[go: up one dir, main page]

PL80968B1 - Electrostatic image development apparatus[gb1310444a] - Google Patents

Electrostatic image development apparatus[gb1310444a] Download PDF

Info

Publication number
PL80968B1
PL80968B1 PL14172670A PL14172670A PL80968B1 PL 80968 B1 PL80968 B1 PL 80968B1 PL 14172670 A PL14172670 A PL 14172670A PL 14172670 A PL14172670 A PL 14172670A PL 80968 B1 PL80968 B1 PL 80968B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
electrode
image
potential
drum
flow
Prior art date
Application number
PL14172670A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Xerox Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xerox Corporation filed Critical Xerox Corporation
Publication of PL80968B1 publication Critical patent/PL80968B1/pl

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/06Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing
    • G03G15/08Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer
    • G03G15/0801Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer for cascading

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Dry Development In Electrophotography (AREA)
  • Developing For Electrophotography (AREA)

Description

Uprawniony z patentu: Xerox Corporation, Rochester (Stany Zjednoczo¬ ne Ameryki) Sposób wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego oraz urzadzenie do wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego Przedmiotem wynalazku jest sposób wywolywa¬ nia utajonego obrazu elektrostatycznego oraz urza¬ dzenie do wywolywania utajonego obrazu elektro¬ statycznego.Znany jest sposób wywolywania utajonego obra¬ zu, przykladowo z opisu patentowego Stanów Zje¬ dnoczonych nr 3.412.710, w którym stosuje sie dwie elektrody, przy czym elektroda dodatkowa ma potencjal wyzszy oc( potencjalu glównej elektrody wywolujacej. Strumien materialu wywolywacza ma kierunek zgodny z kierunkiem ruchu obrazu. Zna¬ ne jest, równiez z ww opisu patentowego, urza¬ dzenie do wywolywania utajonego obrazu elektro¬ statycznego zawierajace dwie elektrody oraz czlon nosny obrazu, którego kierunek przemieszczania jest zgodny z kierunkiem strumienia materialu wywolujacego.Celem wynalazku jest opracowanie sposobu wy¬ wolywania utajonego obrazu i urzadzenia do sto¬ sowania tego sposobu, który umozliwialby prze¬ prowadzanie procesu wywolywania w calej stre¬ fie wywolywania i umozliwialby pelna kontrole przeplywu materialu wywolywacza przez strefe wywolywania.Cel wynalazku osiagnieto w sposobie wywoly¬ wania utajonego obrazu przez to, ze strumien ma¬ terialu wywolujacego kieruje sie w strefie wywoly¬ wania przeciwnie do kierunku ruchu obrazu, przy czym do pierwszej elektrody przyklada sie poten¬ cjal nizszy od potencjalu tla w obszarze obrazu, do elektrody posredniej przyklada sie potencjal o war¬ tosci wiekszej od potencjalu tla obrazu a mniejszej od potencjalu obrazu, zas do elektrody koncowej przyklada sie potencjal wyzszy od potencjalu ob- 6 razu.Cel wynalazku osiagnieto równiez w urzadzeniu do wywolywania utajonego obrazu umieszczajac elektrody kontrolne, szeregowo jedna za druga a równolegle wzgledem nosnika obrazu i w bliskiej odleglosci od powierzchni jego nosnika korzyst¬ nie 0,17 do 0,20 cm, sprzegajac elektrycznie kazda z szeregu elektrod z kmym zródlem napiecia, oraz mechanicznie sprzegajac zespól napedowy z walem nosnika obrazu w celu obracania nosnika obrazu w kierunku przeciwnym do kierunku strumienia materialu wywolywacza.Przedmiot wynalazku uwidoczniono w przykla¬ dzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przed¬ stawia automatyczny powielacz kserograficzny, w którym zastosowano urzadzenie do wywolywania wedlug wynalazku, w widoku z boku, fig. 2 — urzadzenie do wywolywania w powiekszeniu, w widoku z boku, fig. 3 — urzadzenie wywolujace z fig. 2 w czastkowym przekroju i powiekszeniu, fig. 4 — urzadzenie do wywolywania z fig. 2 w czesciowym powiekszonym przekroju przedstawia¬ jacym czesc przekroju glównej elektrody wywo¬ lujacej, fig. 5 — urzadzenie z fig. 2 w powiekszonym przekroju, przedstawiajacym otwór doplywowy do 10 15 20 25 30 809683 80988 4 obszaru wywolywania i do elektrody oczyszcza¬ jacej.Urzadzenie wedlug wynalazku przedstawiono jako czesc skladowa automatycznego powielacza ksero¬ graficznego z plyna kserograficzna w ksztalcie bebna 10 zawierajacego fotoprzewodzaca warstwe umieszczona na przewodzacym podlozu.Beben 10 zamontowany jest na wale 11, ulo- zyskowanym w niepokazanej ramie maszyny i obra¬ cany jest w kierunku wskazanym strzalka za po¬ moca silnika 9, powodujacego to, ze powierzchnia bebna przechodzi kolejno przez poszczególne sta¬ nowiska kserograficzne np. ladowania A, naswie¬ tlania B, wywoj^wjuaja C, przenoszenia obrazu D SrSrfdwEtfra kserograficzne znajdujace sie na dro- dzl ruchu bebna 10, jsjk to przedstawiono na fig. 1, wyboJpjflpb%«| iNratól zespoly jak: generatory 12, 39, l^Umrj^tfll/^jl^iilni^wyoh, plyta 14 do umiesz- czaWa~"na niej oryginalu, przenosnik kubelkowy 27, zespól podawczy 30, 31, 32, zespól transportu próz¬ niowego 26. Ponadto znajduja sie na poszczegól¬ nych stanowiskach kserograficznych takie elemen¬ ty jak palety 35, 36 zbierajace material wywolywa¬ cza, zgarniak 41, prowadnica 40 kopii oraz zródla ciepla 33, 43.W kserografii znane jest od dawna, ze charak¬ terystyka wywolywania materialu dwuskladniko¬ wego znacznie sie zmienia, gdy material wprawio¬ ny zostaje w przeplyw pomiedzy elektroda o kon¬ trolowanym napieciu i powierzchnia przewodza¬ ca fotóelektrycznie, na której znajduje sie obraz.Jakkolwiek rzeczywisty powód tej zmiany zdol¬ nosci wywolywania nie byl dotychczas dokladnie rozumiany, uzyskane rezultaty byly pomimo to wyraznie widoczne w jakosci wykonywanej kopii.Prowadzone byly próby celem okreslenia, jaki wplyw wywierala elektroda na charakterystyke przeplywu dynamicznego dwuskladnikowego mate¬ rialu wywolujacego podczas wywolywania. Przedlu¬ zona elektroda stacjonarna umieszczona zostala w obudowie wywolywacza, równolegle w poblizu po¬ wierzchni obracajacego sie bebna kserograficznego.Na beben nanoszony byl obraz konwencjonalna technika kserograficzna celem utworzenia na nim obrazu utajonego. Elektrodzie nadawano napiecie o potencjale podobnym biegunowo do napiecia ob¬ razu utajonego i majacym wielkosc nizsza od po¬ tencjalu obrazu, lecz wyzsza od potencjalu podlo¬ za. Na duze powierzchnie, gladkie nanoszony byl kserograficznie obraz na powierzchni bebna i na¬ stepnie wywolywany przez ciagly przeplyw mate¬ rialu wywolujacego pomiedzy powierzchnia bebna i elektroda, pnzy czym beben poruszal sie w kie¬ runku przeciwnym do przeplywu wywolywacza.Stwierdzono, ze elektroda przyspieszala wywolywa¬ nie obrazu na tych powierzchniach. Jednakze we wszystkich tych przypadkach, krawedz prowadzaca, to jest krawedz obrazu, która najpierw przesunela sie przez obszar oddzialywania elektrody, miala wy¬ glad niedostatecznego wywolania lub zmycia. Teo¬ retycznie uzasadniono to tym, ze wytworzone zo¬ stalo pole kierunkowe pomiedzy elektroda i obsza¬ rami podloza na powierzchni bebna, które oddzia¬ lujac wymusza przeplyw czastek pigmentu w kie¬ runku czesci ukladu, na który oddzialuje ele¬ ktroda. Innymi slowy, w przeplywie wywolywacza powstaje gradient pigmentu gdy powierzchnia nie pokryta obrazem znajduje sie w strefie oddzialy- 5 wania elektrody, powodujacy duza koncentracje przeplywu tonera poruszajacego sie wzdluz czesci ukladu, na który oddzialuje elektroda. Gdy po ob¬ szarze nie pokrytym obrazem wchodzi w rejon od¬ dzialywania elektrody obraz utajony, to na po¬ rt wierzchni bebna znajduje siepoczatkowo niewystar¬ czajaca ilosc pigmentu, aby calkowicie wywolac krawedz prowadzaca obrazu. Jednakze potencjal obrazu staje sie wkrótce dominujaca sila w ukla¬ dzie i pigment jest wtedy przyciagany z elektrody 15 do bebna, powodujac przesuniecie sie gradientu pig¬ mentu. Poniewaz przewodnik fotoelektryczny po¬ ruszal sie w kierunku przeciwnym do przeplywu wywolywacza podczas tych prób, czas potrzebny na zakonczenie przesuniecia sie gradientu zostal 20 w widoczny sposób odzwierciedlony przez niedo¬ stateczne wywolywanie wzdluz krawedzi prowa¬ dzacej obrazu. Jednak gdy przesuniecie zostalo za¬ konczone, otrzymano dobre wywolanie powierzchni gladkiej. 25 W celu udowodnienia, ze gradient pigmentu zo¬ stal wytworzony w przeplywie dwuskladnikowego wywolywacza przez elektrode wywolujaca i ze ten gradient powodowal zmiany w charakterystyce pola elektrostatycznego ukladu, powyzszy ekspery- 30 ment zostal powtórzony z dwoma wzglednie duzymi obrazami utajonymi, które zostaly kserograficznie naniesione wzdluz powierzchni bebna. Poczatkowo dwie powierzchnie z obrazem zostaly przesuniete jedna od drugiej o te sama odleglosc i zostal stwier- 35 dzony wzglednie dlugi brak obrazu w ukladzie wywolujacym, gdy obrazy przesuwaly sie jeden po drugim przez obszar oddzialywania elektrody.Na równi ze wzglednie dlugim brakiem obrazu po¬ miedzy obu obrazami wystapilo zjawisko na kra- 40 wedzi prowadzacej w obu obrazach. Brak obrazu pomiedzy obrazami skracal sie progresywnie przez przesuwanie utajonych obrazów elektrostatycznych bardziej do siebie. Ostatecznie uzyskano polozenie, przy którym drugi obraz w obszarze oddzialywa- 45 nia elektrody nie mial juz zjawiska niedowolanej krawedzi prowadzacej. Krawedz prowadzaca pierw¬ szego obrazu w obszarze oddzialywania elektrody wykazywala jednakze wyrazne znamiona niedo¬ statecznego wywolania. Bylo bezsprzeczne, ze ob- 50 szar bezobrazowy pomiedzy obrazami skrócil sie do tego stopnia, ze bylo za malo czasu na to, aby gradient przemiescil sie od strony bebna ukladu.W ten sposób byla wciaz do dyspozycji wystarcza¬ jaca ilosc pigmentu na powierzchni bebna, aby wy- 55 wolac krawedz prowadzaca drugiego obrazu w obszarze oddzialywania elektrody.Na podstawie tych prób wyciagniety zostal wnio¬ sek, ze gradient pigmentu mógl sie wytworzyc w przeplywie dwuskladnikowego wywolywacza prze- 60 chodzacego przez strefe oddzialywania elektrody.Ponadto zdolnosc wywolywania ukladu mogla byc kontrolowana przez umieszczenie gradientu pig¬ mentu w styku lub bez styku z plyta swiatloczula, która miala byc wywolana. 65 Ponizej opisane zostalo urzadzenie, w którympowyzsze ustalenia zostaly wykorzystane celfón stworzenia ukladu wywolywania, w którym zapew¬ niona zostala calkowita kontrola dwuskladnikowe¬ go materialu wywolujacego w czasie gdy material przechodzi przez kserograficzna strefe wywolywa¬ nia. Wydaje sie oczywiste, ze urzadzenie to moze byc zastosowane w dowolnej ilosci ukladów wywoly¬ wania dwuskladnikowego na plycie kserograficz¬ nej, które moga znajdowac sie w dowolnych po¬ lozeniach odwróconych lub innych.Odnosnie fig. 2 do 5 nalezy stwierdzic, ze urza¬ dzenie do wywolywania utajonego obrazu sklada sie w zasadzie z szeregu przewodzacych czlonów kon¬ trolnych, przykladowo elektrod, oddzielonych blo¬ kami izolacyjnymi, które sa podtrzymywane rów¬ nolegle blisko poruszajacej sie powierzchni beb¬ na kserograficznego tak, aby stworzyly ciagla za¬ mknieta przestrzen dla przeplywu strumienia wy¬ wolywacza okreslona jako strefa wywolywania 51.Przy górnym wejsciu do zamknietej strefy wy¬ wolywania znajduje sie zsyp 60, przez który wpro¬ wadzony jest do strefy wywolywania ciagly stru¬ mien dwuskladnikowego wywolywacza. Szereg prze¬ wodzacych czlonów kontrolnych tworzy sciane tyl¬ na strefy wywolywania 51 i jak to bedzie wyjas¬ nione bardziej szczególowo ponizej, spelnia fun¬ cje kontroli dozowania materialu wywolujacego w strumieniu przeplywu w czasie wywolywania. Scia¬ na przednia strefy wywolywania opisana jest przez poruszajaca sie ku górze powierzchnie bebna. Na¬ lezy zaznaczyc, ze powierzchnia bebna porusza sie ku górze, przeciwnie do przeplywajacego do dolu strumienia wywolywacza. Ten szczególny stosunek ruchu bezposrednio rózni sie od stosowanego w wiekszosci systemów wywolywania kaskadowego, w zwiazku z tym drobiny nosne nie zachowuja sie w klasyczny sposób, polegajacy na tym, ze oddaja najpierw pigment w czasie procesu wywolywania, a nastepnie, gdy zostaly juz czesciowo obnazone, wyplukuja nieutrwalone z obszaru podloze, na któ¬ rym nie ma obrazu.Przewodzace czlony kontrolne oraz bloki izoluja¬ ce, które oddzielaja te czlony, zamontowane sa na ndeprzewodzacej, nieruchomej ramie wsporczej, a rama ta jest przytwierdzona do scian bocznych obudowy wywolywacza 20. W jednym koncu scian¬ ki obudowy znajduje sie otwór, w zwiazku z czym obracajaca sie powierzchnia bebna przechodzi w scislej bliskosci do znajdujacych sie tam przewo¬ dzacych czlonów kontrolnych. Czlony kontrolne i bloki izolujace rozciagaja sie poziomo wzdluz powierzchni bebna i maja uszczelnione koncówki, nie pokazane na rysunku, które przesuwaja sie w styku z najdalszymi punktami powierzchni bebna zamykajac strefe wywolywania 51.Dwuskladnikowy material wywolujacy transpor¬ towany jest z powierzchni magazynujacej i mie¬ szajacej w pojemniku 55 znajdujacym sie w obudo¬ wie przyrzadu wywolujacego do zsypu 60 za po¬ moca przenosnika 27 (fig. 1). Przenosnik wyko¬ nany jest z szeregu wychodzacych, poziomo wydlu¬ zonych kubelków 56, zamocowanych na pasie bez konca, który przechodzi ponad zespolem kól paso¬ wych 57 i 58. Gdy kubelki transportowane sa w kierunku obszaru pojemnika wywolywacza, zostaja <^k)ki^hmlekfrM7mg<)fdf( mi^riBtao&iferttfoa* 5 kuteM£s*nj^s^ imtatflzpn* sa do9Sóri^j2c^e^t*M^<»tóC} *J^Mlftfc*Q$Ó*r nione do ?fl^P^^%oPPWO*iufeift9^^ sdcpfaCKffftfet terialu do sirtóyidiW^oljJWBWteBiBn 0tsssioYx-iq i Material wyVK&ujaay etimiMccmtntel zs^tHtmjgfe; io prowadzany jest-xi«n^ltóy93^yycfitewwiiia $boKd&te moze przeplywac na ^»^*^^fe)^n»iisafti kosci w przeciwnym ks^linHuuAlsfi^^sz^^g^ie do góry powierzchni plyteofWCJcyBe^« ktrycznie. Zachowanie sie m&Jgrialuwymtfp$wee 15 gdy przechodzi on przez strefe 9ry&folxwasn*ivi*$i scisle i automatycznie kontrolowana pftz$jgo6feiB8 kontrolny celem wywolania powierzchnioPtrtC^btflr czyszczenia podloza, co powoduje wyweftam^£j£&4* zwyczaj ostrego i czystego obrazu kseroj^fciftfJW' 20 nego. W zwiazku z nadzwyczajna czuloscia n^ieJT szego ukladu, odtwarzane moze byc wiele róznorofc nych obrazów, takich jak kopie liniowe, powierzch¬ nie gladkie, obrazy z pólcieniami, lub jakiekol¬ wiek kombinacje powyzszego, bez zmieniania pa- 25 rametrów mechanicznych lub elektrycznych ukladu.Gdy material wywolujacy opuszcza strefe wywoly¬ wania jest przechwytywany przez próg kierujacy 62, który zamontowany jest w scislej bliskosci po¬ wierzchni bebna w dolnej czesci obudowy przy- 30 rzadu do wywolywania. Przechwycony material wy¬ wolujacy jest kierowany wzdluz pochylej rynny 65 z powrotem do obszaru pojemnika 55, gdzie jest magazynowany i ladowany elektrostatycznie. Za¬ raz ponizej progu kierujacego umieszczona jest u- 35 szczelka 66 obudowy urzadzenia do wywolywania, dostosowana do wspóldzialania z poruszajaca sie powierzchnia bebna, aby zapobiec przedostaniu sie jakichkolwiek ilosci materialu wywolujacego na zewnatrz obudowy. 4o Gdy plyta zostanie naladowana i naswietlona, obraz utajony jest przenoszony na górna powierzch¬ nie bebna przez otwór dolny w strefie wywoly¬ wania 51. Nalezy zaznaczyc, ze w tej konstrukcji punkt wejscia elektrostatycznego obrazu utajonego 45 jest jednoczesnie punktem, przez który material wywolujacy opuszcza strefe wywolywania; Jed¬ nakze, jak to bedzie widoczne z ponizszych wy¬ jasnien, material wywolujacy znajdujacy sie na po¬ czatku obszaru wywolywania, jest w zwiazku z 50 unikalnymi zaletami ukladu nalezycie naladowany i zdatny do calkowitego wywolania obrazu w krót¬ kim okresie czasu. Faktycznie juz na poczatku ob¬ szaru wywolywania stworzone sa warunki do nie¬ znacznego przewolania. Ponadto jest do dyspo- 55 zycji wiecej toneru niz potrzeba do wywolania ob¬ razu na powierzchni bebna, co powoduje czesciowe wywolanie podloza. Jednakze nadmierne wywola¬ nie podloza nie jest szkodliwe w tym przyrzadzie, poniewaz podloze jest skutecznie i efektywnie oczy- «o szczane, gdy plyta przechodzi przez strefe wywoly¬ wania.Elektrostatyczny obraz utajony utworzony na powierzchni przewodzacej fotoelektrycznie, takiej jak beben selenowy, charakteryzuje sie polem ele- «5 ktrostatycznym, które jest o nadzwyczaj duzej sile8 7 8 i gestosci wzdluz obrzezy lub zewnetrznych obra- mowan. Jednakze gestosc i duza sila skladowych pola, w szczególnosci skladowych prostopadlych do powierzchni pola, równomiernie zmniejsza sie w kierunku przeciwnym do obnzezy. W czasie wy¬ wolywania skladowe pola o wiekszej sile i gestosci, towarzyszace powierzchni na obrzezach, dosiegaja i przyciagaja naladowane przeciwnie czasteczki pigmentu. Jednakze slabsze i o mniejszej gestosci skladowe i towarzyszace duzym wewnetrznym ob¬ szarom, nie moga skutecznie i szybko wychwycic czasteczek pigmentu i dlatego obszary te wydaja sie wymytymi z powodu niedowolania. Elektroda wywolujaca 70 o niskim potencjale, jak to przed¬ stawiono na fig. 2 i 3, jest umieszczona w scislej bliskosci do poruszajacej sie powierzchni plyty na poczatku obszaru wywolywania. Termin niski po¬ tencjal, tak jak tu zostal uzyty, dotyczy w sizero- kim tego slowa znaczeniu kazdego potencjalu, któ¬ ry jest nizszy niz potencjal znajdujacy sie na ob¬ szarach, na których nie ma obrazu na powierzchni bebna, co odpowiada obszarom podloza obrazu, przy czym termin ten jest dostatecznie szeroki, aby mozna bylo objac nim uziemiona elektrode, o wyregulowanej biegunowosci przeciwnie do tej jaka ma powierzchnia bebna. Stwierdzono powaz¬ na zmiane w zdolnosci wywolywania w ukladzie, w szczególnosci odnosnie powierzchni gladkich i pól cieni, gdy elektroda o niskim potencjale zostaje umieszczona w scislej bliskosci do niedowolane- go obrazu elektrostatycznego na powierzchni plyty.Elektroda ta powoduje to, ze skladowe pola ikm malnie towarzyszace slabszym wewnetrzym polom sil elektrostatycznych zostaja wzmocnione i za¬ geszczaja sie. Przez kontrole potencjalu elektry¬ cznego nadawanego elektrodzie, skladowe pole moz¬ na tak ukierunkowac, aby wymuszaly ruch nala¬ dowanych czasteczek pigmentu w strumieniu prze¬ plywowym w kierunku powierzchni bebna, na któ¬ rej znajduje sie obraz.Elektroda 70 podlaczona jest do odpowiedniego zródla 96 o kontrolowanym napieciu poprzez prze¬ wód 113 i zacisk 76. Elektrodzie nadany jest po¬ tencjal nizszy od potencjalu obszarów powierzchni bebna niepokrytych obrazem lub naswietlonych.W tej odwróconej czesci strefy wywolywania u- tworzone jest pole sil, którego dzialanie polega na wymuszaniu przeplywu tonera do góry w kie¬ runku powierzchni bebna. Elektroda, poniewaz jej napiecie poczatkowe jest nizsze od potencjalu pod¬ loza, nie tylko wzmacnia sily pola zwiazane z ob¬ szarami gladkimi, na których jest obraz, lecz takze wzmacnia sily pola zwiazane z naswietlonymi ob¬ szarami bez obrazu, tak, ze wzglednie silne pola istnieja wzdluz calej powierzchni bebna w tym rejonie, na który oddzialuje elektroda. Powo¬ duje to nadzwyczaj duza koncentracje pigmentu znajdujacego sie na powierzchni bebna na poczatku wywolywania obrazu. Koncentracja ta jest przed¬ stawiona za pomoca bardzo ciemnej powierzchni w strumieniu przeplywu na fig. 3. Nalezy zazna¬ czyc, ze rozmieszczenie duzej koncentracji pigmentu na powierzchni bebna w tym odwróconym obszarze jest kontrolowane przez elektrode. Sila grawitacyj¬ na, jakkolwiek istniejaca, jest przezwyciezana przez pole sil, tak ze pigment w strumieniu przeplywa w styku z odwrócona powierzchnia bebna.Aby pobudzic jeszcze bardziej wczesne wywo¬ lywanie obrazu w opisanym przyrzadzie, czastecz- 5 ki pigmentu poruszajace sie przez obszar o niskim potencjale, pozostajacy pod dzialaniem elektrody, sa najpierw odsuniete lub uwolnione od drobin nos¬ nych, tak ze czasteczki te lepiej poddaja sie oddzia¬ lywaniu i kontroli przez pole sil. Uwolnienie pig¬ mentu zostaje dokonane przez uderzenie drobin nio¬ sacych go o powierzchnie bebna w obszarze o nis¬ kim potencjale, na który oddzialuje elektroda.Krawedz scieta 174 jest wmontowana do krawedzi prowadzacej elektrody 70. Przeplyw materialu wy¬ wolujacego, poniewaz przechodzi on przez obszar odwrócony, odbywa sie w tym czasie w kontakcie podtrzymujacym ze strona ukladu pozostajaca pod dzialaniem elektrody i dlatego przechodzi w kontakt przeplywowy z krawedzia scieta, która jest tak uksztaltowana, aby zmieniala kierunek przeplywu do ponownego styku z powierzchnia bebna. Ude¬ rzajac o beben, czasteczki pigmentu odrywaja sie od drobin nosnych i tworzy sie chmura proszku uwolnionego pigmentu na poczatku obszaru wywo¬ lywania. Uwolniony pigment, który porusza sie wciaz wzdluznie pod wplywem strumienia prze¬ plywu, jest latwo przenoszony do bebna przez pole sil elektrostatycznych kierunkowych, tak ze two¬ rzy sie gradient pigmentu w przeplywie o duzej koncentracji, do dyspozycji na powierzchni bebna.Jakkolwiek uzyte tu zostalo naciecie lub krawedz scieta do zmiany kierunku przeplywu wywolywa¬ cza, to moga byc zastosowane inne odpowiednie sposoby do zmiany kierunku materialu wywoluja¬ cego aby zetknal sie on z powierzchnia bebna, bez powazniejszego hamowania przeplywu wywolywa¬ cza.Nastepnym najblizszym czlonem przechodzacym umieszczonym odpowiednio do kierunku obrotu be¬ bna jest glówna elektroda wywolujaca 71, która jest odizolowana od elektrody 70, o niskim poten¬ cjale za pomoca bloku dielektrycznego 75. Odpo¬ wiednie zródlo 97 regulowanego napiecia poczatko¬ wego podlaczone jest do glównej elektrody wywolu¬ jacej za pomoca przewodu 114 i zacisku 81. Obie sasiadujace ze soba elektrody 70 i 71 sa w zasadzie jednakowej grubosci. Jednakze blok dielektryczny jest skonstruowany tak — aby mial mniejsza gru¬ bosc, tak ze na odwrotnej stronie ukladu w strefie odwróconej tworzy sie wglebienie lub pusta prze¬ strzen. Material wywolujacy w strumieniu prze¬ plywu latwo wpada do wglebienia i plynie dalej do styku ze scieta krawedzia 174.Stwierdzono, ze zdolnosc wywolywania elektro¬ statycznego obrazu utajonego w rejonie elektrody o niskim potencjale zwieksza sie w stosunku wprost proporcjonalnym do ilosci uderzen drobinek o po¬ wierzchnie bebna jak równiez do predkosci z jaka drobinki uderzaja o powierzchnie bebna. Kat, pod którym krawedz scieta 174 kieruje drobinki do styku z powierzchnia bebna, jest w zwiazku z tym uksztaltowany optymalnie w tym obszarze, zarów¬ no celem zwiekszenia ilosci styków, jak i predkos¬ ci uderzenia drobinek. Jest oczywiste, ze ten kat optymalny bedzie sie zmienial, poniewaz poloze- 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60809*8 9 10 nie elektrody o niskim potencjale zmienia sie od¬ powiednio do poruszajacej sie przewodzacej foto- elektrycznie powierzchni i kat ten niekoniecznie musi byc jednakowy we wszystkich ukladach wy¬ wolujacych.Glówna elektroda wywolujaca 71 ma takie re¬ gulowane napiecie poczatkowe, ze ma biegunowosc ladowania powierzchni bebna i jest o mniejszym module niz modul potencjalu ladowania obrazu, lecz o wiekszym niz potencjal podloza pod obrazem.Przez umieszczenie glównej elektrody wywoluja¬ cej o potencjale pomiedzy potencjalem obrazu i podloza, elekroda dziala jako samoregulujacy sie przyrzad zdolny do przyspieszenia wywolywania obrazu, wykonujac jednoczesnie oczyszczanie lub usuwajac z powierzchni bebna przypadkowy proces wywolywania na podlozu.Gdy obraz wywolany wstepnie przechodzi od ob¬ szaru elektrody o niskim potencjale do obszaru glównej elektrody wywolujacej, to pole o duzych silach, towarzyszace obszarowi obrazu, ma naj¬ wieksza przewage i utworzone zostaje pole sil kie¬ runkowych o tendencji przesuwania tonera znajdu¬ jacego sie w strumieniu przeplywu do styku z po¬ wierzchnia bebna, na której znajduje sie obraz, gdzie pigment jest wlasnie potrzebny, aby przy¬ spieszyc i zakonczyc wywolanie obrazu. Ponadto, gdy obszar bez obrazu przesunie sie w rejon glów¬ nej elektrody wywolujacej, to skladowe pól wiek¬ szych sil towarzyszace elekrodzie wywolujacej, dzia¬ laja na czasteczki pigmentu przyciagajac je w kie¬ runku do naladowanego czlonu elektrody. W zwiaz¬ ku z tym powstaje duza koncentracja pigmentu na odwrotnej stronie ukladu w tych obszarach, a dro¬ binki nosne w zasadzie pozbawione pigmentu sa przenoszone do powierzchni bebna przez strumien przeplywu, stykajace sie z bebnem, zarówno zdzie¬ raja mechanicznie jak i przyciagaja elektrostatycz¬ nie luznie utrzymujacy sie pigment z tych obszarów podloza. Pigment usuniety przez nosniki albo prze¬ mieszcza sie na odwrotna strone ukladu, lub jest elektrostatycznie zwiazany z powierzchnia nosnika.W kazdym przypadku pigment usuniety w ten spo¬ sób jest wychwytywany w ukladzie i przenoszony do oczyszczonej przestrzeni powierzchni.Mozna przekonac sie, ze elektroda wywolujaca jest zdolna do reagowania na brak lub obecnosc ob¬ razu przesuwajacego sie przez rejon glówny ele¬ ktrody wywolujacej i dziala w wiekszym lub mniejszym stopniu jako przelacznik do przesu¬ wania gradientu pigmentu w strumieniu prze¬ plywu odpowiednio do polozenia bebna. Dwusklad¬ nikowy material wywolujacy w strumieniu prze¬ plywowym jest w ten sposób wykorzystywany w tym obszarze albo do oczyszczania tla lub do dal¬ szego przyspieszania wywolywania elektrostatycz¬ nego obrazu utajonego. W innym ukladzie niz tu opisana krawedz prowadzaca obrazu elektrosta¬ tycznego jest wyzwalaczem, który rozpoczyna prze¬ suwanie sie gradientu pigmentu odpowiednio do zmiany stanu na powierzchni bebna. Jak to juz zostalo poprzednio zaznaczone, odstep czasowy za¬ dzialania ukladu jest odpowiedni do czasu prze¬ suwania sie gradientu pigmentu od jednej strony ukladu do drugiej, powodujacy niedowolanie kra¬ wedzi prowadzacej obnrau. Ta zwloka czasowa w ukladzie elektrycznym jest mechanicznie pokonana w urzadzeniu bedacym przedmiotem wynalazku, tak, ze efekt krawedzi prowadzacej jest wyelimino- 5 warny.Na fig. 4 pokazano wglebienie 85 w odwróconej czesci glównej elektrody wywolujacej 71 umie¬ szczone. Material wywolujacy poruszajacy sie ku dolowi odwróconej czesci glównego obszaru wyr wolywania doplywa do wglebienia utworzonego przez to wyzlobienie. Powierzchnia dna wyzlobie¬ nia jest uksztaltowana w taki sposób, aby zmie¬ niala jeszcze raz kierunek glównego strumienia przeplywu materialu wywolujacego z powrotem do zderzenia z poruszajaca sie powierzchnia bebna.Gdy glówna elektroda wywolujaca dziala jako przyrzad oczyszczajacy, to uderzenia drobin nos¬ nych w obszary bez obrazu pomagaja w mechanicz¬ nym oczyszczaniu osiadlego na nich pigmentu. Po¬ dobnie, uderzenie materialu wywolujacego w ob¬ szary wywolanego obrazu na powierzchni bebna po¬ maga w procesie wywolywania, po pierwsze przez fizyczne przenoszenie pigmentu z odwrotnej strony ukladu do styku z obszarem obrazu, przezwyciezajac w ten sposób jakakolwiek zwloke czasowa zwiaza¬ na z przesuwaniem sie gradientu pigmentu i po drugie przez tworzenie chmury proszku wolnego pigmentu na obszarze obrazu i wokól niego, gdzie wolne czasteczki pigmentu moga byc latwo przy¬ ciagane do obszaru obrazu.Tu znowu zarówno zdolnosc wywolywania jak i oczyszczania jest wprost proporcjonalna do licz¬ by zderzen drobin, które mozna spowodowac i pred¬ kosci z jaka drobiny uderzaja o powierzchnie beb¬ na. Ksztalt wglebienia lub wyzlobienia 85 w glów¬ nej elektrodzie wywolujacej jest wiec zaprojekto¬ wany tak, aby zoptymalizowac zarówno ilosc drobin jak i predkosc z jaka drobiny uderzaja o powie¬ rzchnie bebna. Jakkolwiek przedstawione tu zo¬ stalo wglebienie, to nalezy wyjasnic, ze moze byc wykorzystany kazdy odpowiedni srodek, zdolny do ukierunkowania przeplywu wywolywacza do zde¬ rzenia z powierzchnia bebna bez hamowania prze¬ plywu wywolywacza.Nastepna kolejna elektroda w odniesieniu do kierunku ruchu bebna jest elektroda oczyszczaja¬ ca 72. Jak zostalo to przedstawione na fig. 2, ele¬ ktroda oczyszczajaca jest umieszczona w górnej czesci strefy wywolywania, bezposrednio przylega¬ jacej do otworu, przez który wprowadzony jest swiezy material wywolujacy. Elektroda oczyszcza¬ jaca jest umieszczona w bezposredniej bliskosci glównej elektrody wywolujacej i jest izolowana elektrycznie od niej za pomoca bloku dielektrycz¬ nego 92. Dzialanie elektrody oczyszczajacej polega w pierwszym rzedzie na wytwarzaniu pola o szcze¬ gólnie duzej sile kierunkowej, zdolnej do przycia¬ gania pigmentu do strony ukladu bedacej pod jej wplywem, celem kontroli ruchu wolnych lub slabo zwiazanych czasteczek pigmentu przez górna czesc strefy wywolywania. Nastepnie elektroda oczy¬ szczajaca uzdatnia drobiny nosnika poruszajace sie w styku z plyta w tym obszarze do oczyszczania niepozadanego osadu z powierzchni plyty.Elektroda oczyszczajaca podlaczona jest do od- 15 20 25 30 35 40 45 50 55 6080968 11 12 powiedniego zródla 98 regulowanego napiecia poczat¬ kowego za pomoca przewodu 115 i zacisku 95. Zród¬ lo napiecia nadaje elektrodzie szczególnie wysoki potencjal o biegunowosci podobnej do bieguno¬ wosci na obszarach naladowanych obrazu na po¬ wierzchni bebna. W tym górnym obszarze jest wytworzone pole szczególnie duzych sil kierunko¬ wych, majacych wielkosc wystarczajaca do wy¬ muszenia oddalania sie wolnych lub slabo zwiaza¬ nych czasteczek pigmentu od powierzchni bejbna.Wolny material pigmentu, znajdujacy sie w ob¬ szarze elektrody oczyszczajacej, porusza sie w zwiazku z tym w kontrolnych warunkach wzdluz tylnej strony ukladu. Pole elektrostatyczne wy¬ twarzane w tym obszarze ma wystarczajaca sile równiez do odrywania niektórych czasteczek pig¬ mentu, w szczególnosci czasteczek slabo przycia¬ ganych, od drobin przyplywajacych w styku z bebnem i porusza te czasteczki w kierunku tylnej strony strefy wywolywania znajdujacej sie pod wplywem elektrody. Przy przewadze pigmentu skon¬ centrowanego na odwrotnej stronie strumienia prze¬ plywu, drobiny poruszajace sie w styku z powierzch¬ nia bebna sa w zasadzie pozbawione czasteczek pigmentu i dlatego latwiej moga zeskrobywac i elektrostatycznie przyciagac slabo przylegajace czastki tla z powierzchni bebna. Jak z tego wyni¬ ka, elektroda oczyszczajaca wytwarza podwójny efekt celem zapobiezenia, aby wywolane tlo nie opuscilo strefy wywolywania. Po pierwsze, wol¬ ny pigment jest oddalony od powierzchni plyty i po drugie, drobiny nosne na powierzchni plyty sa kondycjonowane do mechanicznego i elektro¬ statycznego oczyszczania podloza plyty. Przez okreslenie wielkosci ladunku i obrazu znajduja¬ cego sie na powierzchni przewodzacej fotoelek- trycznie i przez nadanie elektrodzie oczyszczajacej ladunku znacznie wyzszego, to jest rzedu 150—700 V powyzej potencjalu obrazu, powyzsze wyniki mo¬ ga byc uzyskiwane skutecznie.Wydaje sie byc oczywistym, ze ruch materialu wywolujacego do aktywnej strefy wywolywania musi byc kontrolowany zarówno elektrostatycznie jak i mechanicznie w celu zapobiezenia i kontroli tworzenia sie niepozadanych chmur proszku w ob¬ szarze poczatkowym. Jak to zostalo przedstawio¬ ne na fig. 5, otwór doplywowy 60 jest utworzony glównie przez rozciagajaca sie pozioma pochylona przegrode 73 i rozciagajaca sie poziomo wygieta tarcza. 74. Jakkolwiek nie pokazane, oba konce otworu pomiedzy przegroda i tarcza sa zamkniete za pomoca materialu izolacyjnego, przy czym otwór moze zatrzymywac pewna ilosc dwusklad¬ nikowego materialu wywolujacego. Nachylenie przegrody 73 posiada rozciagajaca sie do dolu pod¬ pórke 86, która zagieta jest ze stosunkowo ma¬ lym promieniem do strefy wywolywania i roz¬ ciaga sie do dolu tamze celem utworzenia scianki tylnej ukladu wywolywania. Tarcza 74, która jest z materialu przewodzacego, podtrzymywana jest w zasadzie w (polozeniu poziomym na izolujacej pod¬ pórce 90. Nizsza czesc tarczy zakonczona jest kra¬ wedzia 87, która znajduje sie bezposrednio w po¬ blizu zagietej czesci podpórki 86. Krawedz 87 jest uksztaltowana odpowiednio do krzywizny zagietej czesci podpórki 86 na nizszej przegrodzie i razem z nia tworzy wlot wejsciowy 61, polozony pozio¬ mo w poprzek szerokosci strefy wywolania. Otwór 60 ma w zasadzie ksztalt lejka zbiegajacego sie do 5 dolu od wzglednie szerokiego wylotu do waskiego wlotu 61. Szerokosc otworu jest w zasadzie taka sama jak odleglosc pomiedzy powierzchnia bebna i elektrodami kontrolnymi, tak ze podobna porcja objetosciowa przeplywu jest utrzymywana w strefie wejsciowej jak i w strefie aktywnego wywolywania. W czasie pracy kubelki dostarcza^ ja w sposób ciagly material wywolujacy do lejko¬ watego otworu doplywowego. Jakkolwiek mate¬ rial wywolujacy jest zwykle dostarczany do otwo¬ ru doplywowego ze wzglednie duza predkoscia, to czesc materialu wywolujacego jest poczatkowo za¬ trzymywana w otworze doplywowym, zanim zo¬ stanie dostarczona poprzez wejscie wlotu do ob¬ szaru aktywnego wywolywania. Poczatkowe zmniejszenie predkosci przeplywu wywolywacza, polaczone z lagodnym, torem przeplywu, powodu¬ je znaczne zmniejszenie mechanicznego miesza¬ nia dwuskladnikowego materialu wywolujacego, zapobiegajac w ten sposób sklonnosci tego ma¬ terialu do tworzenia chmur proszku w poblizu i w obszarze wejsciowym do strefy wywolywania.Pochylona przegroda 73, która tworzy nizsza scianke otworu doplywowego 60 posiada wzglednie wysoki potencjal od zródla poczatkowego kontrolo¬ wanego napiecia poprzez przewód 116 i zacisk 88.Nizsza przegroda znajduje sie pod poczatkowym napieciem majacym te sama biegunowosc co bie¬ gunowosc ladunku obrazu na powierzchni bebna, jednakze ladunek jest znacznie wiekszy od poten¬ cjalu ladunku obrazu, a otwór doplywowy jest izolowany elektrycznie od elektrody oczyszczajacej za pomoca bloku dielektrycznego 93. Natomiast tarcza 74 posiada wzglednie niski potencjal, który jest nizszy od potencjalu otworu doplywowego, nadawany przez zródlo 100 napiecia poczatkowego poprzez przewód 117 i zacisk 89. Tu znowu okres¬ lenie niski potencjal uzyte zostalo w szerokim te¬ go slowa znaczeniu, jak to juz zostalo wyjasnio¬ ne. Przez utrzymywanie na tarczy niskiego wzgled¬ nie potencjalu, a ha przegrodzie wzglednie wyso¬ kiego potencjalu tworzone jest pole szczególnie duzych sil w obszarze wejsciowym, zdolne do przyciagania i/lub wymuszania ruchu naladowa¬ nych czasteczek pigmentu przez ten obszar do odwrotnej strony ukladu. Stwierdzono, ze wzmoc¬ nione pole sil w otworze doplywowym wytwarza gradient pigmentu w przeplywie materialu wywo¬ lujacego wczesniej, niz material ten dojdzie do styku z powierzchnia bebna.Tu znowu poniewaz podpórka 86 w dolnej cze¬ sci nizszej przegrody 73 skreca lagodnie do strefy wywolywania i poniewaz predkosc materialu wy¬ wolujacego przechodzacego przez otwór doplywo¬ wy jest w powaznym stopniu zmniejszana za po¬ moca dlawienia, stwierdza sie nieznaczne mecha¬ niczne mieszanie pigmentu w obszarze wejscio¬ wym, zapobiegajac w ten sposób tendencji pow¬ stawania chmur proszku. Wielkosc i sila napiecia poczatkowego nadawanego obu plytkom przegra¬ dzajacym wytwarza pole nadzwyczaj duzych-sil 15 20 25 30 35 40 45 50 55 6080988 13 14 kierunkowych w obszarze wejsciowym, dazace do odciagania wolnego i luznie zwiazanego pig¬ mentu w tym obszarze od powierzchni przewo¬ dzacej fotoelektrycznie. Obie wzajemnie sie uzu¬ pelniaja celem zapewnienia, aby tylko niewiele przypadkowych czasteczek pigmentu lub zadna z nich nie uchodzila w kierunku powierzchni plyty wtedy, gdy material wprowadzany jest do aktyw¬ nej strefy wywolywania.Optymalna kombinacja dla opisywanego ukladu jest taka, w której przewodzace czlony elektro¬ dy umieszczone sa w odleglosci 0,1778 do 0,2032 cm od powierzchni bebna, a elektrodzie o niskim potencjale nadawane jest w zasadzie napiecie o potencjale podstawowym, podczas gdy glówna elektroda wywolujaca jest utrzymywana pomiedzy 50 i 150 V powyzej napiecia podloza na powierzch¬ ni plyty. Stwierdzono, ze uksztaltowane w formie trójkata wyzlobienie w glównej elektrodzie wy¬ wolujacej, majace kat rozwarcia w przyblizeniu 120°, da dobre wyniki wtedy, gdy bedzie umiesz¬ czone 10° do 20° ponizej linii srodkowej bebna.Poniewaz zadzialanie glównej elektrody wywolu¬ jacej jest wolniejsze niz elektrody o niskim po¬ tencjale, stwierdzono, ze glówna elektroda wy¬ wolujaca powinna byc od trzech do czterech razy dluzsza wzgledem kierunku przeplywu wywoly¬ wacza niz elektroda o niskim potencjale. Aby otrzymac optymalne wyniki, pozadane jest nada¬ nie elektrodzie oczyszczajacej potencjalu pomiedzy 150 i 700 V powyzej potencjalu obrazu znajdu¬ jacego sie na powierzchni plyty ladowanej, pod¬ czas gdy przewodzaca tarcza i przegroda, tworza¬ ce otwór wejsciowy, skierowane sa w formie lej¬ ka do dolu, tak ze tworza one wlot o szerokosci 0,1651 do 0,2032 cm w obszarze wejsciowym do strefy wywolywania, oraz nadanie nachylonej przegrodzie napiecia poczatkowego pomiedzy 300 i 1000 V powyzej potencjalu obrazu znajdujacego sie na powierzchni plyty, zas tarczy nalezy na¬ dac potencjal podstawowy.Z powyzej przedstawionego opisu wynika, ze uklad wywolujacy jest ukladem dynamiczno-prze- plywowym. Oznacza to, ze gradient pigmentu, któ¬ ry wytwarzany jest w strumieniu przeplywu i któ¬ ry kierowany jest do lub od poruszajacej sie po¬ wierzchni bebna niekoniecznie musi byc wychwy¬ tywany i zatrzymywany przez elektrode, lecz fak¬ tycznie przenoszony jest wzdluz pod wplywem drobin nosnika w strumieniu przeplywu. W zwiaz¬ ku z tym wydaje sie oczywiste, ze elektrody nie staja sie kolektorami luznego pigmentu, lecz tym nie mniej dzialaja jako srodki kontroli koncentra¬ cji pigmentu w przeplywie, gdy porusza sie on przez strefe wywolywania. Przez zróznicowanie intensywnosci i kierunku pól sil skladowych wytworzonych w róznych czesciach strefy wywo¬ lywania i przez zmiane kierunku przeplywu ma¬ terialu wywolujacego w okreslonych z góry punk¬ tach celem zderzenia materialu z powierzchnia przewodzaca fotoelektrycznie, zdolnosc wywolywa¬ nia ukladu jest zwiekszona i kontrolowana, tak, ze wytwarzany jest obraz kserograficzny o wyjatko¬ wo dobrej jakosci.Uklad w tej postaci jak tu zostal opisany nie jest zalezny od sil grawitacyjnych i dlatego jego za¬ stosowanie nie jest ograniczone do okreslonej kon¬ strukcji maszyny. Oznacza to, ze elektrostatyczna i mechaniczna kontrola przeplywu dwuskladniko¬ wego wywolywacza nadaje sie równie dobrze do zastosowania w kazdym ukladzie wywolujacym, wykorzystujacym przeplyw dwuskladnikowego ma¬ terialu wywolujacego w charakterze mechanizmu wywolujacego.Dla celów zrozumialego wyjasnienia mogla byc mowa o tym opisie i o materialach nosnych nala¬ dowanych dodatnio i czasteczkach pigmentu na¬ ladowanych ujemnie. Nalezy zaznaczyc, ze opis tej specyficznej cechy wchodzacych w gre potencja¬ lów na odnosnych czlonach przewodzacych nie ma na celu zawezenie tego wynalazku do tych specy¬ ficznych stosunków. Byloby mozliwe zastosowanie nosnika i pigmentu bedacych w bardzo róznych stosunkach odnosnie ich charakterystyk tryboelek- trycznych. To oczywiscie spowoduje koniecznosc odpowiednich zmian w stosunkach ladunków o re¬ gulowanym napieciu poczatkowym, znajdujacych sie na róznych czlonach przewodzacych. Powoly¬ wanie sie na ladunki dodatnie i ujemne w tym opisie nalezy w zwiazku z tym rozumiec jako de¬ finiowanie stosunku przeciwnie naladowanych cial, który to ladunek moze byc dodatni lub ujemny tak dlugo, jak dlugo ten stosunek o podobnych lub rózniacych sie ladunkach jest utrzymywany. PL PL PL PL

Claims (19)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wywolywania elektrostatycznego obra¬ zu utajonego, posiadajacego obszary o wzglednie duzym potencjale i obszary tla o malym poten¬ cjale, droga przenoszenia wywolywanego obrazu wzdluz uprzednio okreslonego toru obok szeregu elektrod kontrolnych, przepuszczania strumienia rozproszonego dwuskladnikowego wywolywacza przez strefe wywolywania utworzona miedzy elek¬ trodami i obrazem, oraz droga przykladania po¬ tencjalu do elektrod, znamienny tym, ze strumien materialu wywolujacego przemieszcza sie w strefie wywolywania w kierunku przeciwnym do kierunku ruchu obrazu, przy czym do pierwszej elektrody w kierunku przechodzenia obrazu, przyklada sie po¬ tencjal nizszy od potencjalu tla w obszarze obrazu, do elektrody posredniej przyklada sie potencjal o wartosci pomiedzy potencjalem obrazu a potencja¬ lem tla, zas do elektrody koncowej przyklada sie potencjal wiekszy od potencjalu obrazu.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze potencjal pierwszej elektrody utrzymuje sie w przyblizeniu 150 V ponizej potencjalu obszaru nie pokrytego obrazem na powierzchni bebna.
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze elektrodzie koncowej nadaje sie potencjal 300 do 1000 V wyzszy od potencjalu obrazu elektrosta¬ tycznego.
4. Urzadzenie do wywolywania utajonego obrazu elektrostatycznego zawierajace czlon nosny ob¬ razu, szereg elektrod kontrolnych umieszczonych w sasiedztwie czlonu nosnego tworzac zasadniczo zamknieta wydluzona strefe wywolywania, w któ- 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 6015 80968 16 rej przemieszcza sie strumien drobnoziarnistego, dwuskladnikowego materialu wywolujacego, ele¬ ment do przykladania napiecia do elektrod elek¬ trycznie polaczonej *z elektrodami oraz naped nos¬ nika obrazu, znamienne tym, ze elektrody kontrol¬ ne (70, 71, 72) umieszczone sa równolegle i blisko czlonu nosnego (10) obrazu, szeregowo jedna za druga, naped (9) jest sprzezony z walem (11) nos¬ nika (10) obrazu, a elementy (96, 97, 98) sprzezone sa elektrycznie kazdy z inna elektroda szeregu elektrod (70, 71, 72).
5. Urzadzenie wedlug zastrz. 4, znamienne tym, ze elektrody sa rozdzielone blokami izolujacymi (75, 92, 93).
6. Urzadzenie wedlug zastrz. 4 lub 5, znamienne tym, ze czlonem nosnym (10) jest beben obraca¬ jacy sie obok elektrod (70, 71, 72).
7. Urzadzenie wedlug zastrz. 6, znamienne tym, ze co najmniej czesc strefy wywolywania jest równolegla do odwróconej czesci powierzchni bebna.
8. Urzadzenie wedlug zastrz. 4, znamienne tym, ze druga elektroda (71), w szeregu elektrod (70, 71, 72), jest od trzech do czterech razy dluzsza w kie¬ runku przeplywu wywolywacza niz pierwsza elek¬ troda (70).
9. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze pierwsza elektroda (70) jest umieszczona w tym obszarze strefy elektrod, w którym obraz utajony najpierw wchodzi w kontakt ze strumieniem ma¬ terialu wywolujacego i zawiera element (174) kie¬ rowania strumienia materialu wywolujacego do zderzenia z czlonem nosnym (10) obrazu.
10. Urzadzenie wedlug zastrz. 9, znamienne tym, ze element (174) kierowania strumienia umiesz¬ czony jest wzdluz krawedzi pierwszej elektrody (70).
11. Urzadzenie wedlug zastrz. 4, znamienne tym, ze pierwsza w szeregu elekrod elektroda (70) jest uziemiona.
12. Urzadzenie wedlug zastrz. 4, znamienne tym, ze pierwsza elektroda (70) jest umieszczona poni¬ zej osi obrotu nosnika (10) obrazu.
13. Urzadzenie wedlug zastrz. 4, znamienne tym, ze szereg elektrod (70, 71, 72) siega do obszaru, gdzie dwuskladnikowy material wywolujacy wpro¬ wadzany jest do styku z czlonem nosnym (10) obrazu.
14. Urzadzenie wedlug zastrz. 4, znamienne tym, ze elektroda umieszczona jest w odleglosci 0,17 do 0,20 cm od powierzchni nosnika (10) obrazu.
15. Urzadzenie wedlug zastrz. 4, znamienne tym, ze posiada konstrukcje (73, 87, 74, 86) zapobiegajaca tworzeniu sie chmur proszku w obszarze wejscio¬ wym i w poblizu niego.
16. Urzadzenie wedlug zastrz. 15, znamienne tym, ze konstrukcja (73, 74, 87, 86) zawiera zsyp (60) z otworem (61) wprowadzajacym strumien mate¬ rialu wywolujacego do strefy wywolywania oraz zespól elektryczny (99) nadawania potencjalu otwo¬ rowi doplywowemu (61).
17. Urzadzenie wedlug zastrz. 16, znamienne tym, ze otwór doplywowy (61) okreslony jest przewo¬ dzaca przegroda nachylona (73), rozciagajaca sie poziomo poprzez strefe wywolywania, która to przegroda umieszczona jest w bezposredniej blis¬ kosci czlonu nosnego (10) i krawedzi (87) przewo¬ dzacej tarczy (74) umieszczonej pomiedzy czlonem nosnym (10) a przegroda (73).
18. Urzadzenie wedlug zastrz. 12, znamienne tym, ze odleglosc pomiedzy krawedzia (87) tarczy (74) i zakrzywionym czlonem (86) przegrody (73), przy wlocie wejsciowym (61), jest równa odleglosci po¬ miedzy nosnikiem (10) obrazu i zakrzywionym czlonem (86) w miejscu równoleglych powierzchni tych elementów.
19. Urzadzenie wedlug zastrz. 13, znamienne tym, ze tarcza (74) jest uziemiona. 10 15 20 25 30 3580968 60 90 74T& 773 ' ~57 60/ 6r 99n r// 72' 51' 71* 65\ rlto ~%)s\95 mI**)] \ /"5 JI4 (fe» A S'3 f° ?7 S96 10 66 65- ,58 55 FIG. 280968 FIG. 3 Drukarnia Narodowa, Zaklad Nr 6, zam. 2887/75 Cena 10 xl PL PL PL PL
PL14172670A 1969-07-03 1970-07-01 Electrostatic image development apparatus[gb1310444a] PL80968B1 (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US83877869A 1969-07-03 1969-07-03
US83891469A 1969-07-03 1969-07-03
US83877969A 1969-07-03 1969-07-03
US83881769A 1969-07-03 1969-07-03

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL80968B1 true PL80968B1 (en) 1975-08-30

Family

ID=27505891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL14172670A PL80968B1 (en) 1969-07-03 1970-07-01 Electrostatic image development apparatus[gb1310444a]

Country Status (12)

Country Link
JP (2) JPS4837611B1 (pl)
AR (1) AR199542A1 (pl)
BE (1) BE752943A (pl)
CH (1) CH528761A (pl)
DE (1) DE2032046C3 (pl)
DK (1) DK128800C (pl)
FR (1) FR2054088A5 (pl)
GB (1) GB1310444A (pl)
NL (1) NL7009833A (pl)
NO (1) NO132115C (pl)
PL (1) PL80968B1 (pl)
SE (1) SE359387B (pl)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19546248A1 (de) * 1995-12-12 1997-06-19 Heidelberger Druckmasch Ag Verfahren und Vorrichtung zum Entwickeln eines elektrostatischen latenten Bildes
DE19547546A1 (de) * 1995-12-20 1997-07-03 Heidelberger Druckmasch Ag Vorrichtung zur Einwirkung auf Bogen in einem Bogenausleger

Also Published As

Publication number Publication date
NL7009833A (pl) 1971-01-05
DK128800C (da) 1974-11-11
DK128800B (pl) 1974-07-01
NO132115B (pl) 1975-06-09
DE2032046B2 (de) 1978-02-09
DE2032046A1 (de) 1971-01-28
SE359387B (pl) 1973-08-27
JPS4837611B1 (pl) 1973-11-12
BE752943A (fr) 1971-01-04
NO132115C (pl) 1975-09-17
JPS50130452A (pl) 1975-10-15
GB1310444A (en) 1973-03-21
DE2032046C3 (de) 1978-10-12
AR199542A1 (es) 1974-09-13
CH528761A (de) 1972-09-30
FR2054088A5 (pl) 1971-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3967891A (en) Imaging system for electrostatic reproduction machines
US3457900A (en) Single magnetic brush apparatus for development of electrostatic images
US3914460A (en) Development utilizing electric fields
US3635340A (en) Electrostatic separating apparatus for particles
US3412710A (en) Cleanup electrode
JPS61286862A (ja) 静電写真複写機
US3416494A (en) Xerographic development electrode
EP1273351A1 (en) Composite separator
EP0221518B1 (en) Biased scavenging grid for electrographic apparatus
US3611992A (en) Cleanup electrode
US4545325A (en) Developing apparatus
PL80968B1 (en) Electrostatic image development apparatus[gb1310444a]
DE1497217A1 (de) Entwicklereinrichtung fuer xerographische Geraete
US6309049B1 (en) Printing apparatus and method for imaging charged toner particles using direct writing methods
US3638610A (en) Development apparatus
JPH0342691A (ja) 現像材料混合装置
US3428025A (en) Xerographic development apparatus
EP0096977A1 (en) Electrographic recording apparatus
US3444369A (en) Method and apparatus for selective corona treatment of toner particles
US3921578A (en) Power cascade electrophotographic development
US4266503A (en) Apparatus for forming a cloud of toner particles
US3651784A (en) Low potential development electrode
US3620191A (en) Biased input chute
US3670700A (en) Development electrode
JPH04335695A (ja) クリーニング装置