RU2020132035A - Способ изготовления спиральной пружины - Google Patents
Способ изготовления спиральной пружины Download PDFInfo
- Publication number
- RU2020132035A RU2020132035A RU2020132035A RU2020132035A RU2020132035A RU 2020132035 A RU2020132035 A RU 2020132035A RU 2020132035 A RU2020132035 A RU 2020132035A RU 2020132035 A RU2020132035 A RU 2020132035A RU 2020132035 A RU2020132035 A RU 2020132035A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- helical spring
- heat treatment
- support element
- silicon
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims 3
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 claims 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000000708 deep reactive-ion etching Methods 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 claims 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B17/00—Mechanisms for stabilising frequency
- G04B17/04—Oscillators acting by spring tension
- G04B17/06—Oscillators with hairsprings, e.g. balance
- G04B17/066—Manufacture of the spiral spring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
- C30B33/08—Etching
- C30B33/12—Etching in gas atmosphere or plasma
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0002—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe
- G04D3/0035—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe for components of the regulating mechanism
- G04D3/0041—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe for components of the regulating mechanism for coil-springs
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Springs (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Wire Processing (AREA)
Claims (26)
1. Способ изготовления по меньшей мере одной спиральной пружины (5), включающий нижеследующую последовательность этапов:
a) использование подложки (1), проходящей в определенной плоскости (Р) и содержащей первый слой (2), параллельный указанной определенной плоскости (Р),
b) формирование по меньшей мере одного сквозного отверстия (3) в указанном первом слое (2),
c) осаждение второго слоя (4) на указанный первый слой (2), причем указанный второй слой (4) заполняет указанное по меньшей мере одно сквозное отверстие (3) с образованием по меньшей мере одной перемычки из материала (7),
d) вытравливание по меньшей мере одной спиральной пружины (5) в слое (6а) травления, состоящем из указанного второго слоя (4) или из указанной подложки (1), причем из одного из указанных элементов, таких как указанный второй слой (4) и указанная подложка (1), не участвующих в вытравливании по меньшей мере одной спиральной пружины (5), образуется опорный элемент (6b), а указанная по меньшей мере одна перемычка из материала (7) связывает по меньшей мере одну спиральную пружину (5) с опорным элементом (6b) в направлении, перпендикулярном указанной определенной плоскости (Р),
e) удаление указанного первого слоя (2), при этом указанная по меньшей мере одна спиральная пружина (5) остается связанной с опорным элементом (6b) посредством по меньшей мере одной перемычки из материала (7),
f) выполнение в отношении по меньшей мере одной спиральной пружины (5) по меньшей мере одной термической обработки,
g) отделение по меньшей мере одной спиральной пружины (5) от опорного элемента (6b).
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанную термическую обработку или по меньшей мере одну термическую обработку из группы термических обработок выполняют в печи.
3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанную термическую обработку или по меньшей мере одну термическую обработку из группы термических обработок выполняют при температуре по меньшей мере 800°С, предпочтительно по меньшей мере 900°С, предпочтительно по меньшей мере при 1000°С, предпочтительно по меньшей мере при 1100°С, предпочтительно по меньшей мере при 1200°С.
4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанная термическая обработка или по меньшей мере одна термическая обработка из группы термических обработок включает термическое оксидирование.
5. Способ по п. 4, отличающийся тем, что он включает, между этапами f) и g), этап деоксидирования, причем указанные термическое оксидирование и деоксидирование обеспечивают уменьшение размеров по меньшей мере одной спиральной пружины (5) с получением при этом заданной жесткости пружины.
6. Способ по п. 4, отличающийся тем, что указанное термическое оксидирование направлено на образование термокомпенсационного слоя (8) на по меньшей мере одной спиральной пружине (5).
7. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанный слой (6а) травления выполнен из материала с хрупкими свойствами при комнатной температуре.
8. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанный слой (6а) травления выполнен из кремния или материала на основе кремния.
9. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанный слой (6а) травления выполнен из стекла или материала на основе стекла.
10. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанный слой (6а) травления выполнен из керамики или материала на основе керамики.
11. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанный опорный элемент (6b) выполнен из кремния или материала на основе кремния.
12. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанный первый слой (2) выполнен из оксида кремния или материала на основе оксида кремния.
13. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанный этап b) выполняют посредством фотолитографии.
14. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанный этап с) выполняют посредством эпитаксии.
15. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанный этап d) выполняют посредством глубокого реактивного ионного травления.
16. Способ по п. 1, отличающийся тем, что указанный опорный элемент (6b) охлаждают при выполнении этапа d).
17. Способ по п. 1, отличающийся тем, что по меньшей мере одна перемычка из материала (7) выполнена распределенной в существенной степени по всей длине спиральной пружины (5) или каждой спиральной пружины (5).
18. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в проекции на указанную определенную плоскость (Р), перемычка из материала (7) или каждая из перемычек из материала (7) является полностью расположенной между двумя сторонами (5а, 5b) ленты по меньшей мере одной спиральной пружины (5) и занимает только часть ширины (L) данной ленты.
19. Способ по любому из пп. 1-18, отличающийся тем, что в проекции на указанную определенную плоскость (Р) перемычка из материала (7) или каждая из перемычек из материала (7) является в существенной степени центрированной относительно указанных двух сторон (5а, 5b) ленты по меньшей мере одной спиральной пружины (5).
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP18159345 | 2018-03-01 | ||
| EP18159345.0 | 2018-03-01 | ||
| PCT/IB2019/051410 WO2019166922A1 (fr) | 2018-03-01 | 2019-02-21 | Procede de fabrication d'un spiral |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2020132035A true RU2020132035A (ru) | 2022-04-01 |
| RU2020132035A3 RU2020132035A3 (ru) | 2022-04-21 |
| RU2773791C2 RU2773791C2 (ru) | 2022-06-09 |
Family
ID=
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20200379408A1 (en) | 2020-12-03 |
| JP2021525357A (ja) | 2021-09-24 |
| EP3759554A1 (fr) | 2021-01-06 |
| TW201937077A (zh) | 2019-09-16 |
| KR20200125589A (ko) | 2020-11-04 |
| RU2020132035A3 (ru) | 2022-04-21 |
| JP7254090B2 (ja) | 2023-04-07 |
| TWI774925B (zh) | 2022-08-21 |
| US11822289B2 (en) | 2023-11-21 |
| CN111758077A (zh) | 2020-10-09 |
| WO2019166922A1 (fr) | 2019-09-06 |
| KR102688511B1 (ko) | 2024-07-26 |
| EP3759554B1 (fr) | 2023-04-05 |
| CN111758077B (zh) | 2022-05-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6952697B2 (ja) | ウェーハ平坦性を改善する方法およびその方法により作成された接合ウェーハ組立体 | |
| WO2009125133A3 (fr) | Procede de fabrication d'elements optiques plans et elements obtenus | |
| US20180277684A1 (en) | Electronic device and method for fabricating the same | |
| JP2009111373A5 (ru) | ||
| US9762206B2 (en) | AT-cut quartz crystal vibrator with a long side along the X-axis direction | |
| JP2017506363A5 (ru) | ||
| RU2016137478A (ru) | Высокооднородная стеклокерамическая деталь | |
| JP2009135472A5 (ru) | ||
| JPS60105216A (ja) | 薄膜半導体装置の製造方法 | |
| JP2008172245A5 (ru) | ||
| CN104733299B (zh) | 交错地形成镍硅和镍锗结构 | |
| RU2020132035A (ru) | Способ изготовления спиральной пружины | |
| TW201838032A (zh) | 半導體裝置及其形成方法 | |
| KR101987197B1 (ko) | 플렉시블 디스플레이 장치의 제조방법 | |
| US8057882B2 (en) | Membrane structure element and method for manufacturing same | |
| KR101542965B1 (ko) | 반도체 기판의 접합 방법 | |
| TWI665816B (zh) | 斷裂風險減少之微型電子裝置及其製造方法 | |
| JP5727401B2 (ja) | 光導波路及びその作製方法 | |
| WO2016155149A1 (zh) | 多晶硅薄膜制备方法、半导体器件、显示基板及显示装置 | |
| US9349609B2 (en) | Semiconductor process temperature optimization | |
| JP6280022B2 (ja) | 光導波路作製方法 | |
| CN107924954B (zh) | 沟槽电容器和用于制造沟槽电容器的方法 | |
| CN117879535B (zh) | Baw滤波器及其制造方法 | |
| JP2005244013A5 (ru) | ||
| JP2014115416A (ja) | 光導波路基板及びその製造方法 |