200846845 . 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種在電子電路基板、液晶元件用玻 璃基板、PDP用玻璃元件基板等平面基板形成電路圖案 • (Pattern)的曝光繪圖裝置。 【先前技術】 φ 形成電路圖案於平面基板的曝光繪圖裝置係，習知係 以將轉寫光罩和作為被曝光體的基板接觸的接觸方式或不 被接觸的非接觸方式的曝光裝置作為主流。最近從光罩的 管理和保養方面，如專利文獻1或專利文獻2所示般，對 於不使用轉寫光罩而將繪圖光直接照射至基板而繪圖電路 圖案的曝光繪圖裝置的要求變高。 此曝光繪圖裝置係，將應轉寫的圖案作為繪圖資料， 傳送至曝光繪圖裝置，在曝光繪圖裝置，藉由此資料，進 _ 行根據作為空間光調變元件的DMD(Digital Microiirro]： Dev 1 ce ’數位微型反射鏡元件）元件的控制，照射繪圖光， 在平面基板將電路圖案繪圖的裝置。曝光繪圖裝置係可享 受不使用光罩的最大優點。 如專利文獻3所示般’在曝光緣圖製程中，為了設定 在基板繪圖的電路圖案的位置，在曝光製程前，預先在基 板的周邊開小直徑的孔，將這些孔作為對位符號 (alignment mark)，決定曝光的電路圖案的位置和姿勢。 特別在電子電路基板，在基板的兩面形成電路圖案的情形 5 7106-9470-PF;Tungming 200846845 較多，以在基板的表5 & ,,, m 面、對位符號一致的方式，貫通基 板的小直徑的孔被使用。 [專利文獻丨]日本特開2006-1 13413 [專利文獻2]日本特開2006-343684 • [專利文獻3]日本特開2006-267191 【發明内容】 _ [發明所欲解決之問題] 然而，在孔加工中附著的塵埃、以及移動過程中附著 於孔的塵埃落下至其他基板，或在光阻塗佈等的加工中的 加熱工程引起孔周邊的變形，這些問題在要求高解析度的 基板上成為問題。 因此，本發明提供一種曝光繪圖裝置，在基板的兩面 上形成將在繪圖電路圖案時所必要的對位符號。 [解決問題之技術手段] > 第一觀點的曝光繪圖裝置係包括：基板投入部，將形 成有感光層的基板投入至基板校正位置；校正部，將被投 入至此基板校正位置的上述基板校正至所定位置；符號形 成部，對於藉由枚正部被校正的基板的第一面以及第二 面，形成第一及第二對位符號；以及繪圖部，基於第一及 第二對位符號，將電路圖案繪圖至基板的第一面及第二面。 藉由此構成，不需將貫通基板的第一面及第二面的孔 作為對位符號，即可形成第一及第二對位符號。因此，不 會有附著於孔的塵埃落下至其他基板。 7106-947O-PF;Tungming 6 200846845 在第二觀點的曝光繪圖裝置中，符號形成部係藉由短 波長的照明光，在基板的兩面上同時形成上述第一及第二 對位符號。 在第二觀點的曝光繪圖裝置中，藉由短波長的照明 光，可在兩面同時形成。 第三觀點的曝光繪圖裝置係更包括：記憶部，記憶第 一對位符號和第二對位符號的二次元平面的差異情報；其 中繪圖部係’基於第一對位符號將電路圖案繪圖於第一面 上’且基於第二對位符號及差異情報將電路圖案繪圖於第 二面上 〇 卩使在精德、製作的符號形成部，在第一面的第一對位 付唬和第二面的第二對位符號之間會產生誤差。然而，第 三觀點的曝光緣圖裝置係，藉由將此誤差作為差異情報而 A憶在e憶部中’纟將電路圖案繪圖之際，I用此差異情 報可將第一面的電路圖案和第二面的電路圖案正確地對 應。 在第四觀點的曝光繪圖裝置中，符號形成部係具有第 一面付唬形成部和第二面符號形成部，各個符號形成部可 在與上述基板平行的二次元平面移動，且可在對於上述二 次元平面直交的方向移動。 藉由此構成，由於第一面符號形成部及第二面符號形 成部係可接近基板，可以少的光量且短時間形成第_對位 符ί虎以及弟二對位符發。 第五觀點的曝光綠圖裝置係在第四觀點中，符號形成 7106-9470-PF;Tungming 7 200846845 -部係具有僅在第-面符號形成部的一方照射短波長的照明 光的機構。 藉由此構成，對於只需在第一面形成電路圖案的基板 而吕，可僅在第一面形成第一對位符號。 第六觀點的曝光繪圖裝置的基板投入部係具有將上述 基板移動至不同於基板投入位置的位置的搬送裝置，其更 包括從基板校正位置搬送基板至被曝光體台的搬送部。 • 符號形成部不在和基板校正位置相同的位置形成對位 符號的情形，藉由搬送部移動基板即可。 [發明的效果] 目前在其他製程形成對位符號的製程可省略，可在電 路圖案形成製程之直前形成對位符號，可減少總共的製程 數。亦即，本發明的曝光繪圖裝置係，即使在完全沒有預 先形成對位符號的繪圖第一層的基板上，也可形成直接繪 圖圖案用的對位符號。 【實施方式】 〈第一曝光繪圖裝置及第二曝光繪圖裝置的概略構成〉 第1圖係為配置第一曝光繪圖裝置10及第二曝光繪圖 裝置100的上視圖。 在本實施例中，因為作為平面基板的被曝光基板CB係 弟一面及笫二面均被曝光，第一曝光綠圖裝置1Q之外，將 弟一曝光繪圖裝置1 〇 〇並列配置。亦即，第一曝光繪圖裝 置10係將被曝光基板CB的第一面曝光，第二曝光繪圖裝 7106-9470-PF;Tungming 8 200846845 置1 0 0係將被曝光基板CB的第二面曝光，雖然使用將被曝 光基板CB從第一面反轉至第二面的反轉部70，僅藉由第 一曝光纟會圖裝置10將被曝光基板CB的兩面繪圖也可，但 為了提高被曝光基板CB的生產量（每一時間的生產量），準 備第二曝光繪圖裝置100。 第一曝光繪圖裝置10係，大致由基板投入部2 0、校 正部3 0、符號形成部4 0、第一搬送部5 0、第一繪圖部⑽、 以及待機台70所構成。第二曝光繪圖装置1〇〇係，大致由 第二搬送部15 0、第二繪圖部16 0、以及搬出台18 0所構成。 從第1圖的左侧，塗佈著光阻的被曝光基板被搬送 過來。搬送確認感測器SS1確認被曝光基板CB。接著，基 板投入部20的旋轉滾子21(參考第3圖）旋轉。被曝光基 板CB被搬送至基板投入部2 0的右端的話，搬入確認感測 器SS2確認被曝光基板CB。被曝光基板CB完全被搬入至 基板投入部2 G後，旋轉滾子21停止，進行被曝光基板 的校正，其次，在被曝光基板CB的周邊部，對位符號 係藉由符號形成部40被形成。 之後’被曝光基板CB係藉由第一搬送部5 0被載置於 弟一繪圖部6 0的被曝光體台6 8。第一繪圖部6 〇係在被曝 光基板CB的第一面繪圖電路圖案。電路圖案的緣圖終了的 被曝光基板CB係，藉由第一搬送部50將第一面和第二面 反轉’被搬送至待機台7 0。在第一搬送部5 0不具有反轉 機構的情形，待機台70具有將被曝光基板CB從第一面反 轉至第二面的機構也可。 7106-9470-PF;Tungming 9 200846845 ' 其—人，被曝光基板CB係藉由第二搬送部15 0被載置於 第二繪圖部160的被曝光體台68。第二繪圖部16〇係在被 曝光基板CB的第二面繪圖電路圖案。電路圖案的繪圖終了 的被曝光基板CB係，藉由第二搬送部15〇被搬送至搬出台 180。之後，被曝光基板cb係被搬送至下一製程。 在第1圖，為了提高生產量第一曝光繪圖裝置丨〇及第 二曝光繪圖裝置1〇〇並行配置。在比起生產量更考慮設備 φ 導入成本的情形中，從待機台7〇使被曝光基板CB再次回 到第一曝光繪圖裝置1 〇，在被曝光基板CB的第二面繪圖 電路圖案也可。又，第一曝光繪圖裝置1〇及第二曝光繪圖 裝置1 0 0係，因為除了基板投入部2 〇、校正部3 〇、及符號 形成部40之外，大致相同，以下以第一曝光繪圖裝置1〇 作為代表說明各構成。 〈弟一曝光纟會圖裝置的構成〉 第2圖係為第一曝光繪圖裝置1〇的立體圖。第3圖係 • 為第一曝光繪圖裝置10的正面圖（XZ面）。第4圖係為第 一曝光繪圖裝置1〇的側面圖（γζ面）。這些第3圖至第4 圖係特別以基板投入部20、校正部30、符號形成部4〇、 及弟一搬送部5 0為中心被繪製。 基板投入部20係，具有複數的旋轉滾子2ι以及旋轉 旋轉滾子21的未圖示的驅動馬達。旋轉滾子21係複數個 平行地設置，在旋轉滾子21的一端，安裝有承受藉由皮帶 或金屬線（wire)被傳達的旋轉力的扣鏈齒輪或滑輪。作為 傳達旋轉旋轉滾子21的驅動馬達的旋轉力的手段，除扣鏈 7106-9470-PF;Tungming 10 200846845 ，齒輪或滑輪以外，也可採用根據圓筒狀的磁鐵（magnet)的 傳達方法。又，基板投入部2〇係，具有確認被曝光基板 CB的搬入及到達的搬送確認感測器SS1及搬入確認感測器 SS2 〇 &正部係具有校正用氣缸（air cy 1 inder)31，可將 校正板33上下動作。在校正板33，校正銷35被安裝。被 曝光基板CB被搬送，旋轉滾子21的旋轉停止為止，校正 • 板33係被配置在下端；在旋轉滾子21停止而校正被曝光 基板CB之際，校正板33係移動至上端。在第3圖，係為 校正板33移動至上端的圖示，在第4圖，係為校正板 移動至下端的圖示。 校正板33移動至上端的話，安裝於校正板33的校正 銷35係移動至和被曝光基板CB抵接的高度。校正板33係 具有將校正銷35移動於水平方向的水平移動驅動部34, 銷35係可在水平方向移動約1 。被曝光基板⑶係， I例如’為635mm X 535mm的矩形形狀，校正銷35係沿著被 曝光基板CB的四邊被配置。 夺虎形成。卩40係，在藉由校正銷35被校正的被曝光 二板,CB的四邊的第一面形成第一對位符号虎aM1，在第二面 形成第二對位符號。有關符號形成部4G的詳細係在後 第搬适部50係具有手（hand)部53，其具備複數 ，空吸著的真空塾（pad)51;又，手部53係具有上下驅 部54及水平驅動部55。相對於對位符號AM被形成的被 7106-9470^PF;Tungniing n 200846845 光基板CB，真空墊51從上方下降而真空吸著，被曝光基 板CB係被吊起。之後，被曝光基板CB係藉由水平驅動部 55 ’被移動至第一繪圖部6〇的被曝光體台68上。又，上 下驅動部54係將被曝光基板CB載置於被曝光體台68，真 空墊51的真空吸著被解除^此時，被曝光體台68的真空 吸者係動作，被曝光基板CB係被確實地固定於被曝光體台 68。又，第一搬送部5〇係具有使被曝光基板cb的第一= 反轉至第二面的反轉轉子59。在第】圖中’在從繪圖部6〇 搬送至待機台70之際，被曝光基板CB藉由反轉轉子”從 第一面反轉至第二面。 〈被曝光體的校正和對位符號> 第5圖係為投入至基板投入部2〇的基板校正位置的被 曝光基板⑽上視圖。從第5圖理解般，相對於被曝光基 板CB各邊，分別設置著兩個校正鎖35。將—邊決定位置 時’兩個校正銷為較佳地。又，校正㈣係如箭頭Μ般， 對於被曝光基板CB的四邊，從以虛線描㈣μ㈣μ 實線描㈣位置。藉此，被曝光基板⑶的校正終了後，校 正銷35係從以實線描緣的位置回到以虛線描繪的位置。 又，配置於四個場所的篇缺犯> 琢所扪付說形成部40係從退避位置移 動至被曝光基板CB的周邊位詈。μ 邃彳置四個符號形成部40係在 被曝光基板CB的各邊，將一個或複數個對位符號AM藉由 短波長光曝光而形成。符號形成部4。係為了提高生產量， 將被曝光基板CB @第一面和第二面同時曝光為較佳地。 又，對位符號AM係，從0O.5m"Wimm程度的圓形或十 7106-9470-PF;Tungming 12 200846845 子型的符號开彡此口 · 付琉禾狀即可，在第5圖中，在第一面的一邊形成 有必lmm的四個圓形的對位符號AM。 〈符號形成部> 第6圖係表示一個符號形成部40的圖示，其中第6(a) 圖為上視圖，第6(b)圖為侧視圖，第6(c)圖為正視圖。 卜符號形成部40係具有在被曝光基板CB的第一面形成
第對位付號AM1的第一頭41ϋ以及在第二面形成第二對 位付號ΑΜ2的第二頭41D。 苐頭41U係藉由第一頭用氣缸42U沿著第一滑動| …上下移動…第二…藉由二:：: 42D沿著第—滑動導件44可上下移動。藉由共用第一頭 和第一頭41D的滑動導件，降低成本且提高兩個定位精度。 又’第一頭41ϋ及第二頭41D係被載置於滑動台45， /月動。45係藉由台用氣缸46可在水平方向沿著第二滑動 V件48私動。又’在第6圖中，雖然未圖示，但符號形成 部40係具有和第二滑動導件48正交的第三滑動導件，可 將滑動纟45帛與第二滑動導件48正交的方向移動。 符號形成部40係，被曝光基板CB被校正之後，在將 第-頭41U和第二頭41D在上下開啟的狀態下，接近被曝 光基板CB。又，符號形成部4〇到達形成第一及第二對位 符號AM1及AM2的所定位置之後，第一頭41ϋ和第二頭41d 關閉般接近被曝光基板CB，符號形成部4〇係從第一頭41ϋ 和第一頭41D照射短波長的光。形成第一及第二對位符號 AM 1及ΑΜ2之後，進行相反的動作，回到原來的位置。 7106-9470-PF;Tungming 13 200846845 在本實施例中，第一頭41U及第二頭41D係，具有開 關（on/off)控制容易的LED光源（LED1及LED2(參考第7 圖））’此LED光源發射波長為365nm的光。然而，作為第 一頭41U及第二頭41D的光源，藉由超高壓水銀燈等，將 短波長光藉由光纖導光也可。
又’在被曝光基板CB之中，不必在兩面將電路圖案綠 圖而僅在單一面將電路圖案繪圖的物件也被包含。在此類 的情形中，僅使第一頭41U藉由第一頭用氣缸42U做上下 移動般進行控制也可。又，第一頭41u或第二頭41d的光 源的光強度強的話，不必將第一頭41ϋ和第二頭41D接近 被曝光基板CB，不必設置第一滑動導件軻、第二頭用氣缸 42D及第二滑動導件48。 第7圖係為符號形成部4〇的第-頭41U及第二頭⑽ 的擴大圖。在第7圖’將第-頭41U的UD1及第二頭仙 的LED2的誤差擴大描繪。 對位符號AM係’成為繪圖部6()將電路圖案繪圖在被 曝光基板CB時的基準。因此，作為將電路圖案繪圖至被曝 光基板CB的第-面和第二面時的基準，假如第—面的第一 對位符號AM1和第二面的第二對位符號AM2不一致的話， 第：面的電路圖案和第二面的電路圖案不一致。因此，有 將第-頭4111或第二頭㈣精密製作的必萎。然而，即使 精密製作’些微的差異（誤差）將會產生。因此，在本實施 例’將些微的差異情報記憶在記憶部92(參考第9圖卜 第一頭4UJ的光源L腿和第二頭仙的光源led2係， 14 7106-9470-PF；Tungming 200846845 .在X方向輕ΔΧ的差異，在γ方向存的差異。又， 實際上，在測試用基板TES使用光源ledi和光源LED2, 形成第一及第二對位符號AM1及AM2，藉由顯微鏡等的量 測衣置，里測其差異。此差異情報係被記憶在記憶部9 2。 繪圖部60係在基於對位符號AM形成電路圖案之際，考慮 此差異情報而繪圖。 〈繪圖部的構成〉 φ 第8圖係表示繪圖部6 0的概略立體圖。繪圖部6 〇係 大致包括照明光學系統61、空間光調變部65、投影光學系 統67以及被曝光體台68。在本實施例中，也有為了可對 大面積的被曝光體CB做曝光而具備兩系統的照明光學系 統的構成的情形。繪圖部6 0的兩個第一照明光學系統6 ^ 一工 及6卜2係具有高壓水銀燈（未圖示）。 由反射光學元件62-1及反射光學元件62_2被分離成 八道的曝光光線IL係由全反射鏡63 — 】至全反射鏡63-8被 • 反射至Y方向。由全反射鏡63-1至全反射鏡63-8所反射 的曝光光線IL係入射於八個第二照明光學系統64-1至第 二照明光學系統64-8。 入射於第二照明光學系統64-1至第二照明光學系統 64-8的曝光光線IL係被成形為適當的光量及光束形狀， 而被照射至作為空間光調變元件的排成一列的八個DMD元 件65-1至MD元件65-8。DMD元件65-1至DMD元件65-8 係由被供給的圖像資料將曝光光線IL做空間調變。由 元件65-1至MD元件65-8所調變的光束係經由投影光學 7106-9470-PF;Tungming 15 200846845 • 系統67-1至投影光學系統67-8，作為所定的倍率之後， 被照射至被曝光基板CB〇DMD元件654係基於電路圖案， 例如，開關（on/off)驅動配置成1〇24χ128〇的陣列狀的 131 0720個的微型反射鏡Μ。 此繪圖部6〇係，具有三個對位檢測系統Απ、對位檢 測系統AC2以及對位檢測系統AC3(對位檢測系統AC3係未 圖不）。對位檢測系統AC係檢測出形成於被曝光基板CB的 • 對位符號AM。繪圖部6〇係從對位符號AM的檢測結果，基 於電路圖案的信號，補正微型反射鏡M的開關驅動。 繪圖部60係在投影光學系統67的z方向下侧，具備 支持第一照明光學系統61、第二照明光學系統64以及投 影光學系統67等的框體69。在框體69上配置著一對導軌， 在這些導軌上搭載著被曝光體台68。此被曝光體台68係 藉由，例如，步進馬達等被驅動。藉此，被曝光體台68係 沿著一對導執，在作為這些的長度方向的γ方向，對於投 • 影光學系統67相對移動。在被曝光體台68上設置著從基 板杈正位置被搬送的被曝光基板CB，此被曝光基板在 被曝光體台68上由真空吸附而被固定。被曝光體台68係 被構成為，又可於X方向移動，又可移動到投影光學系統 67的焦點位置般可在z方向移動。 緣圖部60係’在被曝光基板cb繪圖之際，使用高壓 水銀燈的光源之外’使用短波長的LED光源或短波長的雷 射光也可。又’代替由鏡子及透鏡構成的第一照明光學系 統δ 1及第二照明光學系統64，使用光纖也可。 7106-9470-pp.Tungming 16 200846845 . 〈第一曝光繪圖裝置的繪圖用的方塊構成〉 第9圖係為第一曝光繪圖’裝置1 〇的主要構成的方塊 圖。使用第9圖，特別對有關基於對位符號A·，在被曝光 基板CB繪圖電路圖案做說明。 主控制部90係和基板投入部2〇、校正部3〇、符號形 成部40、第一搬送部50、以及第一繪圖部6〇連接，相互 進行信號的交換。
• 主控制部90係，具有預先記憶形成於測試用基板TES 的第一及第二對位符號AM1及AM2的差異情報的對位符號 差異記憶部92，且具有記憶將電路圖案繪圖用的繪圖資料 的繪圖資料記憶部93。主控制部90係，更從對位檢測系 統AC得到各被曝光基板CB的對位符號AM的位置情報。演 算部91係，基於對位符號am的位置情報、第一及第二對 位符號AM1及AM2的差異情報、以及繪圖.資料，驅動DM]) 元件65的微型反射鏡μ，在載置於被曝光體台68的被曝 ® 光基板CB繪圖。又，以第一面的對位符號基準繪圖的話， 演算部91係不使用第一及第二對位符號AM1及αμ2的差異 情報，基於對位符號AM的位置情報及繪圖資料，驅動MD 元件65的各微型反射鏡|第一及第二對位符號ami及am2 係在第二面中被使用。 〈第一曝光繪圖裝置及第二曝光繪圖裝置的動作〉 第10圖係為第一曝光繪圖裝置1〇的動作的流程圖。 在步驟Rl 1中，感測器SS1係確認被曝光基板CB從外 部被搬入至基板投入部2〇。 7106-9470-PF；Tungming 17 200846845
” 在〃驟R12 + ’方疋轉旋轉滾子21，搬送被曝光基板CB 至基板投入部2 0的基板校正位置。 在步驟R13中，感測器SS2確認基板是否到達至基板 校正位置。 在^驟R14中，旋轉滾子21的旋轉停止（在步驟 中感測器SS2確認到基板到達至基板校正位置時）。 其次，在步驟R15中，校正部3〇的校正銷35藉由校 .正用氣缸31上升，校正銷35係抵接於被曝光基板⑶的四 邊的外周，使被曝光基板CB移動至校正位置。 在步驟R16中，符號形成部4〇係從待機位置沿著被曝 光基板CB的外周在水平方向移動，移動至對位符號龍的 形成位置。 在步驟R17中’符號形成部4〇的第一頭41ϋ及第二頭 41D係朝接近被曝光基板CB的方向做上下移動，移動至形 成對位符號AM的最適當位置。 ►在步驟R18中，光源LED1及光源LED2點燈，在被曝 光基板CB的第-面及第二面同時形成第一及第二對位符 號 AM1 及 AM2。 在步驟R19中，上下頭41回到原來的位置，此兩個頭 的間隔變寬，符號形成部40回到待機位置。 在步驟R20 +，第一搬送部5〇冑空吸著被曝光基板 CB，搬送到被曝光體台68，解除被曝光基板的真空吸 著。又，被曝光體台68係真空吸著被曝光基板CB。 在步驟R21中，對位檢測系統AC係觀察被曝光基板 7106-9470-PF;Tungming 18 200846845
' CB的第一面的第一對位符號AMI。又，基於被曝光基板CB 的第一對位符號AMI ’在被曝光基板CB將電路圖案藉由D肋 元件65繪圖。 在步驟R22中，藉由第一搬送部5〇將被曝光基板CB 移動至待機台70，第一搬送部50的反轉轉子59或待機台 70係將被曝光基板CB反轉。藉此，被曝光基板CB的第二 面的繪圖準備完成。 _ 在步驟R23中’第二搬送部150吸著被曝光基板cb， 搬送至第二被曝光體台68，解除被曝光基板CB的真空吸 著。又’第二被曝光體台68係真空吸著被曝光基板CB。 在步驟R24中，第二繪圖部1的對位檢測系統Ac係
觀察第二面的第二對位符號AM2。又，基於被曝光基板CB 的第二對位符號AM2以及第一對位符號AM1和第二對位符 遽ΔΜ2的差異位置，在被曝光基板CB將電路圖案藉由繪圖 部160繪圖。在第二面的電路圖案的繪圖之際，由於第一 _ 對位符號ami和第二對位符號AM2的差異位置被考慮，第 一面的電路圖案和第二面的電路圖案係正確地對應而被繪 圖。 在步驟R25中，第二搬送部15〇係吸著第一面及第二 面的繪圖完成的被曝光基板CB，搬送至搬出台180。 在本實施例中，雖然校正部30及符號形成部40被設 置在不同於被曝光台68的位置，但設置在被曝光體台68 的周圍也可。這樣的話，可使第一曝光繪圖裝置的設置 面積變小。然而，將丟失被曝光基板CB的待機位置，而有 7106-9470-PF;Tungming 19 200846845 可能降低生產量。 號二ί本實施例’雖然設置形成第-面的第-對位符 〜 弟-面的第二對位符號繼的符號形成部40,但 也可分別設置僅形成第一對位符號韻的符號形成部和僅 形成第二對位符號AM2的符號形成部。 【圖式簡單說明】 • 第1圖係為配置第一曝光繪圖裝置10及第二曝光繪圖 裝置100的上視圖； 第2圖係為第一曝光繪圖裝置1〇的立體圖； 第3圖係為第一曝光繪圖裝置的正面圖（^面）； 第4圖係為第一曝光繪圖裝置1 〇的側面圖（γζ面）； 第5圖係為投入至基板投入部2()的基板校正位置的被 曝光基板CB的上視圖； 第δ圖係表示一個符號形成部4〇的圖示，其中第6(a) 藝圖為上視圖，第6(b)圖為側視圖，第6(c)圖為正視圖； 第7(a)圖至第7(b)圖係為符號形成部40的第一頭41U 及苐二頭41D的擴大圖； 第8圖係表示繪圖部6〇的概略立體圖； 第9圖係為第一曝光繪圖裝置1 g的主要構成的方塊 圖；以及 第10圖為第一曝光繪圖裝置1〇的動作的流程圖。 【主要元件符號說明】 7l〇6-9470-PF;Tungining 20 200846845 10〜第一曝光繪圖裝置；20〜基板投入部；
30~校正部； 3 3〜校正板； 40〜符號形成部； 41D〜第二頭； 51〜真空墊； 54〜上下驅動部； 60〜第一繪圖部； 62〜全反射鏡； 65〜DMD元件； 70〜待機台； 150〜第二搬送部； AC〜對位檢測系統； CB〜被曝光基板； SS2〜搬入確認感測器。 31〜校正用氣缸； 3 5〜校正銷； 41U〜第一頭； 50〜第一搬送部； 53〜手部； 5 5〜水平驅動部； 61〜第一照明光學系統； 64〜第二照明光學系統； 68〜被曝光體台； 100〜第二曝光繪圖裝置； 160〜第二繪圖部； AM〜對位符號； SS1〜搬送確認感測器；
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