Она состоит из алюминиевор подложки /, тонкого имерсионного сло 2, нанесенного из расплава цинк-никель, электрохимическим способом осажденного сло 3 никел , прослойки 4 т желого металла с высоким коэффнциентом теплового расширени , напыленного в вакууме сло 5 толщиной 1-2 мкм трехселенистого мышь ка и верхнего сло 6 аморфного селена.It consists of an alumina substrate /, a thin immersion layer 2, melt-deposited zinc-nickel, electrochemically deposited nickel layer 3, a layer of 4 heavy metal with a high coefficient of thermal expansion, deposited in a vacuum layer 5 with a thickness of 1-2 µm of a triple mouse. and upper layer 6 amorphous selenium.
Слой металлического кадми или инди наноситс гальваническим способом на алюминиевую подложку, предварительно покрытую имерсионным слоем и слоем никел толщиной 2-3 мкм.A layer of metallic cadmium or indium is electroplated on an aluminum substrate, preliminarily coated with an immersion layer and a layer of nickel 2-3 microns thick.
Электролитическое кадмирование или индирование производитс в кислотах или в цианистых электролитах. Дл обеспечени высокой холодоустойчивости электрорадиографической пластины толЩИна сло кадми или инди должна быть не меньше 40 мкм. Прл меньших толщинах сло кадми или инди холодоустойчивость лластины понижаетс . Так .как слой металлическо го кадми или ИНДИЯ одновременно вл етс ,и усиливающим экраном, поэтому дл Обеспечеии необходимого рЗДиографического контраста и усиливающего действи при жестком облучении его толщина должна быть в пределах 40-100 мкм.Electrolytic cadmium plating or inhibition is performed in acids or in cyanic electrolytes. To ensure high cold resistance of the electroradiographic plate, the thickness of cadmium or indium must be at least 40 microns. With smaller thicknesses of cadmium or indium, the cold resistance of the sheet is reduced. So, as a layer of metallic cadmium or INDIA is at the same time a reinforcing screen, therefore, to provide the necessary hpDiographic contrast and reinforcing effect during hard irradiation, its thickness should be in the range of 40-100 microns.
Электролитическое .кадмирование или иадирование позвол ет получить слон кадми или инди € однородной (поверхностью, ;поэтому отпадает необходимость локрььзать его промежуточным металлически-м слоем никел , как это делаетс при изготовлении электрорадиографических пластин с усиливающими экранами из свинца или олова. Это существенно упрощает технологию изготовлени лласт.ин. На (поверхность сло кадми ил и-нди при температуре подлож.ки 100-150° С напыл етс тонкий ( мкм) промежуточный слой трехселенйстого мышь ка, который повышает кристаллизационную стойкость аморфного селена. На поверхность подсло трехселвнистого мышь ка при температуре подложки 70-90° С напыл етс слой селена толщиной 200-400 мкм в зависимости от требуемой фоточувстВИтельности.Electrolytic cadmium plating or cadmium makes it possible to obtain an elephant of cadmium or indium uniform (surface,; therefore, there is no need to lock it with an intermediate metallic layer of nickel, as is done in the manufacture of electroradiographic plates with reinforcing screens of lead or tin. This greatly simplifies the manufacturing technology last.in. On (the surface of the layers of cadmium or i-ndi at a substrate temperature of 100-150 ° C sprays a thin (µm) intermediate layer of a three-disseminated arsenal, which increases ristallizatsionnuyu resistance of amorphous selenium. On the surface of the undercoat trehselvnistogo arsenic at a substrate temperature of 70-90 ° C is sprayed layer selenium 200-400 microns thick depending on the desired photosensitivity.
Указанна комиозидн электрорадиографической пластины позвол ет повысить их холодоустойчивость до минус 40° С, в то врем как холодоустойчивость пластин с экранами из олова или свинца, а также и без прослойки т желого металла, не превышает минус 5--10° С. Фоточувствительность и Другие сенситометрические параметры предлагае .мых пластин не уступают аналогичным параметрам пластин с усиливающим экраном из олова или свинца.This komiozidny electroradiographic plate allows to increase their cold resistance to minus 40 ° C, while the cold resistance of plates with tin or lead screens, as well as without a layer of heavy metal, does not exceed minus 5--10 ° C. Photosensitivity and Others Sensitometric parameters of the proposed plates are not inferior to those of plates with a reinforcing screen of tin or lead.