列的增鉞劑。在對照例中不用 增感經0.2微米氟樹脂濾器過濾,可得光阻溶液。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在預先以六甲基二矽胺烷(HOS)處理之矽晶Η上旋轉 塗佈前面所得之光阻溶液,使乾燥後薄膜厚度變成0 . 8 5 撤米。在90°C之直接熱板上預烘烤60秒。使如此所得已 覆有光阻膜之矽晶片利用i-線梯度儀(Nikon公司製之1SR 2005i3C”,NA= 0.57, (T = 0.6G)逐漸變化照射量而經線 及空間之圖案照射。然後在litre之熱板進後照射的烘 -2 4 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(MO* 公· > 4 3 1 6 A74^9016 - B7 五、發明説明(23) 烤60秒,接箸利用2.38%重量的氳氣化四甲銨進行漿拌 式顯像60秒。以掃瞄式電子顯撤鏡觀顯像後的圏案,並 評估有效光敏度,解析光敏度及聚焦深度,結果列於表 3中。有效光敏度及解析度之評估方法同例1至24,而 聚焦深度之評估方法則如下述。聚焦深度:可解析Q.40 檝米的線及空間圖案而不需減低薄膜厚時之焦距範圍大 小。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 表3 例號 可溶可熔 酚醛樹脂 A及B (份數) 增威劑 (份數) 有效光 敏度 (msec) 解析度 (撤米) 聚焦深 度 (撤米) 例 37 A/5, B/5 Α/0 . 3 300 0.34 1 . 4 38 A/6, B/4 Α/0 . 3 250 0.35 1 . Z 39 A/fi, Β/4 Β/0 ‘ 3 310 0.32 1.6 40 Α/4, Β/6 C/0 . 3 290 0 _ 35 1 . 2 4 1 Α/5, Β/5 D/0 . 3 280 0.35 1.2 42 Α/6, Β/4 Ε/0 . 3 300 0-32 1.6 43 Α/7, Β/3 F/0 . 3 310 0.34 1.2 44 Α/7, Β/3 L/0 . 3 300 0 . 34 1 . 2 45 Α/7, Β/3 Μ/0 . 3 320 0.34 1.2 46 Α/7, Β/3 Ν/0 · 3 290 0,35 1.2 47 Α/6, Β/4 1/0.3 280 0 . 33 1 . 4 48 Α/6, Β/4 0/0.3 270 0 . 34 1.4 49 Α/6, Β/4 8/0.3 280 0 . 33 1.4 50 Α/6, Β/4 G/0 . 3 300 0 . 33 1 . 4 51 Α/6, Β/4 Ρ/0 . 3 300 0.33 1.4 52 Α/6, Β/4 6/0 . 3 300 0,34 1 , 4 53 Α/6, Β/4 R/0 . 3 250 0.35 1.2 54 Α/6, Β/4 S/0 . 3 260 0.35 1,2 55 Α/6, Β/4 J/0 . 3 260 0.35 1.2 56 Α/7, Β/3 Κ/0 . 3 3 10 0.35 1 . 2 對照 例1 Α/5, Β/5 無 260 0*4 0 _ 6 0.8 2 Α/6, Β/4 無 3 10 0. 375 本紙張如用#㈣準(雜4规?1歷-胁没) 4 3 90 t 6 A7 B7五、發明説明(24 ) 氛改按質 氮 光之 II得 *性。叠 _ 供佳 二獲此的質二11提極 酷可因利性顆 ^ 可衡 及則。有等及 明平 腊,度種此脂^ 發質 樹劑析各善樹 U 本性 薛生解損改醛01照種 酚産及減可酚員按各 溶酸性會更熔),,等 可入敏不合可(V此度 之加光而場之或因深 溶中之廓些溶V)。焦 可物劑輪某可(I度聚 驗成阻善在鹸物深及 含组光改。含合焦廓 包阻損地度包化聚輪 在光減箸析在入損 ,。 ,正不顯解,加減度物 述之而可及述中不析成 所劑廓明性所劑而解組 前感輪發敏前感度,阻 如增的本光如增析性光 型良照如 型解敏正 ----------装-----.—# <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0 X 297公釐)
Claims (1)
- 公 々中請孝利範圍 A8 6S C8 D8Q 89.11.18 補充 3 4 90 1 6第86113439號「正光阻組成物」專利案 (89年11月10日修正) A申請專利範圍: 1. 一種非化學增強型之正光阻組成物,其包括敝可溶性酚醛樹 脂、醌二叠氮型增感劑(該醗二叠氮型增感劑之量爲佔鈹可 溶性酚醛樹脂和一視需要選用的敝可溶性酚化合物之總量 的10至100重量%)及至少一種下列化合物(a)及(b>: U)下式(I)所示之酸產生劑: 0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) C χ/ νν-ύ-ζ (I) c II Ο 式中X係1至6個碳原子的伸烷基,2至4個碳原子的伸 烯基,1,2-伸環己基,5-原冰片烯-2,3-二基、伸苯基或仲 萘基,它們可具有取代基, Υ係直接鍵或氧原子* Ζ係 l·訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Ο II -S-R ΚΟ 或 -C-R II0 R係視需要可經烷氧基,歯素或硝基所取代的 基:或環已基:環己基甲基,或金W烷基:或親需要可經 烷基,烷氧基,鹵素或硝基所取代的苯基、萘基或蒽基: 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公釐) Ο νΌ 1 6 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 或視需要可經烷基 '烷氧基、鹵素或硝基所取代的苄基或 乙氧苯基:或樟腦基: (請先閲讀背面之注意Ϋ項再填寫本頁) (a) 的量佔組成物的總固體量之0.5至20重 量%,及 (b) 蒽、 9-莨甲醇, 酸酸9-蒽甲酯, 9-蒽羧酸、 2-甲蒽、 2-乙蒽、 2-第三丁蒽, 2-甲基-9,10-二甲氧莨、 2-甲基-9,10-二乙氧蒽、 2-乙基-9,10-二甲氧1:、 2-乙基-9,10-二乙氧苴、 2-第三丁基-9,10-二甲氧蒽 2-第三丁基-9,10-二乙氧蒽、 2,3-二甲基-9,10-二甲氧蒽, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4-(9-莨羰氧)苯酸、 4-(9-蒽羰氧)-3-羥苯酸, 1,4,9,10-苴四酚、 9-莨羧酸-4,9,10-三羥-1-蒽酯、或 啡噻畊, 0>)的量佔組成物的總固膣量之0.01至5重量%。 本紙張尺度適用中國圉家標準(CNS > A4規格(2丨0 X 297公釐) 1 6 A8 B8 C8 DS 4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍? Mil 6 2. 如申諝專利範圍第1項之正光阻組成物,其包括如申請専 利範圍第1項中所定義之U)和(b)。 3. 如申請專利範圍第1或2項之正光阻組成物,其中化合 物(b)爲未經取代之蒽或至少在第2及/或9位置具一個取 代基之蒽》 4. 如申諝專利範圍第3項之正光阻組成物,其中化合物(b)爲 9-蒽甲醇。 ......I ^^1 — 11 an ^一 I - 二· 」I ^^1 ^^1 ^^1 ^^1 **· Λ ^ (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) 439016 承辦人代碼 大 類 1 PC分類 本案已向 日本國(地區)申請卑利,申請曰期 案號: B □無主張優先權 1996年9月20日特顔平8-249801 (主張優先權) 1996年10月1日特願平8-260921 (主張優先楢) 1996年10月29日特願平8-286424 (主張優先權) 1996年11月27日特願平8-316100(主張優先權) 1996年11月27日持願平8-316D99(主張優先權) 有聞微生物已寄存於: 寄存曰期: 寄存號碼: -------裝 l·--:--—訂:---- (請先閲讀背面之注項再填寫本頁各棚) ---•線 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度朝tg|國家鄉(⑽)从胁(2⑽297公羡) 43 90 16 經濟部智慧尉產局員工消費合作社印製 A5 ' B5.. 四、中文發明摘要(發明之名稱: ) 正光阻組成物 一種非化學增強型之正光阻組成物,其包含鹼可溶 之酚醛樹脂、醌二疊氮型增感劑及至少一種下列化合 物(a)及(b): (a) 如下式(I)所示之酸產生劑: 0 II VA X Ν-Υ-Ζ (I) C II Ο 式中χ係兩價烴基, γ係直接鍵或氧原子, Ζ係 0 -s—R -C-R II jl Ο 〇 R係任意被烷氧基,鹵原子或硝基取代之焼 基;脂環烴殘基:任意被烷基、烷氧基、國 或硝基取代之芳基:任意被烷基、烷氧基、自g 子或硝基取代之芳烷基;或樟腦基; (b) 蒽、 9-某甲醇、 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210 X 297公釐) ^--^---- 裝------^訂------線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁各棚) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 κ 「' 一 Α5 Β5 四、中文發明摘要(發明之名稱: 醋酸9-蒽甲酯、 9-蒽羧酸、 2-甲蒽、 2-乙 1: ' 2-第三丁苜、 2-甲基-9,1 0-二甲氧蒽、 2-甲基-9, 1 0-二乙氧蒽、 2-乙基-9, 10-二甲氧蒽、 2*乙基-9,1 0-二乙氧蒽、 2-第三丁基-9, 1 0-二甲氧蒽 2-第三丁基-9, 10-二乙氧蒽、 2,3-二甲基-9,10-二甲氧蒽' 4-(9-蒽羰氧)苯酸、 4-(9-蒽羰氧)-3-羥苯酸、 1,4,9,10-蒽四酚' 9-蒽羧酸-4,9,10-三羥-1-蒽酯、或 啡噻畊。 ---^--^---_----裝----Ί1:訂-----.丨線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁各欄) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A5 -— -. . - B5四、笑文發明摘要(發明之^稱:POSITIVE RESIST COMPOSITIONA non-chemically enlianced type positive resist composition comprising an alkali-soluble novolak resin, a quinonediazide type sensitizer and at least on© of the following compound (a) and (b):(a)an acid-generator represented by the following foimuta (I); YI y/ one CHO // X wherein X represents a divalent hydrocarbon group, Y represents a direct bond or an oxygen atom, Z representsO 一S—R or —C—R il j*0 〇 R represents an alkyl which may be optionally substituted by alkoxy, halogen or nitro, alicyclic hydrocarbon residue, aryl which may be optionally substituted by alkyl, alkoxy, halogen or nltro, aralkyl which may be optionally substituted by alkyl, alkoxy, halogen or nitro, or camphor group ; (b ) anthracene > 3-^nthracenemethanol, 3-anfchgacenemetHanoi acetate^ anthracenecarboxvlic acid * Z^methylan^hrac&ne. 2*eth7lan1ihracene . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製2-aeth7l-9,IQ-dimethoxvanthracene. _-3-methyl-9 . lO-sdicthoxvanthracene. 2-ethvl-9.IQ^dimethoxvanthracene. 2-cthvl"9,lQ^diethoxyanthracene, JZ^t^butyl-g , lQ-dimethoxvanthracene, 2^t-butvl-9,lQ-diethoxyanthracsne. 2,3-dimethvl-9>lQ-dimethoxvanthracene, 4- t g-anthrylcarbonvloxy1! benzoic acid . 4- f g^anthryleagbotivloxvi "3-hvdroxv benzoic acid^ 1 ,10-anthracenetetrol, 4 * 9.10-trihydroxy^l-anthrvl 9-anthracene caybqxvlate^, 〇f phenothiamine. 隼標家國國中用一適度尺張紙 4 „ »---‘裝------訂丨.------ 冰--r (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁各襴) 公 々中請孝利範圍 A8 6S C8 D8Q 89.11.18 補充 3 4 90 1 6第86113439號「正光阻組成物」專利案 (89年11月10日修正) A申請專利範圍: 1. 一種非化學增強型之正光阻組成物,其包括敝可溶性酚醛樹 脂、醌二叠氮型增感劑(該醗二叠氮型增感劑之量爲佔鈹可 溶性酚醛樹脂和一視需要選用的敝可溶性酚化合物之總量 的10至100重量%)及至少一種下列化合物(a)及(b>: U)下式(I)所示之酸產生劑: 0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) C χ/ νν-ύ-ζ (I) c II Ο 式中X係1至6個碳原子的伸烷基,2至4個碳原子的伸 烯基,1,2-伸環己基,5-原冰片烯-2,3-二基、伸苯基或仲 萘基,它們可具有取代基, Υ係直接鍵或氧原子* Ζ係 l·訂 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Ο II -S-R ΚΟ 或 -C-R II0 R係視需要可經烷氧基,歯素或硝基所取代的 基:或環已基:環己基甲基,或金W烷基:或親需要可經 烷基,烷氧基,鹵素或硝基所取代的苯基、萘基或蒽基: 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公釐)
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24980196 | 1996-09-20 | ||
JP26092196 | 1996-10-01 | ||
JP28642496 | 1996-10-29 | ||
JP31609996 | 1996-11-27 | ||
JP31610096 | 1996-11-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW439016B true TW439016B (en) | 2001-06-07 |
Family
ID=27530199
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW086113439A TW439016B (en) | 1996-09-20 | 1997-09-17 | Positive resist composition |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6068962A (zh) |
EP (1) | EP0831371A3 (zh) |
TW (1) | TW439016B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI810325B (zh) * | 2018-06-28 | 2023-08-01 | 日商東京應化工業股份有限公司 | 阻劑組成物及阻劑圖型形成方法 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW459162B (en) * | 1997-08-01 | 2001-10-11 | Shipley Co Llc | Photoresist composition |
US5976770A (en) * | 1998-01-15 | 1999-11-02 | Shipley Company, L.L.C. | Dyed photoresists and methods and articles of manufacture comprising same |
JP3796982B2 (ja) | 1998-06-02 | 2006-07-12 | 住友化学株式会社 | ポジ型レジスト組成物 |
JP3985359B2 (ja) * | 1998-09-18 | 2007-10-03 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物 |
CN1170204C (zh) * | 1999-02-15 | 2004-10-06 | 克拉瑞特金融(Bvi)有限公司 | 敏射线树脂组合物 |
JP3931486B2 (ja) | 1999-06-24 | 2007-06-13 | 住友化学株式会社 | ポジ型レジスト組成物 |
JP3499165B2 (ja) | 1999-09-27 | 2004-02-23 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板、およびレジストパターンの形成方法 |
JP2001264968A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-09-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
KR100846085B1 (ko) * | 2001-10-31 | 2008-07-14 | 주식회사 동진쎄미켐 | 액정표시장치 회로용 포토레지스트 조성물 |
KR20090109432A (ko) * | 2008-04-15 | 2009-10-20 | 삼성전자주식회사 | 감광성 수지, 상기 감광성 수지를 사용한 패턴의 형성 방법및 표시판의 제조 방법 |
US8932799B2 (en) * | 2013-03-12 | 2015-01-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist system and method |
US9581908B2 (en) | 2014-05-16 | 2017-02-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist and method |
US10520813B2 (en) | 2016-12-15 | 2019-12-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Extreme ultraviolet photoresist with high-efficiency electron transfer |
US9934929B1 (en) * | 2017-02-03 | 2018-04-03 | Colorado State University Research Foundation | Hall current plasma source having a center-mounted or a surface-mounted cathode |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3640718A (en) * | 1968-04-10 | 1972-02-08 | Minnesota Mining & Mfg | Spectral sentization of photosensitive compositions |
BE789196A (fr) * | 1971-09-25 | 1973-03-22 | Kalle Ag | Matiere a copier photosensible |
DE2641099A1 (de) * | 1976-09-13 | 1978-03-16 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche kopierschicht |
GB1604652A (en) * | 1977-04-12 | 1981-12-16 | Vickers Ltd | Radiation sensitive materials |
GB2139369B (en) * | 1983-05-06 | 1987-01-21 | Sericol Group Ltd | Photosensitive systems showing visible indication of exposure |
ATE42419T1 (de) * | 1985-08-12 | 1989-05-15 | Hoechst Celanese Corp | Verfahren zur herstellung negativer bilder aus einem positiv arbeitenden photoresist. |
JP2623309B2 (ja) * | 1988-02-22 | 1997-06-25 | ユーシービー ソシエテ アノニム | レジストパターンを得る方法 |
DE69027799T2 (de) * | 1989-03-14 | 1997-01-23 | Ibm | Chemisch amplifizierter Photolack |
DE3930086A1 (de) * | 1989-09-09 | 1991-03-21 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
US5212046A (en) * | 1989-10-17 | 1993-05-18 | Shipley Company Inc. | Near UV photoresist |
JPH0580509A (ja) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
US5700620A (en) * | 1993-12-24 | 1997-12-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation ray sensitive resin compostion containing at least two different naphthoquinonediazide sulfonic acid esters and an alkali-soluble low-molecular compound |
DE69511141T2 (de) * | 1994-03-28 | 2000-04-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Resistzusammensetzung für tiefe Ultraviolettbelichtung |
JP3317576B2 (ja) * | 1994-05-12 | 2002-08-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
JP3579946B2 (ja) * | 1995-02-13 | 2004-10-20 | Jsr株式会社 | 化学増幅型感放射線性樹脂組成物 |
JP3045274B2 (ja) * | 1995-06-15 | 2000-05-29 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型化学増幅型レジスト組成物 |
JPH0915850A (ja) * | 1995-06-28 | 1997-01-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型フォトレジスト組成物 |
-
1997
- 1997-09-17 TW TW086113439A patent/TW439016B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-09-19 EP EP97116364A patent/EP0831371A3/en not_active Withdrawn
- 1997-09-19 US US08/934,226 patent/US6068962A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0831371A3 (en) | 1998-04-22 |
EP0831371A2 (en) | 1998-03-25 |
US6068962A (en) | 2000-05-30 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MK4A | Expiration of patent term of an invention patent |