RU2348092C1 - Зеркало для лазеров - Google Patents
Зеркало для лазеров Download PDFInfo
- Publication number
- RU2348092C1 RU2348092C1 RU2007133117/28A RU2007133117A RU2348092C1 RU 2348092 C1 RU2348092 C1 RU 2348092C1 RU 2007133117/28 A RU2007133117/28 A RU 2007133117/28A RU 2007133117 A RU2007133117 A RU 2007133117A RU 2348092 C1 RU2348092 C1 RU 2348092C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- mirror
- layers
- substrate
- layer
- coating
- Prior art date
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 21
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 16
- RBORBHYCVONNJH-UHFFFAOYSA-K yttrium(iii) fluoride Chemical compound F[Y](F)F RBORBHYCVONNJH-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 14
- 229940105963 yttrium fluoride Drugs 0.000 claims abstract description 13
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 16
- KRHYYFGTRYWZRS-DYCDLGHISA-N deuterium fluoride Chemical compound [2H]F KRHYYFGTRYWZRS-DYCDLGHISA-N 0.000 description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 11
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- HSYFJDYGOJKZCL-UHFFFAOYSA-L zinc;sulfite Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])=O HSYFJDYGOJKZCL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 231100000171 higher toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
Изобретение относится к технической физике, а именно к полупрозрачным зеркалам с многослойным интерференционным покрытием, используемым в лазерной технике. Зеркало для лазера содержит подложку и нанесенное на нее многослойное диэлектрическое покрытие чередующихся слоев с высоким и низким показателями преломления с защитным слоем. Подложка выполнена из фтористого кальция с дополнительным защитным слоем. Толщины защитных слоев - первого и седьмого, считая от подложки, выполнены из фторида иттрия размером не более λ0/40. Остальные чередующиеся слои покрытия выполнены из селенида цинка и фторида иттрия, причем толщины второго слоя - размером, менее или равным λ0/2; а третьего, четвертого, пятого, шестого слоев - размером, равным λ0/4, где λ0 длина волны в середине спектрального диапазона длин волн 2700…4100 нм. Технический результат - создание полупрозрачного резонаторного зеркала, обеспечивающего высокоэффективную генерацию в широком спектральном диапазоне от 2700 до 4100 нм и имеющего коэффициент отражения зеркала R=70…80%. 2 ил.
Description
Область техники
Изобретение относится к технической физике, а именно к полупрозрачным зеркалам с многослойным интерференционным покрытием, используемым в лазерной технике.
Уровень техники
Известно, что зеркало для лазеров, выполненное в виде многослойного покрытия, состоящего из 3-15 или большего числа чередующихся слоев с высоким и низким показателями преломления, может повысить отражение от прозрачной подложки, например обычного оптического стекла, с 4 до 55-99%. Отражение растет по мере увеличения числа слоев покрытия тем значительнее, чем больше разница в показателях преломления слоев. При этом расчет спектрального отражения от поверхности с многослойной пленкой достаточно громоздок, с использованием различных счетно-решающих устройств. Максимальное значение коэффициента отражения дает многослойное покрытие, состоящее из чередующихся слоев высокого и низкого показателей преломления равной оптической толщины по четверти длины волны излучения. Покрытие может содержать как четное, так и нечетное число чередующихся слоев. Наиболее широко применяются покрытия с нечетным числом слоев, у которых крайние слои, граничащие с подложкой и окружающей средой, имеют высокий показатель преломления [1].
Известно диэлектрическое зеркало, состоящее из перемежающихся слоев двуокиси кремния и титана, нанесенных на подложку, и нанесенного на зеркало защитного слоя из двуокиси кремния с оптической толщиной λ/2, где λ - длина волны излучения [2].
Известно лазерное зеркало, содержащее подложку и нанесенное на нее многослойное диэлектрическое покрытия из перемежающихся слоев с низким и высоким коэффициентами преломления. Покрытие имеет защитный слой из двуокиси кремния, оптическая толщина которого равна полуволне излучения [3].
Недостатком этого зеркала является малая лучевая прочность, связанная с нагревом внешних слоев покрытия и защитного слоя из двуокиси кремния при поглощении в них части проходящего лазерного излучения, их дальнейшего расплава и выхода зеркала из строя.
Известно зеркало для лазеров, содержащее подложку и нанесенное на нее многослойное диэлектрическое покрытие с защитным слоем из двуокиси кремния, оптическая толщина каждого слоя которого равна полуволне излучения. Для повышения лучевой прочности зеркала на его защитный слой нанесен буферный слой из тугоплавкого прозрачного материала с оптической толщиной в 2-3 длины волны излучения [4].
Недостатком этого лазерного зеркала является то, что оно не может быть использовано для химического лазера, в частности с активной средой на основе возбужденных молекул фтористого водорода (HF) и фтористого дейтерия (DF).
Известно, что с активной средой на основе возбужденных молекул фтористого водорода (HF) и фтористого дейтерия (DF) область генерации этого лазера находится в спектральном диапазоне от 2700 до 4100 нм. Рабочая смесь химического лазера на основе обоих фторсодержащих компонентов с молекулами водорода (Н2) и дейтерия (D2) позволяет осуществить лазерную генерацию в широком спектральном диапазоне [5].
За прототип выбрано, как наиболее близкое по технической сущности, зеркало для лазеров, выполненное из многослойного покрытия, описанного в работе [4].
Недостатком данного зеркала является то, что оно не обладает устойчивостью к воздействию агрессивной химической среды, каковыми являются молекулы HF и DF и не позволяет осуществлять высокоэффективную генерацию в широком спектральном диапазоне, т.к. не обеспечивает значения коэффициента отражения 70-80% для длин волн от 2700 до 4100 нм.
Необходимым условием эффективной генерации лазера в широком спектральном диапазоне является наличие соответствующих широкополосных резонаторных зеркал. Особую технологическую проблему представляет изготовление выходного полупрозрачного зеркала такого лазера, поскольку оно не может быть изготовлено с использованием металлов и металлических пленок, а также диэлектрических и полупроводниковых материалов, обладающих поглощением в области генерации. Принципиальной трудностью при изготовлении подобного широкополосного зеркала является также то обстоятельство, что оно должно быть устойчиво к воздействию агрессивной химической среды, каковыми являются молекулы HF и DF.
Раскрытие изобретения
Технический результат
Техническим результатом изобретения является создание полупрозрачного резонаторного зеркала, обладающего устойчивостью к воздействию агрессивной химической среды, обеспечивающего значение коэффициента отражения зеркала, равное 70-80%, позволяющего осуществлять высокоэффективную генерацию в широком спектральном диапазоне.
Технический результат достигается тем, что зеркало для лазеров содержит подложку и нанесенное на нее многослойное диэлектрическое покрытие чередующихся слоев с высоким и низким показателями преломления с защитным слоем. Новым в зеркале является то, оно снабжено дополнительным защитным слоем, нанесенным на подложку из фтористого кальция. Оставшееся нечетное число чередующихся слоев покрытия выполнено из селенида цинка и фторида иттрия, причем толщины защитных слоев - первого и седьмого слоя, считая от подложки, выполнены из фторида иттрия размером, не более λ0/40, второго слоя - размером, менее или равным λ0/2; а третьего, четвертого, пятого, шестого слоев - размером, равным λ0/4, где λ0 длина волны в середине спектрального диапазона длин волн 2700…4100 нм.
Проведенные исследования использования интерференционных резонаторных зеркал лазеров на основе HF и DF показывают, что их химическая стойкость может быть существенно повышена с помощью защитного покрытия в виде слоя фторида металла. Для большей технологичности многослойной структуры зеркала оно должно быть двухкомпонентным, поэтому фторид металла следует использовать не только в качестве верхнего защитного покрытия, но и внутри интерференционной стопы в качестве чередующего слоя с низким показателем преломления. Известны следующие наиболее часто используемые в качестве пленкообразующих материалов фториды металлов: магния MgF2, стронция SrF2, бария BaF2, свинца PbF, иттрия YF3 [6-7]. Однако пленки из MgF2 в интересующем нас диапазоне длин волн обладают сильными растягивающими напряжениями, что приводит к растрескиванию многослойного покрытия; пленки SrF2 отличаются сильным диффузным рассеянием, вызывающим значительные потери оптической мощности; пленки BaF2 растворимы в воде, а пленки PbF2 обладают повышенной токсичностью, что затрудняет их практическое использование. Пленки из YF3 характеризуются высокой механической и температурной стабильностью, устойчивостью к агрессивной среде химического лазера, нетоксичны и нерастворимы в воде. Эти свойства фторида иттрия позволяют использовать его в качестве низкопреломляющего компонента многослойного интерференционного зеркала.
В качестве пленкообразующего вещества с высоким показателем преломления в среднем инфракрасном диапазоне длин волн излучения обычно используют сульфит и селенид цинка ZnS и ZnSe, а также полупроводниковые материалы Si и Ge [6-7]. Использование полупроводников в структуре выходного зеркала для химического лазера менее целесообразно, поскольку это понижает лучевую стойкость и затрудняет юстировку резонатора с помощью лазерных источников видимого диапазона по причине непрозрачности Si и Ge в видимой области. Селенид цинка более предпочтителен для использования в интерференционной структуре, чем сульфит цинка, поскольку селенид цинка обладает большим по сравнению с сульфитом цинка показателем преломления и, следовательно, позволяет создавать в паре с фторидом иттрия широкополосные покрытия.
Таким образом, по совокупности свойств селенид цинка и фторид иттрия являются оптимальным выбором компонент полупрозрачного зеркала химического лазера на основе молекул HF и DF. В качестве подложки для интерференционной стопы в рассматриваемом здесь спектральном диапазоне, как правило, используется флюорит кальция, отличающийся отсутствием поглощения, а также хорошей лучевой, механической и химической стойкостью [7]. Отобранные выше составляющие полупрозрачное зеркало материалы в области длин волн от 2700 до 4100 нм имеют следующие показатели преломления: селенид цинка n=2.42÷2.43; фторид иттрия n=1.50÷1.52; фторид кальция n=1.40÷1.42 [7].
Толщина защитных слоев многослойного покрытия из фторида иттрия размером не более λ0/40 выбрана достаточной для того, чтобы выполнить функцию защиты зеркала от агрессивной среды активного вещества лазера, не влиять на спектр отражения зеркала. Кроме того, наличие защитного слоя из фторида иттрия непосредственно на подложке защищает зеркало от последствий возможных процессов долговременной диффузии агрессивных компонентов рабочего вещества лазера вдоль границы раздела подложка - многослойное покрытие.
Толщина второго оптического слоя из селенида цинка экспериментально подобрана таким образом, чтобы максимально выровнять характеристику отражения в спектральном диапазоне 2700…4100 нм. В результате оптическая толщина второго слоя, равная λ0/2, в сочетании с оптической толщиной третьего, четвертого, пятого, шестого слоев - размером, равным λ0/4, где λ0 длина волны в середине спектрального диапазона длин волн 2700…4100 нм приводит к достижению вышеуказанному технического результату, а именно получению коэффициента отражения в спектральном диапазоне 2700…4100 нм, равного 70-80%.
Не обнаружены технические решения, совокупность признаков которых совпадает с совокупностью признаков заявляемого зеркала для лазеров, в том числе с отличительными признаками. Эта новая совокупность признаков обеспечивает получение технического результата, что позволяет сделать вывод о соответствии заявляемого изобретения критерию «изобретательский уровень».
На фиг.1 представлена спектральная зависимость коэффициента отражения зеркала при выполнении покрытия из чередующихся слоев селенида цинка и фторида иттрия с оптической толщиной, равной λ0/4. Из фиг.1 видно, что коэффициент отражения в спектральном диапазоне 2700…4100 нм неравномерен и равен 35-87%.
На фиг.2 представлена спектральная зависимость коэффициента отражения заявляемого зеркала при нормальном падении лучей.
Зеркало для лазера, преимущественно для рабочих веществ HF и DF, содержащее подложку из фтористого кальция с нанесенным на одну ее сторону многослойным покрытием из семи чередующихся слоев фторида иттрия и селенида цинка, причем первый и седьмой слои выполнены из фторида иттрия. При этом оптические толщины первого и седьмого слоя, считая от подложки, выполнены размером не более λ0/40, второго слоя - размером, равным λ0/2; а третьего, четвертого, пятого, шестого слоев - размером, равным λ0/4, где λ0 длина волны в середине спектрального диапазона длин волн от 2700 до 4100 нм.
Предлагаемая конструкция выходного зеркала для химического лазера на основе HF/DF практически реализована нанесением в вакууме методом электронно-лучевого испарения пленкообразующих материалов ZnSe и YF3 на одну поверхность плоскопараллельной подложки CaF2 диаметром 25 мм и толщиной 7 мм. Необходимые значения показателей преломления, входящих в состав заявляемого покрытия компонент, достигались подбором оптимальных условий нанесения: температурой и скоростью осаждения пленок, а также значением давления остаточных газов в камере. Оптические толщины слоев контролировались фотометрическим методом по пропусканию неподвижной тестовой подложки.
Выходные зеркала по предлагаемому техническому решению прошли ресурсные испытания внутри резонатора химического лазера на основе HF/DF. Результаты испытаний свидетельствуют о том, что заявляемая конструкция полупрозрачных зеркал обладает необходимой лучевой, механической, климатической и химической стойкостью и позволяет осуществлять высокоэффективную лазерную генерацию в широком спектральном диапазоне от 2700 до 4100 нм. Уровень выходной мощности лазера свидетельствует о близости параметров выходной зеркала к требуемым значениям.
Изобретение найдет применение для лазеров-локаторов, лазерных систем, предназначенных для газоанализа и зондирования земной атмосферы, а также для физических исследовательских установок.
Источники информации
1. Т.Н.Крылова «Интерференционные покрытия», Л., «Машиностроение», 1973, с.224;
2. Авторское свидетельство СССР №789452, кл. С03С 17/34, опубл. 23.12.1980, БИ №47.
3. Технологическая инструкция. Покрытия оптические для ОКГ, ИАБ-50-74. Государственный оптический институт, 1976, с.12.
4. Патент RU №2059331, кл. Н01S 3/08 опубл.27.04.96.
5. С.Д.Великанов, А.С.Елутин, А.Ф.Запольский и др. «Широкополосный химический лазер, работающий одновременно на возбужденных молекулах HF и DF». Квантовая электроника", 18, № 2 (1991 г.), с.186.
6. Э.Риттер «Пленочные диэлектрические материалы для оптических применений», Физ. тонк. пл., том 8, М., «Мир», 1978, с.7-60;
7. Е.М.Воронкова, Б.Н.Гречушников, Г.И.Дистлер, И.П.Петров «Оптические материалы для инфракрасной техники», М., «Наука», 1965, с.87-91.
Claims (1)
- Зеркало для лазеров, содержащее подложку и нанесенное на нее многослойное диэлектрическое покрытие чередующихся слоев с высоким и низким показателями преломления с защитным слоем, отличающееся тем, что оно снабжено дополнительным защитным слоем, нанесенным на подложку из фтористого кальция, толщины защитных слоев - первого и седьмого, считая от подложки, выполнены из фторида иттрия размером не более λ0/40, остальные чередующиеся слои покрытия выполнены из селенида цинка и фторида иттрия, причем толщины второго слоя - размером менее или равным λ0/2; а третьего, четвертого, пятого, шестого слоев - размером, равным λ0/4, где λ0 длина волны в середине спектрального диапазона длин волн 2700…4100 нм.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2007133117/28A RU2348092C1 (ru) | 2007-09-03 | 2007-09-03 | Зеркало для лазеров |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2007133117/28A RU2348092C1 (ru) | 2007-09-03 | 2007-09-03 | Зеркало для лазеров |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2348092C1 true RU2348092C1 (ru) | 2009-02-27 |
Family
ID=40529981
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2007133117/28A RU2348092C1 (ru) | 2007-09-03 | 2007-09-03 | Зеркало для лазеров |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2348092C1 (ru) |
-
2007
- 2007-09-03 RU RU2007133117/28A patent/RU2348092C1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Rodríguez-de Marcos et al. | Self-consistent optical constants of MgF2, LaF3, and CeF3 films | |
Al-Kuhaili | Optical properties of hafnium oxide thin films and their application in energy-efficient windows | |
Hass | Reflectance and preparation of front-surface mirrors for use at various angles of incidence from the ultraviolet to the far infrared | |
US4925259A (en) | Multilayer optical dielectric coating | |
US5991081A (en) | Anti-reflection coatings and coated articles | |
Torchio et al. | High-reflectivity HfO2/SiO2 ultraviolet mirrors | |
US20220373723A1 (en) | Optical element having a protective coating, method for the production thereof and optical arrangement | |
Zheng et al. | Optical properties of sputter-deposited cerium oxyfluoride thin films | |
RU2348092C1 (ru) | Зеркало для лазеров | |
JP7041424B2 (ja) | 薄膜の形成方法及び光学素子 | |
Chow et al. | Critical field patterns in optical Fibonacci multilayers | |
EP0402429A1 (en) | Multilayer optical dielectric coating | |
Shuzhen et al. | High-reflectance 193 nm Al2O3/MgF2 mirrors | |
JP2000034557A (ja) | 近赤外線用増反射膜および製造方法 | |
Fernández-Perea et al. | Vacuum ultraviolet coatings of Al protected with MgF2 prepared both by ion-beam sputtering and by evaporation | |
SRS Praveen Kumar et al. | Design and development of an optical reflective notch filter using the ion assisted deposition technique with stepwise modulated thickness for avionics applications | |
JP7157976B2 (ja) | 薄膜の形成方法及び多孔性薄膜 | |
Glebov et al. | Optical properties of complex fluoride films obtained using vacuum electron-beam evaporation | |
Zvorykin et al. | Towards high-optical-strength, fluorine-resistant coatings for intracavity KrF laser optics | |
Fulton et al. | Approaches explored for producing a variety of ion-assisted deposited thin film coatings using an end-Hall ion source | |
Yudin et al. | Development of a dichroic mirror based on Nb2O5/SiO2 for LiDAR systems | |
Kotlikov et al. | Study of optical constants of PbTe and GeTe films | |
Bellum et al. | Reactive, ion-assisted deposition of e-beam evaporated ti for high refractive index TiO2 layers and laser damage resistant, broad bandwidth, high reflection coatings | |
Zhang et al. | Anti-reflection coating on calcium fluoride substrate using ion-assisted deposition | |
Tseng et al. | Comparison of Measurement and Electromagnetic Overall Transfer Matrix Simulation Results of MgF 2-Nb 2 O 5 Distributed Bragg Reflectors with Different Layers |