SU62270A1 - Electrolytic galvanizing method - Google Patents
Electrolytic galvanizing methodInfo
- Publication number
- SU62270A1 SU62270A1 SU7415A SU7415A SU62270A1 SU 62270 A1 SU62270 A1 SU 62270A1 SU 7415 A SU7415 A SU 7415A SU 7415 A SU7415 A SU 7415A SU 62270 A1 SU62270 A1 SU 62270A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- anode
- zinc
- galvanizing method
- current density
- anodic
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
Применение цианистых элсктро.ипов дл гальванического цинковани затрудн етс тел1, что цинковые аноды раствор ютс обычно с образованием шлама.The use of cyanide electrons for galvanic galvanizing makes it difficult for the body1, that zinc anodes are usually dissolved with the formation of sludge.
Частицы анодно.о ш;.ама, взвешенные в электролите, обусловливают по вление шероховатости катодного осадка цинка и даже ведут к нозникновению на катоде денд Н1тои. наростов или 1Лбки цинка.Particles of anodic oxide; o. Weighed in the electrolyte cause the appearance of roughness of the cathodic zinc precipitate and even lead to the occurrence of a dend of Ni on the cathode. growths or 1Lbk zinc.
Дл борьбы со н.1амообр зованием на аноде бы.чо иредложено примен ть длн изготовлени анодов сп.чав нинка с небо.пыинми количествами ртути, алюмини и.чи обоих мега/кюв вместе.In order to combat n.1 formation at the anode, it was used to make anodes by combining Nink with sky quantities of mercury, aluminum, and both mega / cu together.
Однако и эта мера оказываетс действите. 1ьнои лишь в кислых Ч .лектро.литах, в цианиспых же э.1ек1 ро.ипах образование анодного шлама не уст)ан етс и нри иснользовании .1егированных ртутью и алюминием анодов.However, this measure also turns out to be valid. However, only in acidic electrolytic cells, but in cyanic electrolytes, however, the formation of anode sludge is not established even if anodes doped with mercury and aluminum are used.
Согласно изобретению, ири цинковании в цианистых э.лектролитах. с це. устранени образовани m;ia.ia, анол предиарительно пассиви{зуют иутем анодной ио.ч ризации при новы1ие11ной плотности тока.According to the invention, galvanizing irs in cyanide electrolytes. with price. elimination of the formation of m; ia.ia, anol, which is previously passively passive {by anodic inoculation at a new current density.
В качестве э.:1ектролита дл этой цели ;oжeт служить, нaпpи iep. раствор состава: ZnO-ЗЗгл, NaCM -81 .;. ХаОН-69 г .г, молпбдочовокислого аммони -10 г .г.As e.: 1 monolith for this purpose, it can serve, for example iep. composition solution: ZnO-ЗЗгл, NaCM -81.;. HAON-69 g. G, ammonium ammonium-10 g.
Чтобы цинк переходил в раствор без 11о вле1;11 ш.чам.к .;; ;1.а аноде образовать очень тонкую пленку, ,1ов.111вающую повышеаие анодного потенциала до величины около г2,8 в.In order for zinc to go into solution without 11o w1; 11 qu. Cham; to ;; ; 1.a anode to form a very thin film, 1ov.111vayuscheyuyu increase in the anodic potential to a value of about g2.8 in.
Дл этого в начале . электолиза на аноде на короткое врем (10-15 сек) необходимо создать высокую плотность тока пор дка 5-& адм, при этом анод через несколько секунд после включени пассивируетс , что легко обнаруживаетс по внезапному повьинениюFor this at the beginning. electrolysis at the anode for a short time (10-15 seconds), it is necessary to create a high current density of about 5- & adm, while the anode is passivated after a few seconds after being turned on, which is easily detected by a sudden attack
.45 62270.45 62270
напр жени от 1,5-2 в до 4-5 в. Анод при этом покрываетс тончайшей светло-коричпевой пленкой, и на нем начинаетс обильное выделение кислорода.voltage from 1.5-2 in to 4-5 in. The anode is covered with the thinnest light brown film and an abundant release of oxygen begins on it.
После этого анодную плотность тока уменьшают до 2-3 адм и .;р;; этих услови х ведут электролиз.After that, the anodic current density is reduced to 2-3 adm and.; P ;; these conditions lead to electrolysis.
Ро вг- врем элек ролиза анод должен оставатьс пассивированкы .м, покрытым тончайшей коричневатой пленкой; выделение кислорода должно быть очень слабым, едва заметлым. В этих услови х цинковый анод работает любое врем без вс кого образовани шлама. При слип1ком малой плотности тока или при его выключении пассивна пленка на аноде раствор етс в электролите, напр жение на ванне резко падает и на аноде начинает по вл тьс шлам. При работе с электролитом указанного состава катодна плотность тока должна лежать в пределах 2-4 aldjvf при комнатной температуре электролита. Одинаковые катодные и анодные -коэффициенты использовани тока обусловливают посто нствйсостава электролита, отсутствие же частиц шла.ма обеспечивает .получение совершенно гладких, свободных от дендритов и шероховатостей цинковых покрытий.During the electrolysis time, the anode should remain passivated. Covered with the thinnest brownish film; oxygen release should be very weak, barely noticeable. Under these conditions, the zinc anode operates at any time without much sludge formation. With a slip of a low current density or when it is turned off, the passive film at the anode dissolves in the electrolyte, the voltage on the bath drops sharply, and sludge begins to appear on the anode. When working with an electrolyte of the specified composition, the cathode current density should lie within 2-4 aldjvf at room temperature of the electrolyte. Identical cathode and anodic-current utilization factors determine the composition of the electrolyte, while the absence of particles has gone. It provides completely smooth, free from dendrites and roughness of zinc coatings.
i I р е д м е т и з (: б р е т е н и i I redemet and h (: b ete n i
С.пособ электролитического циг ::овапи с при.менением цианистых электролитов, отличаюшийс тем, что, с целью устранени образовани шлама при растворении цинкового анода, последний предварительно пассивируют путем анодной по.чиризации при повыпкнпой плотности тока.C. electrolytic method of cyg :: ovapi with the use of cyanic electrolytes, characterized in that, in order to eliminate sludge formation when dissolving the zinc anode, the latter is previously passivated by anodic purification at a current density.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU7415A SU62270A1 (en) | 1940-02-27 | 1940-02-27 | Electrolytic galvanizing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU7415A SU62270A1 (en) | 1940-02-27 | 1940-02-27 | Electrolytic galvanizing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU62270A1 true SU62270A1 (en) | 1942-11-30 |
Family
ID=48243490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU7415A SU62270A1 (en) | 1940-02-27 | 1940-02-27 | Electrolytic galvanizing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU62270A1 (en) |
-
1940
- 1940-02-27 SU SU7415A patent/SU62270A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SU62270A1 (en) | Electrolytic galvanizing method | |
GB1151943A (en) | Improvements in or relating to the Etching of Metallic Copper | |
GB559164A (en) | Improvements in or relating to the electro-deposition of antimony | |
SE7905198L (en) | NEW BATH FOR ELECTROPLETATION OF GLOSSY TENNES | |
GB579824A (en) | Improvements in silicon-crystal rectifiers | |
GB397538A (en) | Improvements in and relating to the preparation of aluminium or aluminium alloy anodes for electrolytic condensers and rectifiers | |
SU384933A1 (en) | ||
SU134090A1 (en) | Electroplating method for titanizing tin dioxide semiconductor films | |
SU103185A1 (en) | The composition of the electrolyte bath for the deposition of lead-indium alloy | |
VKV et al. | Inhibition of the Corrotion of Aluminium-Manganese Alloy in Hydrochloric Acid Solution by Butylamines | |
SU109009A1 (en) | The method of preparation of a brightener, for example, disulfonaphthalic acid or its sodium salt, introduced into the electrolyte of nickel plating or galvanizing | |
US1901531A (en) | Electrodeposition of platinum | |
SU72179A1 (en) | Aluminum anodic oxidation method | |
SU87594A1 (en) | Electrolytic galvanizing method in alkaline electrolytes | |
GB1388693A (en) | Direct chromium plating | |
SU362069A1 (en) | METHOD OF ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF A SILVER BASED ALLOY | |
SU412297A1 (en) | ||
SU136149A1 (en) | Bare copper anodes | |
SU148701A1 (en) | The method of electrochemical deposition of phosphated zinc | |
SU39979A1 (en) | Method for electrolytic production of metals | |
SU72480A1 (en) | Electrolytic coating method of lead, tin and zinc alloy | |
SU128914A1 (en) | Zinc amalgamation process | |
GB307050A (en) | Voltaic cell | |
SU120722A1 (en) | Electrolyte for deposition of oxide films on a magnet and its alloys | |
SU62064A1 (en) | Galvanic nickel plating |