JP2000034557A - 近赤外線用増反射膜および製造方法 - Google Patents
近赤外線用増反射膜および製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 少ないコーティング層数で高い反射率が得ら
れ、しかも十分な膜付着強度と耐環境性を備えた近赤外
線用反射鏡の増反射膜およびその製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 Ｃｕ、Ｓｉ、ＢＫ−７ガラス又は石英ガ
ラスからなる基材の表面にＣｒ、Ｔｉ又はＮｉ層を介し
てＡｕ膜をコートした基板上にＺｎＳｅ又はＺｎＳより
なるバッファー層を設け、その上にＹＦ3 、ＹｂＦ3 又
はＤｙＦ3 のいずれか１種よりなる低屈折率層とＺｎＳ
ｅ又はＺｎＳよりなる高屈折率層とを交互に形成させて
なることを特徴とする近赤外線用増反射膜、およびその
製造方法。
れ、しかも十分な膜付着強度と耐環境性を備えた近赤外
線用反射鏡の増反射膜およびその製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 Ｃｕ、Ｓｉ、ＢＫ−７ガラス又は石英ガ
ラスからなる基材の表面にＣｒ、Ｔｉ又はＮｉ層を介し
てＡｕ膜をコートした基板上にＺｎＳｅ又はＺｎＳより
なるバッファー層を設け、その上にＹＦ3 、ＹｂＦ3 又
はＤｙＦ3 のいずれか１種よりなる低屈折率層とＺｎＳ
ｅ又はＺｎＳよりなる高屈折率層とを交互に形成させて
なることを特徴とする近赤外線用増反射膜、およびその
製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は近赤外線用反射鏡の
増反射膜およびその製造方法に関する。
増反射膜およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】発振波長１．０６μｍのＹＡＧレーザ用
反射鏡などの近赤外線用反射鏡は、ＢＫ−７ガラス（商
品名：硼珪クラウンガラス）や石英ガラスなどの基材の
表面に、必要によりＡｕ膜をコートした基板（反射鏡の
部材）上に、誘電体の多層膜（高屈折率材料の膜と低屈
折率材料の膜とを交互に積層した増反射コーティング
膜）をコーティングすることにより反射率を高めた構造
となっている。増反射コーティング膜は散乱損失および
吸収損失をできるだけ少なくする必要があり、低屈折率
材料としてはＳｉＯ2 が、高屈折率材料としてはＴｉＯ
2 、Ｔａ2 Ｏ5 又はＨｆＯ2 などが用いられている。従
来の近赤外線用反射鏡の膜構造の１例を図２に示すが、
ＢＫ−７ガラスや石英ガラスからなる基材１の表面にＴ
ｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 又はＨｆＯ2 などの高屈折率材料の
膜からなる高屈折率層３と、ＳｉＯ2 などの低屈折率材
料の膜からなる低屈折率層２とが交互に１５層以上積層
された構造となっており、反射率は９９．０％以上とな
っている。増反射膜はそれぞれの膜の界面での反射を利
用して反射率を高めている。従って界面が多いほど（膜
の層数が多いほど）高反射率となる。また、界面での反
射の大小は膜材料の屈折率の差で決まり、その差が大き
いほど反射率は大きくなる。従来多用されている低屈折
率膜材料であるＳｉＯ2 の屈折率は１．５、高屈折率膜
材料であるＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 およびＨｆＯ2 の屈折
率はそれぞれ２．２、２．１および１．９であり、９
９．０％以上の反射率を得るためには１５層以上、９
９．５％以上の反射率を達成するためには２１層以上が
必要とされている。
反射鏡などの近赤外線用反射鏡は、ＢＫ−７ガラス（商
品名：硼珪クラウンガラス）や石英ガラスなどの基材の
表面に、必要によりＡｕ膜をコートした基板（反射鏡の
部材）上に、誘電体の多層膜（高屈折率材料の膜と低屈
折率材料の膜とを交互に積層した増反射コーティング
膜）をコーティングすることにより反射率を高めた構造
となっている。増反射コーティング膜は散乱損失および
吸収損失をできるだけ少なくする必要があり、低屈折率
材料としてはＳｉＯ2 が、高屈折率材料としてはＴｉＯ
2 、Ｔａ2 Ｏ5 又はＨｆＯ2 などが用いられている。従
来の近赤外線用反射鏡の膜構造の１例を図２に示すが、
ＢＫ−７ガラスや石英ガラスからなる基材１の表面にＴ
ｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 又はＨｆＯ2 などの高屈折率材料の
膜からなる高屈折率層３と、ＳｉＯ2 などの低屈折率材
料の膜からなる低屈折率層２とが交互に１５層以上積層
された構造となっており、反射率は９９．０％以上とな
っている。増反射膜はそれぞれの膜の界面での反射を利
用して反射率を高めている。従って界面が多いほど（膜
の層数が多いほど）高反射率となる。また、界面での反
射の大小は膜材料の屈折率の差で決まり、その差が大き
いほど反射率は大きくなる。従来多用されている低屈折
率膜材料であるＳｉＯ2 の屈折率は１．５、高屈折率膜
材料であるＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 およびＨｆＯ2 の屈折
率はそれぞれ２．２、２．１および１．９であり、９
９．０％以上の反射率を得るためには１５層以上、９
９．５％以上の反射率を達成するためには２１層以上が
必要とされている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記従来技術において
は散乱損失および吸収損失の点では満足できるものの、
膜の層数を多くする必要があり、製造上問題がある。本
発明者は低屈折率材としてＳｉＯ2 よりも屈折率の小さ
いＹＦ3 やＹｂＦ3を用いた、透過部材又は反射部材か
らなる基材の表面に低屈折率材および高屈折率材からな
るコーティング膜を形成させた赤外線用光学部品を開発
し、提案している（特開平７−３３１４１２号公報）。
この公報には、ＡｕをコートしたＳｉ又はＣｕ基板上
に、低屈折率材であるＹＦ3 やＹｂＦ3 の膜と、高屈折
率材であるＺｎＳｅ又はＺｎＳの膜とを交互に積層した
増反射膜も開示されている。しかしながら、Ａｕをコー
トしたＳｉ又はＣｕ基板上に前記ＹＦ3 やＹｂＦ3のコ
ーティング膜を形成させた場合、膜の付着強度が低いと
いう問題があった。本発明はこのような従来技術の実状
に鑑み、少ない層数で高い反射率が得られ、しかも十分
な膜付着強度と耐環境性を備えた近赤外線用反射鏡の増
反射膜およびその製造方法を提供することを目的とす
る。
は散乱損失および吸収損失の点では満足できるものの、
膜の層数を多くする必要があり、製造上問題がある。本
発明者は低屈折率材としてＳｉＯ2 よりも屈折率の小さ
いＹＦ3 やＹｂＦ3を用いた、透過部材又は反射部材か
らなる基材の表面に低屈折率材および高屈折率材からな
るコーティング膜を形成させた赤外線用光学部品を開発
し、提案している（特開平７−３３１４１２号公報）。
この公報には、ＡｕをコートしたＳｉ又はＣｕ基板上
に、低屈折率材であるＹＦ3 やＹｂＦ3 の膜と、高屈折
率材であるＺｎＳｅ又はＺｎＳの膜とを交互に積層した
増反射膜も開示されている。しかしながら、Ａｕをコー
トしたＳｉ又はＣｕ基板上に前記ＹＦ3 やＹｂＦ3のコ
ーティング膜を形成させた場合、膜の付着強度が低いと
いう問題があった。本発明はこのような従来技術の実状
に鑑み、少ない層数で高い反射率が得られ、しかも十分
な膜付着強度と耐環境性を備えた近赤外線用反射鏡の増
反射膜およびその製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は（１）Ｃｕ、Ｓ
ｉ、ＢＫ−７ガラス又は石英ガラスからなる基材の表面
にＣｒ、Ｔｉ又はＮｉ層を介してＡｕ膜をコートした基
板上にＺｎＳｅ又はＺｎＳよりなるバッファー層を設
け、その上にＹＦ3 、ＹｂＦ3 又はＤｙＦ3 のいずれか
１種よりなる低屈折率層とＺｎＳｅ又はＺｎＳよりなる
高屈折率層とを交互に形成させてなることを特徴とする
近赤外線用増反射膜、（２）前記低屈折率層と高屈折率
層の層数がそれぞれ３〜４層であることを特徴とする前
記（１）の近赤外線用増反射膜、および（３）Ｃｕ、Ｓ
ｉ、ＢＫ−７ガラス又は石英ガラスからなる基材の表面
にＣｒ、Ｔｉ又はＮｉ層を介してＡｕ膜をコートした基
板を１２０〜１８０℃に加熱し、該温度範囲に保持しな
がらＺｎＳｅ又はＺｎＳを蒸着させてバッファー層を形
成し、さらに前記温度範囲に維持しながらＹＦ3 、Ｙｂ
Ｆ3 又はＤｙＦ3 のいずれか１種とＺｎＳｅ又はＺｎＳ
とを交互に蒸着させ、ＹＦ3 、ＹｂＦ3 又はＤｙＦ3 の
いずれか１種よりなる低屈折率層とＺｎＳｅ又はＺｎＳ
よりなる高屈折率層とを交互に形成させることを特徴と
する近赤外線用増反射膜の製造方法である。
ｉ、ＢＫ−７ガラス又は石英ガラスからなる基材の表面
にＣｒ、Ｔｉ又はＮｉ層を介してＡｕ膜をコートした基
板上にＺｎＳｅ又はＺｎＳよりなるバッファー層を設
け、その上にＹＦ3 、ＹｂＦ3 又はＤｙＦ3 のいずれか
１種よりなる低屈折率層とＺｎＳｅ又はＺｎＳよりなる
高屈折率層とを交互に形成させてなることを特徴とする
近赤外線用増反射膜、（２）前記低屈折率層と高屈折率
層の層数がそれぞれ３〜４層であることを特徴とする前
記（１）の近赤外線用増反射膜、および（３）Ｃｕ、Ｓ
ｉ、ＢＫ−７ガラス又は石英ガラスからなる基材の表面
にＣｒ、Ｔｉ又はＮｉ層を介してＡｕ膜をコートした基
板を１２０〜１８０℃に加熱し、該温度範囲に保持しな
がらＺｎＳｅ又はＺｎＳを蒸着させてバッファー層を形
成し、さらに前記温度範囲に維持しながらＹＦ3 、Ｙｂ
Ｆ3 又はＤｙＦ3 のいずれか１種とＺｎＳｅ又はＺｎＳ
とを交互に蒸着させ、ＹＦ3 、ＹｂＦ3 又はＤｙＦ3 の
いずれか１種よりなる低屈折率層とＺｎＳｅ又はＺｎＳ
よりなる高屈折率層とを交互に形成させることを特徴と
する近赤外線用増反射膜の製造方法である。
【０００５】
【発明の実施の態様】本発明の近赤外線用増反射膜はＣ
ｕ、Ｓｉ、ＢＫ−７ガラス又は石英ガラスからなる基材
の表面にＡｕ膜の付着力を向上させるためのＣｒ、Ｔｉ
又はＮｉ層を介してＡｕ膜をコーティングしたものを基
板とし、この上にＹＦ3 、ＹｂＦ3 又はＤｙＦ3 のいず
れか１種よりなる低屈折率層とＺｎＳｅ又はＺｎＳより
なる高屈折率層とを交互に形成させて反射率を向上させ
ている。さらに本発明の近赤外線用増反射膜において
は、前記低屈折率層と高屈折率層とが交互に形成された
増反射コーティング膜と前記基板との間に、厚さ６０〜
８０ｎｍのＺｎＳｅ又はＺｎＳよりなるバッファー層が
設けられている点が最大の特徴である。このバッファー
層を設けることにより、基板と増反射コーティング膜と
の付着力が向上する。通常、バッファー層を設けると光
学的特性（反射率）が低下するが、本発明においては、
バッファー層の材料としてＺｎＳｅ又はＺｎＳを使用
し、上記のような厚み範囲とすることにより光学的特性
の低下を抑え、付着力を向上させている。バッファー層
の厚みが上記範囲を外れるとバッファー層としての効果
が小さくなり、膜が剥離しやすくなる。
ｕ、Ｓｉ、ＢＫ−７ガラス又は石英ガラスからなる基材
の表面にＡｕ膜の付着力を向上させるためのＣｒ、Ｔｉ
又はＮｉ層を介してＡｕ膜をコーティングしたものを基
板とし、この上にＹＦ3 、ＹｂＦ3 又はＤｙＦ3 のいず
れか１種よりなる低屈折率層とＺｎＳｅ又はＺｎＳより
なる高屈折率層とを交互に形成させて反射率を向上させ
ている。さらに本発明の近赤外線用増反射膜において
は、前記低屈折率層と高屈折率層とが交互に形成された
増反射コーティング膜と前記基板との間に、厚さ６０〜
８０ｎｍのＺｎＳｅ又はＺｎＳよりなるバッファー層が
設けられている点が最大の特徴である。このバッファー
層を設けることにより、基板と増反射コーティング膜と
の付着力が向上する。通常、バッファー層を設けると光
学的特性（反射率）が低下するが、本発明においては、
バッファー層の材料としてＺｎＳｅ又はＺｎＳを使用
し、上記のような厚み範囲とすることにより光学的特性
の低下を抑え、付着力を向上させている。バッファー層
の厚みが上記範囲を外れるとバッファー層としての効果
が小さくなり、膜が剥離しやすくなる。
【０００６】低屈折率膜材料であるＹＦ3 、ＹｂＦ3 お
よびＤｙＦ3 の屈折率はいずれも１．３８であり、高屈
折率膜材料であるＺｎＳｅおよびＺｎＳの屈折率はそれ
ぞれ２．５および２．３である。そのため従来使用され
ている低屈折率膜材料であるＳｉＯ2 と高屈折率膜材料
であるＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 又はＨｆＯ2 との組み合わ
せの場合に比較して屈折率差が大きいので、少ない層数
の増反射コーティング膜で高反射率が得られ、低屈折率
層と高屈折率層がそれぞれ３層の合計６層で９９．０％
以上、それぞれ４層の合計８層とすることで９９．５％
以上の高反射率を得ることができる。各低屈折率層及び
高屈折率層の厚みは対象とする近赤外線の波長及び入射
角によって異なるが、波長λ、膜材料の屈折率がｎで光
が垂直に入射する場合には、それぞれの層の厚みがほぼ
λ／（４・ｎ）となるようにする。例えば、波長１０６
２ｎｍのＹＡＧレーザで、レーザ光線の入射角が４５°
であり、低屈折率膜材料としてＹｂＦ3 、高屈折率膜材
料としてＺｎＳｅを使用する場合、低屈折率層及び高屈
折率層の厚みはそれぞれ２０９ｎｍ及び１１１ｎｍとす
ればよい。
よびＤｙＦ3 の屈折率はいずれも１．３８であり、高屈
折率膜材料であるＺｎＳｅおよびＺｎＳの屈折率はそれ
ぞれ２．５および２．３である。そのため従来使用され
ている低屈折率膜材料であるＳｉＯ2 と高屈折率膜材料
であるＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 又はＨｆＯ2 との組み合わ
せの場合に比較して屈折率差が大きいので、少ない層数
の増反射コーティング膜で高反射率が得られ、低屈折率
層と高屈折率層がそれぞれ３層の合計６層で９９．０％
以上、それぞれ４層の合計８層とすることで９９．５％
以上の高反射率を得ることができる。各低屈折率層及び
高屈折率層の厚みは対象とする近赤外線の波長及び入射
角によって異なるが、波長λ、膜材料の屈折率がｎで光
が垂直に入射する場合には、それぞれの層の厚みがほぼ
λ／（４・ｎ）となるようにする。例えば、波長１０６
２ｎｍのＹＡＧレーザで、レーザ光線の入射角が４５°
であり、低屈折率膜材料としてＹｂＦ3 、高屈折率膜材
料としてＺｎＳｅを使用する場合、低屈折率層及び高屈
折率層の厚みはそれぞれ２０９ｎｍ及び１１１ｎｍとす
ればよい。
【０００７】本発明の近赤外線用増反射膜の膜構造の１
例を図１に示す。この例ではＣｕ、Ｓｉ、ＢＫ−７ガラ
ス又は石英ガラスからなる基材１の表面にＣｒ層５を介
してＡｕ膜６をコートした基板上に、ＺｎＳｅ又はＺｎ
Ｓのバッファー層７を設け、その上にＹＦ3 、ＹｂＦ3
又はＤｙＦ3 からなる低屈折率層２とＺｎＳｅ又はＺｎ
Ｓからなる高屈折率層３とが交互に各４層、合計８層積
層された構造となっている。
例を図１に示す。この例ではＣｕ、Ｓｉ、ＢＫ−７ガラ
ス又は石英ガラスからなる基材１の表面にＣｒ層５を介
してＡｕ膜６をコートした基板上に、ＺｎＳｅ又はＺｎ
Ｓのバッファー層７を設け、その上にＹＦ3 、ＹｂＦ3
又はＤｙＦ3 からなる低屈折率層２とＺｎＳｅ又はＺｎ
Ｓからなる高屈折率層３とが交互に各４層、合計８層積
層された構造となっている。
【０００８】本発明の近赤外線用増反射膜は例えば次の
ようにして製造することができる。Ｃｕ、Ｓｉ、ＢＫ−
７ガラス又は石英ガラスからなる基材の表面にＣｒ、Ｔ
ｉ又はＮｉ層を介してＡｕ膜をコートした基板を、図３
に示す構成の真空蒸着装置の真空チャンバ１１内に入
れ、高真空に排気しヒータ１２により１２０〜１８０℃
に加熱し、同温度範囲に保持しながらＺｎＳｅ又はＺｎ
Ｓを蒸着させて厚さ６０〜８０ｎｍのバッファー層を形
成させる。このバッファー層の上に、さらに前記温度範
囲に維持しながら低屈折率膜材料であるＹＦ3 、ＹｂＦ
3 又はＤｙＦ3のいずれか１種と高屈折率膜材料である
ＺｎＳｅ又はＺｎＳとを交互に蒸着させ、低屈折率層と
高屈折率層とを交互に形成させる。各膜材料は電子ビー
ム蒸発源（ＥＢ蒸発源）１４から基板１３に蒸着され
る。図３中の１５はシャッターである。真空蒸着の際の
基板温度が１２０℃未満では膜の付着強度が十分でな
く、また１８０℃を超えると付着強度が低下するほか、
膜の表面に荒れが発生する。
ようにして製造することができる。Ｃｕ、Ｓｉ、ＢＫ−
７ガラス又は石英ガラスからなる基材の表面にＣｒ、Ｔ
ｉ又はＮｉ層を介してＡｕ膜をコートした基板を、図３
に示す構成の真空蒸着装置の真空チャンバ１１内に入
れ、高真空に排気しヒータ１２により１２０〜１８０℃
に加熱し、同温度範囲に保持しながらＺｎＳｅ又はＺｎ
Ｓを蒸着させて厚さ６０〜８０ｎｍのバッファー層を形
成させる。このバッファー層の上に、さらに前記温度範
囲に維持しながら低屈折率膜材料であるＹＦ3 、ＹｂＦ
3 又はＤｙＦ3のいずれか１種と高屈折率膜材料である
ＺｎＳｅ又はＺｎＳとを交互に蒸着させ、低屈折率層と
高屈折率層とを交互に形成させる。各膜材料は電子ビー
ム蒸発源（ＥＢ蒸発源）１４から基板１３に蒸着され
る。図３中の１５はシャッターである。真空蒸着の際の
基板温度が１２０℃未満では膜の付着強度が十分でな
く、また１８０℃を超えると付着強度が低下するほか、
膜の表面に荒れが発生する。
【０００９】本発明の近赤外線用増反射膜は波長８５０
〜２５００ｎｍの近赤外線に対し高い反射率を示し、膜
の付着性及び耐環境性に優れた増反射膜であり、ＹＡＧ
レーザ用反射鏡の増反射膜などの用途に有用なものであ
る。
〜２５００ｎｍの近赤外線に対し高い反射率を示し、膜
の付着性及び耐環境性に優れた増反射膜であり、ＹＡＧ
レーザ用反射鏡の増反射膜などの用途に有用なものであ
る。
【００１０】
【実施例】以下実施例により本発明をさらに具体的に説
明する。 （実施例１）Ｃｕの表面にＣｒ層を介してＡｕ膜をコー
トした基板の表面に、表１に示す膜構成のバッファー層
と低屈折率層および高屈折率層を形成させた試料を作製
した。また、比較のためバッファー層を設けない試料を
作製した。、得られた近赤外線用増反射膜の試料１〜１
５について反射率及び付着強度の測定と外観観察を行っ
た。なお、バッファー層の厚みは６２ｎｍ、各低屈折率
層（ＹｂＦ3 、ＹＦ3又はＤｙＦ3 ）の厚みは２０９ｎ
ｍ、高屈折率層の厚みはＺｎＳｅは１１１ｎｍ、ＺｎＳ
は１１４ｎｍとした。蒸着時の基板温度および測定、観
察結果を表１に示す。表１において、反射率は分光光度
計により波長１．０６μｍの近赤外線の反射率を測定
し、付着強度はセロハンテープを貼り付けてゆっくりと
剥がすテープテストにより、膜剥離が発生しないものを
○、膜剥離が発生したものを×とした。外観は目視によ
り表面が鏡面状態であるものを○、表面がざらついて白
色に見えるものを×とした。また、水を張った超音波洗
浄機に入れて超音波を作用させる耐環境性（耐水性）試
験を行い、１０分間の処理で変化のないものを○、膜の
表面が白く荒れるか、あるいは剥離したものを×とし
た。さらに、得られた本発明の試料（Ｎｏ．１、５、
９、１３、１４、１５）について反射スペクトル（入射
角４５°）を測定した結果を図４〜図９に示す。
明する。 （実施例１）Ｃｕの表面にＣｒ層を介してＡｕ膜をコー
トした基板の表面に、表１に示す膜構成のバッファー層
と低屈折率層および高屈折率層を形成させた試料を作製
した。また、比較のためバッファー層を設けない試料を
作製した。、得られた近赤外線用増反射膜の試料１〜１
５について反射率及び付着強度の測定と外観観察を行っ
た。なお、バッファー層の厚みは６２ｎｍ、各低屈折率
層（ＹｂＦ3 、ＹＦ3又はＤｙＦ3 ）の厚みは２０９ｎ
ｍ、高屈折率層の厚みはＺｎＳｅは１１１ｎｍ、ＺｎＳ
は１１４ｎｍとした。蒸着時の基板温度および測定、観
察結果を表１に示す。表１において、反射率は分光光度
計により波長１．０６μｍの近赤外線の反射率を測定
し、付着強度はセロハンテープを貼り付けてゆっくりと
剥がすテープテストにより、膜剥離が発生しないものを
○、膜剥離が発生したものを×とした。外観は目視によ
り表面が鏡面状態であるものを○、表面がざらついて白
色に見えるものを×とした。また、水を張った超音波洗
浄機に入れて超音波を作用させる耐環境性（耐水性）試
験を行い、１０分間の処理で変化のないものを○、膜の
表面が白く荒れるか、あるいは剥離したものを×とし
た。さらに、得られた本発明の試料（Ｎｏ．１、５、
９、１３、１４、１５）について反射スペクトル（入射
角４５°）を測定した結果を図４〜図９に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】表１の結果から、低屈折率層および高屈折
率層をそれぞれ３層としたものでは、低屈折率層および
高屈折率層からなる増反射コーティング膜と基板との間
にバッファー層を設け、基板温度１６０℃でコーティン
グ膜の蒸着を行った試料Ｎｏ．１および５は反射率が９
９．０％以上で外観、付着強度、耐環境性（耐水性）と
もに良好な結果を示した。しかしながら、同様にバッフ
ァー層を設けたものであっても、蒸着の際の基板温度が
１００℃と低い試料Ｎｏ．２および６では反射率が９
９．０％以上で外観も良好であったが、付着強度が低
く、耐環境性が悪くなり、蒸着の際の基板温度が２００
℃と高い試料Ｎｏ．３および７では反射率および付着強
度が低下し、外観及び耐環境性も悪くなっていることが
わかる。また、バッファー層を設けなかった試料Ｎｏ．
４および８では、基板温度が１６０℃であっても良好な
付着強度が得られないことがわかる。
率層をそれぞれ３層としたものでは、低屈折率層および
高屈折率層からなる増反射コーティング膜と基板との間
にバッファー層を設け、基板温度１６０℃でコーティン
グ膜の蒸着を行った試料Ｎｏ．１および５は反射率が９
９．０％以上で外観、付着強度、耐環境性（耐水性）と
もに良好な結果を示した。しかしながら、同様にバッフ
ァー層を設けたものであっても、蒸着の際の基板温度が
１００℃と低い試料Ｎｏ．２および６では反射率が９
９．０％以上で外観も良好であったが、付着強度が低
く、耐環境性が悪くなり、蒸着の際の基板温度が２００
℃と高い試料Ｎｏ．３および７では反射率および付着強
度が低下し、外観及び耐環境性も悪くなっていることが
わかる。また、バッファー層を設けなかった試料Ｎｏ．
４および８では、基板温度が１６０℃であっても良好な
付着強度が得られないことがわかる。
【００１３】また、低屈折率層および高屈折率層をそれ
ぞれ４層としたものでは、バッファー層を設け、基板温
度１６０℃でコーティング膜の蒸着を行った試料Ｎｏ．
９、１３、１４及び１５は反射率が９９．５％以上で外
観、付着強度、耐環境性ともに良好な結果を示した。し
かしながら、同様にバッファー層を設けたものであって
も、蒸着の際の基板温度が１００℃と低い試料Ｎｏ．１
０では反射率が９９．５％以上で外観も良好であった
が、付着強度が低く、耐環境性が悪化し、蒸着の際の基
板温度が２００℃と高い試料Ｎｏ．１１では反射率およ
び付着強度が低下し、外観及び耐環境性も悪くなってい
ることがわかる。また、バッファー層を設けなかった試
料Ｎｏ．１２では、基板温度が１６０℃であっても良好
な付着強度は得られなかった。
ぞれ４層としたものでは、バッファー層を設け、基板温
度１６０℃でコーティング膜の蒸着を行った試料Ｎｏ．
９、１３、１４及び１５は反射率が９９．５％以上で外
観、付着強度、耐環境性ともに良好な結果を示した。し
かしながら、同様にバッファー層を設けたものであって
も、蒸着の際の基板温度が１００℃と低い試料Ｎｏ．１
０では反射率が９９．５％以上で外観も良好であった
が、付着強度が低く、耐環境性が悪化し、蒸着の際の基
板温度が２００℃と高い試料Ｎｏ．１１では反射率およ
び付着強度が低下し、外観及び耐環境性も悪くなってい
ることがわかる。また、バッファー層を設けなかった試
料Ｎｏ．１２では、基板温度が１６０℃であっても良好
な付着強度は得られなかった。
【００１４】（実施例２）実施例１で得た試料９と従来
品（石英ガラス基板にＳｉＯ2 ／ＴｉＯ2 の膜組成で層
数は２０層、反射率９９．５％以上）を使用して耐光強
度試験を行った。試験はＹＡＧレーザ光（波長１０６２
ｎｍ）をレンズで集光し、集光位置に試料をセットして
レーザ光を１秒間照射し、損傷の有無を目視及び顕微鏡
で観察することによって行った。レーザ光照射位置での
ビーム径は１〜１．４ｍｍ（楕円）、入射角は４５°と
した。最大出力である１．５ｋＷのレーザ光を照射（照
射されるエネルギー密度は１３５ｋＷ／ｃｍ2 ）した結
果、試料９及び従来品ともに損傷は発生しなかった。通
常の使用条件で照射されるレーザ光のエネルギー密度は
最大でも数ｋＷ／ｃｍ 2 であることから、本発明に係る
増反射膜は十分な耐光性を有していることがわかる。
品（石英ガラス基板にＳｉＯ2 ／ＴｉＯ2 の膜組成で層
数は２０層、反射率９９．５％以上）を使用して耐光強
度試験を行った。試験はＹＡＧレーザ光（波長１０６２
ｎｍ）をレンズで集光し、集光位置に試料をセットして
レーザ光を１秒間照射し、損傷の有無を目視及び顕微鏡
で観察することによって行った。レーザ光照射位置での
ビーム径は１〜１．４ｍｍ（楕円）、入射角は４５°と
した。最大出力である１．５ｋＷのレーザ光を照射（照
射されるエネルギー密度は１３５ｋＷ／ｃｍ2 ）した結
果、試料９及び従来品ともに損傷は発生しなかった。通
常の使用条件で照射されるレーザ光のエネルギー密度は
最大でも数ｋＷ／ｃｍ 2 であることから、本発明に係る
増反射膜は十分な耐光性を有していることがわかる。
【００１５】
【発明の効果】本発明の近赤外線用増反射膜は層数が少
なく製造が容易で、しかも高い反射率を有しており、さ
らに膜の付着力が高く耐環境性に優れたものである。ま
た、本発明の製造方法によれば前記近赤外線用増反射膜
を容易に製造することができる。
なく製造が容易で、しかも高い反射率を有しており、さ
らに膜の付着力が高く耐環境性に優れたものである。ま
た、本発明の製造方法によれば前記近赤外線用増反射膜
を容易に製造することができる。
【図１】本発明の近赤外線用増反射膜の膜構造の１例を
示す断面図。
示す断面図。
【図２】従来技術による近赤外線用増反射膜の膜構造の
１例を示す断面図。
１例を示す断面図。
【図３】本発明の近赤外線用増反射膜を製造するための
真空蒸着装置の構成を模式的に示す図。
真空蒸着装置の構成を模式的に示す図。
【図４】実施例１で作製した試料１の反射スペクトルを
示す図。
示す図。
【図５】実施例１で作製した試料５の反射スペクトルを
示す図。
示す図。
【図６】実施例１で作製した試料９の反射スペクトルを
示す図。
示す図。
【図７】実施例１で作製した試料１３の反射スペクトル
を示す図。
を示す図。
【図８】実施例１で作製した試料１４の反射スペクトル
を示す図。
を示す図。
【図９】実施例１で作製した試料１５の反射スペクトル
を示す図。
を示す図。
１ 基材 ２ 低屈折率層 ３ 高屈折率層 ５
クロム層 ６ Ａｕ層 ７ バッファー層 １１ 真空チャン
バ １２ ヒータ １３ 基板 １４ ＥＢ蒸着源
１５ シャッター
クロム層 ６ Ａｕ層 ７ バッファー層 １１ 真空チャン
バ １２ ヒータ １３ 基板 １４ ＥＢ蒸着源
１５ シャッター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AA02D AA02E AA05E AA09D AA09E AB11A AB12B AB13B AB16B AB17A AB25C AG00A AT00A BA05 BA07 BA10A BA10E BA13 BA44 EG002 EH112 EH66D EH662 EJ422 JD10 JK06 JK11D JL00 JM02C JN06 JN18E 4K029 AA02 AA09 BA05 BA07 BA12 BA17 BA41 BA42 BA51 BB02 BC07 BD09 CA01 DB03 DB05 DB21 EA08 JA02
Claims (3)
- 【請求項１】 Ｃｕ、Ｓｉ、ＢＫ−７ガラス又は石英ガ
ラスからなる基材の表面にＣｒ、Ｔｉ又はＮｉ層を介し
てＡｕ膜をコートした基板上にＺｎＳｅ又はＺｎＳより
なるバッファー層を設け、その上にＹＦ3 、ＹｂＦ3 又
はＤｙＦ3 のいずれか１種よりなる低屈折率層とＺｎＳ
ｅ又はＺｎＳよりなる高屈折率層とを交互に形成させて
なることを特徴とする近赤外線用増反射膜。 - 【請求項２】 前記低屈折率層と高屈折率層の層数がそ
れぞれ３〜４層であることを特徴とする請求項１に記載
の近赤外線用増反射膜。 - 【請求項３】 Ｃｕ、Ｓｉ、ＢＫ−７ガラス又は石英ガ
ラスからなる基材の表面にＣｒ、Ｔｉ又はＮｉ層を介し
てＡｕ膜をコートした基板を１２０〜１８０℃に加熱
し、該温度範囲に保持しながらＺｎＳｅ又はＺｎＳを蒸
着させてバッファー層を形成し、さらに前記温度範囲に
維持しながらＹＦ3 、ＹｂＦ3 又はＤｙＦ3 のいずれか
１種とＺｎＳｅ又はＺｎＳとを交互に蒸着させ、Ｙ
Ｆ3 、ＹｂＦ 3 又はＤｙＦ3 のいずれか１種よりなる低
屈折率層とＺｎＳｅ又はＺｎＳよりなる高屈折率層とを
交互に形成させることを特徴とする近赤外線用増反射膜
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10201475A JP2000034557A (ja) | 1998-07-16 | 1998-07-16 | 近赤外線用増反射膜および製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10201475A JP2000034557A (ja) | 1998-07-16 | 1998-07-16 | 近赤外線用増反射膜および製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000034557A true JP2000034557A (ja) | 2000-02-02 |
Family
ID=16441704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10201475A Pending JP2000034557A (ja) | 1998-07-16 | 1998-07-16 | 近赤外線用増反射膜および製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000034557A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002072343A1 (fr) * | 2001-03-08 | 2002-09-19 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Materiau reflechissant la chaleur et dispositif de rechauffement utilisant ce materiau |
| WO2005003618A1 (ja) * | 2003-07-04 | 2005-01-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 真空断熱材とそれを用いた機器 |
| JP2008542082A (ja) * | 2005-06-09 | 2008-11-27 | バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 耐燃被覆成形ポリカーボネート物品 |
| KR101146619B1 (ko) * | 2010-11-22 | 2012-05-14 | 한국전광(주) | 가시광선과 적외선 영역을 동시에 충족하는 고반사율 거울 |
| CN102941710A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-02-27 | 江苏欧邦塑胶有限公司 | 一种安全隔热玻璃 |
| CN102950830A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-03-06 | 江苏欧邦塑胶有限公司 | 一种隔热膜 |
| CN103668067A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-03-26 | 西南技术物理研究所 | 大角度多波段红外高反射膜系的制备方法 |
| KR101766392B1 (ko) | 2017-03-29 | 2017-08-09 | (주) 유남옵틱스 | 반사 거울 및 이의 제조 방법 |
| CN115421226A (zh) * | 2022-08-05 | 2022-12-02 | 有研国晶辉新材料有限公司 | 一种硫系玻璃光学元件及其制备方法 |
| CN115491638A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-12-20 | 中国电子科技集团公司第十一研究所 | 一种用于探测器芯片的宽光谱背增透薄膜的制备方法 |
| CN117512527A (zh) * | 2023-11-10 | 2024-02-06 | 星际光(上海)实业有限公司 | 一种介质膜反射镜及其制备工艺 |
-
1998
- 1998-07-16 JP JP10201475A patent/JP2000034557A/ja active Pending
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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