SU956064A1 - Apparatus for hydromechanical cleaning of flat articles - Google Patents
Apparatus for hydromechanical cleaning of flat articles Download PDFInfo
- Publication number
- SU956064A1 SU956064A1 SU782567405A SU2567405A SU956064A1 SU 956064 A1 SU956064 A1 SU 956064A1 SU 782567405 A SU782567405 A SU 782567405A SU 2567405 A SU2567405 A SU 2567405A SU 956064 A1 SU956064 A1 SU 956064A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- brushes
- guides
- cassette
- cleaning
- cleaned
- Prior art date
Links
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
Description
Изобретение относитс к конструкци м очищающих устройств и предназначено дл гидромеханической очист- . ки плоских изделий,, преимущественно хрупких, например подложек микросхем . Оно может Найти применение в электротехнической, электронной, радиотехнической и химической промьошленности при необходимости очистки тонких и хрупких изделий,The invention relates to the design of cleaning devices and is intended for hydromechanical cleaning. ki of flat products, predominantly fragile, for example, microcircuit substrates. It can find application in electrical, electronic, radio engineering and chemical industries when it is necessary to clean thin and fragile products,
Известно устройство дл очистки сетчатого инвентар , содержащее независимые -плоские щетки, установленные вертикально, попарно, волосом друг навстречу другу и смонтированные с возможностью вращени вокруг своей оси С1.A device for cleaning the mesh inventory is known, which comprises independent flat brushes installed vertically, in pairs, with hair facing each other and mounted with the possibility of rotation around their axis C1.
В этом устройстве не может быть обеспечена высококачественна очистка изделий микроэлектроники, так как она ведетс неравномерно из-за различи скоростей перемещени всех точек поверхности щеток.In this device, high-quality cleaning of microelectronic products cannot be ensured, since it is conducted unevenly due to the difference in the speeds of movement of all points on the surface of the brushes.
Низкое качество очистки в изЬестном устройстве объ сн етс так .же разновысокостью волоса щетки, вызванной неравномерным истиранием его при неравномерной очистке. Это не позвол ет обеспечить одинаковый контакт волоса щётки с очищаемой поверхностью и проникать ему в микронеровности подложки. В результате режимы работы всех точек поверхности будут неодинаковы; выполнением отверстий дл подачи моющего раствора в ворсе щеток, что приводит при вращении последних, ,с одной стороны, к перемешиванию моквдего раствора на очищаемой поверхности, а The poor quality of cleaning in a well-known device is explained by the same difference in the hair of a brush caused by its uneven abrasion with uneven cleaning. This prevents the brush from contacting with the surface to be cleaned and penetrate into the asperities of the substrate. As a result, the modes of operation of all points on the surface will be unequal; making holes for supplying the cleaning solution in the pile of brushes, which, when rotating the latter,, on the one hand, leads to the mixing of the wetting solution on the surface being cleaned, and
10 с другой стороны - °к неравномерности его подачи. В первом случае загр знени будут размыватьс по поверхности , а во втором - режимы очистки в разных точках поверхности будут 10 on the other hand - ° to the unevenness of its filing. In the first case, the contaminants will be smeared over the surface, and in the second, the cleaning modes at different points on the surface will be
15 неодинаковы; наличием нескольких вводов в зону очистки, внос щих дополнительные загр знени в эту зону.15 are not the same; the presence of several inputs to the treatment zone, adding additional contamination to this zone.
Целью изобретени вл етс повышение качества очистки.The aim of the invention is to improve the quality of cleaning.
2020
Цель достигаетс тем, что в устройстве дл гидромеханической очистки плоских изделий, преимущественно хрупких, содержащем установленный в корпусе приводной узел очистки со The goal is achieved by the fact that in a device for hydromechanical cleaning of flat products, mainly fragile, containing a drive unit installed in the housing with
25 смонтированными в нем обращенными одна к другой вертикальными рабьчими поверхност ми торцовыми щетками, св занное с ними средство дл подачи моющего раствора и размещенные 25 mounted vertical facing surfaces of the brushes facing one another, associated means for supplying the washing solution and placed them
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782567405A SU956064A1 (en) | 1978-01-09 | 1978-01-09 | Apparatus for hydromechanical cleaning of flat articles |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782567405A SU956064A1 (en) | 1978-01-09 | 1978-01-09 | Apparatus for hydromechanical cleaning of flat articles |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU956064A1 true SU956064A1 (en) | 1982-09-07 |
Family
ID=20743532
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU782567405A SU956064A1 (en) | 1978-01-09 | 1978-01-09 | Apparatus for hydromechanical cleaning of flat articles |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU956064A1 (en) |
-
1978
- 1978-01-09 SU SU782567405A patent/SU956064A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0807492B1 (en) | Method for polishing workpieces and apparatus therefor | |
US4187801A (en) | Method and apparatus for transporting workpieces | |
US6332826B1 (en) | Polishing apparatus | |
CN108878314A (en) | Base plate cleaning device, substrate board treatment and substrate-cleaning method | |
US4373296A (en) | Deburring apparatus for workpieces | |
US4854081A (en) | Device for treating printed circuit boards, in particular for pumicing and trimming | |
JPH07111256A (en) | Semiconductor manufacturing apparatus | |
KR100487589B1 (en) | Method and apparatus for polishing and cleaning planar workpiece | |
TW368651B (en) | Method and apparatus for cleaning wafers and discs | |
JPH07230973A (en) | Semiconductor processing equipment | |
SU956064A1 (en) | Apparatus for hydromechanical cleaning of flat articles | |
RU1838077C (en) | Device for finishing and deburring of workpieces (its versions) | |
US20020132561A1 (en) | Low amplitude, high speed polisher and method | |
US6346033B1 (en) | Method for polishing disk shaped workpieces and device for carrying out the method | |
GB2161406A (en) | Abrasive polishing/finishing machine | |
KR100496916B1 (en) | Polishing method and apparatus of workpiece | |
JP3762180B2 (en) | Cleaning device | |
EP0570890B1 (en) | Glass plate washing machine | |
JPH0969502A (en) | Cleaning equipment | |
JPH10335279A (en) | Cleaning apparatus | |
KR960011943B1 (en) | Friction ash grinding device of brake pad | |
JP2005095724A (en) | Box processing method and box processing device using it | |
SU1291372A1 (en) | Apparatus for finishing,grinding and polishing of parts | |
JPH0985199A (en) | Surface finish treatment | |
KR19980068051A (en) | Chemical mechanical polishing machine |