[go: up one dir, main page]

RU2002114852A - Способ защиты углов трехмерных микромеханических структур на кремниевой пластине при глубинном анизотропном травлении - Google Patents

Способ защиты углов трехмерных микромеханических структур на кремниевой пластине при глубинном анизотропном травлении

Info

Publication number
RU2002114852A
RU2002114852A RU2002114852/28A RU2002114852A RU2002114852A RU 2002114852 A RU2002114852 A RU 2002114852A RU 2002114852/28 A RU2002114852/28 A RU 2002114852/28A RU 2002114852 A RU2002114852 A RU 2002114852A RU 2002114852 A RU2002114852 A RU 2002114852A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
etching
elements
angles
longitudinal
transverse
Prior art date
Application number
RU2002114852/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2220475C1 (ru
Inventor
Леонид Владимирович Соколов
Владимир Михайлович Школьников
Original Assignee
Научно-исследовательский институт авиационного оборудовани
Научно-исследовательский институт авиационного оборудования
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Научно-исследовательский институт авиационного оборудовани, Научно-исследовательский институт авиационного оборудования filed Critical Научно-исследовательский институт авиационного оборудовани
Priority to RU2002114852A priority Critical patent/RU2220475C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2220475C1 publication Critical patent/RU2220475C1/ru
Publication of RU2002114852A publication Critical patent/RU2002114852A/ru

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Claims (1)

  1. Способ защиты углов трехмерных микромеханических структур на кремниевой пластине (100), которую подвергают анизотропному травлению в водном растворе КОН, включающий формирование масочного рисунка с элементами защиты углов, примыкающими к основной части топологической маски вблизи точки пересечения сторон защищаемого чипа на пластине и продолжающимися за пределы основной части маски, травление масочного рисунка на пластине в анизотропном травителе, при этом для защиты выпуклого угла чипа формируют хотя бы один Т-образный маскирующий элемент защиты угла, содержащий продольную и поперечную части, у которого ширина поперечной части меньше высоты продольной части, отличающийся тем, что Т-образные маскирующие элементы защиты углов формируют на основе металлизированной структуры V-Cu'-Cu'', а каждый из Т-образных симметрично расположенных элементов выполняют из двух полосок - продольной вдоль направления [110] и поперечной, расположенной в поперечном направлении под прямым углом к продольной полоске, а в оптимальном режиме травления (при температуре кипения) размеры Т-образных элементов выполняют в соотношениях как 5,1<В/Ш<9,1 для интервалов отношений конструктивных параметров формируемой микромеханической структуры 0,44<b/a<0,73 и 30,6<h/a 103<36,6, при этом травление проводят до тех пор, пока Т-образные элементы не отравятся до границы исходной топологической области жесткого центра преобразователя, что соответствует моменту самосовмещения топологических слоев преобразователя и выхода на заданную глубину травления, а в основании объемной фигуры жесткого центра сформирован при этом правильный многоугольник.
RU2002114852A 2002-06-05 2002-06-05 Способ защиты углов трехмерных микромеханических структур на кремниевой пластине при глубинном анизотропном травлении RU2220475C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2002114852A RU2220475C1 (ru) 2002-06-05 2002-06-05 Способ защиты углов трехмерных микромеханических структур на кремниевой пластине при глубинном анизотропном травлении

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2002114852A RU2220475C1 (ru) 2002-06-05 2002-06-05 Способ защиты углов трехмерных микромеханических структур на кремниевой пластине при глубинном анизотропном травлении

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2220475C1 RU2220475C1 (ru) 2003-12-27
RU2002114852A true RU2002114852A (ru) 2004-03-20

Family

ID=32066563

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2002114852A RU2220475C1 (ru) 2002-06-05 2002-06-05 Способ защиты углов трехмерных микромеханических структур на кремниевой пластине при глубинном анизотропном травлении

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2220475C1 (ru)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2331137C1 (ru) * 2006-12-26 2008-08-10 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский государственный институт электронной техники (технический университет) Способ компенсации растрава внешних углов фигур травления на кремниевых пластинах с ориентацией поверхности (100)
RU2404481C1 (ru) * 2009-12-08 2010-11-20 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Саратовский государственный технический университет" (СГТУ) Микропрофиль структуры вакуумной интегральной свч-схемы и способ его изготовления
RU2539767C1 (ru) * 2013-10-03 2015-01-27 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МИЭТ" Способ изготовления глубокопрофилированных кремниевых структур
RU2568977C1 (ru) * 2014-08-05 2015-11-20 Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") Способ защиты углов трехмерных микромеханических структур на кремниевой пластине при глубинном анизотропном травлении
RU2572288C1 (ru) * 2014-09-30 2016-01-10 Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт физических измерений" Способ изготовления глубокопрофилированных кремниевых структур
RU2582903C1 (ru) * 2015-02-25 2016-04-27 Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова" (ФГУП "ВНИИА") Способ защиты углов трёхмерных микромеханических структур на кремниевой пластине при глубинном анизотропном травлении
RU2667327C1 (ru) * 2017-08-22 2018-09-18 Акционерное общество "Научно-исследовательский институт физических измерений" Способ защиты углов кремниевых микромеханических структур при анизотропном травлении

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5286343A (en) * 1992-07-24 1994-02-15 Regents Of The University Of California Method for protecting chip corners in wet chemical etching of wafers
RU2059321C1 (ru) * 1993-08-04 1996-04-27 Алексей Викторович Полынков Способ изготовления упругих элементов из монокристаллического кремния
RU2076395C1 (ru) * 1994-09-29 1997-03-27 Московский государственный институт электронной техники (технический университет) Способ изготовления интегральных тензопреобразователей

Also Published As

Publication number Publication date
RU2220475C1 (ru) 2003-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101584042A (zh) 半导体芯片形状改变
EP1575138A3 (en) Semiconductor laser device
RU2002114852A (ru) Способ защиты углов трехмерных микромеханических структур на кремниевой пластине при глубинном анизотропном травлении
CN101066749A (zh) 一种悬臂梁结构、制作方法及应用
US5282926A (en) Method of anisotropically etching monocrystalline, disk-shaped wafers
US5338400A (en) Micromachining process for making perfect exterior corner in an etchable substrate
KR100912764B1 (ko) 방사선 센서, 웨이퍼, 센서 모듈 및 방사선 센서의 제조방법
JP4117450B2 (ja) 半導体装置の製造方法
EP1375416A1 (en) Micro-electro-mechanical device, in particular micro-actuator for hard-disk drive, and manufacturing process thereof
US6342667B1 (en) Thermal isolation structure for a micro thermopile and method for making the same
US6033489A (en) Semiconductor substrate and method of making same
US20090101957A1 (en) Simplified method of fabricating isolated and merged trench capacitors
US7361523B2 (en) Three-axis accelerometer
KR101983148B1 (ko) 압전 진동자용 압전편 및 그 제조 방법
KR20030059159A (ko) 전극구조, 박막 구조체의 제조방법
KR100732698B1 (ko) 다양한 단차를 갖는 미세 구조물의 제조 방법
JPH07335594A (ja) 半導体装置および半導体装置の面取り方法
KR102008153B1 (ko) 반도체 소자 제조 방법
CN115398063A (zh) 辐射状消波块及架设方法
JPH072672Y2 (ja) 護岸ブロック
RU2667327C1 (ru) Способ защиты углов кремниевых микромеханических структур при анизотропном травлении
JPS644904Y2 (ru)
JP3684507B2 (ja) 緩傾斜護岸ブロック及びこの緩傾斜護岸ブロックを用いた緩傾斜護岸の構築方法
JP2002309540A (ja) 消波ケ−ソン
JP2011152592A (ja) Mems構造体