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TW202100340A - 光擴散薄膜、光擴散薄膜之製造方法、光學構件、影像顯示裝置用顯示面板及影像顯示裝置 - Google Patents

光擴散薄膜、光擴散薄膜之製造方法、光學構件、影像顯示裝置用顯示面板及影像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種可兼顧光擴散性與透光率的光擴散薄膜。 一種光擴散薄膜，係於透明基材(A)之至少一側積層有光擴散層(B)者，且其特徵在於： 於前述光擴散薄膜中之前述光擴散層(B)側之最表面形成有凹凸，且 前述凹凸形狀滿足下述數學式(1)及(2)： 0.110≦Sm　　　　　　　　　　　　　　(1) Rsk≦0.200　　　　　　　　　　　　　　(2) 前述數學式(1)中，Sm係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的平均凹凸間距離(mm)， 前述數學式(2)中，Rsk係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的偏斜度。

Description

光擴散薄膜、光擴散薄膜之製造方法、光學構件、影像顯示裝置用顯示面板及影像顯示裝置
本發明涉及光擴散薄膜、光擴散薄膜之製造方法、光學構件、影像顯示裝置用顯示面板及影像顯示裝置。
使用背光件之影像顯示裝置等中，為了使畫面整體之光量均一化以降低顯示不均，有使用光擴散薄膜之情形(專利文獻1)。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開平10-096922號公報
發明欲解決之課題 光擴散薄膜一旦提高光擴散性，便有透光性容易降低的問題。
爰此，本發明之目的在於提供一種可兼顧光擴散性與透光率的光擴散薄膜、光擴散薄膜之製造方法、光學構件、影像顯示裝置用顯示面板及影像顯示裝置。
用以解決課題之手段 為達成前述目的，本發明之光擴散薄膜， 係於透明基材(A)之至少一側積層有光擴散層(B)者，且其特徵在於： 於前述光擴散薄膜中之前述光擴散層(B)側之最表面形成有凹凸，且 前述凹凸形狀滿足下述數學式(1)及(2)。 0.110≦Sm　　　　　　　　　　　　　　(1) Rsk≦0.200　　　　　　　　　　　　　　(2) 前述數學式(1)中，Sm係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的平均凹凸間距離(mm)， 前述數學式(2)中，Rsk係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的偏斜度。
本發明之光擴散薄膜之製造方法， 係製造前述本發明之光擴散薄膜之方法，該製造方法之特徵在於包含以下步驟： 光擴散層(B)形成步驟，係於前述透明基材(A)上形成前述光擴散層(B)；及 凹凸形成步驟，係於前述光擴散薄膜中之前述光擴散層(B)側之最表面以滿足前述數學式(1)及(2)之方式形成前述凹凸； 前述光擴散層(B)形成步驟包含：塗敷步驟，係於前述透明基材(A)上塗敷塗敷液；及塗膜形成步驟，係使已塗敷之前述塗敷液乾燥而形成塗膜；並且 前述塗敷液包含樹脂與溶劑。
本發明之光學構件係包含本發明之光擴散薄膜的光學構件。
本發明之影像顯示裝置用顯示面板係包含用於影像顯示裝置用顯示面板之視辨背面側的本發明之光擴散薄膜的影像顯示裝置用顯示面板。
本發明之影像顯示裝置係包含本發明之光擴散薄膜、本發明之光學構件或本發明之影像顯示裝置用顯示面板的影像顯示裝置。
發明效果 根據本發明，可提供一種可兼顧光擴散性與透光率的光擴散薄膜、光擴散薄膜之製造方法、光學構件、影像顯示裝置用顯示面板及影像顯示裝置。
用以實施發明之形態 接下來，舉例進一步具體說明本發明。惟，本發明不受以下說明任何限定。
本發明之光擴散薄膜例如波長380~780nm下之視感透過率損失率亦可在3.0%以下。
本發明之光擴散薄膜例如亦可於前述光擴散層(B)之與前述透明基材(A)相反之側的面上更積層有其他層。
本發明之光擴散薄膜可為例如以下光擴散薄膜： 一種光擴散薄膜，係於透明基材(A)之至少一側積層有光擴散層(B)及其他層者，且其特徵在於： 於前述其他層的最表面形成有凹凸，且 前述凹凸形狀滿足下述數學式(1)及(2)。 0.110≦Sm　　　　　　　　　　　　　　　(1) Rsk≦0.200　　　　　　　　　　　　　　(2) 前述數學式(1)中，Sm係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的平均凹凸間距離(mm)， 前述數學式(2)中，Rsk係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的偏斜度。
本發明之光擴散薄膜中，例如前述透明基材(A)亦可包含有丙烯酸樹脂。
本發明之光擴散薄膜中，例如前述透明基材(A)亦可為丙烯酸薄膜。
本發明之光擴散薄膜中，例如前述光擴散層(B)亦可包含有黏結劑樹脂及填料。又，例如前述填料亦可為粒子。又，例如前述粒子與前述黏結劑樹脂之折射率差亦可為0.200以下。
本發明之光擴散薄膜例如可於前述透明基材(A)與前述光擴散層(B)之間具有中間層，且該中間層包含源自前述透明基材(A)之樹脂與源自前述光擴散層(B)之樹脂。
本發明之光擴散薄膜亦可為例如用於影像顯示裝置用顯示面板之視辨背面側的光擴散薄膜。
本發明之光擴散薄膜之製造方法中，例如前述光擴散層(B)形成步驟更可包含有使前述塗膜硬化之硬化步驟。
本發明之光擴散薄膜之製造方法中，前述溶劑亦可含有甲苯及環戊酮。
本發明之光擴散薄膜之製造方法中，例如前述光擴散薄膜為包含前述其他層的光擴散薄膜，並且，前述凹凸形成步驟亦可包含有於前述光擴散層(B)上形成前述其他層之其他層形成步驟。
本發明之影像顯示裝置例如亦可為包含本發明之影像顯示裝置用顯示面板與影像顯示裝置用背光件之影像顯示裝置。
[1.光擴散薄膜] 本發明之光擴散薄膜如前述，係於透明基材(A)之至少一側積層有光擴散層(B)之光擴散薄膜者，且其特徵在於：於前述光擴散薄膜中之前述光擴散層(B)側之最表面形成有凹凸，且前述凹凸形狀滿足下述數學式(1)及(2)。 0.110≦Sm　　　　　　　　　　　　　　　(1) Rsk≦0.200　　　　　　　　　　　　　　(2) 前述數學式(1)中，Sm係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的平均凹凸間距離(mm)， 前述數學式(2)中，Rsk係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的偏斜度。
本發明之光擴散薄膜係前述Sm大且前述Rsk小。即，本發明之光擴散薄膜中，前述光擴散層(B)側之最表面的前述凹凸形狀平緩。藉此，本發明之光擴散薄膜可兼顧高度光擴散性及高度透光率。
一般的光擴散薄膜例如為了光擴散性，表面之凹凸形狀中的峰部與峰部之間隔短，而相對於表面高度之中心線，谷部之成分多，從而凹凸大。而因此光的損失變大，而透光率降低。對此，本發明人等發現藉由將前述Sm設為前述數學式(1)之範圍內且將前述Rsk設為前述數學式(2)之範圍內，可兼顧光擴散性與透光率。本發明之光擴散薄膜中，前述Sm大至0.110以上，亦即表面之凹凸形狀中的峰部與峰部之間隔長。又，前述Rsk小至0.200以下，其如後述意指前述表面之凹凸形狀中的峰部與谷部之成分接近均等。如此一來，吾等認為藉由前述光擴散(B)側之最表面的前述凹凸形狀平緩，可縮小前述凹凸形狀之表面積而可抑制背面反射，故光損失會變少，而透光性會變大。
圖1之截面圖係顯示本發明之光擴散薄膜之構成之一例。如圖所示，該光擴散薄膜10於透明基材(A)11之一面積層有光擴散層(B)12。光擴散層(B)12於樹脂層12a中包含有粒子12b及觸變性賦予劑12c。樹脂層12a係由黏結劑樹脂所形成。粒子12b及觸變性賦予劑12c為填料。光擴散層(B)12之與透明基材(A)11相反之側的表面形成有凹凸。該凹凸形狀滿足前述數學式(1)(0.110≦Sm)及前述數學式(2)(Rsk≦0.200)。惟，本發明之光擴散薄膜不限於此，例如粒子12b及觸變性賦予劑12c分別可有可無。
又，本發明之光擴散薄膜如前述，亦可於前述光擴散層(B)之與前述透明基材(A)相反之側的面上更積層有其他層。惟，前述其他層可存在亦可不存在。當存在前述其他層時，前述其他層例如可為黏著劑層、接著劑層、低折射率層、高折射率層、導電層、UV吸收層、防污層、高硬度層、應力鬆弛層、底塗層等。前述其他層可為一層亦可為多層，為多層時，可為1種亦可為多種。例如，前述其他層可為厚度及折射率經嚴密控制之光學薄膜或可為積層有二層以上前述光學薄膜者。
此外，本發明之光擴散薄膜中「光擴散層(B)側之最表面」為前述光擴散層(B)側的最外側之表面。具體來說，「光擴散層(B)側之最表面」在不存在前述其他層時(例如圖1)，為前述光擴散層(B)之與前述透明基材(A)相反之側之表面。又，「光擴散(B)側之最表面」在存在前述其他層時(未圖示)，為前述其他層之與前述透明基材(A)相反之側的最外側之表面。
本發明中，前述數學式(1)的Sm係表示基準長度中輪廓曲線要素的長度的平均之量。前述數學式(1)之Sm如前述係依循JIS B0601(1994年版)測定之量，例如可以後述實施例記載之方法測定。
本發明之光擴散薄膜中，前述光擴散層(B)側之最表面的前述凹凸形狀Sm如前述數學式(1)所示為0.110以上，例如亦可為0.120以上、0.130以上或0.140以上。前述Sm之上限值並無特別限定，例如為0.200以下。
在本發明中，前述數學式(2)之Rsk(偏斜度)係以均方根高度Rq之三次方進行無因次化後的基準長度中Z(x)的三次方平均。又，所謂偏斜度意指偏度(skewness)，表示以平均線為中心時峰部與谷部之對稱性。若Rsk=0，相對於平均線呈對稱(常態分布)，若Rsk＞0，則相對於平均線會偏下側，而若Rsk＜0，相對於平均線會偏上側。前述數學式(2)Rsk如前述係依循JIS B0601(1994年版)測定之量，例如可以後述實施例記載之方法測定。
本發明之光擴散薄膜中，前述光擴散層(B)側之最表面的前述凹凸形狀之Rsk如前述數學式(2)所示，為0.200以下，例如亦可為0.180以下、0.160以下或0.120以下。前述Rsk之下限值並無特別限定，例如為-0.200以上。
本發明之光擴散薄膜中，前述光擴散層(B)側之最表面的前述凹凸形狀之十點平均粗度(亦稱十點平均高度)Rz例如亦可為1.700以下、1.200以下、1.000以下或0.900以下。前述Rz之下限值並無特別限定，例如可為0.200以上。藉由前述Rz較小，可輕易獲得更高的透光率。前述Rz例如可以後述實施例中記載之測定方法來測定。前述Rz例如可以基準長度中，從輪廓曲線之最大之峰部高度起算至第5個為止的平均、與從最谷部深度起算至第5個為止之平均的和來表示。
在本發明中，光擴散薄膜之透光率例如可以前述視感透過率損失率(波長380~780nm下之視感透過率損失率)表示。前述視感透過率損失率可表示為對於透光性基材的視感透過率損失率。前述透光性基材例如為透明塑膠薄膜基材，本發明之光擴散薄膜即為透明基材(A)。前述視感透過率損失率可令僅前述透光性基材之視感透過率損失率Y為Y1，且令光擴散薄膜之視感透過率損失率Y為Y2，並依下述數學式來算出。又，前述視感透過率損失率例如可以後述實施例中記載之測定方法及算出方法來測定及算出。又，前述視感透過率損失率無特別限定，例如同前述可為3.0%以下，亦可為2.5%以下或2.0%以下。前述視感透過率損失率之下限值並無特別限定，例如可為0%，亦可為大於0%之數值。 視感透過率損失率(%)=(Y1-Y2)/Y1×100
本發明之光擴散薄膜之整體霧度值並無特別限定，例如可為10%以上、15%以上、18%以上或20%以上，亦可為例如40%以下、35%以下、32%以下或28%以下。整體霧度值若高，光擴散性便容易變高。整體霧度值若低，透光率便容易變高。另，霧度值係有關光學薄膜等透明性的指標，表示濁度(不透明度)。又，霧度值可從漫透射光相對於全光線透射光的比率來算出，而其會受到表面粗度等影響。本發明之光擴散薄膜之整體霧度值例如可以下述數學式來定義，並可透過例如後述實施例記載的測定方法來測定。 整體霧度值(%)=Td/Tt×100 Td：漫透射光率 Tt：全光線透射率
以下，分別針對前述透明基材(A)、前述光擴散層(B)及前述其他層進一步舉例說明。
前述透明基材(A)並無特別限制，可舉例如透明塑膠薄膜基材等。前述透明塑膠薄膜基材並無特別限制，宜為可見光之光線透射率佳(宜為光線透射率為90%以上)、透明性佳者(宜為霧度值為1%以下者)，可舉例如日本特開2008-90263號公報記載之透明塑膠薄膜基材。前述透明塑膠薄膜基材之形成材料具體上可舉例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系聚合物、二醋酸纖維素(DAC)、三醋酸纖維素(TAC)等纖維素系聚合物、聚碳酸酯系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物等。又，前述透明塑膠薄膜基材之形成材料可舉例如聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物、聚乙烯、聚丙烯、具有環狀或降莰烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物等。並且，前述透明塑膠薄膜基材之形成材料可舉例如醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、二氯亞乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或前述聚合物之混合物等。前述透明塑膠薄膜基材可適宜使用光學上雙折射少者。本發明之光擴散薄膜例如亦可作為保護薄膜來用於偏光板，此時，前述透明塑膠薄膜基材宜為由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、三醋酸纖維素(TAC)、聚碳酸酯、丙烯酸系聚合物、具有環狀或降莰烯結構之聚烯烴等形成之薄膜。又，本發明中如後述，前述透明塑膠薄膜基材亦可為偏光件本身。若為所述構成，便不需由TAC等構成之保護層而可使偏光板之結構單純化，因此可減少偏光板或影像顯示裝置之製造步驟數，而可力圖提升生產效率。且，只要為所述構成，便可將偏光更薄層化。此外，前述透明塑膠薄膜基材為偏光件時，前述光擴散層(B)及前述低反射層(C)會發揮作為保護層之功能。又，只要為所述構成，則光擴散薄膜例如在裝附於液晶單元表面時，將兼具作為覆蓋板之功能。
本發明中，前述透明基材(A)之厚度並無特別限制，若考量到強度、處理性等作業性及薄層性等之觀點，例如為10~500μm、20~300μm或30~200μm之範圍。前述透明基材(A)之折射率並無特別限制。前述折射率例如為1.30~1.80或1.40~1.70之範圍。
本發明之光擴散薄膜如前述，前述透明基材(A)亦可包含有丙烯酸樹脂。
另，本發明之光擴散薄膜例如如前述，前述透明基材(A)亦可為丙烯酸薄膜。此時，形成前述透明基材(A)之丙烯酸薄膜亦可包含有丙烯酸樹脂以外之樹脂。前述透明基材(A)所含丙烯酸樹脂之含有率無特別限定，例如可為80質量%以上、85質量%以上或90質量%以上，且上限值無特別限定，例如可為100質量%以下、95質量%以下。
本發明之光擴散薄膜中，例如前述光擴散層(B)亦可包含有樹脂(黏結劑樹脂)及填料。前述填料亦可包含有粒子及觸變性賦予劑(thixotropic agent)中之至少一者。
例如藉由前述光擴散層(B)不含粒子而包含觸變性賦予劑，可製成前述Sm及Rsk小而前述最表面之凹凸平緩的本發明之光擴散薄膜。又，藉由前述光擴散層(B)包含觸變性賦予劑及粒徑小的粒子，亦同樣可製成前述Sm及Rsk小而前述最表面之凹凸平緩的本發明之光擴散薄膜。
本發明之光擴散薄膜中，例如前述光擴散層(B)所含前述樹脂亦可包含有丙烯酸酯樹脂(亦稱丙烯酸樹脂)。
本發明之光擴散薄膜中，例如前述光擴散層(B)所含前述樹脂亦可包含有胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂。
本發明之光擴散薄膜中，例如前述光擴散層(B)所含前述樹脂亦可為硬化型胺甲酸酯丙烯酸酯樹脂及多官能丙烯酸酯之共聚物。
本發明之光擴散薄膜中，例如前述光擴散層(B)係使用含樹脂及填料的光擴散層形成材料而形成，且前述光擴散層(B)亦可具有凝集部，該凝集部係藉由前述填料凝集而於前述光擴散層(B)表面形成凸狀部。又，會形成前述凸狀部的凝集部中，前述填料亦可在多個填料於前述光擴散層(B)之面方向的一方向上聚集之狀態下存在。本發明之影像顯示裝置例如亦可將前述本發明之光擴散薄膜配置成使多個前述填料聚集之一方向與黑矩陣圖案之長邊方向一致。
本發明之光擴散薄膜中，前述觸變性賦予劑亦可為例如選自於由有機黏土、氧化聚烯烴及改質脲所構成群組中之至少一者。又，前述觸變性賦予劑亦可為例如增黏劑。
本發明之光擴散薄膜中，相對於前述光擴散層(B)之前述樹脂100重量(質量)份，例如宜以0.2~5重量份之範圍包含有前述觸變性賦予劑。
本發明之光擴散薄膜中，相對於前述光擴散層(B)之前述樹脂100重量份，前述粒子例如可以0.2~12重量份或0.5~12重量份之範圍包含有前述粒子。
本發明之光擴散薄膜之製造方法中，更可藉由調整前述光擴散層形成材料中前述粒子相對於前述樹脂100重量份之重量份數，來調整前述光擴散薄膜之表面形狀。
藉由具有使粒子凝集而成之凝集部，例如可製成光擴散薄膜之凹凸形狀平緩的本發明之光擴散薄膜。又，例如藉由具有前述凝集部，前述光擴散層(B)表面之平均凹凸間距離Sm(mm)會變大。具有所述表面形狀之光擴散薄膜可有效防止螢光燈等之倒映。惟，本發明之光擴散薄膜不受此限。
前述光擴散層(B)例如如同後述，係藉由將含有前述樹脂、前述填料及溶劑的塗敷液塗敷於前述透明基材(A)的至少一面而形成塗膜，接著，從前述塗膜去除前述溶劑而形成。前述樹脂可舉例如熱硬化性樹脂、可藉由紫外線或光硬化之游離放射線硬化性樹脂。前述樹脂亦可使用市售之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。
前述熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂例如可使用可藉由熱、光(紫外線等)或電子射線等硬化之具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一基團的硬化型化合物，可舉例如聚矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等寡聚物或預聚物等。該等可單獨使用1種亦可將2種以上併用。
前述樹脂中亦可使用例如具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一基團的反應性稀釋劑。前述反應性稀釋劑例如可使用日本特開2008-88309號公報記載之反應性稀釋劑，例如包含有單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。前述反應性稀釋劑宜為3官能以上丙烯酸酯、3官能以上甲基丙烯酸酯。其係因可使光擴散層(B)之硬度優異。前述反應性稀釋劑還可舉例如丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸的丙烯酸酯、異三聚氰酸的甲基丙烯酸酯等。該等可單獨使用1種亦可將2種以上併用。
用以形成前述光擴散層(B)的粒子其主要功能為可將所形成的光擴散層(B)表面製成為凹凸形狀以賦予光擴散性、且可控制前述光擴散層(B)之霧度值。前述光擴散層(B)之霧度值可藉由控制前述粒子與前述樹脂之折射率差來設計。前述粒子與前述樹脂之折射率差並無特別限定，例如如前述可為0.200以下，可為0.150以下、0.100以下或0.050以下，且例如可為0以上，可為大於0的數值，亦可為0.010以上、0.020以上或0.030以上。前述粒子例如有無機粒子與有機粒子。前述無機粒子並無特別限制，可舉例如氧化矽粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁粒子、氧化鋅粒子、氧化錫粒子、碳酸鈣粒子、硫酸鋇粒子、滑石粒子、高嶺土粒子、硫酸鈣粒子等。又，前述有機粒子並無特別限制，可舉例如聚甲基丙烯酸甲酯樹脂粉末(PMMA粒子)、聚矽氧樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、丙烯酸苯乙烯樹脂粉末、苯胍胺樹脂粉末、三聚氰胺樹脂粉末、聚烯烴樹脂粉末、聚酯樹脂粉末、聚醯胺樹脂粉末、聚醯亞胺樹脂粉末、聚氟乙烯樹脂粉末等。該等無機粒子及有機粒子可單獨使用1種，亦可將2種以上併用。
前述粒子之粒徑(D)(重量平均粒徑)並無特別限定，例如在2~10μm之範圍內。藉由將前述粒子之重量平均粒徑設為前述範圍，例如可製成光擴散性更佳且倒映經抑制之光擴散薄膜。由抑制從斜向之倒映之觀點，前述粒子之重量平均粒徑宜不要過小。由抑制從正面方向之倒映之觀點，前述粒子之重量平均粒徑宜不要過大。前述粒子之重量平均粒徑例如可為2.2μm以上、2.3μm以上、2.5μm以上或3.0μm以上，且可為9.0μm以下、8.0μm以下、7.0μm以下或6.0μm以下。前述粒子之重量平均粒徑例如可為2.2μm以上且9.0μm以下、2.2μm以上且8.0μm以下、2.2μm以上且7.0μm以下、2.2μm以上且6.0μm以下、2.3μm以上且9.0μm以下、2.3μm以上且8.0μm以下、2.3μm以上且7.0μm以下、2.3μm以上且6.0μm以下、2.5μm以上且9.0μm以下、2.5μm以上且8.0μm以下、2.5μm以上且7.0μm以下、2.5μm以上且6.0μm以下、3.0μm以上且9.0μm以下、3.0μm以上且8.0μm以下、3.0μm以上且7.0μm以下、或3.0μm以上且6.0μm以下。另外，前述粒子之重量平均粒徑可透過例如庫爾特計數法來測定。例如使用利用了細孔電阻法的粒度分布測定裝置(商品名：Coulter Multisizer，Beckman Coulter, Inc.製)，測定相當於粒子通過前述細孔時之粒子體積的電解液之電阻，藉此測定出前述粒子之數量與體積，算出重量平均粒徑。
前述粒子的形狀並無特別限制，例如可為珠狀之大致球形，亦可為粉末等不定形者，但宜為大致球形，更宜為高寬比在1.5以下之大致球形的粒子，最宜為球形粒子。
前述光擴散層(B)中前述粒子之比率相對於前述樹脂100重量份，例如可為0.1重量份以上、0.2重量份以上、0.3重量份以上或0.5重量份以上，且可為10重量份以下、8重量份以下、7重量份以下或6重量份以下。前述粒子之比率相對於前述樹脂100重量份，例如可為0.1重量份以上且10重量份以下、0.1重量份以上且8重量份以下、0.1重量份以上且7重量份以下、0.1重量份以上且6重量份以下、0.2重量份以上且10重量份以下、0.2重量份以上且8重量份以下、0.2重量份以上且7重量份以下、0.2重量份以上且6重量份以下、0.3重量份以上且10重量份以下、0.3重量份以上且8重量份以下、0.3重量份以上且7重量份以下、0.3重量份以上且6重量份以下、0.5重量份以上且10重量份以下、0.5重量份以上且8重量份以下、0.5重量份以上且7重量份以下、或0.5重量份以上且6重量份以下。藉由將前述粒子之比率設為前述範圍，例如可適宜形成前述凝集部，且例如可製成光擴散性更佳且倒映經抑制之光擴散薄膜。
前述光擴散層(B)中，前述填料亦可為粒子及觸變性賦予劑。前述觸變性賦予劑可單獨含有，亦可除前述粒子外還更含有前述觸變性賦予劑。藉由包含前述觸變性賦予劑，可易控制前述粒子之凝集狀態。前述觸變性賦予劑可舉例如有機黏土、氧化聚烯烴、改質脲等。
前述有機黏土宜為為了改善與前述樹脂之親和性而經有機化處理的層狀黏土。前述有機黏土可自家調製亦可使用市售品。前述市售品可舉例如LOOSENTIGHT SAN、LOOSENTIGHT STN、LOOSENTIGHT SEN、LOOSENTIGHT SPN、SOMASIF ME-100、SOMASIF MAE、SOMASIF MTE、SOMASIF MEE、SOMASIF MPE(商品名，皆為Co-op Chemical Co.,Ltd.製)；ESBEN、ESBEN C、ESBEN E、ESBEN W、ESBEN P、ESBEN WX、ESBEN N-400、ESBEN NX、ESBEN NX80、ESBEN NO12S、ESBEN NEZ、ESBEN NO12、ESBEN NE、ESBEN NZ、ESBEN NZ70、ORGANITE、ORGANITE D、ORGANITE T(商品名，皆為HOJUN Co.,Ltd.製)；KUNIPIA F、KUNIPIA G、KUNIPIA G4(商品名，皆為KUNIMINE INDUSTRIES CO., LTD.製)；TIXOGEL VZ、CLAYTONE HT、CLAYTONE 40(商品名，皆為Rockwood Additives Ltd製)等。
前述氧化聚烯烴可自家調製亦可使用市售品。前述市售品可舉例如DISPARLON 4200-20(商品名，楠本化成股份公司製)、DISPARLON SA300(商品名，共榮社化學股份公司製)等。
前述改質脲係異氰酸酯單體或其加成物與有機胺的反應物。前述改質脲可自家調製亦可使用市售品。前述市售品可舉例如BYK410(BYK-CHEMIE公司製)等。
前述觸變性賦予劑可單獨使用1種亦可將2種以上併用。
前述光擴散層(B)中前述觸變性賦予劑之比率相對於前述樹脂100重量份，宜為0.2~5重量份之範圍，更宜為0.4~4重量份之範圍。
前述光擴散層(B)之最大厚度(d')並無特別限制，惟宜在3~12µm之範圍內。藉由將前述光擴散層(B)之最大厚度(d')設為前述範圍，例如可防止光擴散薄膜產生捲曲，而可避免輸送性不良等生產性降低之問題。又，當前述厚度(d)落於前述範圍時，前述粒子之重量平均粒徑(D)如前述宜在2~10μm之範圍內。藉由前述光擴散層(B)的最大厚度(d')與前述粒子的重量平均粒徑(D)為前述組合，可製成光擴散性佳的光擴散薄膜。前述光擴散層(B)之最大厚度(d')更宜在3~8µm之範圍內。
前述光擴散層(B)的厚度(d')與前述粒子的重量平均粒徑(D)之比D/d例如可為1以下、0.9以下、0.8以下、0.7以下或0.6以下，且可為0.1以上、0.2以上、0.3以上或0.4以上。前述D/d例如可為0.1以上且1以下、0.2以上且1以下、0.3以上且1以下、0.4以上且1以下、0.1以上且0.9以下、0.2以上且0.9以下、0.3以上且0.9以下、0.4以上且0.9以下、0.1以上且0.8以下、0.2以上且0.8以下、0.3以上且0.8以下、0.4以上且0.8以下、0.1以上且0.7以下、0.2以上且0.7以下、0.3以上且0.7以下、0.4以上且0.7以下、0.1以上且0.6以下、0.2以上且0.6以下、0.3以上且0.6以下、或0.4以上且0.6以下。藉由具有所述關係，可製成光擴散性更佳且倒映經抑制之光擴散薄膜。
本發明之光擴散薄膜中，例如前述光擴散層(B)具有凝集部，該凝集部係藉由前述填料凝集而於前述光擴散層(B)表面形成凸狀部，而會形成前述凸狀部的凝集部中，前述填料亦可在多個填料於前述光擴散層(B)之面方向的一方向上聚集之狀態下存在。藉此例如可防止螢光燈之倒映等。惟，本發明之光擴散薄膜不受此限。
又，本發明之光擴散薄膜例如亦可在前述透明基材(A)與前述光擴散層(B)之間具有中間層，該中間層包含源自前述透明基材(A)之樹脂與源自前述光擴散層(B)之樹脂。藉由控制該中間層之厚度，可控制前述光擴散層(B)的表面形狀。例如，當增大前述中間層之厚度，前述Sm及Rsk容易變大，而當縮小前述中間層之厚度，前述Sm及Rsk易變小。另，前述中間層之存在例如可以顯微鏡觀察光擴散薄膜之截面來確認。又，前述中間層、前述透明基材(A)及前述光擴散層(B)的厚度之測定，例如可同樣以顯微鏡觀察光擴散薄膜之截面，特定出前述透明基材(A)、前述中間層及前述光擴散層(B)之界面來進行。前述顯微鏡可舉如穿透型電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope，TEM)。此外，前述界面之特定例如亦可使用飛行時間型二次離子質譜法等。所述方法例如可在難以利用顯微鏡特定界面時使用。
本發明中，形成前述中間層(亦稱為滲透層、相溶層)的機制並無特別限定，例如係在本發明之光擴散薄膜之製造方法中的前述乾燥步驟中形成。具體上，例如在前述乾燥步驟中，前述光擴散層(B)形成用塗敷液滲透至前述透明基材(A)，而形成包含源自前述透明基材(A)之樹脂與源自前述光擴散層(B)之樹脂的前述中間層。前述中間層所含樹脂並無特別限定，例如亦可為前述透明基材(A)所含樹脂與前述光擴散層(B)所含樹脂僅單純混合(相溶)而成者。又，前述中間層所含樹脂中，例如前述透明基材(A)所含樹脂與前述光擴散層(B)所含樹脂中之至少一者亦可經加熱、光照射等而有化學變化。
下述數學式(5)定義之前述中間層的厚度比率R並無特別限定，例如為0.10~0.80，例如可為0.15以上、0.20以上、0.25以上、0.30以上、0.40以上或0.45以上，且例如可為0.75以下、0.70以下、0.65以下、0.60以下、0.50以下、0.40以下、0.45以下或0.30以下。前述中間層例如可藉由以穿透型電子顯微鏡(TEM)觀察光擴散薄膜之截面來確認，且可測定厚度。 R=[DC /(DC +DB )]　　　(5) 前述數學式(5)中，DB 係前述光擴散性層(B)的厚度[µm]，DC 係前述中間層的厚度[µm]。
本發明之光擴散薄膜中，例如如前述，前述光擴散層(B)具有凝集部，該凝集部係藉由前述填料凝集而於前述光擴散層(B)表面形成凸狀部，而會形成前述凸狀部的凝集部中，前述填料亦可在多個填料於前述光擴散層(B)之面方向的一方向上聚集之狀態下存在。藉此可使前述凸狀部成為具有各向異性的平緩形狀。惟，本發明之光擴散薄膜不受此限。
光擴散層(B)之表面形狀可藉由控制光擴散層形成材料所含填料之凝集狀態來任意設計。前述填料之凝集狀態例如可藉由前述填料之材質(例如粒子表面之化學改質狀態、對溶劑或樹脂之親和性等)、樹脂(黏結劑)或溶劑之種類、組合等來控制。又，可藉由前述觸變性賦予劑來精密控制前述粒子之凝集狀態。結果在本發明中可廣範圍地控制(調整)前述光擴散薄膜的表面形狀，例如可使前述填料之凝集狀態如同前述，而可將前述凸狀部製成平緩形狀。並且，亦可如同前述藉由調整前述光擴散層形成材料中前述粒子相對於100重量份之前述樹脂的重量份數，而更廣範圍地控制(調整)前述光擴散薄膜的表面形狀。
另外，本發明之光擴散薄膜亦可為前述凸狀部呈平緩形狀而可防止造成外觀缺陷之光擴散(B)表面之突起狀物產生者，但不限於此。又，本發明之光擴散薄膜中，例如亦可在光擴散層(B)之厚度方向上於直接或間接重疊之位置存在有若干前述粒子。
前述其他層無特別限定，例如如前述，亦可為黏著劑層、接著劑層、低折射率層、高折射率層、導電層、UV吸收層、防污層、高硬度層、應力鬆弛層、底塗層等。又，前述其他層可為一層亦可為多層，為多層時，可為1種亦可為多種。例如，前述其他層可為厚度及折射率經嚴密控制之光學薄膜或可為積層有二層以上前述光學薄膜者。
[2.光擴散薄膜之製造方法] 本發明之光擴散薄膜之製造方法並無特別限制，無論以何種方法製造皆可，惟宜藉由前述本發明之光擴散薄膜之製造方法來製造。
前述光擴散薄膜之製造方法例如可以下述方式來進行。
首先，於前述透明基材(A)上以滿足前述數學式(1)及(2)之方式來形成前述光擴散層(B)(光擴散層(B)形成步驟)。藉此來製造前述透明基材(A)與前述光擴散層(B)之積層體。前述光擴散層(B)形成步驟如同前述，包含：塗敷步驟，係於前述透明基材(A)上塗敷塗敷液；及塗膜形成步驟，係使已塗敷之前述塗敷液乾燥而形成塗膜。又，例如如前述，前述光擴散層(B)形成步驟更可包含有使前述塗膜硬化之硬化步驟。前述硬化例如可在前述乾燥後進行，但不限於此。前述硬化可藉由例如加熱、光照射等來進行。前述光並無特別限定，例如亦可為紫外線等。前述光照射之光源亦無特別限定，例如可為高壓水銀燈等。
前述塗敷液如前述包含樹脂與溶劑。前述塗敷液例如亦可為包含前述樹脂、前述粒子、前述觸變性賦予劑及前述溶劑之光擴散層形成材料(塗敷液)。
前述塗敷液宜展現觸變性，而以下述式規定之Ti值宜在1.3~3.5之範圍，更宜為1.4~3.2之範圍，且1.5~3之範圍更佳。 Ti值=β1/β2 上述式中，β1為使用HAAKE公司製RheoStress RS6000在剪切速度20(1/s)之條件下測定之黏度，β2為使用HAAKE公司製RheoStress RS6000在剪切速度200(1/s)之條件下測定之黏度。
只要Ti值為1.3以上，便不易有產生外觀缺陷、或有關光擴散性、白暈之特性惡化的問題發生。又，只要Ti值為3.5以下，便不易有前述粒子不凝集而呈分散狀態等問題發生。
又，前述塗敷液可包含有或不含觸變性賦予劑，但包含觸變性賦予劑可易展現觸變性故宜包含。又，如前述，藉由前述塗敷液包含前述觸變性賦予劑，可獲得防止前述粒子沉降之效果(觸變性效果)。並且，藉由前述觸變性賦予劑本身的剪切凝集，亦可更加廣範圍地自由控制光擴散薄膜的表面形狀。例如藉由前述塗敷液不含粒子而包含觸變性賦予劑，可如同前述製成前述Sm及Rsk小而前述最表面之凹凸平緩的本發明之光擴散薄膜。又，藉由前述塗敷液包含觸變性賦予劑及粒徑小的粒子，亦同樣可製成前述Sm及Rsk小而前述最表面之凹凸平緩的本發明之光擴散薄膜。
前述溶劑並無特別限制，可使用各種溶劑，可單獨使用1種亦可將2種以上併用。因應前述樹脂之組成、前述粒子及前述觸變性賦予劑之種類、含量等，為了獲得本發明之光擴散薄膜係存在最佳之溶劑種類及溶劑比率。溶劑並無特別限定，可舉例如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；二異丙基醚、丙二醇單甲基醚等醚類；乙二醇、丙二醇等甘醇類；乙賽璐蘇、丁賽璐蘇等賽璐蘇類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類等。又，例如前述溶劑亦可含有烴溶劑與酮溶劑。前述烴溶劑例如亦可為芳香族烴。前述芳香族烴例如可為選自於由甲苯、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、乙苯及苯所構成群組中之至少一者。前述酮溶劑例如可為選自於由環戊酮及丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、二乙基酮、環己酮、異佛酮、苯乙酮所構成群組中之至少一者。前述溶劑例如可為以90：10~10：90之質量比混合了前述烴溶劑與前述酮溶劑之溶劑。前述烴溶劑與前述酮溶劑之質量比例如可為80：20~20：80、70：30~30：70或40：60~60：40等。此時，例如前述烴溶劑為甲苯，前述酮溶劑亦可為環戊酮。
例如在透明基材(A)採用丙烯酸薄膜來形成中間層(滲透層)時，可適宜使用對丙烯酸薄膜(丙烯酸樹脂)為良溶劑者。該溶劑例如如前述可為含有烴溶劑與酮溶劑之溶劑。前述烴溶劑例如亦可為芳香族烴。前述芳香族烴例如可為選自於由甲苯、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、乙苯及苯所構成群組中之至少一者。前述酮溶劑例如可為選自於由環戊酮、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、二乙基酮、環己酮、異佛酮及苯乙酮所構成群組中之至少一者。前述溶劑例如可為以90：10~10：90之質量比混合了前述烴溶劑與前述酮溶劑之溶劑。前述烴溶劑與前述酮溶劑之質量比例如可為80：20~20：80、70：30~30：70或40：60~60：40等。此時，例如前述烴溶劑為甲苯，前述酮溶劑亦可為環戊酮。
又，藉由適當選擇溶劑，可在含有觸變性賦予劑時使其良好展現對光擴散層形成材料(塗敷液)的觸變性。例如使用有機黏土時，可適宜單獨使用或併用甲苯及二甲苯；例如使用氧化聚烯烴時，可適宜單獨使用或併用甲基乙基酮、乙酸乙酯、丙二醇單甲基醚；例如使用改質脲時，可適宜單獨使用或併用乙酸丁酯及甲基異丁基酮。
前述光擴散層形成材料中可添加各種調平劑。前述調平劑可為了防止塗敷不均(塗敷面均勻化)而使用例如氟系或聚矽氧系之調平劑。在本發明中，可因應對光擴散層(B)表面要求防污性時、或如同後述於光擴散層(B)上形成低反射層(低折射率層)或含層間充填劑之層時等情況，適當選定調平劑。在本發明中，例如可透過使其含有前述觸變性賦予劑來使塗敷液展現觸變性，因此不易發生塗敷不均。此時，例如會具有可拓展前述調平劑之選項的優點。
前述調平劑之摻混量並無特別限定，相對於前述樹脂100重量份，宜為0.3~5重量份，更宜為0.5~5重量份之範圍。
前述光擴散層形成材料中亦可因應需要在不損及性能之範圍內添加顏料、充填劑、分散劑、塑化劑、紫外線吸收劑、界面活性劑、防污劑、抗氧化劑等。該等添加劑可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
前述光擴散層形成材料中亦可使用例如日本特開2008-88309號公報記載之以往公知的光聚合起始劑。
將前述塗敷液塗敷於前述透明基材(A)上來形成塗膜之方法可使用例如噴注式塗佈法、模塗法、旋塗法、噴塗法、凹版塗佈法、輥塗法、棒塗法等塗敷法。
接著，如前述使前述塗膜乾燥及硬化，以形成光擴散層(B)。前述乾燥例如可為自然乾燥，可為噴吹風之風乾，可為加熱乾燥，亦可為組合該等之方法。
前述光擴散層(B)形成用塗敷液之乾燥溫度例如亦可為30~200℃之範圍。前述乾燥溫度例如可為40℃以上、50℃以上、60℃以上、70℃以上、80℃以上、90℃以上或100℃以上，且可為190℃以下、180℃以下、170℃以下、160℃以下、150℃以下、140℃以下、135℃以下、130℃以下、120℃以下或110℃以下。乾燥時間並無特別限定，例如可為30秒以上、40秒以上、50秒以上或60秒以上，且可為150秒以下、130秒以下、110秒以下或90秒以下。
前述塗膜之硬化手段並無特別限制，惟宜為紫外線硬化。能量射線源的照射量以在紫外線波長365nm下之累積曝光量計宜為50~500mJ/cm2 。照射量只要為50mJ/cm2 以上，便可易充分進行硬化，而所形成之光擴散層(B)的硬度易變高。又，只要為500mJ/cm2 以下，便可防止所形成之光擴散層(B)的著色。
依以上程序可製造前述透明基材(A)與前述光擴散層(B)之積層體。該積層體可直接作為本發明之光擴散薄膜，例如亦可於前述光擴散層(B)上形成前述其他層來製成本發明之光擴散薄膜。前述其他層之形成方法並無特別限定，例如可以與一般的光學層等形成方法相同或依循其之方法來進行。
依以上程序，可製造於前述透明基材(A)之至少一面積層有前述光擴散層(B)之本發明之光擴散薄膜。此外，本發明之光擴散薄膜如前述，亦可含有前述透明基材(A)及前述光擴散層(B)以外的其他層。
又，本發明之抗反射薄膜之製造步驟中，宜對前述透明基材(A)及前述光擴散層(B)中之至少一者進行表面處理。只要對前述透明基材(A)表面進行表面處理，便可更提升與前述光擴散層(B)或偏光件或是偏光板之密著性。並且，只要對前述光擴散層(B)表面進行表面處理，例如便可更提升與前述其他層之密著性。
[3.光學構件及影像顯示裝置] 本發明之光學構件並無特別限定，例如亦可為偏光板。前述偏光板亦無特別限定，例如可包含有本發明之光擴散薄膜及偏光件，並可更含有其他構成要素。前述偏光板之各構成要素例如可藉由接著劑或黏著劑等貼合。
本發明之影像顯示裝置亦無特別限定，可為任意影像顯示裝置，可舉例如液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、量子點顯示裝置等。
本發明之光擴散薄膜如前述，亦可用於影像顯示裝置用顯示面板之視辨背面側。具體上，例如可藉由接著劑或黏著劑等將本發明之光擴散薄膜貼附於影像顯示裝置用顯示面板之視辨背面側。此時，本發明之光擴散薄膜例如可單獨使用，亦可作為包含其他構成要素之本發明之光學構件(例如前述偏光板等)來使用。又，本發明之影像顯示裝置例如亦可包含有前述影像顯示裝置用顯示面板與影像顯示裝置用背光件。具體而言，例如亦可於前述影像顯示裝置用顯示面板之視辨背面側貼附有本發明之光擴散薄膜或本發明之光學構件，且於前述影像顯示裝置用顯示面板之視辨背面側配置有前述影像顯示裝置用背光件。本發明之光擴散薄膜如前述，前述光擴散層(B)側之最表面的前述凹凸形狀平緩。所以，根據本發明之光擴散薄膜，例如可抑制或防止前述凹凸形狀造成之前述影像顯示裝置用背光件表面的損傷。惟，本發明之影像顯示裝置不受此限。
本發明之影像顯示裝置例如為於視辨側表面具有本發明之光擴散薄膜的影像顯示裝置，且前述影像顯示裝置亦可具有黑矩陣圖案。
本發明之光擴散薄膜例如可將前述透明基材(A)側透過黏著劑或接著劑貼合於可用於LCD之光學構件。另外，在進行該貼合時，亦可對前述透明基材(A)表面進行如前述之各種表面處理。如同前述，根據本發明之光擴散薄膜之製造方法，可廣範圍地自由控制光擴散薄膜的表面形狀。因此，藉由使用接著劑或黏著劑等將前述光擴散薄膜與其他光學構件積層而可獲得之光學特性係涵蓋已針對前述光擴散薄膜之表面形狀做對應之廣泛的範圍。
前述光學構件可舉例如偏光件或偏光板。偏光板之構成一般係於偏光件之單側或兩側具有透明保護薄膜。欲於偏光件兩面設置透明保護薄膜時，表背的透明保護薄膜可為相同材料亦可為不同材料。偏光板通常配置於液晶單元兩側。又，偏光板係配置成使2片偏光板之吸收軸大略互相正交。
積層有前述光擴散薄膜之偏光板的構成並無特別限制，例如可為於前述光擴散薄膜上依序積層了透明保護薄膜、前述偏光件及前述透明保護薄膜之構成，亦可為於前述光擴散薄膜上依序積層了前述偏光件、前述透明保護薄膜之構成。
本發明之影像顯示裝置除了配置前述光擴散薄膜以外，其餘為與以往之影像顯示裝置相同之構成。例如為LCD時，可以下述方式製造：將液晶單元、偏光板等光學構件及因應需求的照明系統(背光件等)等各構成零件適當組裝，再組入驅動電路等。
本發明之影像顯示裝置可用於任意適當之用途。其用途例如為電腦顯示器、筆記型電腦、複印機等OA機器、行動電話、時鐘、數位相機、攜帶型資訊終端機(PDA)、可攜式遊戲機等攜帶型機器、視訊攝影機、電視、微波爐等家庭用電氣機器、後照監視器、汽車導航系統用監測器、汽車音響等車載用機器、商業店鋪用資訊導覽用螢幕等展示機器、監視用螢幕等警備機器、看護用監測器、醫療用監測器等看護醫療機器等。 實施例
接下來，針對本發明之實施例與比較例一同進行說明。惟，本發明不受以下實施例及比較例限定。
[實施例1] 混合作為黏結劑樹脂之新戊四醇三丙烯酸酯(PETA；大阪有機化學公司製，商品名「Viscoat #300」)60重量份及胺甲酸酯丙烯酸酯預聚物(新中村化學工業公司製，商品名「UA-53H-80BK」)40重量份、聚矽氧粒子(Momentive Performance Materials Co., Ltd.製，商品名「Tospearl 130」，重量平均粒徑：3µm，|D90-D50|：2.5µm)4重量份有機黏土之合成膨潤石(KUNIMINE INDUSTRIES CO., LTD.製，商品名「SUMECTON SAN」)2.5重量份、光聚合起始劑(BASF公司製，商品名「IRGACURE 907」)5重量份與調平劑(DIC公司製，商品名「PC4100」，固體成分10%)1.0重量份，並以甲苯/環戊酮(CPN)混合溶劑(重量比甲苯/環戊酮=70/30)稀釋，而調製出固體成分濃度31.5重量%之光擴散層形成用組成物I。此外，前述有機黏土係用甲苯稀釋成固體成分成為6重量%後來使用。
並使用線棒將上述光擴散層形成用組成物I塗佈於透明塑膠薄膜基材(丙烯酸薄膜，東洋鋼鈑(股)製，商品名「HX-40UC」，厚度：40µm，折射率：1.50，單體之視感透過率損失率94.0%)，在90℃下加熱1分鐘後，以高壓水銀燈照射累積光量300mJ/cm2 之紫外線。依上述方式，可獲得以下光擴散薄膜：於透明基材(A)之一面積層光擴散層(B)(厚度5.7µm)且同時於前述透明基材(A)與前述光擴散層(B)之間形成有源自前述透明基材(A)之樹脂與源自前述光擴散層(B)之樹脂的中間層。又，在本實施例與以下之所有實施例及比較例中形成有中間層一事，係利用穿透型電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope，TEM)觀察光擴散薄膜之截面而確認。
[實施例2] 除了將光擴散層形成成厚度成為6.3µm外，以與實施例1同樣方式獲得光擴散薄膜。
[實施例3] 除了將光擴散層形成成厚度成為6.9µm外，以與實施例1同樣方式獲得光擴散薄膜。
[實施例4] 除了將光擴散層形成成厚度成為7.3µm外，以與實施例1同樣方式獲得光擴散薄膜。
[實施例5] 除了將光擴散層形成用組成物I塗敷後之加熱時間從1分鐘變更成30秒鐘外，以與實施例1同樣方式獲得光擴散薄膜。
[實施例6] 除了將光擴散層形成成厚度成為6.3µm外，以與實施例5同樣方式獲得光擴散薄膜。
[實施例7] 除了將光擴散層形成成厚度成為6.9µm外，以與實施例5同樣方式獲得光擴散薄膜。
[實施例8] 除了將光擴散層形成成厚度成為7.3µm外，以與實施例5同樣方式獲得光擴散薄膜。
[實施例9] 使用PET薄膜(KOLON INDUSTRIES公司製，商品名「ASTROLL CE900」，厚度：38µm、折射率：1.64，單體之視感透過率損失率88.3%)取代實施例1之前述丙烯酸薄膜來作為透明塑膠薄膜基材(透明基材(A))，除此之外以與實施例1相同方式獲得光擴散薄膜。
[實施例10] 使用TAC(Konica Minolta股份公司製，商品名「KC4UY」，厚度：40µm，折射率：1.50，單體之視感透過率損失率92.4%)取代實施例1之前述丙烯酸薄膜來作為透明塑膠薄膜基材(透明基材(A))，除此之外以與實施例1相同方式獲得光擴散薄膜。
[比較例1] 混合作為黏結劑樹脂之新戊四醇三丙烯酸酯(PETA；大阪有機化學公司製，商品名「Viscoat #300」)60重量份及胺甲酸酯丙烯酸酯預聚物(新中村化學工業公司製，商品名「UA-53H-80BK」)40重量份、有機粒子(積水化成品工業股份公司製，商品名「SSX1055QXE」，重量平均粒徑：5.5µm)4重量份、有機黏土之合成膨潤石(KUNIMINE INDUSTRIES CO., LTD.製，商品名「SUMECTON SAN」)2.5重量份、光聚合起始劑(BASF公司製，商品名「IRGACURE 907」)5重量份與調平劑(DIC公司製，商品名「PC4100」，固體成分10%)1.0重量份，並以甲苯/甲基乙基酮混合溶劑(重量比甲苯/甲基乙基酮=70/30)稀釋，而調製出固體成分濃度32重量%之光擴散層形成用組成物II。此外，前述有機黏土係用甲苯稀釋成固體成分成為6重量%後來使用。
並使用線棒將上述光擴散層形成用組成物II塗佈於與實施例1相同之透明塑膠薄膜基材，在90℃下加熱1分鐘後，以高壓水銀燈照射累積光量300mJ/cm2 之紫外線。依上述方式，獲得具有透明基材層與光擴散層(厚度5.7µm)並且在該等之間形成有中間層的光擴散薄膜。
[比較例2] 除了將光擴散層形成成厚度成為5.9µm外，以與比較例1同樣方式獲得光擴散薄膜。
[比較例3] 除了將光擴散層形成成厚度成為6.2µm外，以與比較例1同樣方式獲得光擴散薄膜。
[比較例4] 除了將光擴散層形成成厚度成為6.3µm外，以與比較例1同樣方式獲得光擴散薄膜。
[比較例5] 除了將光擴散層形成成厚度成為6.5µm外，以與比較例1同樣方式獲得光擴散薄膜。
[比較例6] 混合作為黏結劑樹脂之新戊四醇三丙烯酸酯(PETA；大阪有機化學公司製，商品名「Viscoat #300」)50重量份及胺甲酸酯丙烯酸酯預聚物(新中村化學工業公司製，商品名「UA-53H-80BK」)50重量份、聚矽氧粒子(Momentive Performance Materials Co., Ltd.製，商品名「Tospearl 130」，重量平均粒徑：3µm，|D90-D50|：2.5µm，折射率：1.42)3.5重量份、有機黏土之合成膨潤石(Co-op Chemical Co.,Ltd.製，商品名「LOOSENTIGHT SAN」)2重量份、光聚合起始劑(BASF公司製，商品名「IRGACURE 907」)3重量份與調平劑(DIC公司製，商品名「PC4100」，固體成分10%)0.2重量份，並以甲苯/環戊酮(CPN)混合溶劑(重量比甲苯/環戊酮=70/30)稀釋，而調製出固體成分濃度33重量%之光擴散層形成用組成物III。此外，有機黏土係用甲苯稀釋成固體成分成為6重量%後來使用。
接著，使用逗號塗佈機(註冊商標)將上述光擴散層形成用組成物III塗佈於三醋酸纖維素(TAC)薄膜(Konica Minolta Opto Co., Ltd.製，商品名「KC4UA」，厚度：40µm)，於80℃下加熱1分鐘後，以高壓水銀燈照射累積光量300mJ/cm2 之紫外線。依上述方式，獲得具備透明基材層與光擴散層(厚度：6.3µm)且於透明基材層與光擴散層之間形成有中間層的光擴散薄膜。
依以下方式測定依上述方式製出之實施例及比較例之光擴散薄膜的特性。
[光擴散層表面之凹凸形狀(Sm、Rsk、Rz)] 依循JIS B0601(1994年度版)測定平均凹凸間距離Sm(mm)偏斜度Rsk及十點平均表面粗度Rz(µm)。具體而言，首先以黏著劑將玻璃板(MATSUNAMI公司製，MICRO SLIDE GLASS，型號S，厚度1.3mm，45×50mm)貼合於前述各實施例或比較例之光擴散薄膜的透明基材之與光擴散層相反之側的面，而製作出試料。接著，使用具有前端部(鑽石)之曲率半徑R=2µm之測定針的觸針式表面粗度測定器((股)小阪研究所製，高精度微細形狀測定器，商品名「SURFCORDER ET4000」)，在掃描速度1mm/秒、截止值0.8mm、測定長度12mm之條件下，沿固定方向測定前述試料之光擴散層的表面形狀，算出平均凹凸間距離Sm(mm)、十點平均表面粗度Rz(µm)及偏斜度Rsk。此外，前述高精度微細形狀測定器可自動算出前述各測定值。
[視感透過率損失率] 使用Hitachi High-Tech公司製之分光光度計(商品名U-4100)，在波長範圍380nm~780nm下測定前述各實施例或比較例之光擴散薄膜的透射率光譜，進行視感透過率損失率Y之自動算出。又，僅對透明塑膠薄膜基材(未形成光擴散層及中間層)，以同樣方式測定透射率光譜，進行視感透過率損失率Y之自動算出。令僅透明塑膠薄膜基材之視感透過率損失率Y為Y1，且令前述各實施例或比較例之光擴散薄膜的視感透過率損失率Y為Y2，並依下述數學式算出視感透過率損失率。 視感透過率損失率(%)=(Y1-Y2)/Y1×100
[整體霧度] 依循JIS K 7136(2000年版)之霧度(haze)使用霧度計(村上色彩技術研究所製，商品名「HM-150」)進行測定。
將如以上測定之前述各實施例及比較例之光擴散薄膜的特性列於下述表1。另，下述表1中，平均凹凸間距離Sm之單位為mm，偏斜度Rsk無單位，十點平均表面粗度Rz之單位為μm，整體霧度的單位為%。
[表1]
Figure 02_image001
如表1所示，實施例1~10之光擴散薄膜滿足0.110≦Sm及Rsk≦0.200兩者。相對於此，比較例1~5之光擴散薄膜皆未滿足0.110≦Sm。關於比較例1~4之光擴散薄膜，亦未滿足Rsk≦0.200。又，比較例6之光擴散薄膜雖滿足0.110≦Sm，但未滿足Rsk≦0.200。
實施例1~10之光擴散薄膜皆視感透過率損失率為3.0%以下，可確認透光性高。此外，實施例1~10之光擴散薄膜由於整體霧度值具有適度大小(高度)，因此確認了具有適於實用的光擴散性。
相對於此，比較例1~6之光擴散薄膜不論何者的視感透過率損失率皆大於3.0%，透光率皆低。
產業上之可利用性 如以上說明，根據本發明，可提供一種可兼顧光擴散性及透光率的光擴散薄膜、光擴散薄膜之製造方法、光學構件、影像顯示裝置用顯示面板及影像顯示裝置。本發明之用途並無特別限定，可用於廣泛用途上，例如可應用於任意之影像顯示裝置。
本申請案係主張立基於2019年4月3日提申之日本申請案特願2019-071238之優先權，並將全部揭示內容納入於此。
10:光擴散薄膜 11:透明基材(A) 12:光擴散層(B) 12a:樹脂層 12b:粒子 12c:觸變性賦予劑
圖1係顯示本發明之光擴散薄膜之構成之一例的截面圖。
10:光擴散薄膜
11:透明基材(A)
12:光擴散層(B)
12a:樹脂層
12b:粒子
12c:觸變性賦予劑

Claims (19)

  1. 一種光擴散薄膜，係於透明基材之至少一側積層有光擴散層者，且其特徵在於： 於前述光擴散薄膜中之前述光擴散層側之最表面形成有凹凸，且 前述凹凸形狀滿足下述數學式(1)及(2)： 0.110≦Sm　　　　　　　　　　　　　　(1) Rsk≦0.200　　　　　　　　　　　　　　(2) 前述數學式(1)中，Sm係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的平均凹凸間距離(mm)， 前述數學式(2)中，Rsk係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的偏斜度。
  2. 如請求項1之光擴散薄膜，其在波長380~780nm下之視感透過率損失率為3.0%以下。
  3. 如請求項1或2之光擴散薄膜，其中於前述光擴散層之與前述透明基材相反之側的面上更積層有其他層。
  4. 一種光擴散薄膜，係於透明基材之至少一側積層有光擴散層及其他層者，且其特徵在於： 於前述其他層之最表面形成有凹凸，且 前述凹凸形狀滿足下述數學式(1)及(2)： 0.110≦Sm　　　　　　　　　　　　　　(1) Rsk≦0.200　　　　　　　　　　　　　　(2) 前述數學式(1)中，Sm係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的平均凹凸間距離(mm)， 前述數學式(2)中，Rsk係依循JIS B0601(1994年版)測定之前述凹凸形狀的偏斜度。
  5. 如請求項1至4中任一項之光擴散薄膜，其中前述透明基材包含丙烯酸樹脂。
  6. 如請求項1至5中任一項之光擴散薄膜，其中前述透明基材係丙烯酸薄膜。
  7. 如請求項1至6中任一項之光擴散薄膜，其中前述光擴散層包含黏結劑樹脂及填料。
  8. 如請求項7之光擴散薄膜，其中前述填料係粒子。
  9. 如請求項8之光擴散薄膜，其中前述粒子與前述黏結劑樹脂之折射率差為0.200以下。
  10. 如請求項1至9中任一項之光擴散薄膜，其中於前述透明基材與前述光擴散層之間具有中間層，該中間層包含源自前述透明基材之樹脂與源自前述光擴散層之樹脂。
  11. 如請求項1至10中任一項之光擴散薄膜，其係用於影像顯示裝置用顯示面板之視辨背面側。
  12. 一種光擴散薄膜之製造方法，係製造如請求項1至11中任一項之光擴散薄膜之方法，該製造方法之特徵在於包含以下步驟： 光擴散層形成步驟，係於前述透明基材上形成前述光擴散層；及 凹凸形成步驟，係於前述光擴散薄膜中之前述光擴散層側之最表面以滿足前述數學式(1)及(2)之方式形成前述凹凸； 前述光擴散層形成步驟包含：塗敷步驟，係於前述透明基材上塗敷塗敷液；及塗膜形成步驟，係使已塗敷之前述塗敷液乾燥而形成塗膜；並且 前述塗敷液包含樹脂與溶劑。
  13. 如請求項12之製造方法，其中前述光擴散層形成步驟更包含使前述塗膜硬化之硬化步驟。
  14. 如請求項12或13之製造方法，其中前述溶劑包含甲苯及環戊酮。
  15. 如請求項12至14中任一項之製造方法，其中前述光擴散薄膜係如請求項3或4之光擴散薄膜；並且 前述凹凸形成步驟包含於前述光擴散層上形成前述其他層之其他層形成步驟。
  16. 一種光學構件，包含如請求項1至11中任一項之光擴散薄膜。
  17. 一種影像顯示裝置用顯示面板，包含如請求項11之光擴散薄膜。
  18. 一種影像顯示裝置，包含如請求項1至11中任一項之光擴散薄膜、如請求項16之光學構件、或如請求項17之影像顯示裝置用顯示面板。
  19. 如請求項18之影像顯示裝置，其包含如請求項17之影像顯示裝置用顯示面板與影像顯示裝置用背光件。
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