SU1371499A3 - Устройство дл непрерывного осаждени покрыти из оксида металла - Google Patents
Устройство дл непрерывного осаждени покрыти из оксида металла Download PDFInfo
- Publication number
- SU1371499A3 SU1371499A3 SU802878803A SU2878803A SU1371499A3 SU 1371499 A3 SU1371499 A3 SU 1371499A3 SU 802878803 A SU802878803 A SU 802878803A SU 2878803 A SU2878803 A SU 2878803A SU 1371499 A3 SU1371499 A3 SU 1371499A3
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- nozzle
- channels
- layer
- glass
- coating
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/84—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/453—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/212—TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/241—Doped oxides with halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/244—Doped oxides with Sb
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/017—Manufacturing methods or apparatus for heaters
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к стекольной промышленности, а именно к устройствам дл нанесени на прозрачную подложку сло полупроводникового материала с высокой прозрачностью, сравнительно небольшим удельным электрическим сопротивлением и высокой механической прочностью. Цель изобретени - снижение удельного электрического сопротивлени при высокой прозрачности покрыти . Сопло выполнено с трем изолированными каналами 3-5 и двум отражающими поверхност ми 6. Профилированные стенки За, 36, 4а, 46, За, 56 каналов сход тс к мнимому ребру 1, общему дл всех каналов. Соотношение рас- сто ни между мнимым ребром и выходным отверстием сопла к ширине каждого канала составл ет 15-60. Отражающие поверхности имеют длину, в 10- 20 раз большую суммы ширины трех выходных отверстий сопла. Удельное сопротивление покрытий 20-1500 Ом, прозрачность 60-100%. 4 ил. о (У)
Description
00
со со
04
113
Изобретение относитс к стекольной промышленности, а именно к устройствам дл нанесени на прозрачную подложку сло полупроводникового материала с высокой прозрачностью, сравнительно небольшим удельным электрическим сопротивлением и высокой механической прочностью.
Цель изобретени - снижение удельного электрического сопротивлени при высокой прозрачности покрыти . Данное устройство предназначено дл нанесени сло покрыти оксида олова или оксида титана химическим осаждением из газовой фазы на подложку .
На фиг.1 представлено предлагаемое устройство, общий вид; на фиг.2 и 3 - варианты устройства; на фиг.4 - устройство , вертикальное сечение, показанное на фиг.1.
Устройство содержит р д валков 1 , на которых располагаетс и по которым перемещаетс в направлении F лист V, причем эти валки привод тс во вращение против часовой стрел1$и электрическим двигателем (не показан) и имеют длину, совместимую с ириной листа стекла, который они несут. Скорость вращени валков 1 должна выбиратьс таким образом, чтобы перемещение листа V происходило с линейной скоростью несколько метров в минуту (пор дка 1-10).
Над валками 1 размещено сопло 2, принципиальный конструкционный профиль которого показан на фиг.2. Это сопло содержит три изолированных канала 3,4 и 5, размешенные в продольном направлении параллельно валкам 1 на длину, соответствующую ширине листа стекла V. Эти каналы могут, следовательно , иметь длину даже в несколько метров. Каналы 3-5 образованы сборкой длинных профилей 6,7 и 8, соединенных между собой надлежащими средствами, с двум парами профилей и ограничивающими проходы 11, 12 и 13 между ними, сообщающиес с каналами 3,4 и 5 соответственно.
Профилированные стенки За и Зб, 4а и 4б, 5а и 56 каналов 3-5 сход тс к мнимому ребру 1, отсто щему от плоскости, содержащей нижнюю поверхность профилей 6, на длину пор дка 3-6 мм. Кроме того, выходные отверсти каналов З , 4 и 5, которые имеют
92
форму трех удлиненных щелей, располагающихс на всю длину профилей 6 и 7, имеют ширину в несколько дес тых
миллиметра (1/10 или 2/10).
Ширина нижней поверхности профилей заключаетс между 10- и 20-кратной общей шириной выходных щелей каналов 3-5.
Предпочтительно нижнюю поверхность профилей покрывать слоем химически инертного металла или сплавом таких металлов, или же оксидами металлов. В качестве примера такого металла
можно назвать золото или платину. Окислы могут быть выбраны из числа SnO, SiO или .
Собранные профили, образующие сопло 2, закрыты с каждого конца обтюраторной пластиной (не показана), установленной таким образом, чтобы обеспечить полную герметичность и образовать , таким образом каналы 3,4 и 5 и проходы 11,12 и 13, закрытые
сбоку. Проходы 14, устроенные в
верхней части профилей 10, позвол ют по всей длине последних создавать циркул цию текучей среды, например масла, предназначенной дл поддержани оптимальной рабочей температуры сопла 2.
Друга пластина 15 герметично закрывает верхнюю поверхность сопла 2 по всей его прот женности, преп тству вс кому сообщению между проходами 11,12 и 13.
Общий профиль и состо ние поверхности стенок, ограничивающих как каналы 3-5, так и проходы 11-13
(фиг.2), а также поперечные сечени последних таковы, что при расходах газа пор дка 3-6 л/ч на сантиметр длины сопла потоки на выходе сопл будут ламинарного типа.
По обеим сторонам сопла 2 и по
всей длине последнего устройство содержит два короба 16 и 17 дл отвода газов реакций (фиг.1 и 4) квадратного поперечного сечени , нижн поверхность которых копланарна с нижней поверхностью профилей 6. Каждый из этих коробов снабжен продольными щел ми 16а и 166, дл короба 16 и.
17а и 176 дл короба 17. Эти короба соединены с помощью системы трубопроводов 18 с входом всасывающего насоса 9, выход которого соединен с нижней частью промывной бащни 20, заполненнои огнеупорными материалами (кольца Рагаига).
Кроме того, устройство содержит два термостатированнь х приемника- барботера 21 и 22, первый из которых содержит жидкое хлористое олово (SnCl), а второй - воду, два расходомера 23 и 24, снабженных клапанами 23а и 24а дл регулировани расхода, питаемых смесью азота и водорода в пропорции 60:40, два клапана 25 и 26, расположенных на трубопроводах 27 и 28, соедин ющих расходомеры с приемниками-барботерами, расположенными ниже. Два трубопровода 29 и 30 соедин ют выход приемников 21 и 22 соответственно с проходом 13 и проходами 11 и 12 сопла 2, т.е. с каналом 5 этого сопла дл трубопровода 29 и с каналами 3 и 4 - дл трубопровода 30.
Трубопроводы 29 и 30 проход т через камеру Е,(показана схематически контуром из пунктирно-штриховой линии), содержащую жидкий теплоноситель, например масло, температура которого поддерживаетс посто нной (примерно 110°С) соответствующим образом. Соотношение рассто ни между мнимым ребром и выходным отверстием сопла к ширине каждого клапана составл ет 15- 60. Отражающие поверхности имеют длину , в 10-20 раз большую суммы ширины трех выходных отверстий сопла.
Предлагаемое устройство позвол ет наносить, например, на стекл нную пластину слой окиси олова толщиной пор дка 500 нм, обладающий одновременно очень хорошей прозрачностью, Сравнительно низкой удельной электрической проводимостью, прекрасным сцеплением со стеклом и повышенной механической прочностью и стойкостью к кислотам.
Эксперимент. ьное устройство этого типа, снабженное соплом длиной 20 см, отверсти каналов 3,4 и 5 которого имели ширину 0,1-0,1 и 0,2 мм позволило обрабатывать стекл нную пластину шириной 20 см и толщиной 4 мм, нагретую примерно до 600°С и перемещаемую в направлении F (фиг.1 и 4) со скоростью 2 м/мин. Рассто ние , раздел ющее нижнюю поверхность сопла и поверхность стекла, составл ло 6 мм.
Использовали приемники 21 и 22 емкостью примерно 200-300 мл (жидко1
371499 го
SnCl дл приемника zi и дл приемника 22 соответственно). Эти приемники нагревали до таких темпе- ( ратур, чтобы при расходе газа-носител N,/Hj 60 л/ч дл приемника 21 и 120 л/ч дл приемника 22, регулируемым клапанами 2За и 24а, получить расход реагента, разбавленного в
10 этом газе, 2 моль/ч хлористого олова (SnCl4) и 1 моль/ч . Кроме того, температуру сопла поддерживали примерно 110 С посредством циркул ции масла в проходах 14 этого сопла
15 (фиг.4).
Вследствие профил , сообщенного каналам 3,4 и 5 сопла 2, и, в частности , вследствие того, что они сход тс своими боковыми стенками к мни20 мому ребру 1, газовые потоки, выход щие из этих каналов (поток SnCl4 - дл канала 5 и поток паров - дл каналов 3 и 4), вл ющиес ламинарными , вход т во взаимный контакт, сна25 чала протека тангенциально, а затем более пр мо по мере приближени к линии 1, наход щейс вьш1е. Комбинированный поток этих трех газовых потоков становитс менее ламинарным, ког30 да происходит взаимное проникновение зтих потоков одного в другой, что имеет место только в непосредственной близости от поверхности стекла V, котора нагрета примерно до 600 С,
35 как это указывалось выше, так что на стекле происходит реакци присоединени
SnCl
н,о
sna + 4 НС1/.
Если не прин ть специальных мер, то эта реакци будет происходить очень бурно с образованием большого количества двуокиси олова (SnOj) гидратов типа SnO п НгО на выходе каналов 3-5 сопла 2, вследствие чего возникнет опасность частичного или полного забивани всех или части каналов с осаждением этих же самых окислов олова на стекле в виде белой вуали, а не в виде требуемого гтолу- провод щего прозрачного сло .
При использовании устройства эта опасность устран етс добавлением в оба газовых потока SnCl и паров восстановительного агента в виде введенного в газ-носитель. ВодоН О
2
н
род фактически вл етс газом, не взаимодействующим ни с SnCl4, ни с
HjO. Кроме того, он действует как катализатор, поэтому может быть использован как инертный газ-носитель.
Реакци присоединени SnCl и происходит не только в центральной зоне сопла 2, т.е. поблизости от той части этого соЯла, в которую выход т каналы 3,4 и 5. Эта реакци имеет место тогда, когда насос 19 работает таким образом, что коробам 16 и 17, расположенным по обе стороны сопла, создаетс разрежение на правой и левой концевьгх част х (по чертежу) пространства , заключенного между стекл нной пластиной V и нижней поверх- ностью профилей 6а и 66 сопла. Вследствие этого в этом пространстве образуетс газовый поток, идущий от центральной части этого пространства к коробам 16 и Г/. Эти потоки содержат часть SnCli, и , диспергированные в газе-носителе и еще не прореагировавшие, уже образовавшиес пары НС1 и некоторое количество газа-носител , не содержащего реаген-г тов, которые уже прореагировали. Таким образом, взаимодействие между может продолжатьс при остаточных реакционноспособных чзах на некоторую длину 1 по обе стороны I ребра схождени каналов.
Мощность засасывани , осуществл емого благодар коробам 16 и 17, выбираетс таким образом, чтобы реак- ционноспособные газы, выход щие из
в окружающую атмосферу вредных паров, например НС1, или водорода, так как окружающий воздух имеет тенденцию течь в сторону щелей 1ба и 16б, соответственно 17а и 176, проход между коробами 16 и 17, стекл нной пластиной V и соплом ..
Газообразные продукты, засасываемые благодар насосу 19, направл ютс на промывную башню 20 таким образом, чтобы летучие остаточные кислоты подвергались перкол ции и уносу водой, причем образующийс кислый раствор отдел етс от промытых газов и отводитс по трубопроводу 2()а.
В указанных рабочих услови х выход реакции составил примерно 70%. На стекло был нанесен по всей его поверхности слой SnOj 500 нм, прозрачностью 90-95% согласно образцам и со средней проводимостью (Rn) 200 Ом.
Кроме того, слой SnO, полученный таким образом, имел весьма высокую твердость, превышающую твердость стекла, на котором он бьш осажден. Его стойкость была весьма высокой как к очень интенсивным механическим нагрузкам , например ударным, так и к воздействию кислот. Этому стеклу могла быть придана выпуклость с радиусом кривизны 15 см после его нагрева до 600-700 С без какого-либо разрушени покрыти из SnO. Его можно было так- -5 же закаливать в услови х, обычных
0
5
0
сопла 2, находились в этом пространстве только в течение времени, точно необходимого дл получени сло SnOj. на стекле, представл ющего собой прозрачный слой, а не слой в виде увеличивающегос порошкообразного сло SnOj , iЗасасывание не должно быть слишком сильным, так как в ином случае газы-реагенты, выход щие из сопла не будут иметь времени достичь поверхности стекла. Интенсивность засасывани вл етс , следовательно, определ ющей дл качества и скорости увеличени сло . Благодар засасыванию происходит изолирование от окружающей
атмосферы пространства, заключенного между соплом и стекл нной пластинкой и в котором происходит желаема реакци . Создаетс преп тствие вс кому возможному проникновению в это пространство дополнительной влаги, способной оказать вли ние на реакцию присоединени , а также вс кому выбросу
0
5
0
5
дл нормального стекла. Кроме того, стекл нную пластину с нанесенным слоем SnO в описанных услови х и качествах можно резать алмазом с обеих
сторон без отслаивани сло .
С помощью этого устройства и в рабочих услови х, отличающихс от указанных только скоростью перемещени пластины V (причем эта скорость была доведена примерно до 10 м/мин), был получен слой SnO толщиной примерно 10 нм, средней проводимостью (Ra) 1,5 кОм, прозрачностью почти 100% дл видимого излучени и механическими свойствами, практически эквивалентными сло м, полученным при перемещении стекл нной пластины со скоростью 2 м/мин.
Предлагаемое устройство может быть также использовано дл осаждени химическим путем из газовой фазы сло TiO на стекл нной пластине. Дл этого дос саточно заменить в приемникеTiOj 4 HCl/.
13
ба)б(лтерг 21 х.ло1)И(-тое о.чоро (SnC) четыррххл(:1ристым титлном (TiCH). Можно также использовать аз-носи- тел,, СОСТОЯ1ЧИЙ исключите. п.но из азо- та.
На выходе сопла 2 будет иметь место следующа реакци :
TiCl +
Стекл нна пластина шириной 20 см и толщиной А мм, нагрета до , перемешалась в продольном направлении со скоростью 2 м/мин перед соплом 2 на рассто нии 6 мм от последнего. С, помощью клапанов 2За и 2Да расход газа-носител бьш отрегулирован на 60 л/ч дл расходомера 23 и на 120 л/ч - дл расходомера 24. Приемники 21 и 22 нагревались также дл того, чтобы расходы реагентов состав- л ли 0,2 моль/ч TiCl и 0,01 моль/ч .
Был получен слой TiO толщиной 0,01 мкм, обладающий пропусканием света примерно 75% и отражательной способностью пор дка 50%, т.е. выше отражательной способности стекла, на которое нанесен слой. Механическа прочность была сравнима с механической прочностью сло SnO, полученного так, как описано выше.
Непосредственное введение Н дл см гчени бурногс протекани реакции присоединени SnCl и паров H,jO не вл етс единственно возможным. Сог- ласно варианту осуществлени можно использовать газ-носитель, СОСТОЯЕЦИЙ исключительно из азота и получить на месте водород, необходимый дл восстановлени , из метанола СН,ОН. На - фиг.2 показано, как устройство на фиг.1 должно быть в таком случае изменено .
Такое устройство должно содержать помимо приемника-барботера 31, содер- жащего метанол, расходомер 32 с клапаном 32а дл ггулировани расхода, клапан 33, расположенный на трубопроводе 34, соедин ющем расходомер 32 с приемником 31, и трубопровод 35, соедин ющий выход этого приемника с трубопроводом 30 и, следовательно, с проходами 11 и 12 сопла 2, а значит с наружными каналами 3 и 4 этого сопла 2 .
Трубопроводы 29,30 и 35 проход т через камеру V, (показана схематически контуром из пунктирно-1итриховой
9Q«
линии), содержащую жилкйй теплони . и- тель, нагтример млело, температура которого поддержинаетс посто нной на уровне примерно 110 (. соответствующим образом.
В присутствии SnC. 1 метанол может взаимодействовать с последним следующим образом:
SnCl + 2СН,ОН
SnO ,Cl.
Кроме того, пследствир относитег1ь- но высокой температ фы, существующей на выходе каналов, метанол может разлагатьс согласно ре кцт1и
СП,
а также может взаимодействовать с согласно реакпии
СН,ОН + ,,-t- СО
Как в одном, так и в другом случае получают на месте водород, необходимый дл управлени уже указанной основной реакцией:
SnCl + /НгО
SnO + 4НС1/Вариант устройства, показанный на фиг.З, предназначаетс , в частности, дл получени слоев Sn02 с добавками сурьмы путем замены некоторых атомов олова атомами сурьмы. Благодар таки добавкам можно добитьс весьма значительного снижени удельного электрического сопротивлени сло .
Такое включение добавок может быт произведено согласно следующей реакции:
2SbCl5 + + HCl , котора позвол ет дополнительно ввести ионы сурьмы в криста-ллическую структуру SnOj.
Так как п тихлориста сурьма взаимодействует с водой, но не взаимодействует с хлористым оловом, то установка согласно фиг.З выполнена таким образом, чтобы SbCl находилась в присутствии только на выходе сопла 2, будучи смешиваемой с хлористым оловом (SnCl). Таким образом, указанна реакци происходит одновременно с реакцией присоединени SnCl и паров .
Данное устройство отличаетс от устройства, показанного на фиг.1, добавленным приемником-барботером 36 содержащим жидкую п тихлористут сурьму SbClj, расходомером 37 с регулирующим клапаном 37а, клапаном 38, расположенным на трубопроводе 3 и трубопроводом 40, соедин ющим выход этого приемника с трубопроводом 2.9
ч,
и, следовательно, г центральным каналом 5 сопла через прохол 13 в этом сопле (фиг.Д).
Трубопроводы 29,30 и 40 проход т через камеру F,, (показана схематически контуром из пунктирно-штриховой линии), содержап(ун} жидкий теплоноситель , например масло, температура которого поддерживаетс на посто нном уровне примерно соответствующим образом.
Устройство этого типа, снабженное соплом с характеристиками, идентичными соплу уже описанной установки на фиг.1, позволило нанести на стекл нную пластину шириной 20 см и толпщной 4 мм слой SnO с добавкой сурьмы толщиной 500 мм.
Рабочие услови .
Стекло было нагрето до температуры 600 С и перемещалось на рассто нии 6 мм от сопла со скоростью 2 м/ьтн. Использовавшимс газом-носителем быта смесь азота и водорода (60:40), а расходы этого газа регулировались клапанами 23а, 24а и 37а до следующих величин: 60 л/ч - дл приемника 21, содержащего жидкое SnCl,60 л/ч - дл приемника 22, содержащего 42, и 20 л/ч - дл приемника 36, содержащего жидкую п тихлористую сурьму SbClj. Кроме того, приемники нагревались дл того, чтобы расходы реагентов составл ли 2 моль/ч SnCl,2 моль/ /ч HiO и 0,1 моль/ч .
Был получен слой SnO с добавкой обладающий удельным электрическим сопротивлением пор дка 70 Ом и прозрачностью 60%.
Прочие характеристики, такие как механическа прочность, сопротивление удару, отрыву или резанию алмазом , стойкость к кислотам, возможность термической обработки, закалки стекла, на котором осажден слой, эквивалентны характеристикам слоев SnOj без добавок, осажденных уже описанным способом. Его отражательна способность практически идентична отражательной способности стекла, на котором был осажден полученный слой.
С помощью этого же устройства и при рабочих услови х, отличающихс от указанных рабочих условий только тем, что скорость перемещени пластины V была увеличена примерно до 10 м/мин, был полуг ен слой SnO с добавкой сурьмы, имеющий примерно
1А)910
10 им, с:реднюю проричтимость (Кц) 500 Ом, пропускаемость из- .пучени 80% и механические свойства,
идентичные полученным при слое SnO S
также с добавкой сурьм1л, нанесенном
на стекл нную пластину, перемещающуюс со скоростью 2 м/мин.
Удельное сопротивление, отражаQ тельна способность и прозрачность слоев SnO на стекле могут быть улучщены в значительной степени , если эти слои представл ют собой слои с добавками фтора. Дп это ,j го предпочтительно использовать устройство , описанное со ссылками на фиг.1, дополненное баллоном 41, со- держаисим газообразный фтористый водород (HP), и трубопроводом 42, соеQ дин ющим этот баллон с трубопроводом 30, которые показаны щтриховой линией .
На стекло толщиной 4 мм, нагретое 5 примерно до 600°С, был нанесен слой толио1ной 900 нм SnO с добавкой фтора путем пропускани перед соплом со скоростью 2 м/мин и на рассто нии примерно 6 мм от этого сопла. Расхо- Q ды газа-носител (смесь 60%
Hj) составл ли 60 л/ч дл SbCl и вод ного пара. Расход HF составл л О,1 л/мин.
.,с Слой Sn02 с добавкой фтора обладал весьма высокими характеристиками. Фактически его удельное электрическое сопротивление составл ло (Rp) 20 Ом, отражательна способность
0 к видимому свету превосходила таковую стекла, несущего этот слой, а его отражательна способность к инфракрасному излучению бьша особенно высокой (пор дка 75%). Кроме того,
1 пропускаемость видимого света составл ла 90%. Характеристики механической прочности также были весьма высокими: стекло с нанесенным слоем SnO,j с добавкой фтора могло подверQ гатьс термической обработке, закалке , идентичной обработкам, которым обычно подвергаютс некоторые стекла автомащин, например их боковые стекла. Можно бьшо также придать
c такой пластине выпуклост в гор чем состо нии (примерно 65( () с радиусом кривизны 15 см без изменени характеристик сло SnOj с внесенной добавкой. Кроме того, стекл нна
пластина с нанесенным таким образом слоем могла обрабатыватьс обычным образом (разрезатьс , шлифоватьс и т.д.) без вс кого повреждени сло . Слой SnOj с добавкой F обладал более высокой твердостью, чем твердость стекла, на которое он бьш нанесен, и на нем не оставалось царапин, и.
10 SnO имел удельное электрическое сопротивление примерно (RQ) 40 Ом. Другие характеристики физического, оптического или механического свойст ва остались совместимыми с характекроме того, его химическа стойкость к кислотам, его сопротивление удару оказались особенно высокими.
С помощью этого устройства (фиг.З) и при рабочих услови х, отличающихс только скоростью перемещени плас- 15 ристиками сло с добавкой фтора, по- тины V, составл ющей примернолученного вводом водорода непосред10 м/мин, бьт получен слой SnOj, с добавкой фтора, имеющий толщину примерно 10 нм, среднюю удельную электри- ческую проводимость (R) 200 Ом, про- 20 пускаемость почти 100% дл видимого
ственно в газ-носитель (устройство согласно фиг.1, дополненное баллоном 41).
Виды использовани стекл нных пластин вс ких размеров с нанесенным слоем SnOj с добавкой или без добавки сурьмы или фтора могут быть самыми разнообразными в зависимости от 25 их физических или электрических характеристик .
света, отражательную способность инфракрасного излучени 25% и механические свойства, идентичные полученным при слое SnOj также с добавкой фтора при перемещении стекл нной пластины со скоростью 2 м/мин.
Хот в устройстве, показанном на фиг.1, дополненном баллоном 41, соВиды использовани стекл нных пластин вс ких размеров с нанесенным слоем SnOj с добавкой или без добавки сурьмы или фтора могут быть самыми разнообразными в зависимости от 25 их физических или электрических характеристик .
Таким образом, предлагаемое устройство позвол ет получать покрыти держащим газообразный HF, и трубопро- 30 на поверхности движущейс ленты стек- водом 42, соедин ющим этот баллон с ла с удельным сопротивлением 20- трубопроводом 30, используетс в качестве восстановител водород, введенный в газ-носитель (азот), можно также предусмотреть устройство, поз-i вол ющее получать слой SnO с добавками фтора, в котором восстановитель
1500 Ом и прозрачностью 60-100%. Формула
изо
р е т е н и
35
Устройство дл непрерывного осаждени покрыти из оксида металла на поверхность движущейс ленты стекла, нагретой до по крайней мере 600 С,
будут получать из метанола CHjOH. Это новое устройство будет представл ть собой комбинацию устройств, по- 40 полученного гидролизом галогенида казанных на фиг.1 и 2. Практически этого металла, содержащее щелевидное оно будет представл ть собой устрой- сопло, образованное профилированными ство на фиг.2 с добавленным баллоном стенками, сети дл подачи в сопло 41 дл HF,соединенным с трубопроводом вод ного пара и газообразного галоге- 30 через трубопровод 42, причем здесь 45 нида металла или смеси последнего с
газом-носителем, короба дл отвода газов реакций, отличающеес тем, что, с целью снижени
тельно к варианту устройства на фиг.1, обозначены штриховой линией.
В данном случае приемники 21,22
удельного сопротивлени при высокой
и 31 будут питать азотом с расходами 50 прозрачности покрыти , сопло вьшолне60 л/ч, а расход HF будет составл ть 0,1 л/ч. Их температура должна быть доведена до такой величины, чтобы расходы реагентов, подаваемых на сопло 2 , составл ли 1 моль/ч дл SnCl, 1 моль/ч - дл и 2 моль/ч - дл CHjOH.
В указанных услови х на стекло толщиной 4 мм, нагретое примерно до
но с двум отражающими поверхност ми и трем изолированными каналами, образующие каналы профилированные стенки сход тс к мнимому ребру, общему - 55 дл всех каналов и наход щемус в плоскости поверхности ленты, сеть питани сопла галогенида соединена с центральным каналом, а сеть питани сопла вод ным паром соединена
600°С, был нанесен слой SnOj с добавкой фтора толщиной 600 нм пропусканием перед соплом 2, температура котороО
го поддерживалась примерно 110 С
описанным образом при скорости перемещени 2 м/мин и на рассто нии при- мерно 6 мм от этого сопла.
Полученный таким образом слой
SnO имел удельное электрическое сопротивление примерно (RQ) 40 Ом. Другие характеристики физического, оптического или механического свойст ва остались совместимыми с характеристиками сло с добавкой фтора, по- лученного вводом водорода непосред
ственно в газ-носитель (устройство согласно фиг.1, дополненное баллоном 41).
Виды использовани стекл нных пластин вс ких размеров с нанесенным слоем SnOj с добавкой или без добавки сурьмы или фтора могут быть самыми разнообразными в зависимости от их физических или электрических характеристик .
Таким образом, предлагаемое устройство позвол ет получать покрыти на поверхности движущейс ленты стек- ла с удельным сопротивлением 20-
1500 Ом и прозрачностью 60-100%. Формула
изо
р е т е н и
Таким образом, предлагаемое устройство позвол ет получать покрыти на поверхности движущейс ленты стек- ла с удельным сопротивлением 20-
Устройство дл непрерывного осаждени покрыти из оксида металла на поверхность движущейс ленты стекла, нагретой до по крайней мере 600 С,
удельного сопротивлени при высокой
но с двум отражающими поверхност ми и трем изолированными каналами, образующие каналы профилированные стенки сход тс к мнимому ребру, общему - 55 дл всех каналов и наход щемус в плоскости поверхности ленты, сеть питани сопла галогенида соединена с центральным каналом, а сеть питани сопла вод ным паром соединена
1371499
с двум другими, расположенными по бокам центрального канала, а отношение рассто ни между мнимым ребром и выходным отверстием сопла к ширине
27
23
5 ® ® / ® ® ® ® Т3 45
Фаз. 1
каждого канала равно 15-60, а длина отражаюг1их поверхностей в 10-20 раз превьш ает сумму выходных отверстий трех сопл.
н оreactifs
F
4tr
23
21
фиг.З
Claims (2)
- Формула изобретенияУстройство для непрерывного осаждения покрытия из оксида металла на поверхность движущейся ленты стекла, нагретой до по крайней мере 600°С, полученного гидролизом галогенида этого металла, содержащее щелевидное сопло, образованное профилированными стенками, сети для подачи в сопло водяного пара и газообразного галогенида металла или смеси последнего с газом-носителем, короба для отвода газов реакций, отличающееся тем, что, с целью снижения удельного сопротивления при высокой прозрачности покрытия, сопло выполнено с двумя отражающими поверхностями и тремя изолированными каналами, образующие каналы профилированные стенки сходятся к мнимому ребру, общему · для всех каналов и находящемуся в плоскости поверхности ленты, сеть питания сопла галогенида соединена с центральным каналом, а сеть питания сопла водяным паром соединена1371499 14 каждого канала равно 15-60, а длина отражаю1>(их поверхностей в 10-20 раз превышает сумму выходных отверстий трех сопл.с двумя другими, расположенными по бокам центрального канала, а отношение расстояния между мнимым ребром и выходным отверстием сопла к ширинеAL η
- 2ktI23a2k a 12а 29 εζ ___/__\Η?0 + reactifs
о п (Риг. 2- - 2 - с з ~
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH141279A CH628600A5 (fr) | 1979-02-14 | 1979-02-14 | Procede pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1371499A3 true SU1371499A3 (ru) | 1988-01-30 |
Family
ID=4209839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU802878803A SU1371499A3 (ru) | 1979-02-14 | 1980-02-13 | Устройство дл непрерывного осаждени покрыти из оксида металла |
Country Status (22)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4294868A (ru) |
JP (1) | JPS55130842A (ru) |
KR (1) | KR830002475B1 (ru) |
AU (1) | AU538579B2 (ru) |
BE (1) | BE881708A (ru) |
BR (1) | BR8000891A (ru) |
CA (1) | CA1136007A (ru) |
CH (1) | CH628600A5 (ru) |
CS (1) | CS274254B2 (ru) |
DD (1) | DD149058A5 (ru) |
DE (1) | DE3005797C2 (ru) |
ES (1) | ES488517A0 (ru) |
FR (1) | FR2448943A1 (ru) |
GB (1) | GB2044137B (ru) |
IT (1) | IT1140560B (ru) |
MX (1) | MX154318A (ru) |
NL (1) | NL179043C (ru) |
PL (1) | PL126146B1 (ru) |
SE (1) | SE446091B (ru) |
SU (1) | SU1371499A3 (ru) |
TR (1) | TR20840A (ru) |
ZA (1) | ZA80824B (ru) |
Families Citing this family (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1134153B (it) * | 1979-11-21 | 1986-07-31 | Siv Soc Italiana Vetro | Ugello per depositare in continuo su un substrato uno strato di una materia solida |
CA1172918A (en) * | 1980-02-15 | 1984-08-21 | William E. Hofmann | Process for making glass surfaces abrasion-resistant and article produced thereby |
DE3123694A1 (de) * | 1980-06-19 | 1982-03-18 | Bfg Glassgroup, Paris | Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von glas |
CH643469A5 (fr) * | 1981-12-22 | 1984-06-15 | Siv Soc Italiana Vetro | Installation pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide. |
US4451000A (en) * | 1982-06-11 | 1984-05-29 | Hollis Engineering, Inc. | Soldering apparatus exhaust system |
US4477494A (en) * | 1982-07-12 | 1984-10-16 | Glass Containers Corporation | Process for forming rust resistant tin oxide coatings on glass containers |
US4524718A (en) * | 1982-11-22 | 1985-06-25 | Gordon Roy G | Reactor for continuous coating of glass |
GB2139612B (en) * | 1983-05-13 | 1987-03-11 | Glaverbel | Coating a hot vitreous substrate |
JPH0627329B2 (ja) * | 1984-02-13 | 1994-04-13 | シュミット,ジェロウム・ジェイ・ザ・サ−ド | 導電および誘電性固体薄膜のガスジェット付着方法および装置とそれによって製造される生産物 |
US5122394A (en) * | 1985-12-23 | 1992-06-16 | Atochem North America, Inc. | Apparatus for coating a substrate |
US4928627A (en) * | 1985-12-23 | 1990-05-29 | Atochem North America, Inc. | Apparatus for coating a substrate |
JPH0645881B2 (ja) * | 1986-03-28 | 1994-06-15 | 日本鋼管株式会社 | 連続処理ラインにおける鋼板の浸珪処理方法 |
JPS63139033A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-10 | Nec Corp | プラズマディスプレイ用透明導電膜の製造方法 |
EP0276796B1 (en) * | 1987-01-27 | 1992-04-08 | Asahi Glass Company Ltd. | Gas feeding nozzle for a chemical vapor deposition apparatus |
GB2209176A (en) * | 1987-08-28 | 1989-05-04 | Pilkington Plc | Coating glass |
US4853257A (en) * | 1987-09-30 | 1989-08-01 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of tin oxide on float glass in the tin bath |
US5136975A (en) * | 1990-06-21 | 1992-08-11 | Watkins-Johnson Company | Injector and method for delivering gaseous chemicals to a surface |
GB9300400D0 (en) * | 1993-01-11 | 1993-03-03 | Glaverbel | A device and method for forming a coating by pyrolysis |
US5453383A (en) * | 1994-06-14 | 1995-09-26 | General Mills, Inc. | Method of applying sugar coating by using steam assisted discharge nozzle |
US5534314A (en) * | 1994-08-31 | 1996-07-09 | University Of Virginia Patent Foundation | Directed vapor deposition of electron beam evaporant |
FR2724923B1 (fr) * | 1994-09-27 | 1996-12-20 | Saint Gobain Vitrage | Technique de depot de revetements par pyrolyse de composition de gaz precurseur(s) |
US5571332A (en) * | 1995-02-10 | 1996-11-05 | Jet Process Corporation | Electron jet vapor deposition system |
CA2178032A1 (en) * | 1995-06-09 | 1996-12-10 | Robert Terneu | Glazing panel having solar screening properties |
GB2302102B (en) * | 1995-06-09 | 1999-03-10 | Glaverbel | A glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel |
GB2302101B (en) * | 1995-06-09 | 1999-03-10 | Glaverbel | A glazing panel having solar screening properties |
US6231971B1 (en) * | 1995-06-09 | 2001-05-15 | Glaverbel | Glazing panel having solar screening properties |
GB9515198D0 (en) * | 1995-07-25 | 1995-09-20 | Pilkington Plc | A method of coating glass |
MY129739A (en) * | 1996-01-09 | 2007-04-30 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Coated glass for buildings |
US5698262A (en) | 1996-05-06 | 1997-12-16 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for forming tin oxide coating on glass |
US6238738B1 (en) | 1996-08-13 | 2001-05-29 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass |
GB9616983D0 (en) * | 1996-08-13 | 1996-09-25 | Pilkington Plc | Method for depositing tin oxide and titanium oxide coatings on flat glass and the resulting coated glass |
US7096692B2 (en) | 1997-03-14 | 2006-08-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same |
US6027766A (en) | 1997-03-14 | 2000-02-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
US6103015A (en) * | 1998-01-19 | 2000-08-15 | Libbey-Owens-Ford Co. | Symmetrical CVD coater with lower upstream exhaust toe |
US5904958A (en) * | 1998-03-20 | 1999-05-18 | Rexam Industries Corp. | Adjustable nozzle for evaporation or organic monomers |
US6268019B1 (en) * | 1998-06-04 | 2001-07-31 | Atofina Chemicals, Inc. | Preparation of fluorine modified, low haze, titanium dioxide films |
DE19923591A1 (de) * | 1999-05-21 | 2000-11-23 | Fleissner Maschf Gmbh Co | Vorrichtung mit einem Düsenbalken zur Erzeugung von Flüssigkeitsstrahlen zur Strahlbeaufschlagung der Fasern einer Warenbahn |
GB9913315D0 (en) | 1999-06-08 | 1999-08-11 | Pilkington Plc | Improved process for coating glass |
DE10046557B4 (de) * | 2000-09-19 | 2006-07-27 | Datron-Electronic Gmbh | Vorrichtung zum dosierten Ausbringen eines aus mehreren unterschiedlich viskosen Medien bestehenden Materialstranges mittels Koextrusion und mehrfunktionale Kombinationsdichtung |
JP4124046B2 (ja) * | 2003-07-10 | 2008-07-23 | 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
KR101309334B1 (ko) * | 2004-08-02 | 2013-09-16 | 비코 인스트루먼츠 인코포레이티드 | 화학적 기상 증착 반응기용 멀티 가스 분배 인젝터 |
US8398770B2 (en) * | 2007-09-26 | 2013-03-19 | Eastman Kodak Company | Deposition system for thin film formation |
US8709160B2 (en) * | 2008-08-22 | 2014-04-29 | United Technologies Corporation | Deposition apparatus having thermal hood |
US8404047B2 (en) * | 2008-09-16 | 2013-03-26 | United Technologies Corporation | Electron beam vapor deposition apparatus and method |
US8343591B2 (en) * | 2008-10-24 | 2013-01-01 | United Technologies Corporation | Method for use with a coating process |
US20100104773A1 (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | Neal James W | Method for use in a coating process |
US20100189929A1 (en) * | 2009-01-28 | 2010-07-29 | Neal James W | Coating device and deposition apparatus |
US20100247809A1 (en) * | 2009-03-31 | 2010-09-30 | Neal James W | Electron beam vapor deposition apparatus for depositing multi-layer coating |
EP2688851B1 (en) * | 2011-03-23 | 2019-01-23 | Pilkington Group Limited | Apparatus for depositing thin film coatings and method of deposition utilizing such apparatus |
GB201114242D0 (en) | 2011-08-18 | 2011-10-05 | Pilkington Group Ltd | Tantalum oxide coatings |
GB2510615A (en) * | 2013-02-08 | 2014-08-13 | Glyndwr University | Gas blade injection system |
US10704144B2 (en) | 2015-10-12 | 2020-07-07 | Universal Display Corporation | Apparatus and method for printing multilayer organic thin films from vapor phase in an ultra-pure gas ambient |
WO2017158145A1 (en) * | 2016-03-18 | 2017-09-21 | Basf Se | Metal-doped tin oxide for electrocatalysis applications |
JP6529628B2 (ja) * | 2018-04-17 | 2019-06-12 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 成膜装置 |
WO2023139925A1 (ja) * | 2022-01-19 | 2023-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ成膜装置及びプラズマ成膜方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1307216A (en) * | 1969-04-23 | 1973-02-14 | Pilkington Brothers Ltd | Treating glass |
US3814327A (en) * | 1971-04-06 | 1974-06-04 | Gen Electric | Nozzle for chemical reaction processes |
CH544156A (de) * | 1971-04-16 | 1973-11-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | Verfahren zur Herstellung von oxydischen Halbleiterschichten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
DE2121319A1 (de) * | 1971-04-30 | 1973-01-18 | Rocholl Martin Ggottfried Dipl | Verfahren zum beschichten von glasscheiben mit einem optisch transparenten flaechenheizleiter |
US3850679A (en) * | 1972-12-15 | 1974-11-26 | Ppg Industries Inc | Chemical vapor deposition of coatings |
FR2210675B1 (ru) * | 1972-12-15 | 1978-05-12 | Ppg Industries Inc | |
US3951100A (en) * | 1972-12-15 | 1976-04-20 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of coatings |
DD109033A1 (ru) * | 1973-12-11 | 1974-10-12 |
-
1979
- 1979-02-14 CH CH141279A patent/CH628600A5/fr not_active IP Right Cessation
-
1980
- 1980-01-31 US US06/117,086 patent/US4294868A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-02-01 AU AU55139/80A patent/AU538579B2/en not_active Ceased
- 1980-02-12 PL PL1980221965A patent/PL126146B1/pl unknown
- 1980-02-12 IT IT19855/80A patent/IT1140560B/it active
- 1980-02-12 CA CA000345546A patent/CA1136007A/en not_active Expired
- 1980-02-13 BE BE0/199390A patent/BE881708A/fr not_active IP Right Cessation
- 1980-02-13 SE SE8001131A patent/SE446091B/sv not_active IP Right Cessation
- 1980-02-13 NL NLAANVRAGE8000897,A patent/NL179043C/xx not_active IP Right Cessation
- 1980-02-13 JP JP1561380A patent/JPS55130842A/ja active Granted
- 1980-02-13 DE DE3005797A patent/DE3005797C2/de not_active Expired
- 1980-02-13 ES ES488517A patent/ES488517A0/es active Granted
- 1980-02-13 SU SU802878803A patent/SU1371499A3/ru active
- 1980-02-13 TR TR20840A patent/TR20840A/xx unknown
- 1980-02-13 BR BR8000891A patent/BR8000891A/pt unknown
- 1980-02-13 ZA ZA00800824A patent/ZA80824B/xx unknown
- 1980-02-13 GB GB8004867A patent/GB2044137B/en not_active Expired
- 1980-02-13 CS CS98280A patent/CS274254B2/cs unknown
- 1980-02-14 FR FR8003323A patent/FR2448943A1/fr active Granted
- 1980-02-14 KR KR1019800000592A patent/KR830002475B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1980-02-14 MX MX181188A patent/MX154318A/es unknown
- 1980-02-14 DD DD80219060A patent/DD149058A5/de not_active IP Right Cessation
-
1981
- 1981-02-18 US US06/236,134 patent/US4351267A/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Патент DE 2123274, кл. 12 G 17/32, опублик.1972. Патент US № 3850679, кл.427-248, опублик. 1974. * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PL126146B1 (en) | 1983-07-30 |
FR2448943B1 (ru) | 1982-12-03 |
CA1136007A (en) | 1982-11-23 |
NL8000897A (nl) | 1980-08-18 |
JPS55130842A (en) | 1980-10-11 |
ES8100356A1 (es) | 1980-11-01 |
SE446091B (sv) | 1986-08-11 |
ES488517A0 (es) | 1980-11-01 |
SE8001131L (sv) | 1980-08-15 |
ZA80824B (en) | 1981-02-25 |
AU5513980A (en) | 1980-08-21 |
US4351267A (en) | 1982-09-28 |
KR830002475B1 (ko) | 1983-10-26 |
BE881708A (fr) | 1980-05-30 |
GB2044137A (en) | 1980-10-15 |
CS274254B2 (en) | 1991-04-11 |
AU538579B2 (en) | 1984-08-23 |
FR2448943A1 (fr) | 1980-09-12 |
PL221965A1 (ru) | 1980-11-17 |
KR830001668A (ko) | 1983-05-18 |
DE3005797A1 (de) | 1980-08-28 |
CS98280A2 (en) | 1990-09-12 |
IT8019855A0 (it) | 1980-02-12 |
JPS6133904B2 (ru) | 1986-08-05 |
IT1140560B (it) | 1986-10-01 |
DE3005797C2 (de) | 1984-10-31 |
US4294868A (en) | 1981-10-13 |
GB2044137B (en) | 1983-08-03 |
MX154318A (es) | 1987-07-08 |
TR20840A (tr) | 1982-10-19 |
BR8000891A (pt) | 1980-10-21 |
DD149058A5 (de) | 1981-06-24 |
NL179043C (nl) | 1986-07-01 |
CH628600A5 (fr) | 1982-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SU1371499A3 (ru) | Устройство дл непрерывного осаждени покрыти из оксида металла | |
US4535000A (en) | Chemical vapor deposition of titanium nitride and like films | |
KR970001212B1 (ko) | 피복장치, 유리의 피복방법, 유리 피복용 화합물 및 조성물 및 피복된 유리 기재 | |
US5863337A (en) | Apparatus for coating a moving glass substrate | |
EP1198431B1 (en) | Process for the production of photocatalytic coatings on substrates | |
EP0627391B1 (en) | Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making | |
US5776236A (en) | Mixed metal oxide film having an accelerant | |
JP3280069B2 (ja) | ガラス基材上に被覆を形成する方法及び装置 | |
DK161808B (da) | Apparat til kontinuerlig aflejring af et fast lag paa overfladen af et substrat, der befinder sig ved hoej temperatur | |
US4325987A (en) | Process for the production of an electrically conducting article | |
EP0755902B1 (en) | A method of coating flat glass | |
EP0409890B1 (en) | Titanium silicide-coated glass windows | |
EP0150204B1 (en) | Non-iridescent glass structure and coating process for making same | |
US4612217A (en) | Coating process for making non-iridescent glass structure | |
GB2275692A (en) | Coated glass having a substratum comprising oxides of aluminium titanium and vanadium | |
KR850000800Y1 (ko) | 고온으로 가열된 썹스트레이트 표면에 고체물질의 층을 연속적으로 용착시키는 장치 |