PL199520B1 - Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego - Google Patents
Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowegoInfo
- Publication number
- PL199520B1 PL199520B1 PL348235A PL34823599A PL199520B1 PL 199520 B1 PL199520 B1 PL 199520B1 PL 348235 A PL348235 A PL 348235A PL 34823599 A PL34823599 A PL 34823599A PL 199520 B1 PL199520 B1 PL 199520B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- glazing panel
- layer
- panel according
- atomic ratio
- equal
- Prior art date
Links
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 76
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 69
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 50
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 47
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 40
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims abstract description 30
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 72
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 claims description 20
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 198
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 70
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 57
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 19
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 17
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 17
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 2
- LLQHSBBZNDXTIV-UHFFFAOYSA-N 6-[5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-4,5-dihydro-1,2-oxazol-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC1CC(=NO1)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 LLQHSBBZNDXTIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 SiOxCy Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/10009—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets
- B32B17/10036—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets comprising two outer glass sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/10165—Functional features of the laminated safety glass or glazing
- B32B17/10174—Coatings of a metallic or dielectric material on a constituent layer of glass or polymer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
- B32B17/10761—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer containing vinyl acetal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3647—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer in combination with other metals, silver being more than 50%
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12896—Ag-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Aiming, Guidance, Guns With A Light Source, Armor, Camouflage, And Targets (AREA)
Abstract
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy posiadaj acy zespó l powlekaj acy zawieraj acy uszeregowane w odpowiednim porz adku co najmniej: pod lo ze szklane, podstawow a warstw e prze- ciwodblaskow a, warstw e odbijaj ac a promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniow a warstw e przeciwodblaskow a, w którym co najmniej jedna z warstw przeciwodblaskowych zawiera co najmniej jedn a warstw e azotku mieszanego, któr a stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materia lu X, w której stosunek atomowy X/Al jest wi ekszy lub równy 0,05 oraz mniejszy b ad z równy 6, i w której X stanowi jeden lub wi ecej materia lów wybranych z grupy obejmuj acej Si, Zr, Hf, Ti, Nb i B oraz sposób jego wytwarzania. PL PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego, a zwł aszcza lecz nie wyłącznie, panel oszkleniowy kontrolujący promieniowanie słoneczne, który jest przeznaczony do poddawania go obróbce cieplnej następującej już po nałożeniu filtra kontrolującego promieniowanie słoneczne.
Europejski opis patentowy EP 233003A ujawnia panel oszkleniowy posiadający filtr optyczny naniesiony przez rozpylanie o następującej strukturze: podłoże szklane /SnO2 podstawowy dielektryk/pierwsza bariera metaliczna z Al, Ti, Zn, Zr lub Ta/Ag/druga bariera metaliczna z Al, Ti, Zn, Zr lub Ta/Sn powierzchniowy dielektryk. Ten filtr optyczny przeznaczony jest do blokowania znacznej części padającego promieniowania w podczerwonej części widma przy jednoczesnym przepuszczaniu znacznej części padającego promieniowania w widzialnej części widma. W ten sposób, filtr ten działa zmniejszając efekt cieplny padającego światła słonecznego przy jednoczesnym zapewnieniu dobrej widzialności poprzez takie oszklenie i jest szczególnie odpowiedni na szyby samochodowe.
W strukturze tego typu, warstwa Ag dział a odbijają c padające promieniowanie podczerwone, i aby spełniać tę rolę musi być utrzymywana raczej w postaci metalicznego srebra niż w postaci tlenku srebra i nie może być ona domieszkowana przez warstwy sąsiadujące. Warstwy dielektryczne, które obejmują warstwę Ag służą w celu zmniejszania odbicia widzialnej części widma, co w przeciwnym wypadku wywoływałaby warstwa Ag. Druga bariera służy do zapobiegania utlenianiu warstwy Ag podczas napylania górnej dielektrycznej warstwy SnO2 w atmosferze utleniającej; ta bariera jest co najmniej częściowo utleniana podczas tego procesu. Głównym zadaniem pierwszej warstwy barierowej jest zapobieganie utlenianiu warstwy srebrnej podczas obróbki cieplnej tej powłoki (tj. podczas zginania i/lub hartowania) panelu oszkleniowego dzięki temu, że to ta warstwa raczej sama się utlenia niż pozwoli na przechodzenie przez nią tlenu do warstwy Ag. Takie utlenianie warstwy barierowej podczas obróbki cieplnej powoduje wzrost TL w panelu oszkleniowym.
Europejski opis patentowy EP 792847A ujawnia panel oszkleniowy kontrolujący promieniowanie słoneczne nadający się do obróbki cieplnej, który oparty jest na takiej samej zasadzie i ma następującą strukturę: podłoże szklane /dielektryk ZnO/bariera Zn/Ag/bariera Zn/dielektryk ZnO/bariera Zn/Ag/ bariera Zn/dielektryk ZnO. Bariery ZnO usytuowane poniżej każdej z warstw Ag są przeznaczone do całkowitego utlenienia się podczas obróbki cieplnej i służą do ochrony warstw Ag przed utlenianiem. Jak dobrze wiadomo w stanie techniki, struktura posiadająca zamiast pojedynczej warstwy Ag raczej dwie, oddzielone od siebie warstwy Ag podwyższa selektywność tego filtra.
Europejski opis patentowy EP 718250A ujawnia zastosowanie warstwy, która zapewnia barierę dla dyfuzji tlenu, gdyż stanowi ona co najmniej część najbardziej zewnętrznej warstwy dielektrycznej w tego typu zespole filtra. Warstwa taka musi mieć grubość co najmniej 1-10-8 m [100 A], korzystnie co najmniej 2-10-8 m [200 A], w celu utworzenia skutecznej bariery i może obejmować związki krzemu SiO2, SiOxCy, SiOxNy, azotki takie jak Si3N4 lub AlN, węgliki takie jak SiC, TiC, CrC oraz TaC.
Europejski opis patentowy EP 279550A ujawnia napylanie z mieszanych tarcz Al/Si zwierających 6-18% wagowych Si dla zapewnienia twardej i odpornej na korozję wierzchniej powłoki zespołu powlekającego.
Przedmiotem wynalazku jest panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający zawierający uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, charakteryzujący się tym, że co najmniej podstawowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05 oraz jest mniejszy lub równy 6, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Si, Zr, Hf, Ti, Nb i B, przy czym warstwa azotku mieszanego ma grubość geometryczną mniejszą niż 1,95-10-8 m [195 A].
Korzystnie, zespół powlekający zawiera uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej: podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, środkową warstwę przeciwodblaskową,
PL 199 520 B1 warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową.
Korzystnie, panel wg wynalazku stanowi panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia.
Korzystnie, warstwa azotku mieszanego ma grubość geometryczną większą lub równą 3-10-9 m [30 A].
Korzystnie, każda spośród podstawowej warstwy przeciwodblaskowej i powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki Si, Zr, Hf, Ti, Nb, i B.
Korzystnie, środkowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki Si, Zr, Hf, Ti, Nb i B.
Korzystnie, stosunek atomowy X/Al w warstwie azotku mieszanego mieści się w zakresie 0,2 do 4.
Korzystnie, stosunek atomowy X/Al w warstwie azotku mieszanego mieści się w zakresie 0,4 do 3,5.
Korzystnie, podstawowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę sąsiadującą z podłożem zawierającą warstwę azotku mieszanego, oraz leżącą nad nią warstwę, która zawiera warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,03, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
Korzystnie, powierzchniowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,03, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków, oraz leżącą nad nią warstwę zawierającą warstwę azotku mieszanego.
Korzystnie, panel wg wynalazku stanowi panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia, przy czym panel oszkleniowy wykazuje wzrost wartości transmitancji świetlnej TL o co najmniej 2,5% po obróbce cieplnej.
Korzystnie, warstwa odbijająca promieniowanie podczerwone zawiera stop srebra i dodatkowy materiał wybrany z grupy obejmującej Pd, Au, Cu lub ich mieszaniny, przy czym materiał dodatkowy jest obecny w stopie srebra w stosunku atomowym w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i metalu dodatkowego, równym 0,3 do 10%.
Korzystnie, warstwa odbijająca promieniowanie podczerwone zawiera stop srebra i Pd, przy czym Pd jest obecny w stopie srebra w stosunku atomowym w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i Pd, równym 0,3 do 2%.
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania panelu oszkleniowego o zamgleniu mniejszym niż 0,5, charakteryzujący się tym, że obejmuje on etap, w którym określony powyżej panel oszkleniowy według wynalazku, poddaje się obróbce cieplnej w temperaturze równej co najmniej 570°C.
Przedmiotem wynalazku jest również panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający zawierający uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, charakteryzujący się tym, że co najmniej powierzchniowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05 oraz jest mniejszy lub równy 6, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Si, Zr, Hf, Ti, Nb i B.
Korzystnie, stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,45 oraz jest mniejszy lub równy 6.
Korzystnie, X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Zr, Hf, Ti i Nb, lub kombinacja Si i Zr.
Korzystnie, co najmniej jedna warstwa azotku mieszanego, która stanowi co najmniej część powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej ma grubość geometryczną mniejszą niż 10-8 m [100 A].
Korzystnie, zespół powlekający zawiera uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
PL 199 520 B1 podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, środkową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową.
Korzystnie, panel wg wynalazku stanowi panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia.
Korzystnie, warstwa azotku mieszanego ma grubość geometryczną większą lub równą 3-10-9 m [30 A].
Korzystnie, warstwa azotku mieszanego ma grubość geometryczną mniejszą niż 1,95-10-8 m [195 A].
Korzystniej, każda spośród podstawowej warstwy przeciwodblaskowej i powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki Si, Zr, Hf, Ti, Nb, i B.
Korzystnie, środkowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki Si, Zr, Hf, Ti, Nb i B.
Korzystnie, stosunek atomowy X/Al w warstwie azotku mieszanego mieści się w zakresie 0,2 do 4, korzystniej w zakresie 0,4 do 3,5.
Korzystnie, podstawowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę sąsiadującą z podłożem zawierającą warstwę azotku mieszanego, oraz leżącą nad nią warstwę, która zawiera warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,03, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
Korzystnie, powierzchniowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,03, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków, oraz leżącą nad nią warstwę zawierającą warstwę azotku mieszanego.
Korzystnie, panel wg wynalazku stanowi panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia, przy czym panel oszkleniowy wykazuje wzrost wartości transmitancji świetlnej TL o co najmniej 2,5% po obróbce cieplnej.
Korzystniej, warstwa odbijająca promieniowanie podczerwone zawiera stop srebra i dodatkowy materiał wybrany z grupy obejmującej Pd, Au, Cu lub ich mieszaniny, przy czym materiał dodatkowy jest obecny w stopie srebra w stosunku atomowym w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i metalu dodatkowego, równym 0,3 do 10%.
Korzystnie, warstwa odbijająca promieniowanie podczerwone zawiera stop srebra i Pd, przy czym Pd jest obecny w stopie srebra w stosunku atomowym w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i Pd, równym 0,3 do 2%.
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania panelu oszkleniowego o zamgleniu mniejszym niż 0,5, charakteryzujący się tym, że obejmuje on etap, w którym określony powyżej panel oszkleniowy według wynalazku poddaje się obróbce cieplnej w temperaturze równej co najmniej 570°C.
Dowolne odpowiednie sposoby lub kombinacje sposobów można zastosować w celu nakładania warstw powlekających. Na przykład, naparowanie (promieniowanie cieplne lub elektronowe), piroliza cieczy, chemiczne osadzanie par, osadzanie próżniowe oraz napylanie, zwłaszcza napylanie magnetronowe, przy czym ten ostatni sposób jest szczególnie preferowany. Różne warstwy tego zespołu powlekającego mogą być osadzane za pomocą różnych technik.
Warstwa azotku mieszanego zawierającego glin może zawierać „czysty azotek, lub tlenkoazotek, węglikoazotek albo tlenkowęglikoazotek. Warstwa azotku mieszanego zawierającego glin może być osadzona przez napylanie z tarczy w atmosferze azotu. Alternatywnie, może być ona osadzona przez napylanie z tarczy w atmosferze będącej mieszaniną argonu i azotu.
Zastosowanie raczej azotku mieszanego zawierającego glin, niż czystego lub też domieszkowanego AlN, nadaje zespołowi powlekającemu dobrą odporność na utlenianie i/lub wilgoć. Ma to miejPL 199 520 B1 sce szczególnie wtedy, gdy azotek mieszany zawierający glin tworzy część powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej, a zwłaszcza gdy on sam stanowi warstwę wierzchnią.
Uważa się, że warstwa azotku mieszanego zawierająca glin znajdująca się w podstawowej warstwie przeciwodblaskowej jest skuteczna przy blokowaniu nie tylko tlenu lecz także jonów sodowych i innych jonów, które mogą dyfundować ze szkła do zespołu powlekającego i powodować pogorszenie się jakości własności optycznych i elektrycznych, zwłaszcza gdy panel oszkleniowy poddawany jest obróbce cieplnej.
Szczególnie dobre wyniki można uzyskać, jeśli dodatkowy materiał X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Si, Zr, Hf, Ti, Nb oraz B, a zwłaszcza Si lub Si oraz Zr. Jeśli warstwa azotku mieszanego zawiera Al oraz Si, to stosunek atomowy Si/Al może być równy około 0,2 do 4, zwłaszcza 0,4 do 3,5. Jeśli warstwa azotku mieszanego zawiera Al, Si oraz Zr, to stosunki atomowe mogą być równe: dla Si/Al około 0,5, a dla Zr/Al około 0,2.
SiO2 oraz Al2O3 są dobrze znane jako skuteczne bariery dla dyfuzji jonów sodowych w napylanych zespołach powlekających. Ponadto są one łatwiejsze, szybsze i ekonomicznie bardziej wydajne do osadzania przez napylanie, oraz uważa się, że warstwa azotku mieszanego zawierająca glin stanowiąca część podstawowej warstwy przeciwodblaskowej stanowi skuteczną barierę dla dyfundowania zarówno jonów sodowych jak i tlenu. Co więcej, uważa się, że warstwa azotku mieszanego zawierająca glin może stanowić skuteczną barierę dla dyfuzji przy podobnych grubościach geometrycznych jakie są wymagane przy stosowaniu znanych materiałów. Na przykład, można uzyskać dobrą odporność cieplną w odniesieniu do dyfuzji jonów i tlenu ze szklanego podłoża dla zespołu powlekającego przez rozmieszczenie w odpowiednim porządku warstwy azotku mieszanego zawierającej glin o grubości geometrycznej większej niż 3-10-9 m [30 A], na przykład większej niż około 5-10-9 m [50 A],
8-10-9 m [80 A] lub 9-10-9 m [90 A], jako co najmniej część podstawowej warstwy przeciwodblaskowej, zwłaszcza gdy ten zespół powlekający również zawiera warstwę barierową, na przykład warstwę barierową z metalu lub podtlenku, umieszczoną pod warstwą odbijającą promieniowanie podczerwone. Nawet przy braku takiej warstwy barierowej leżącej pod warstwą odbijającą promieniowanie podczerwone, można uzyskać dobre własności, czyli dobrą odporność cieplną w odniesieniu do dyfuzji jonów i tlenu ze szklanego podłoża dla danego zespołu powlekającego przez rozmieszczenie w odpowiednim porządku warstwy azotku mieszanego zawierającej glin o grubości geometrycznej większej niż 3-10-9 m [30 A], korzystnie większej niż około 5-10-9 m [50 A], 8-10-9 m [80 A] lub 9-10-9 m [90 A], na przykład około 10-8 m [100 A], jako co najmniej część podstawowej warstwy przeciwodblaskowej. Warstwa azotku mieszanego zawierająca glin może nadawać korzystne własności nawet gdy jej grubość jest mniejsza niż 1,95-10-8 m [195 A].
Zdolność do blokowania dyfuzji jonów i tlenu ze szklanego podłoża za pomocą stosunkowo cienkiej warstwy zapewnia doskonałą elastyczność w doborze materiałów i grubości, które mogą być zastosowane na inne warstwy w tym zespole powlekającym.
Zarówno Si3N4 jak AlN zabierają więcej czasu podczas ich osadzania za pomocą zwykłych technik napylania, niż tlenki tradycyjnie stosowane w takich powłokach, na przykład ZnO, SnO2. Zdolność do zapewnieni dobrej odporności cieplnej przy stosunkowo cienkiej warstwie z warstwy azotku mieszanego zawierającej glin, w ten sposób łagodzi osadzanie takiej warstwy jako czynnik limitujący w tym procesie osadzania.
Grubość optyczna warstw przeciwodblaskowych, a zwłaszcza powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej jest krytyczna dla nadawania koloru panelowi oszkleniowemu. Jeśli część warstwy przeciwodblaskowej jest utleniona, na przykład podczas obróbki cieplnej tego panelu oszkleniowego, zwłaszcza z Si3N4 (współczynnik załamania światła około 2), to grubość optyczną można modyfikować gdyż Si3N4 może być utleniony do SiO2 (współczynnik załamania światła około 1,45). Gdy warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę azotku mieszanego zawierającą glin, której azotek ma współczynnik załamania światła około 1,7, to utlenienie jego części do Al2O3 (współczynnik załamania światła około 1,7) będzie miało mniejszy wpływ na grubość optyczną tej warstwy.
Możliwość zastosowania warstwy zawierającej warstwę azotku mieszanego zawierającą glin o grubości mniejszej niż 10-8 m [100 A] zapewnia uzyskanie skutecznej bariery cieplnej, która daje dużą elastyczność w doborze wierzchniej struktury powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej. Warstwa zawierająca warstwę azotku mieszanego zawierającą glin może mieć grubość około 8,5-10-9 m [85 A]; umożliwia to uzyskanie kombinacji dobrej odporności cieplnej oraz grubości. Warstwa zawierająca warstwę azotku mieszanego zawierającą glin może mieć grubość większą lub równą około 5-10-9 m [50 A],
PL 199 520 B1
6-10-9 m [60 A lub 8-10-9 m [80 A], jej grubość może być mniejsza lub równa około 8,5-10-9 m [85 A],
9-10-9 m [90 A] lub 9,5-10-9 m [95 A].
Preferowane stosunki atomowe X/Al zdefiniowane w zastrzeżeniach mogą zapewniać uzyskiwanie dobrej kombinacji odporności cieplnej oraz trwałości chemicznej temu zespołowi powlekającemu, zwłaszcza gdy dodatkowy materiał X stanowi Si, Zr lub Si oraz Zr. Stosunek atomowy X/Al może mieścić się w przedziale 0,2 do 5, korzystnie 0,4 do 3,5, lub w przedziale 0,4 do 2,5. Szczególnie nieoczekiwanym okazało się to, że możliwe jest uzyskanie dobrej kombinacji takich własności jak odporność cieplna oraz trwałość chemiczna dzięki zastosowaniu warstwy azotku zawierającej szczególnie Al oraz Si jako części powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej, w której stosunek atomowy Si/Al jest większy lub równy 0,45; uprzednie ujawnienia stanu techniki sugerują, że nie powinno to mieć miejsca. Stosunek atomowy X/Al może być większy lub równy 0,1, 0,2, 0,4, 0,45, 0,5, 0,7, 1, 1,5, lub 2; może być on mniejszy lub równy 6, 5,5, 5, 4,5, 4, 3,5, 3, 2,5, lub 2.
Materiał odbijający promieniowanie podczerwone może stanowić srebro lub stop srebra, na przykład stop srebra zawierający jeden lub więcej spośród Pd, Au oraz Cu, jako materiał dodatkowy. Taki materiał dodatkowy może być obecny w stopie srebra w stosunku atomowym, w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i metalu dodatkowego, równym 0,3 do 10%, korzystnie 0,3 do 5%, a korzystniej, zwłaszcza gdy dodatkowy materiał stanowi Pd, 0,3 do 2%.
Jedna lub więcej spośród warstw przeciwodblaskowych mogą zawierać tlenek, azotek, węglik lub ich mieszaninę. Na przykład, warstwa przeciwodblaskowa może zawierać:
tlenek jednego lub więcej spośród Zn, Ti, Sn, Si, Al, Ta lub Zr; tlenek cynku zawierający Al, Ga, Si lub Sn lub tlenek indu zawierający Sn;
azotek jednego lub więcej spośród Si, Al i B lub mieszaninę (w tym podwójny azotek) azotku Zr lub azotku Ti z jednym spośród wyżej wymienionych azotków;
związek podwójny, na przykład, SiOxCy, SiOxNy, SiAlxNy lub SiAlxOyNz.
Warstwę przeciwodblaskową może stanowić warstwa pojedyncza lub może ona obejmować dwie lub więcej warstw o różnych składach. Tlenek cynku, korzystnie tlenek cynku zawierający co najmniej jeden spośród Sn, Cr, Si, B, Mg, In, Ga i korzystnie Al i/lub Ti jest szczególnie preferowany gdyż użycie tych materiałów może ułatwiać trwałe tworzenie sąsiedniej warstwy odbijającej promieniowanie podczerwone o wysokiej krystalizacji.
Zespół powlekający może zawierać warstwę barierową znajdującą się nad warstwą dobijającą promieniowanie podczerwone i/lub warstwę barierową znajdującą się pod warstwą odbijającą promieniowanie podczerwone. Takie warstwy barierowe mogą zawierać jeden lub więcej metali i mogą być osadzane, na przykład, jako tlenki metali, jako podtlenki metali lub jako metale.
Wprowadzając warstwę z tlenku metalu pomiędzy warstwę azotku mieszanego zawierającą glin a materiał odbijający promieniowanie podczerwone (zwłaszcza gdy jest to srebro lub stop srebra) można łączyć własności odporności cieplnej warstwy azotku mieszanego zawierającej glin z materiałem wstawionym, który sprzyja krystalizacji materiału odbijającego promieniowanie podczerwone, tak aby uzyskać równowagę własności odbijania promieniowania podczerwonego z zamgleniem zespołu powlekającego, zwłaszcza gdy jest on poddawany obróbce cieplnej. Jednym z preferowanych tego typu tlenków jest tlenek mieszany cynku i glinu, korzystnie posiadający stosunek atomowy Al/Zn równy około 0,1. Jednym z możliwych wyjaśnień powyższych wyników może być to, że obecność Al w strukturze tlenku cynku może zmniejszać wzrost ziaren krystalicznych w tej warstwie tlenku mieszanego.
Skuteczność tej stosunkowo cienkiej warstwy utworzonej z warstwy azotku mieszanego zawierającej glin w nadawaniu odporności cieplnej pozwala na zastosowanie stosunkowo grubej warstwy takiego tlenku.
Używane w niniejszym opisie określenie „panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej oznacza, że ten panel oszkleniowy posiada zespół powlekający przystosowany do poddawania go zginaniu i/lub hartowaniu cieplnemu i/lub operacji utwardzania cieplnego i/lub innym obróbkom cieplnym bez występowania zamglenia tak traktowanych paneli oszkleniowych przekraczającego wartość 0,5, korzystnie bez zamglenia przekraczającego wartość 0,3. Stosowane w tym opisie określenie „poddawany obróbce cieplnej panel oszkleniowy zasadniczo bez zamglenia oznacza panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający, który został poddawany zginaniu i/lub hartowaniu cieplnemu i/lub utwardzaniu cieplnemu i/lub innym obróbkom cieplnym już po osadzeniu na nim tego zespołu powlekającego, i posiada on zamglenie nie przekraczające wartości 0,5, korzystnie nie przekraczające wartości 0,3. Taka obróbka cieplna może być związana z ogrzewaniem lub poddawaniem tego panelu oszkleniowego posiadającego zespół powlekający działaniu temperatury wyższej niż około 560°C,
PL 199 520 B1 na przykład pomiędzy 560°C a 700°C w atmosferze. Innymi tego typu obróbkami cieplnymi mogą być spiekanie materiałów ceramicznych lub emalii, próżniowe uszczelnianie jednostki o podwójnym oszkleniu oraz kalcynacja (wypalanie) naniesionej na mokro powłoki słabo odbijającej lub też powłoki przeciwoślepieniowej. Obróbka cieplna, zwłaszcza gdy stanowi ją wyginanie i/lub hartowanie cieplne i/lub operacja utwardzania cieplnego, może być prowadzona w temperaturze co najmniej 600°C przez co najmniej 10 minut, 12 minut, lub 15 minut, co najmniej 620°C przez co najmniej 10 minut, 12 minut, lub 15 minut, lub też co najmniej 640°C przez co najmniej 10 minut, 12 minut, lub 15 minut.
Obróbka cieplna może spowodować wzrost wartości panelu oszkleniowego. Taki wzrost wartości TL może być korzystny przy zapewnieniu, że wartość dla tego panelu oszkleniowego jest wystarczająco wysoka do zastosowania go jako przednia szyba pojazdu. Wartość może wzrosnąć w warunkach bezwzględnych podczas obróbki cieplnej na przykład o więcej niż około 2,5%, więcej niż około 3%, więcej niż około 5%, więcej niż około 8% lub więcej niż około 10%.
Sposób wytwarzania panelu oszkleniowego może być wykorzystany również do wytwarzania obrabianych cieplnie paneli oszkleniowych o zamgleniu mniejszym niż około 0,5, korzystnie mniejszym niż około 0,3, nadających się do stosowania jako panele architektoniczne, do pojazdów, oraz zastosowań przemysłowych.
Poniżej zostaną opisane przykłady wykonania niniejszego wynalazku w oparciu o fig. 1, która przedstawia przekrój porzeczny przez panel oszkleniowy przed jego zginaniem i operacją hartowania (dla ułatwienia prezentacji, względne grubości panelu oszkleniowego oraz warstw powlekających nie zostały przedstawione w skali).
P r z y k ł a d 1
Figura 1 przedstawia powłokę nadającą się do obróbki cieplnej obejmującą podwójną warstwę Ag, osadzoną na podłożu szklanym przez napylanie magnetronowe i posiadającą uszeregowaną w odpowiednim porzą dku nastę pując ą strukturę :
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2·10-3 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: | 11 | 4·10-9 m [40 A] | |
| AlSixNy | 12 | Si/Al=0,5 | |
| ZnAlOx | 13 | 2,6· 10-8 m [260 A] | Al/Zn=0,1 |
| Dolna warstwa barierowa ZnAlOy | 14 | 10-9 m [10 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10-8 m [100 A] | |
| Górna warstwa barierowa | 16 | -9 | Al/Zn=0,1 |
| ZnAlOy | 1,2·10 9 m [12 A] | ||
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 17 | 7,7· 10-8 m [770 A] | Al/Zn=0,1 |
| Dolna warstwa barierowa | 18 | -10 | Al/Zn=0,1 |
| ZnAlOy | 7·10 10 m [7 A] | ||
| Ag | 19 | 10-8 m [100 A] | |
| Górna warstwa barierowa ZnAlOy | 20 | 1,7·10-9 m [17 A] | Al/Zn=0,1 |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: ZnAlOx AlSixNy | 21 22 23 | 1,85·10-8 m [185 A] 8,5·10-9 m [85 A] | Al/Zn=0,1 Si/Al=0,3 |
AlSixNx oznacza azotek mieszany zawierający Al i Si osadzony w tym przykładzie wykonania przez reaktywne napylanie z tarczy mieszanej zawierającej Al i Si w obecności azotu i argonu.
ZnAlOx oznacza tlenek mieszany zawierający Zn i Al osadzony w tym przykładzie wykonania przez reaktywne napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Al w obecności tlenu. War8
PL 199 520 B1 stwy barierowe ZnAlOy osadzone są podobnie przez napylanie z tarczy, którą stanowi stop lub mieszanina Zn i Al w atmosferze zawierającej tlen wzbogacony w argon dla osadzenia warstwy barierowej, która nie będzie całkowicie utleniona.
Alternatywnie, warstwa tlenku mieszanego ZnAlOx może być utworzona przez napylanie z tarczy, którą stanowi mieszanina tlenku cynku i tlenku glinu, zwłaszcza w atmosferze zawierającej gaz argon lub tlen wzbogacony argonem.
Gdy warstwy barierowe zawierają takie same materiały jak i warstwa tlenku mieszanego, zwłaszcza jak sąsiadująca z nimi warstwa tlenku mieszanego, to może to znacznie ułatwić zarządzanie tarczami, kontrolowanie warunków osadzania oraz może zapewnić dobre przyleganie pomiędzy tymi warstwami i w ten sposób nadawać dobrą trwałość mechaniczną temu zespołowi powlekającemu.
Niekoniecznie stan utlenienia w każdej spośród podstawowej, środkowej i powierzchniowej dielektrycznej warstwy ZnAlOx musi być taki sam. Podobnie, stan utlenienia w każdej z warstw barierowych ZnAlOy nie musi być taki sam. Jednakowoż, stosunek Al/Zn nie musi być taki sam dla wszystkich warstw; na przykład, warstwy barierowe mogą mieć inny stosunek Al/Zn niż dielektryczne warstwy przeciwodblaskowe, a poszczególne dielektryczne warstwy przeciwodblaskowe też mogą mieć inne od siebie nawzajem wartości stosunków Al/Zn.
Każda górna warstwa barierowa chroni leżącą pod nią warstwę srebra przed utlenieniem podczas osadzania przez napylanie leżącej z kolei na niej warstwy tlenku ZnAlOx. Podczas gdy dalsze utlenianie tych warstw barierowych może nastąpić podczas osadzania leżących na nich warstw tlenku, to część tych warstw barierowych korzystnie pozostaje w postaci tlenku, który jest nie w pełni utleniony w celu zapewnienia bariery dla mającej później nastąpić obróbki cieplnej panelu oszkleniowego.
Ten szczególny panel oszkleniowy przeznaczony jest do włączenia go do laminowanej szyby samochodowej i wykazuje on następujące własności:
| Własność | Przed obróbką cieplną Uwaga 1 | Po obróbce cieplnej Uwaga 2 |
| TL (Illuminant A) | 65% | 76% |
| TE (Układ Moon 2) | 40% | 43% |
| Zamglenie | 0,1 | 0,2 |
| a* | -15 (strona powlekana) | -2 (zewnętrzna) |
| b* | + 1 (strona powlekana) | -10 (zewnętrzna) |
| RE (Układ Moon 2) | 29% (strona powlekana) | 31% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: Mierzone dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed obróbką cieplną
Uwaga 2: Mierzone po obróbce cieplnej w temperaturze 650°C przez 10 minut, po której przeprowadzono zginanie i hartowanie, oraz laminowanie z jasnym arkuszem szkła o grubości 2-10-3 m [2 mm] oraz z jasnym PVB o grubości 7,6-10-4 m [0,76 mm]
Obróbka cieplna korzystnie powoduje zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych, tak że struktura tego zespołu powlekającego po obróbce cieplnej jest następująca:
| 1 | 2 | 3 | 4 |
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2-10-3 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: | 11 | 4-10-9 m [40 A] | |
| AlSixNy (część. utl.) | 12 | Si/Al=0,5 | |
| ZnAlOx | 13 | 2,6-10-8 m [260 A] | Al/Zn=0,1 |
| ZnAlOx (utleniona dolna warstwa barierowa) | 14 | 10-9 m-1,6-10-9 m [10 A - 16 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10-8 m [100 A] | |
| ZnAlOx (utleniona górna warstwa barierowa | 16 | 1,4-10-9 m-2-10-9 m [14 A - 20 A] | Al/Zn=0,1 |
PL 199 520 B1 cd. tabeli
| 1 | 2 | 3 | 4 |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 17 | 7,7-10-8 m [770 A] | Al/Zn=0,1 |
| ZnAlOx (utleniona dolna warstwa barierowa) | 18 | 7-10-10 m-1,2-10-9 m [7 A - 12 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 10-8 m [100 A] | |
| ZnAlOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 20 | 2-10-9 m-2,8-10-9 m [20 A - 28 A] | Al/Zn=0,1 |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: | 21 | ||
| ZnAlOx | 22 | 1,85-10-8 m [185 A] | Al/Zn=0,1 |
| AlSixNy (część. utl. ) | 23 | 7,5-10-9 m [75 A] | Si/Al=0,3 |
Warstwy AlSixNy (częściowo utlenione) mogą zawierać mieszaninę AlN, Si3N4, Al2O3 oraz SiO2, przy czym AlSixNy jest częściowo utleniany podczas obróbki cieplnej. Warstwy barierowe niekoniecznie są całkowicie utlenione a ich grubości będą zależały w pewnej mierze od stopnia ich utlenienia.
P r z y k ł a d 2
Przykład 2 jest podobny do przykładu 1 z tą różnicą, że w zespole powlekającym pominięto dolne warstwy barierowe. Zespół powlekający i własności według przykładu 2 przedstawiono poniżej:
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2-10-3 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: | 11 | Si/Al=0,8 | |
| AlSixNy | 12 | 8,5-10-9 m [85 A] | |
| ZnAlOx | 13 | 2,4-10-8 m [240 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10'8 m [100 A] | |
| Górna warstwa barierowa | 16 | -9 | Al/Zn=0,1 |
| ZnAl | 109 m [10 A] | ||
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 17 | 8-10-8 m [800 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 1,15-10-8 [115 A] | |
| Górna warstwa barierowa | 20 | -9 | Al/Zn=0,1 |
| ZnAl | 1,5-109 m [15 A] | ||
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: | 21 | ||
| ZnAlOx AlSixNy | 22 23 | 1,5-10-8 m [150 A] 8-10 9 m [80 A] | Al/Zn=0,1 Si/Al=0,8 |
Co najmniej część górnych warstw barierowych 16, 20 jest utlenionych podczas osadzania leżących na nich warstw tlenkowych. Pomimo tego, część tych warstw barierowych korzystnie pozostaje w postaci metalicznej, lub przynajmniej w postaci tlenku, który jest nie w pełni utleniony w celu zapewnienia bariery dla mającej później nastąpić obróbki cieplnej panelu oszkleniowego.
Ten szczególny panel oszkleniowy przeznaczony jest do włączenia go do laminowanej szyby samochodowej, i wykazuje on następujące własności:
PL 199 520 B1
| Własność | Przed obróbką cieplną Uwaga 1 | Po obróbce cieplnej Uwaga 2 |
| TL (Illuminant A) | 67% | 77% |
| TE (Układ Moon 2) | 38% | 44% |
| Zamglenie | 0,1 | 0,21 |
| a* | -10 (strona powlekana) | -3 ( zewnętrzna) |
| b* | + 18 (strona powlekana) | -7 ( zewnętrzna) |
| RE (Układ Moon 2) | 27% (strona powlekana) | 32% (zewnętrzna) |
Uwaga 1: Mierzone dla monolitycznego panelu oszkleniowego z powłoką przed obróbką cieplną
Uwaga 2: Mierzone po obróbce cieplnej w temperaturze 625°C przez 14 minut, po której przeprowadzono zginanie i hartowanie, oraz laminowanie z jasnym arkuszem szkła o grubości 2-10-3 m [2 mm] oraz z jasnym PVB o grubości 7,6-10-4 m [0,76 mm]
Obróbka cieplna korzystnie powoduje zasadniczo całkowite utlenienie wszystkich warstw barierowych, tak że struktura tego zespołu powlekającego po obróbce cieplnej jest następująca:
| Nr referencyjny | Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 10 | 2-10-3 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: | 11 | ||
| AlSixNy (część. utl.) | 12 | 8,5-10-9 m [85 A] | Si/Al=0,8 |
| ZnAlOx | 13 | 2,4-10-8 m [240 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 15 | 10-8 m [100 A] | |
| ZnAlOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 16 | 1,2-10-9 m-2-10-9 m [12 A - 20 A] | Al/Zn=0,1 |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 17 | 8-10-8 m [800 A] | Al/Zn=0,1 |
| Ag | 19 | 1,15-10-8 m [115 A] | |
| ZnAlOx (utleniona górna warstwa barierowa) | 20 | 1,7-10-9 m-3-10-9 m [17 A - 30 A] | Al/Zn=0,1 |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: | 21 | 1,5-10-8 m [150 A] | |
| ZnAlOx | 22 | Al/Zn=0,1 | |
| AlSixNy (część. utl. ) | 23 | 8-10-9 m [80 A] | Si/Al=0,8 |
P r z y k ł a d 3
Zespół powlekający według przykładu 3 przedstawiono poniżej:
| 1 | 2 | 3 |
| Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 2-10-3 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: AlSixNy ZnAlOx | 10-8 m [100 A] 2,3-10-8 m [230 A] | Si/Al=3 Al/Zn=0,03 |
| Ag domieszkowane 1% palladem | 9,5-10-9 m [95 A] | Pd/Ag=0,01 |
| Górna warstwa barierowa ZnAl | 2-10-9 m [20 A] | Al/Zn=0,03 |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 7,5-10-8 m [750 A] | Al/Zn=0,03 |
PL 199 520 B1 cd. tabeli
| 1 | 2 | 3 |
| Ag domieszkowane 1% palladem | 9,5-10 9 m [95 A] | Pd/Ag=0,01 |
| Górna warstwa barierowa ZnAl | 2-109 m [20 A] | Al/Zn=0,03 |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: ZnAlOx AlSixNy | 2,3-10-8 m [230 A] 10-8 m [100 A] | Al/Zn=0,03 Si/Al=3 |
Próbki posiadające tego typu zespół powlekający przechowywano przez siedem dni, przy czym niektóre próbki przechowywano w atmosferze suchej, a inne w atmosferze wilgotnej w temperaturze 40°C przy wilgotności względnej wynoszącej 90%. Następnie próbki poddano obróbce cieplnej przy maksymalnej temperaturze 630°C dla symulacji procesu zginania szkła. Uzyskane wyniki zestawiono poniżej, przy czym własności optyczne mierzono tuż przed i tuż po obróbce cieplnej.
| Własność | Przechowywane w atmosferze suchej | Przechowywane w atmosferze wilgotnej |
| TL (przed obróbką cieplną) | 64,7% | 64,9% |
| TE (przed obróbką cieplną) | 36,4% | 36,6% |
| Zamglenie (przed obróbką cieplną) | 0,1 | 0,1 |
| TL (po obróbce cieplnej) | 77,7% | 77,1% |
| TE (po obróbce cieplnej) | 48,6% | 47,7% |
| Zamglenie (po obróbce cieplnej) | 0,2 | 0,2 |
| RS (po obróbce cieplnej) | 5,8 ohm/sekw. | 5,9 ohm/sekw. |
P r z y k ł a d 4 (przykład porównawczy)
W przykładzie 4 wykorzystano zespół powlekający taki sam jak w przykładzie 3, z tą różnicą, że warstwy AlSixNy zastąpiono niedomieszkowanym azotkiem glinu AlN. W takich samych próbach uzyskano następujące wyniki:
| Własność | Przechowywane w atmosferze suchej | Przechowywane w atmosferze wilgotnej |
| TL (przed obróbką cieplną) | 67,2% | 67,2% |
| TE (przed obróbką cieplną) | 37,8% | 37,4% |
| Zamglenie (przed obróbką cieplną) | 0,1 | 0,1 |
| TL (po obróbce cieplnej ) | 77,3% | 76,8% |
| TE (po obróbce cieplnej ) | 46,7% | 47,4% |
| Zamglenie (po obróbce cieplnej ) | 0,3 | 1,2 |
| RS (po obróbce cieplnej ) | 5,9 ohm/sekw. | 6,1 ohm/sekw. |
Przykłady 3 i 4 wskazują na poprawę odporności na działanie atmosfery silnej wilgotności uzyskaną dla azotków mieszanych zawierających glin (w tym przypadku zawierających krzem) w porównaniu z „czystym azotkiem glinu AlN.
W przykładzie 4 zaobserwowano zwłaszcza niekorzystne i nie do zaakceptowania zamglenie pojawiające się po obróbce cieplnej, którą przeprowadzono po przechowywaniu próbek w atmosferze o wysokiej wilgotności.
PL 199 520 B1
P r z y k ł a d y 5 do 8
Zespół powlekający użyty w przykładach 5 do 8 miał następującą strukturę:
| Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 2·10-3 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: AlSixNy ZnAlOx | 10-8 m [100 A] 2,3·10-8 m [230 A] | Si/Al=3 Al/Zn=0,03 |
| Ag domieszkowane 1% palladem | 108 m [100 A] | Pd/Ag=0,01 |
| Górna warstwa barierowa ZnAl | 2·10-9 m [20 A] | Al/Zn=0,03 |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 7,5·10-8 m [750 A] | Al/Zn=0,03 |
| Ag domieszkowane 1% palladem | 10 8 m [100 A] | Pd/Ag=0,01 |
| Górna warstwa barierowa ZnAl | 2·10-9 m [20 A] | Al/Zn=0,03 |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: ZnAlOx AlSixNy | różne - patrz tablica następna | Al/Zn=0,03 Si/Al=3 |
W tych przykładach, własności oszklenia były mierzone przed obróbką cieplną i po obróbce cieplnej w maksymalnej temperaturze 630°C w celu symulacji wyginania szkła dla różnych grubości powierzchniowej warstwy dielektryka:
| Przykład | ZnAlOx | AlSixNy |
| 5 | 2,2· 108 m [220 A] | 1,1-10-8 m [110 A] |
| 6 | 2,45· 108 m [245 A] | 8,5· 109 m [85 A] |
| 7 | 2,7· 108 m [270 A] | 6·109ιτ [60 A] |
| 8 | 2,95·10-8 m [295 A] | 3,5 10 9 m [35 A] |
Uzyskano następujące wyniki:
| Przykład | 5 | 6 | 7 | 8 |
| TL (po osadzeniu) | 64,3% | 65% | 65,2% | 64,5% |
| RV (po osadzeniu) | 6,5% | 6,5% | 6,5% | 6,4% |
| TE (po osadzeniu) | 35,5% | 36,4% | 36,5% | 35,9% |
| RE (po osadzeniu) | 35% | 33,7% | 33,6% | 33,7% |
| TL (po obróbce cieplnej) | 76,8% | 76,8% | 77,1% | 76,8% |
| RV (po obróbce cieplnej) | 9,1% | 7,5% | 7,5% | 7,6% |
| TE (po obróbce cieplnej) | 47,3% | 46,6% | 46,9% | 46,9% |
| RE (po obróbce cieplnej) | 36,3% | 36,5% | 35,8% | 35,8% |
| Zamglenie (po obróbce cieplnej) | 0,2 | 0,2 | 0,2 | 0,2 |
| ocena | dobra | dobra | dobra | dobra |
PL 199 520 B1
P r z y k ł a d y 9 do 12
Zespół powlekający użyty w Przykładach 9 do 12 miał następującą strukturę:
| Grubość geometryczna | Stosunki atomowe | |
| Podłoże szklane | 2-103 m [2 mm] | |
| Podstawowy dielektryk zawierający: warstwę azotku ZnAlOx | 10-8 m [100 A] 2,3-10-8 m [230 A] | Al/Zn=0,03 |
| Ag domieszkowane 1% palladem | 108 m [100 A] | Pd/Ag=0,01 |
| Górna warstwa barierowa ZnAl | 2-10 9 m [20 A] | Al/Zn=0,03 |
| Środkowy dielektryk zawierający: ZnAlOx | 7,5-10 8 m [750 A] | Al/Zn=0,03 |
| Ag domieszkowane 1% palladem | 10 8 m [100 A] | Pd/Ag=0,01 |
| Górna warstwa barierowa ZnAl | 2-10 9 m [20 A] | Al/Zn=0,03 |
| Powierzchniowy dielektryk zawierający: ZnAlOx warstwę azotku | 2,3-10 8 m [230 A] 10-8 m [100 A] | Al/Zn=0,03 |
Składy warstwy azotku należącej do podstawowej i do powierzchniowej warstwy dielektryka w tych przykładach były następujące:
| Przykład | warstwa azotku w podstawowym dielektryku | warstwa azotku w środkowym dielektryku | stosunek atomowy |
| 9 | AlN | AlN | |
| 10 | AlN | AlSixNy | Si/Al=3 |
| 11 | AlSixNy | AlN | Si/Al=3 |
| 12 | AlSixNy | AlSixNy | Si/Al=3 |
Używając takich próbek przeprowadzono próby porównawcze przechowując te próbki w warunkach suchych i w warunkach wysokiej wilgotności identycznie jak w przykładach poprzednich, a następnie próbki te poddawano obróbce cieplnej w temperaturze 630°C. Uzyskano następujące wyniki:
Dla próbek przechowywanych w warunkach suchych:
| Przykład | 9 | 10 | 11 | 12 |
| TL (przed obróbką cieplną) | 64,9% | 63,5% | 64,4% | 63,3% |
| RV (przed obróbką cieplną) | 7,7% | 6,2% | 6,5% | 8,4% |
| TE (przed obróbką cieplną) | 36,2% | 34,7% | 35,3% | 34,6% |
| RE (przed obróbką cieplną) | 32,9% | 33,3% | 33,2% | 34,6% |
| TL (po obróbce cieplnej) | 75,8% | 76,7% | 76,3% | 75,9% |
| RV (po obróbce cieplnej ) | 7,9% | 7,7% | 7,2% | 8,5% |
| TE (po obróbce cieplnej ) | 44,9% | 47,1% | 44,3% | 44,5% |
| RE (po obróbce cieplnej ) | 36,3% | 34,1% | 37,3% | 36,4% |
| Zamglenie (po obróbce cieplnej) | 0,4 | 0,3 | 0,4 | 0,4 |
| ocena | dobra | dobra | dobra | dobra |
PL 199 520 B1
Dla próbek przechowywanych w warunkach wilgotnych:
| Przykład | 9 | 10 | 11 | 12 |
| TL (przed obróbką cieplną) | 66,0% | 64,8% | 65,3% | 63,7% |
| RV (przed obróbką cieplną) | 7,8% | 6,6% | 7,0% | 8,8% |
| TE (przed obróbką cieplną) | 37,0% | 35,9% | 36,1% | 35,1% |
| RE (przed obróbką cieplną) | 32,6% | 32,2% | 32,4% | 33,9% |
| TL (po obróbce cieplnej) | 75,3% | 76,4% | 76,4% | 75,3% |
| RV (po obróbce cieplnej) | 8,5% | 7,5% | 7,4% | 8,0% |
| TE (po obróbce cieplnej) | 45,4% | 46,9% | 45,0% | 43,8% |
| RE (po obróbce cieplnej) | 35,7% | 33,1% | 37,3% | 36,1% |
| Zamglenie (po obróbce cieplnej) | 0,8 | 0,6 | 0,4 | 0,4 |
| ocena | Rozległe zamglenie | miejsca zamglone | dobra | dobra |
Przykłady te ilustrują zastosowanie mieszanych warstw AlSixNy jako części podstawowego dielektryka oraz jako części powierzchniowego dielektryka w porównaniu z „czystym AlN.
Przykłady te ilustrują także to, iż zastosowanie AlSixNy jest szczególnie korzystne, gdy umieści się go w podstawowej warstwie dielektryka, a zwłaszcza gdy panel oszkleniowy jest przechowywany w silnie wilgotnej atmosferze.
W miarę potrzeby dodatkowe warstwy mogą być wprowadzone ponad, poniżej lub pomiędzy ten układ zespołu powlekającego cienkimi warstwami bez wykraczania poza zakres niniejszego wynalazku.
Oprócz korzystnych własności optycznych które można uzyskać, każdy z przykładów zapewnia powłokę, która może być ogrzewana elektrycznie, na przykład, w ogrzewanych elektrycznie szybach samochodowych w celu zapewnienia funkcji pozbywania się pary i/lub odmrażania przy dodaniu odpowiednio umieszczonych konektorów elektrycznych.
Kolorowe koordynaty z tych przykładów są szczególnie odpowiednie na szyby samochodowe, gdyż dają one neutralny lub lekko niebieski wygląd przy odbiciu gdy szyba zamontowana jest pod kątem w stosunku do karoserii samochodowej. Dla innych zastosowań, na przykład, jeśli pożądany jest lekko zielony wygląd dla szyb samochodowych lub w przypadku zastosowań architektonicznych dla których pożądany jest odmienny kolor, kolor w odbiciu można dostosować zgodnie z wiedzą zawartą w stanie techniki przez dostosowanie grubości warstw dielektrycznych i/lub warstw odbijających promieniowanie podczerwone.
Wartość TL panelu oszkleniowego można dostosować do pożądanego zastosowania. Na przykład:
- jeśli panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednia szyba samochodowa na rynek europejski, to można dobrać wartość TL wyższą niż 75% (co wymagają przepisy europejskie), jeśli panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednia szyba samochodowa na rynek amerykański, to można dobrać wartość TL wyższą niż 70% (co wymagają przepisy amerykańskie).
- jeśli panel oszkleniowy ma być stosowany jako przednie światło pozycyjne do pojazdu, to można dostosować wartość TL wyższą niż 70% (co wymagają przepisy europejskie).
- jeśli panel oszkleniowy ma być stosowany jako tylne światło pozycyjne do pojazdu lub tylna szyba samochodowa, to można dobrać wartość TL równą od około 30% do 70%.
Takie dopasowywanie wartości TL można uzyskać, na przykład:
- przez dostosowanie grubości warstw zespołu powlekającego, a zwłaszcza grubości warstw dielektryka i/lub warstw odbijających promieniowanie podczerwone.
- przez łączenie zespołu powlekającego z zabarwionym podłożem szklanym.
- przez łączenie zespołu powlekającego z zabarwionym PVB lub innymi tworzywami laminującymi.
PL 199 520 B1
Terminologia
O ile w opisie nie jest wskazane inne znaczenie z kontekstu, to poniższe terminy mają następujące znaczenia w tym opisie:
| 1 | 2 | 3 |
| a* | kolorowy koordynat mierzony na skali CIELab przy normalnym padaniu promieni | |
| Ag | srebro | |
| Al | glin | |
| Al2O3 | tlenek glinu | |
| AlN | azotek glinu | |
| b* | kolorowy koordynat mierzony na skali CIELab przy normalnym padaniu promieni | |
| B | bor | |
| Bi | bizmut | |
| Cr | chrom | |
| zamglenie | procent transmitowanego światła, który przechodzi przez odchylenia próbki od padającej wiązki przez przednie rozpraszanie, jak mierzono zgodnie z normą ASTM Designation D 1003-61 (ponownie aprobowane w 1988 r.) | |
| Hf | hafn | |
| materiał odbijający promieniowanie podczerwone | materiał, który, ma współczynnik odbicia wyższy od współczynnika odbicia szkła sodowo-wapniowego w zakresie długości fali od 7,8-10'7 m [780 nm] do 5-10-5 m [50 mikronów] | |
| Na | sód | |
| Nb | niob | |
| NiCr | stop lub mieszanina zawierająca nikiel i chrom | |
| NiTi | stop lub mieszanina zawierająca nikiel i tytan | |
| RE | odbicie energetyczne | strumień promieniowania słonecznego (świetlnego i nieświetlnego) odbitego od podłoża jako procent padającego strumienia promieniowania słonecznego |
| RS | odporność arkusza mierzona metodą z zastosowaniem sondy czteropunktowej | |
| RV | współczynnik odbicia światła | |
| Sb | antymon | |
| selektywność | stosunek transmitancji świetlnej do transmitancji energetycznej, czyli TL/TE | |
| SiO2 | tlenek krzemu | |
| Si3N4 | azotek krzemu | |
| SnO2 | tlenek cyny | |
| Ta | tantal | |
| TE | transmitancja energetyczna | strumień promieniowania słonecznego (świetlnego i nieświetlnego) przepuszczonego przez podłoże jako procent padającego strumienia promieniowania słonecznego |
| Ti | tytan |
PL 199 520 B1 cd. tabeli
| 1 | 2 | 3 |
| TL | transmitancja świetlna | strumień promieniowania słonecznego przepuszczony przez podłoże jako procent paciającego strumienia promieniowania słonecznego |
| Zn | cynk | |
| ZnAl | stop lub mieszanina zawierająca cynk i glin | |
| ZnAlOx | tlenek mieszany zawierający cynk i glin | |
| ZnAlOy | częściowo utleniona mieszanina zawierająca cynk i glin | |
| ZnO | tlenek cynku | |
| ZnTi | stop lub mieszanina zawierająca cynk i tytan | |
| ZnTiox | tlenek mieszany zawierający cynk i tytan | |
| ZnTiOy | częściowo utleniona mieszanina zawierająca cynk i tytan | |
| Zr | cyrkon |
Symbole chemiczne nieprzedstawione w powyższej tabeli stosowano zgodnie z Układem Okresowym Pierwiastków.
Claims (32)
1. Panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający zawierający uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, znamienny tym, że co najmniej podstawowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05 oraz jest mniejszy lub równy 6, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Si, Zr, Hf, Ti, Nb i B, przy czym warstwa azotku mieszanego ma grubość geometryczną mniejszą niż 1,95-10-8 m.
2. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że zespół powlekający zawiera uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, środkową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową.
3. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że stanowi go panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia.
4. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że warstwa azotku mieszanego ma grubość geometryczną większą lub równą 3-10-9 m.
5. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że każda spośród podstawowej warstwy przeciwodblaskowej i powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki Si, Zr, Hf, Ti, Nb, i B.
6. Panel oszkleniowy według zastrz. 2, albo 3, albo 4, albo 5, znamienny tym, że środkowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest
PL 199 520 B1 większy lub równy 0,05, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki Si, Zr, Hf, Ti, Nb i B.
7. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Al w warstwie azotku mieszanego mieści się w zakresie 0,2 do 4.
8. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Al w warstwie azotku mieszanego mieści się w zakresie 0,4 do 3,5.
9. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, ż e podstawowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę sąsiadującą z podłożem zawierającą warstwę azotku mieszanego, oraz leżącą nad nią warstwę, która zawiera warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,03, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
10. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że powierzchniowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,03, i w której X stanowi jeden lub wię cej materiałów wybranych z grupy obejmują cej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Ukł adu Okresowego Pierwiastków, oraz leżąc ą nad nią warstwę zawierającą warstwę azotku mieszanego.
11. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że stanowi go panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia, przy czym panel oszkleniowy wykazuje wzrost wartości transmitancji świetlnej TL o co najmniej 2,5% po obróbce cieplnej.
12. Panel oszkleniowy według zastrz. 1, znamienny tym, że warstwa odbijająca promieniowanie podczerwone zawiera stop srebra i dodatkowy materiał wybrany z grupy obejmującej Pd, Au, Cu lub ich mieszaniny, przy czym materiał dodatkowy jest obecny w stopie srebra w stosunku atomowym w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i metalu dodatkowego, równym 0,3 do 10%.
13. Panel oszkleniowy według zastrz. 12, znamienny tym, że warstwa odbijająca promieniowanie podczerwone zawiera stop srebra i Pd, przy czym Pd jest obecny w stopie srebra w stosunku atomowym w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i Pd, równym 0,3 do 2%.
14. Sposób wytwarzania panelu oszkleniowego o zamgleniu mniejszym niż 0,5, znamienny tym, że obejmuje on etap, w którym panel oszkleniowy określony w zastrz. 1, poddaje się obróbce cieplnej w temperaturze równej co najmniej 570°C.
15. Panel oszkleniowy posiadający zespół powlekający zawierający uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz powierzchniową warstwę przeciwodblaskową, znamienny tym, że co najmniej powierzchniowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05 oraz jest mniejszy lub równy 6, i w której X stanowi jeden lub więcej materiał ów wybranych z grupy obejmują cej Si, Zr, Hf, Ti, Nb i B.
16. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,45 oraz jest mniejszy lub równy 6.
17. Panel oszkleniowy, według zastrz. 15, albo 16, znamienny tym, że X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej Zr, Hf, Ti i Nb, lub kombinacja Si i Zr.
18. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że co najmniej jedna warstwa azotku mieszanego, która stanowi co najmniej część powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej ma grubość geometryczną mniejszą niż 10-8 m.
19. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że zespół powlekający zawiera uszeregowane w odpowiednim porządku co najmniej:
podłoże szklane, podstawową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, środkową warstwę przeciwodblaskową, warstwę odbijającą promieniowanie podczerwone, oraz
PL 199 520 B1 powierzchniową warstwę przeciwodblaskową.
20. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że stanowi go panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia.
21. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że warstwa azotku mieszanego ma grubość geometryczną większą lub równą 3-10-9 m.
22. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że warstwa azotku mieszanego ma grubość geometryczną mniejszą niż 1,95-10-8 m.
23. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że każda spośród podstawowej warstwy przeciwodblaskowej i powierzchniowej warstwy przeciwodblaskowej zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki Si, Zr, Hf, Ti, Nb, i B.
24. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że środkowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera co najmniej jedną warstwę azotku mieszanego, którą stanowi mieszanina Al i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Al jest większy lub równy 0,05, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki Si, Zr, Hf, Ti, Nb i B.
25. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Al w warstwie azotku mieszanego mieści się w zakresie 0,2 do 4.
26. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że stosunek atomowy X/Al w warstwie azotku mieszanego mieści się w zakresie 0,4 do 3,5.
27. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że podstawowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę sąsiadującą z podłożem zawierającą warstwę azotku mieszanego, oraz leżącą nad nią warstwę, która zawiera warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,03, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków.
28. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że powierzchniowa warstwa przeciwodblaskowa zawiera warstwę tlenku mieszanego zawierającą tlenek, który stanowi mieszanina Zn i co najmniej jednego dodatkowego materiału X, w której stosunek atomowy X/Zn jest większy lub równy 0,03, i w której X stanowi jeden lub więcej materiałów wybranych z grupy obejmującej pierwiastki z Grup 2a, 3a, 5a, 4b, 5b, 6b Układu Okresowego Pierwiastków, oraz leżącą nad nią warstwę zawierającą warstwę azotku mieszanego.
29. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że stanowi go panel oszkleniowy nadający się do obróbki cieplnej lub panel oszkleniowy poddany obróbce cieplnej wolny od zamglenia, przy czym panel oszkleniowy wykazuje wzrost wartości transmitancji świetlnej TL o co najmniej 2,5% po obróbce cieplnej.
30. Panel oszkleniowy według zastrz. 15, znamienny tym, że warstwa odbijająca promieniowanie podczerwone zawiera stop srebra i dodatkowy materiał wybrany z grupy obejmującej Pd, Au, Cu lub ich mieszaniny, przy czym materiał dodatkowy jest obecny w stopie srebra w stosunku atomowym w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i metalu dodatkowego, równym 0,3 do 10%.
31. Panel oszkleniowy według zastrz. 30, znamienny tym, że warstwa odbijająca promieniowanie podczerwone zawiera stop srebra i Pd, przy czym Pd jest obecny w stopie srebra w stosunku atomowym w przeliczeniu na całkowitą ilość srebra i Pd, równym 0,3 do 2%.
32. Sposób wytwarzania panelu oszkleniowego o zamgleniu mniejszym niż 0,5, znamienny tym, że obejmuje on etap, w którym panel oszkleniowy określony w zastrz. 15 poddaje się obróbce cieplnej w temperaturze równej co najmniej 570°C.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP98204311 | 1998-12-18 | ||
| PCT/EP1999/010075 WO2000037382A1 (en) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Glazing panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL348235A1 PL348235A1 (en) | 2002-05-20 |
| PL199520B1 true PL199520B1 (pl) | 2008-09-30 |
Family
ID=8234485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL348235A PL199520B1 (pl) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6472072B1 (pl) |
| EP (1) | EP1150928B1 (pl) |
| JP (1) | JP4385460B2 (pl) |
| AT (1) | ATE276211T1 (pl) |
| CZ (1) | CZ20012222A3 (pl) |
| DE (1) | DE69920278T2 (pl) |
| ES (1) | ES2228152T3 (pl) |
| HU (1) | HU224415B1 (pl) |
| PL (1) | PL199520B1 (pl) |
| SK (1) | SK285852B6 (pl) |
| WO (1) | WO2000037382A1 (pl) |
Families Citing this family (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1238950B2 (en) * | 2000-07-10 | 2014-08-27 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
| US6576349B2 (en) * | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
| US7462397B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-12-09 | Guardian Industries Corp. | Coated article with silicon nitride inclusive layer adjacent glass |
| US7344782B2 (en) * | 2000-07-10 | 2008-03-18 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
| US6887575B2 (en) * | 2001-10-17 | 2005-05-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with zinc oxide inclusive contact layer(s) |
| US7311961B2 (en) * | 2000-10-24 | 2007-12-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
| US6869644B2 (en) * | 2000-10-24 | 2005-03-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
| US20030228476A1 (en) * | 2001-10-22 | 2003-12-11 | Harry Buhay | Methods of changing the visible light transmittance of coated articles and coated articles made thereby |
| US7232615B2 (en) * | 2001-10-22 | 2007-06-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating stack comprising a layer of barrier coating |
| US6770321B2 (en) * | 2002-01-25 | 2004-08-03 | Afg Industries, Inc. | Method of making transparent articles utilizing protective layers for optical coatings |
| US7494717B2 (en) * | 2003-02-14 | 2009-02-24 | Agc Flat Glass Europe Sa | Glazing panel carrying a coating stack |
| FR2858816B1 (fr) * | 2003-08-13 | 2006-11-17 | Saint Gobain | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
| EP1694275A2 (en) * | 2003-12-18 | 2006-08-30 | AFG Industries, Inc. | Protective layer for optical coatings with enhanced corrosion and scratch resistance |
| US7393584B2 (en) * | 2005-01-14 | 2008-07-01 | Solutia Incorporated | Multiple layer laminate with moisture barrier |
| US7537677B2 (en) † | 2005-01-19 | 2009-05-26 | Guardian Industries Corp. | Method of making low-E coating using ceramic zinc inclusive target, and target used in same |
| NZ564166A (en) | 2005-05-12 | 2011-05-27 | Agc Flat Glass Na Inc | Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same |
| US7488538B2 (en) * | 2005-08-08 | 2009-02-10 | Guardian Industries Corp. | Coated article including soda-lime-silica glass substrate with lithium and/or potassium to reduce sodium migration and/or improve surface stability and method of making same |
| FR2898123B1 (fr) * | 2006-03-06 | 2008-12-05 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques |
| US20070236798A1 (en) * | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Shelestak Larry J | Antireflective coating and substrates coated therewith |
| US8186113B2 (en) * | 2007-07-09 | 2012-05-29 | Raytheon Canada Limited | Building window having a visible-light-reflective optical interference coating thereon |
| US7901781B2 (en) | 2007-11-23 | 2011-03-08 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same |
| US7824777B2 (en) * | 2008-03-26 | 2010-11-02 | Southwall Technologies, Inc. | Robust optical filter utilizing pairs of dielectric and metallic layers |
| CN102473650B (zh) * | 2009-09-09 | 2014-09-24 | 株式会社日立制作所 | 接合材料、半导体装置及其制造方法 |
| US10060180B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-08-28 | Cardinal Cg Company | Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US9862640B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-01-09 | Cardinal Cg Company | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| JP5722346B2 (ja) | 2010-01-16 | 2015-05-20 | 日本板硝子株式会社 | 高品質放射制御コーティング、放射制御ガラスおよび製造方法 |
| US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US10000965B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductive coating technology |
| US10000411B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
| US8557391B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
| US8679634B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Functional layers comprising Ni-inclusive ternary alloys and methods of making the same |
| US8679633B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same |
| US8709604B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-04-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| US8790783B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-07-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| WO2014191485A2 (en) † | 2013-05-30 | 2014-12-04 | Agc Glass Europe | Solar control glazing |
| US10280312B2 (en) * | 2016-07-20 | 2019-05-07 | Guardian Glass, LLC | Coated article supporting high-entropy nitride and/or oxide thin film inclusive coating, and/or method of making the same |
| DE102017212771A1 (de) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verglasungsscheibe für ein Kraftfahrzeug |
| DE102018118225A1 (de) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | Schott Ag | Optisch-elektrische Leiteranordnung mit Lichtwellenleiter und elektrischer Leitschicht |
| US11028012B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-06-08 | Cardinal Cg Company | Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same |
| FR3088636B1 (fr) * | 2018-11-16 | 2022-09-09 | Saint Gobain | Materiau traite thermiquement a proprietes mecaniques ameliorees |
| RU2728005C1 (ru) * | 2019-12-27 | 2020-07-28 | Общество с ограниченной ответственностью "Пилкингтон Гласс" | Термоустойчивое высокоселективное энергосберегающее покрытие бронзового цвета на стекле и способ его изготовления |
| RU2735505C1 (ru) * | 2020-02-20 | 2020-11-03 | Общество с ограниченной ответственностью "Пилкингтон Гласс" | Термоустойчивое высокоселективное энергосберегающее покрытие зеленого цвета на стекле и способ его изготовления |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4822120A (en) | 1974-08-16 | 1989-04-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
| NO157212C (no) | 1982-09-21 | 1988-02-10 | Pilkington Brothers Plc | Fremgangsmaate for fremstilling av belegg med lav emisjonsevne. |
| US4786563A (en) | 1985-12-23 | 1988-11-22 | Ppg Industries, Inc. | Protective coating for low emissivity coated articles |
| ATE115098T1 (de) | 1986-01-29 | 1994-12-15 | Pilkington Plc | Beschichtetes glas. |
| DE3782417T2 (de) | 1986-08-20 | 1993-04-08 | Libbey Owens Ford Co | Solarbauteil aus glas und verfahren zu seiner herstellung. |
| US4859532A (en) | 1986-11-27 | 1989-08-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent laminated product |
| US4806220A (en) | 1986-12-29 | 1989-02-21 | Ppg Industries, Inc. | Method of making low emissivity film for high temperature processing |
| US4769291A (en) * | 1987-02-02 | 1988-09-06 | The Boc Group, Inc. | Transparent coatings by reactive sputtering |
| US4898789A (en) | 1988-04-04 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for automotive heat load reduction |
| DE3940748A1 (de) | 1989-12-09 | 1991-06-13 | Ver Glaswerke Gmbh | Elektrisch beheizbare autoglasscheibe aus verbundglas |
| US5532062A (en) | 1990-07-05 | 1996-07-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
| SG43266A1 (en) | 1990-07-05 | 1997-10-17 | Asahi Glass Co Ltd | A low emissivity film |
| SG45418A1 (en) | 1991-10-30 | 1998-01-16 | Asahi Glass Co Ltd | Method of making a heat treated coated glass |
| US5993617A (en) | 1991-12-26 | 1999-11-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Functional product |
| DE4324576C1 (de) | 1993-07-22 | 1995-01-26 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer mit einer Mehrfachschicht versehenen Glasscheibe |
| JP3348245B2 (ja) * | 1994-05-03 | 2002-11-20 | カージナル アイジー カンパニー | 保護用窒化ケイ素フィルムを有する透明物品 |
| FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| CA2179853C (en) * | 1995-06-26 | 2007-05-22 | Susumu Suzuki | Laminate |
| DE19533053C1 (de) * | 1995-09-07 | 1997-04-17 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren zum Beschichten einer Glasscheibe mit einer wenigstens eine Silberschicht aufweisenden Mehrfachschicht |
| DE19541937C1 (de) | 1995-11-10 | 1996-11-28 | Ver Glaswerke Gmbh | Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission |
-
1999
- 1999-12-15 PL PL348235A patent/PL199520B1/pl unknown
- 1999-12-15 CZ CZ20012222A patent/CZ20012222A3/cs unknown
- 1999-12-15 WO PCT/EP1999/010075 patent/WO2000037382A1/en active Application Filing
- 1999-12-15 DE DE69920278T patent/DE69920278T2/de not_active Revoked
- 1999-12-15 HU HU0104642A patent/HU224415B1/hu active IP Right Grant
- 1999-12-15 ES ES99964597T patent/ES2228152T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-15 SK SK838-2001A patent/SK285852B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-12-15 EP EP99964597A patent/EP1150928B1/en not_active Revoked
- 1999-12-15 AT AT99964597T patent/ATE276211T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-12-17 JP JP35929299A patent/JP4385460B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-20 US US09/466,784 patent/US6472072B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES2228152T3 (es) | 2005-04-01 |
| JP4385460B2 (ja) | 2009-12-16 |
| DE69920278D1 (de) | 2004-10-21 |
| EP1150928A1 (en) | 2001-11-07 |
| WO2000037382A1 (en) | 2000-06-29 |
| SK285852B6 (sk) | 2007-09-06 |
| DE69920278T2 (de) | 2005-11-17 |
| CZ20012222A3 (cs) | 2002-02-13 |
| PL348235A1 (en) | 2002-05-20 |
| EP1150928B1 (en) | 2004-09-15 |
| HUP0104642A2 (en) | 2002-11-28 |
| JP2000229377A (ja) | 2000-08-22 |
| ATE276211T1 (de) | 2004-10-15 |
| US6472072B1 (en) | 2002-10-29 |
| SK8382001A3 (en) | 2002-02-05 |
| HU224415B1 (hu) | 2005-08-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL199520B1 (pl) | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego | |
| EP1154965B1 (en) | Glazing panel | |
| EP1154963B1 (en) | Glazing panel | |
| US6610410B2 (en) | Glazing panel | |
| US6797389B1 (en) | Glazing | |
| US7846549B2 (en) | Transparent substrate coated with a silver layer | |
| US6699585B2 (en) | Glazing panel | |
| KR20080109899A (ko) | 피복 판유리 | |
| EP1147066B1 (en) | Glazing panel | |
| CZ20012223A3 (cs) | Zasklívací tabule a způsob její výroby | |
| PL199886B1 (pl) | Panel oszkleniowy i sposób wytwarzania panelu oszkleniowego |