[go: up one dir, main page]

RU2794157C1 - Rotatable substrate container with a mask for forming thin films of various configurations - Google Patents

Rotatable substrate container with a mask for forming thin films of various configurations Download PDF

Info

Publication number
RU2794157C1
RU2794157C1 RU2022119835A RU2022119835A RU2794157C1 RU 2794157 C1 RU2794157 C1 RU 2794157C1 RU 2022119835 A RU2022119835 A RU 2022119835A RU 2022119835 A RU2022119835 A RU 2022119835A RU 2794157 C1 RU2794157 C1 RU 2794157C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
mask
substrate
window
seat
flat plate
Prior art date
Application number
RU2022119835A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Василий Иванович Юшков
Геннадий Семенович Патрин
Александр Васильевич Кобяков
Ярослав Германович Шиян
Original Assignee
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет"
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет" filed Critical Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет"
Application granted granted Critical
Publication of RU2794157C1 publication Critical patent/RU2794157C1/en

Links

Images

Abstract

FIELD: mechanics.
SUBSTANCE: rotary container comprises a flat plate with an alignment column and a mask. The flat plate is connected by a connecting rod to the mask. In said plate, a seat is made in the form of a cell for placing the substrate, inside which a through groove of the window for spraying the substrate is concentrically made. The seat is covered with a locking cap. The mask is a titanium plate of a round shape with four windows and has four alignment columns located at the positions of these windows. The flat plate is configured to move relative to the mask and positioning the seat with the substrate over the given mask window by arranging the flat plate alignment column and the mask alignment column corresponding to the given mask window in one line.
EFFECT: obtaining thin films with a given configuration within one process cycle.
1 cl, 3 dwg

Description

Изобретение относится к элементам внутрикамерных устройств установок вакуумного напыления и может быть использовано при нанесении металлических и полупроводниковых пленок для покрытия деталей и элементов, применяемых в изделиях электронной, приборостроительной и оптической промышленностей, а так же для получения экспериментальных и опытных образцов в научно исследовательской деятельности.The invention relates to elements of in-chamber devices of vacuum deposition installations and can be used in the deposition of metal and semiconductor films for coating parts and elements used in products of the electronic, instrument-making and optical industries, as well as for obtaining experimental and prototype samples in research activities.

Известен подложкодержатель [US 5,703,493 Dec. 30.1997], пригодный для получения тонкопленочных покрытий на подложках различных размеров и различных конфигураций пленок.Known substrate holder [US 5,703,493 Dec. 30.1997], suitable for obtaining thin-film coatings on substrates of various sizes and various film configurations.

Недостатками данного подложкодержателя является отсутствие удерживающего подложку устройства, а также невозможность в едином технологическом цикле формировать тонкие пленки из различных материалов и получать их различные конфигурации.The disadvantages of this substrate holder is the absence of a device holding the substrate, as well as the impossibility of forming thin films from various materials and obtaining their various configurations in a single technological cycle.

Известна подвижная заслонка для формирования тонких пленок различной конфигурации, получаемых методом вакуумного напыления [RU 2 773 032 С1, опубл. 30.05.2022].Known movable shutter for the formation of thin films of various configurations obtained by vacuum deposition [RU 2 773 032 C1, publ. May 30, 2022].

Недостатком использования данной заслонки является сложность обеспечения вакуумного уплотнения при введении механизма движения подвижной заслонки внутрь рабочей (вакуумной) камеры, так как для этого необходимо иметь узел ввода вышеуказанного механизма (Не все вакуумные камеры имеют подобные узлы ввода).The disadvantage of using this damper is the difficulty of providing a vacuum seal when introducing the mechanism for moving the movable damper inside the working (vacuum) chamber, since this requires an input unit of the above mechanism (Not all vacuum chambers have such input units).

Наиболее близким техническим решением, является съемный контейнер с фиксацией подложек для подложкодержателя установки вакуумного напыления [RU 198976 U1, опубл. 04.03.2020], в котором предложена вставка, рассчитанная на четыре подложки, с системой фиксации подложек.The closest technical solution is a removable container with substrate fixation for the substrate holder of the vacuum deposition unit [RU 198976 U1, publ. 03/04/2020], which proposes an insert designed for four substrates, with a substrate fixation system.

Недостатком указанного устройства является отсутствие системы «маскирования», т.е. получение тонких пленок различной конфигурации за один технологический цикл.The disadvantage of this device is the lack of a "masking" system, i. production of thin films of various configurations in one technological cycle.

Техническим результатом заявляемого изобретения является получение тонких пленок с заданной конфигурацией за один технологический цикл, без развакуумирования установки, выемки образца и установки «маски».The technical result of the claimed invention is the production of thin films with a given configuration in one technological cycle, without unvacuuming the installation, removing the sample and installing the "mask".

Указанный технический результат достигается за счет того, что предложена конструкция поворотного контейнера подложки образца для формирования тонких пленок, получаемых методом вакуумного напыления внутри рабочей камеры. Поворотный контейнер подложки с «маской» для формирования тонких пленок различной конфигурации представляет собой плоскую пластину с спроектированным для размещения подложки образца посадочным местом в виде ячейки, внутри которой концентрически расположена сквозная проточка окна для напыления образца; при этом посадочное место накрывается крышечкой-фиксатором, которая удерживается пружиной. Поворотный контейнер при помощи соединительного стержня комбинируется с «маской», представляющей собой титановую пластину круглой формы, на которой проточены четыре окна: окно продольной конфигурации, окно круглой конфигурации, окно для поперечной конфигурации пленки и окно для предварительной обработки подложки образца; передвижение поворотного контейнера подложки относительно «маски» и позиционирование его в заданном положении осуществляется при помощи столбиков-выравнивателей.The specified technical result is achieved due to the fact that the proposed design of the rotary sample substrate container for the formation of thin films obtained by vacuum deposition inside the working chamber. The turnable container of the substrate with a "mask" for forming thin films of various configurations is a flat plate with a seat designed to accommodate the sample substrate in the form of a cell, inside which there is a concentric through groove of the window for deposition of the sample; at the same time, the seat is covered with a locking cap, which is held by a spring. The swivel container is combined with a “mask” using a connecting rod, which is a titanium plate of a round shape, on which four windows are machined: a window of a longitudinal configuration, a window of a round configuration, a window for the transverse configuration of the film and a window for pretreatment of the sample substrate; movement of the swivel container of the substrate relative to the "mask" and its positioning in a given position is carried out with the help of alignment columns.

Предлагаемое изобретение объясняется чертежами:The present invention is explained by the drawings:

На Фиг. 1 представлен поворотный контейнер подложки с «маской» для формирования тонких пленок различной конфигурации, расположенный в заводском контейнеродержателе.On FIG. 1 shows a turnable substrate container with a "mask" for forming thin films of various configurations, located in a factory container holder.

На Фиг. 2 представлено расположение поворотного контейнера внутри рабочей камеры.On FIG. 2 shows the location of the swivel container inside the working chamber.

На Фиг. 3 представлен пример работы поворотного контейнера и манипулятора внутри рабочей камеры.On FIG. 3 shows an example of the operation of a rotary container and a manipulator inside the working chamber.

Поворотный контейнер подложки с «маской» для формирования тонких пленок различной конфигурации содержит:Rotary substrate container with a "mask" for forming thin films of various configurations contains:

1. Поворотный контейнер подложки.1. Turnable substrate container.

2. Посадочное место для подложки образца.2. Seat for sample substrate.

3. Сквозная проточка окна поворотного контейнера подложки, для напыления образца.3. Through groove of the window of the substrate swivel container, for spraying the sample.

4. Крышечка-фиксатор для удержания подложки образца в ячейке.4. Lid-lock to hold the sample substrate in the cell.

5. Удерживающая пружина крышечки-фиксатора.5. Retaining spring for the locking cap.

6. Клепка крепления пружины к крышечке-фиксатору.6. Riveting of fastening of a spring to a cap-clamp.

7. Клепка крепления пружины к поворотному контейнеру.7. Riveting for fastening the spring to the swivel container.

8. Сквозное отверстие для подвижного крепления поворотного контейнера и «маски».8. Through hole for movable fastening of the swivel container and "mask".

9. «Маска».9. "Mask".

10. Столбик-выравниватель поворотного контейнера.10. Post-aligner of the rotary container.

11. Окно продольной конфигурации пленки.11. Longitudinal film configuration window.

12. Окно круглой конфигурации пленки.12. Round film configuration window.

13. Окно поперечной конфигурации пленки.13. Window of transverse film configuration.

14. Окно для предварительной обработки подложки образца (излучением RF-частотами и т.п.).14. Window for preliminary processing of the sample substrate (radiation with RF frequencies, etc.).

15. Отверстие для подвижного крепления «маски» с поворотным контейнером подложки.15. Hole for movable fastening of the "mask" with a swivel substrate container.

16. Четыре столбика-выравнивателя «мишени».16. Four “target” alignment posts.

17. Заводской контейнеродержатель.17. Factory container holder.

18. Соединительный стержень.18. Connecting rod.

19. Транспортировочный держатель.19. Transport holder.

20. Рабочая камера.20. Working chamber.

21. Манипулятор.21. Manipulator.

22. Внутрикамерный зонд, оснащенный механизмом поворота вокруг собственной оси и системой хода вверх-вниз (лифт).22. An intra-chamber probe equipped with a mechanism for turning around its own axis and an up-down system (elevator).

23. Смотровое окно рабочей камеры.23. Viewing window of the working chamber.

24. Вращательный механизм внутрикамерного зонда.24. Rotary mechanism of the intra-chamber probe.

25. Четыре магнетрона с различными материалами.25. Four magnetrons with different materials.

Пример конкретного выполненияExample of a specific implementation

На Фиг. 1 изображен поворотный контейнер подложки 1, представляющий собой плоскую пластину, выполненную из титана толщиной 1,5 мм и имеющий посадочное место 2 для подложки образца. Посадочное место 2 представляет собой ячейку размером 18,1×18,1 мм и глубиной 1 мм, внутри которой концентрически расположена сквозная проточка окна 3 размером 16×16 мм для напыления образца. Посадочное место 2 накрывается крышечкой-фиксатором 4, которая в свою очередь удерживается пружиной 5. Пружина 5 крышечки-фиксатора 4 крепится к самой крышечке клепкой 6, а к контейнеру - клепкой 7. Также поворотный контейнер подложки имеет сквозное отверстие 8 для соединения с «маской» 9. На поворотном контейнере подложки, имеется столбик-выравниватель 10, предназначенный для передвижения поворотного контейнера подложки относительно «маски» 9 и позиционирования его в заданном положении. «Маска» 9, представляющая собой титановую пластину толщиной 1,5 мм круглой формы на которой проточены четыре окна: 11 - окно продольной конфигурации пленки, 12 - окно круглой конфигурации, 13 - окно для поперечной конфигурации пленки и 14 - окно для предварительной обработки подложки образца (излучением RF-частотами и т.п.). На «маске» 9 имеется отверстие 15, предназначенное для соединения с поворотным контейнером подложки 1. Кроме того, на «маске» имеются четыре столбика-выравнивателя 16, расположенные строго по позициям проточек окон 11, 12, 13 и 14, для точного позиционирования поворотного контейнера подложки на «маске». Заводской контейнеродержатель 17 имеется в комплекте вакуумной установки. Соединение поворотного контейнера подложки 1 и «маски» 9 осуществляется при помощи соединительного стержня 18. Изобретение работает следующим образом:On FIG. 1 shows a turnable substrate container 1, which is a flat plate made of titanium 1.5 mm thick and having a seat 2 for the sample substrate. Seat 2 is a cell with a size of 18.1×18.1 mm and a depth of 1 mm, inside which there is a concentric through groove of window 3 with a size of 16×16 mm for spraying the sample. The seat 2 is covered with a locking cap 4, which in turn is held by a spring 5. The spring 5 of the locking cap 4 is attached to the cap itself with a riveting 6, and to the container with a riveting 7. Also, the swivel container of the substrate has a through hole 8 for connection with the » 9. On the turnable substrate container, there is an alignment post 10 designed to move the turnable substrate container relative to the “mask” 9 and position it in a predetermined position. "Mask" 9, which is a round titanium plate 1.5 mm thick, on which four windows are machined: 11 - window of the longitudinal configuration of the film, 12 - window of the round configuration, 13 - window for the transverse configuration of the film and 14 - window for pre-treatment of the substrate sample (radiation with RF frequencies, etc.). On the "mask" 9 there is a hole 15, designed for connection with the swivel container of the substrate 1. In addition, on the "mask" there are four alignment posts 16, located strictly at the positions of the grooves of windows 11, 12, 13 and 14, for precise positioning of the swivel container. substrate container on the "mask". The factory container holder 17 is included in the vacuum unit kit. The connection of the swivel container of the substrate 1 and the "mask" 9 is carried out using the connecting rod 18. The invention works as follows:

Перед началом работы из загрузочной камеры «шлюза» вакуумной установки Фиг. 2. вынимается контейнеродержатель 17, затем освобождается посадочное место для подложки образца 2 путем выемки крышечки-фиксатора 4. В освободившееся место помещается предварительно подготовленная подложка, а крышечка-фиксатор возвращается на прежнее место в поворотном контейнере 1, плотно удерживая подложку в посадочном месте. Фиг. 1. После этого поворотный контейнер вручную позиционируется на позиции 14. В случае необходимости следует отрегулировать точность позиционирования поворотного контейнера 1 относительно окна 14. При правильном позиционировании поворотного контейнера и прорези окна, столбик-выравниватель поворотного контейнера 10 и столбик-выравниватель «маски» 16 должны располагаться на одной линии Фиг. 1 (вид сверху). Затем контейнеродержатель 17 размещают в «шлюзе» вакуумной установки на транспортировочном держателе 19 Фиг. 2. Шлюз закрывается, и производится откачка вакуума. По достижению нужного значения вакуума контейнеродержатель 17 на транспортировочном держателе 19 перемещается из «шлюза» в рабочую камеру 20. При помощи манипулятора 21, способного поворачиваться вокруг собственной оси, отклоняться влево, вправо, вверх и вниз, а также совершать возвратно-поступательные движения вперед и назад, контейнеродержатель 17 снимается с транспортировочного держателя 19 и помещается в посадочное место внутрикамерного зонда 22, оснащенного механизмом поворота вокруг собственной оси и системой хода вверх-вниз (лифт). За всеми манипуляциями внутри рабочей камеры можно наблюдать через смотровые окна 23. После того как контейнеродержатель 17 расположен на зонде 22, манипулятор 21 и транспортировочный держатель 19 возвращаются на свои исходные положения. В рабочей камере устанавливается рабочее давление, и начинается процесс обработки подложки излучением RF-частоты для дополнительной очистки поверхности и выравнивания шероховатостей подложки. По окончании обработки поверхности подложки поворотный контейнер подложки 1 смещается с позиции 14 Фиг. 3а на максимально возможное расстояние Фиг. 3б манипулятором 21 при контакте со столбиком-выравнивателем 10, затем манипулятор 21 выводится в исходное положение. При помощи вращательного механизма 24, расположенного снаружи рабочей камеры Фиг. 2, внутрикамерный зонд 22 поворачивается на 90° вокруг своей оси Фиг. 3в (направление поворота выбирается в зависимости от того, какую именно конфигурацию пленки нужно получить в данный момент), а затем манипулятором 21 производится выравнивание позиции поворотного контейнера 1 относительно выбранного окна «маски» (например, 11 или 13) путем установки столбика-выравнивателя 10 и столбика-выравнивателя «маски» 16 в одну линию Фиг. 3г. Это будет означать, что посадочное место подложки образца 2 с подложкой расположено точно над заданным окном «маски». Затем манипулятор 21 возвращается в исходное положение. После этого можно запускать магнетроны 25 Фиг. 2 с выбранными материалами. Этот алгоритм действий выполняется каждый раз, когда необходимо поменять конфигурацию «напыляемой» пленки.Before starting work from the loading chamber of the "lock" of the vacuum installation Fig. 2. The container holder 17 is removed, then the seat for the sample substrate 2 is vacated by removing the fixing cap 4. The previously prepared substrate is placed in the vacated place, and the fixing cap returns to its original place in the rotary container 1, tightly holding the substrate in the seat. Fig. 1. After that, the rotary container is manually positioned at position 14. If necessary, the positioning accuracy of the rotary container 1 relative to the window 14 should be adjusted. be on the same line Fig. 1 (top view). Then the container holder 17 is placed in the “lock” of the vacuum installation on the transport holder 19 of FIG. 2. The sluice is closed and the vacuum is evacuated. Upon reaching the desired vacuum value, the container holder 17 on the transport holder 19 moves from the "gateway" to the working chamber 20. back, the container holder 17 is removed from the transport holder 19 and placed in the seat of the in-chamber probe 22, equipped with a mechanism for turning around its own axis and an up-down system (elevator). All manipulations inside the working chamber can be observed through viewing windows 23. After the container holder 17 is located on the probe 22, the manipulator 21 and the transport holder 19 return to their original positions. The operating pressure is set in the working chamber, and the process of processing the substrate with RF radiation begins for additional cleaning of the surface and leveling the roughness of the substrate. At the end of the surface treatment of the substrate, the pivoting container of the substrate 1 is moved from position 14 of FIG. 3a to the maximum possible distance FIG. 3b by the manipulator 21 in contact with the leveling post 10, then the manipulator 21 is brought to its original position. By means of a rotary mechanism 24 located outside the working chamber of FIG. 2, the chamber probe 22 rotates 90° about its axis FIG. 3c (the direction of rotation is selected depending on what particular film configuration needs to be obtained at the moment), and then the manipulator 21 aligns the position of the rotary container 1 relative to the selected “mask” window (for example, 11 or 13) by setting the alignment column 10 and column-aligner "mask" 16 in one line Fig. 3y. This will mean that the seat of the sample 2 substrate with the substrate is located exactly above the specified “mask” window. Then the manipulator 21 returns to its original position. After that, the magnetrons 25 of FIG. 2 with selected materials. This algorithm of actions is performed every time when it is necessary to change the configuration of the "sprayed" film.

Предложенный поворотный контейнер подложки с «маской» для формирования тонких пленок различной конфигурации позволяет сократить финансовые затраты и время на изготовление тонких пленок на вакуумных установках и последующее их изучение.The proposed swivel substrate container with a "mask" for forming thin films of various configurations makes it possible to reduce financial costs and time for the manufacture of thin films in vacuum installations and their subsequent study.

Claims (1)

Поворотный контейнер для формирования тонких пленок на подложке, характеризующийся тем, что он содержит плоскую пластину со столбиком-выравнивателем и маску, причем плоская пластина соединена соединительным стержнем с маской, при этом в указанной пластине выполнено посадочное место в виде ячейки для размещения подложки, внутри которого концентрически выполнена сквозная проточка окна для напыления подложки, при этом посадочное место накрыто крышечкой-фиксатором, которая удерживается пружиной, причем маска представляет собой титановую пластину круглой формы, на которой проточены четыре окна: окно продольной конфигурации пленки, окно круглой конфигурации пленки, окно поперечной конфигурации пленки и окно для предварительной обработки подложки, и имеет четыре столбика-выравнивателя, расположенные по позициям указанных окон, при этом плоская пластина выполнена с возможностью передвижения относительно маски и позиционирования посадочного места с подложкой над заданным окном маски посредством расположения столбика-выравнивателя плоской пластины и соответствующего заданному окну маски столбика-выравнивателя маски в одну линию.A rotary container for forming thin films on a substrate, characterized in that it contains a flat plate with an alignment column and a mask, the flat plate being connected by a connecting rod to the mask, while said plate has a seat in the form of a cell for placing the substrate, inside which a through groove of the window for deposition of the substrate is made concentrically, while the seat is covered with a locking cap, which is held by a spring, and the mask is a titanium plate of a round shape, on which four windows are machined: a window of a longitudinal film configuration, a window of a round film configuration, a window of a transverse configuration film and a window for pre-treatment of the substrate, and has four alignment posts located at the positions of these windows, while the flat plate is movable relative to the mask and positioning the seat with the substrate over a given mask window by positioning the alignment post of the flat plate and the corresponding to the specified mask window of the mask aligner column into one line.
RU2022119835A 2022-07-19 Rotatable substrate container with a mask for forming thin films of various configurations RU2794157C1 (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2794157C1 true RU2794157C1 (en) 2023-04-12

Family

ID=

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2507953A1 (en) * 1974-03-04 1975-09-11 Ebauches Sa PROCESS FOR VACUUM COATING AND DEVICE FOR CARRYING OUT THE PROCESS
JP3080932B2 (en) * 1998-10-22 2000-08-28 静岡日本電気株式会社 Color image reader
RU2671875C1 (en) * 2017-09-22 2018-11-07 Общество с ограниченной ответственностью "ПромСИЗ" Method of decorating glass products
RU198976U1 (en) * 2020-03-04 2020-08-05 Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Красноярский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук" (ФИЦ КНЦ СО РАН, КНЦ СО РАН) REMOVABLE CONTAINER FOR VACUUM SPRAYING UNIT SUPPORT
RU2773032C1 (en) * 2021-06-04 2022-05-30 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет" Movable flap of the substrate for the formation of thin films of various configurations obtained by vacuum deposition

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2507953A1 (en) * 1974-03-04 1975-09-11 Ebauches Sa PROCESS FOR VACUUM COATING AND DEVICE FOR CARRYING OUT THE PROCESS
JP3080932B2 (en) * 1998-10-22 2000-08-28 静岡日本電気株式会社 Color image reader
RU2671875C1 (en) * 2017-09-22 2018-11-07 Общество с ограниченной ответственностью "ПромСИЗ" Method of decorating glass products
RU198976U1 (en) * 2020-03-04 2020-08-05 Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Красноярский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук" (ФИЦ КНЦ СО РАН, КНЦ СО РАН) REMOVABLE CONTAINER FOR VACUUM SPRAYING UNIT SUPPORT
RU2773032C1 (en) * 2021-06-04 2022-05-30 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет" Movable flap of the substrate for the formation of thin films of various configurations obtained by vacuum deposition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101750639B (en) Optical coating device
US6649208B2 (en) Apparatus and method for thin film deposition onto substrates
US8449678B2 (en) Combinatorial process system
JP3466607B2 (en) Sputtering equipment
US20060231031A1 (en) Method and apparatus for treating a substrate
RU2794157C1 (en) Rotatable substrate container with a mask for forming thin films of various configurations
US20150362473A1 (en) Low-E Panels Utilizing High-Entropy Alloys and Combinatorial Methods and Systems for Developing the Same
US20200266063A1 (en) Hard mask and hard mask forming method
US20150025670A1 (en) Substrate Processing Including Correction for Deposition Location
US20120285819A1 (en) Combinatorial and Full Substrate Sputter Deposition Tool and Method
US20200013592A1 (en) Methods and apparatus for linear scan physical vapor deposition with reduced chamber footprint
US3352282A (en) Vacuum deposit device including means to register and manipulate mask and substrate elements
US20130167773A1 (en) Combinatorial Processing Using High Deposition Rate Sputtering
US3859956A (en) Multiworkpiece condensation coating apparatus
CN112313784A (en) Oscillating apparatus, method of processing substrate, oscillating module for receiving substrate from transfer chamber, and vacuum processing system
US8709270B2 (en) Masking method and apparatus
KR102747769B1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2023507105A (en) Surface profiling and texturing of chamber parts
JPH0619965B2 (en) Sample exchange device for scanning electron microscope
US20140174911A1 (en) Methods and Systems for Reducing Particles During Physical Vapor Deposition
RU198976U1 (en) REMOVABLE CONTAINER FOR VACUUM SPRAYING UNIT SUPPORT
RU2773032C1 (en) Movable flap of the substrate for the formation of thin films of various configurations obtained by vacuum deposition
US20140174907A1 (en) High Deposition Rate Chamber with Co-Sputtering Capabilities
US4329938A (en) Evaporator tool with remote substrate reorientation mechanism
KR102273472B1 (en) Physical vapor disposition device