NO145442B - Fremgangsmaate og apparat for fremstilling av verktoeyselektroder for elektrokjemisk-slipebehandling - Google Patents
Fremgangsmaate og apparat for fremstilling av verktoeyselektroder for elektrokjemisk-slipebehandling Download PDFInfo
- Publication number
- NO145442B NO145442B NO753270A NO753270A NO145442B NO 145442 B NO145442 B NO 145442B NO 753270 A NO753270 A NO 753270A NO 753270 A NO753270 A NO 753270A NO 145442 B NO145442 B NO 145442B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- solution
- treatment chamber
- metal
- pores
- cylinder
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 title description 18
- 238000000227 grinding Methods 0.000 title description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 16
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 7
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 10
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 claims 3
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 28
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 7
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229940074439 potassium sodium tartrate Drugs 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- ARNWQMJQALNBBV-UHFFFAOYSA-N lithium carbide Chemical compound [Li+].[Li+].[C-]#[C-] ARNWQMJQALNBBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- AVTYONGGKAJVTE-OLXYHTOASA-L potassium L-tartrate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O AVTYONGGKAJVTE-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001472 potassium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229940111695 potassium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011005 potassium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- -1 resin-reinforced Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 1
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 1
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 1
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1646—Characteristics of the product obtained
- C23C18/165—Multilayered product
- C23C18/1651—Two or more layers only obtained by electroless plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1635—Composition of the substrate
- C23C18/1644—Composition of the substrate porous substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
Oppfinnelsen vedrører fremgangsmåte.av det slag som
er angitt i innledningen til patentkrav 1, for å gjøre et elektrisk ikke-ledende, porøst slipelegeme elektrisk ledende,
samt et apparat for å gjennomføre denne fremgangsmåten. For-
målet er å fremstille elektroder for elektrokjemisk slipe-behandling (nedenfor kalt "EC-AM").
EC-AM er definert som en behandlingsprosess hvor to bestemte behandlingsvirkninger utføres samtidig på et arbeidsstykke: Den elektrolytiske oppløsning av materiale fra det ledende arbeidsstykke ved å føre en elektrisk strøm med høy tetthet mellom arbeidsstykket og en verktøyselektrode gjennom en elektro-lytt som tjener som elektrokjemisk behandlingsmedium, og den mekaniske sliping av verktøysflaten mot flaten av arbeidsstykket.
Ved de avsluttede trinn etter behandlingsprosessen, kan man gjennomføre bare den mekaniske del under benyttelse av samme verktøy, for å gi det behandlede legeme en blank overflate.
Det er ønskelig at verktøyet (elektroden) har god elektrisk ledningsevne og mekanisk styrke.
Typiske verktøyselektroder som er blitt brukt tidligere for behandlingsprosesser av denne type, er metallbundet diamant-eller andre slipehjul som har relativt god ledningsevne. Disse materialer har imidlertid ikke tilfredsstillende bindingsstyrke. Slipepartikler er tilbøyelig til å løsne forholdsvis hurtig
fra den ledende bærer og verktøyet underkastes en betydelig slitasje i løper av en behandlingsoperasjon. J tillegg er de forholdsvis kostbare å fremstille og vanskelig å forme.
For å fjerne disse vanskeligheter er det blitt fore-slått å bruke en strømløs eller kjemisk pletteringsteknikk i verktøysfremstillingen, som kan utnyttes effektivt til å gi elektrisk ledningsevne på slipelegemer som har en tilstrekkelig bindings styrke og har andre fordeler, men er elektrisk ikke-ledende eller har dårlig ledningsevne. Slipelegemet med indre forbundne porer impregneres med en kjemisk pletteringsløsning slik at et ledende belegg bygger seg opp på veggpartiene til porene ved kjemisk reduksjon av et metall fra løsningen. Ved kjente fremgangsmåter blir imidlertid den kjemiske pletteringsløsning kontinuerlig tvunget gjennom slipelegemet, f.eks. hjulet, ved å utøve en trykkforskjell på motstående sider av det porøse legemet. Løsningen som således pas-serer hurtig gjennom legemet slik at bare en liten del av den utfører den kjemiske reduksjon inne i legemet og må føres i omløp inntil en ønsket mengde eller tykkelse av det metalliske belegg er oppnådd på poreveggene. Metallreduksjonen fra løsningen kan også opptre i om-løpskanalene og karene ogTesultereTi at en betydelig andel av det reduktive metall i løsningen forbrukes utenfor slipelegemet som skal gjøres ledende. I tillegg til lav fremstillingshastighet og dårlig utnyttelse av pletteringsløsningen, har den kjente fremgangsmåte den ulempe, at utstyret kan forurenses hurtig og gi opphav til spesielle vedlikeholdsproblemer.
Hovedformålet med den foreliggende oppfinnelse er å frembringe en forbedtet fremgangsmåte hvormed den kjemiske plettering av et poTØst slipelegeme for å gjøre det ledende, kan gjennomføres effektivere og mer økonomisk enn ved kjente metoder, og hvor et antall EC-AM-verktøyselektroder med jevnt god kvalitet kan fremstilles.
Et annet formål med den foreliggende oppfinnelse er å frembringe et apparat for gjennomføring av denne fremgangsmåte.
Ifølge oppfinnelsen kan dette oppnås ved hjelp av den fremgangsmåte som er beskrevet i patentkrav 1.
Ethvert slipemateriale som er kommersielt tilgjengelig kan behandles
i overensstemmelse med den foreliggende oppfinnelse. Det kan således være tale om forglassete, silikat-,gummi-, gummiforsterkete, harpiks-, harpiksforsterkete, skjellak- eller oksyklorid-slipematerialerav si liciumicarbid, borkarbid, aluminiumsoksyd, - irkonoksyd, sinkoksyd, titanoksyd, diamant etc. Et legeme med en slik slipe- og bindings-sammensetning og dessuten en større finhet enn 100 mesh og med en porøsitet mellom 10 og 60 % foretrekkes generelt for fremstilling av et EC-AM-verktøy for høy ytelse.
Løsningen for kjemisk plettering kan som vanlig inneholde et reduksjonsmiddel såvel som et metallsalt for det metall som skal reduseres. Det første og væsken som inneholder det siste blir ifølge den foreliggende oppfinnelse fortrinnsvis blandet sammen umiddelbart før impregnering i slipematerialet på en måte som vil bli beskrevet nedenfor. Det følger at ved hvert impregneringsforløp, må en gitt mengde med meget aktiv løsning være innesluttet i porene i et forutbestemt tidsintervall, nemlig inntil det reduktive metallsalt som finnes i løsningen er stort sett fullstendig deplettert, slik at metallet er avsatt på materialets porevegger.
Den kjemiske plettering blir selvsagt utført etter forskjellige former for forbehandling, såsom rensing, og akti-vering, som er vel kjent i forbindelse med kjemisk plettering.
Et apparat for å gjennomføre den foreliggende oppfinnelse er beskrevet i .patentkrav 2.
Ifølge et ytterligere trekk ved den foreliggende oppfinnelse, blir avløps-løsningen som trekkes ut av det porøse materialet ført til en tank for etterbehandling, hvori den gjenværende hovedkomponent (pletteringsmetallet) skilles ut elektrokjemisk og gjenvinnes og en løsning som inneholder de andre komponentene føres til en sedimenteringstank hvori eri hovedkomponent eller hovedkomponentene kan ut-vinnes for ny bruk.
Disse og andre trekk og fordeler ved oppfinnelsen vil bli beskrevet nærmere nedenfor i forbindelse med enkelte utførelsesformer som er vist i de medfølgende tegninger, hvor: Fig. 1 viser et skjematisk riss som illustrerer en utførelses-form av et apparat ifølge oppfinnelsen, fig. 2 viser et skjematisk riss av et apparat som ligner på apparatet ifølge fig. 1, men som dessuten omfatter midler for å for-andre impregneringsretningene til den kjemiske pletteringsløsning, fig. 3 viser et skjematisk riss som illustrerer en modifisert form av apparatet ifølge fig. 2, mens fig. 4 viser et skjematisk . riss av en ytterligere utførelses-form av et apparat ifølge oppfinnelsen. 1 fig. 1 er det vist et<tra>"formet kar 1 og et deksel 2 som holdes tett sammen slik at det dannes et kjemisk pletteringskammer 10 hvori et porøst slipelegeme 3 i form av et hjul, som skal gjøres ledende, er holdt på plass ved hjelp av en elastisk bærering 3a slik at kammeret 10 deles i et øvre og et nedre rom som vist. En innløpskanal la for væske ved bunnen av kammeret 1 er tilkoblet den øverste åpning 4a til en sylinder 4 som intermittent tilfører en kjemisk pletteringsløsning under trykk til kammeret 10. En til-bakeløpsventil 5 er anbragt ved den øverste ende av kanalen 4a for å hindre tilbakeløp av væsken til sylinderen 4. En andre tilbakeløps-ventil 6 er anordnet ved en innløpsåpning 4b for væske til sylinderen 4 . Et stempel 7, som kan føres frem og tilbake i sylinderen 4, drives ved rotasjon av en veiv 8 som er koblet til en stempelstang 9 ved hjelp av en veivaksel 8a. To forrådsbeholdere 11 og 12 inneholder adskilt to forskjellige sett bestanddeler for en kjemisk pletteringsløsning og de er forbundet med sylinderen 4 gjennom en kanal 13 til innløpsåpningen 4b, idet det finnes ventiler lia hhv. 12a for innstilling av blandingsforholdet mellom disse bestanddeler. Dekselet 2 er forsynt med en ventilatoråpning 2a som har en vifte 14 og det har dessuten en utløpsåpning 2b som over en kanal 15 fører til en tank 16 for behandling av løsningen slik at brukt løsning slippes ut av kammeret 10. Et par elektrolyseelektroder 17 og 18 er plassert i tanken 16 og forbundet med hhv. den positive og den nega-tive klemme til en likestrømskilde 19. Katoden 18 er plassert i be-røring med et utskiftbart endeløst, porøst belte eller duk 20 for opptak av metallavleiringen fra den brukte løsning og å føre den bort fra tanken 16 for gjenvinning. Behandlingstanken 16 er over en kanal 21 som inneholder en ventil 22 forbundet med en sedimenteringstank 2 3 hvori den brukte løsningen underkastes sedimentering for gjenvinning av en ytterligere komponent.
Under drift vil rotasjonen av veiven 8 føre stempelet 7 frem og tilbake i sylinderen 4. Når stempelet 7 beveges nedad vil det oppstå undertrykk i sylinderen 4 over stempelet. Følgelig vil ventilen 5 lukkes og ventilen 6 åpne og det trekkes løsning inn i sylinderen gjennom kanalen 13. Når kobberplettering skal utføres kan forrådsbeholderen 11 oppta en løsning som inneholder kobbersulfat, kalium-natriumtartrat og natriumhydroksyd, mens forrådsbeholderen 12 kan oppta formalin som reduseringsmiddel. Ventilene lia og 12a innstil-les slik at de nevnte bestanddeler trekkes inn i sylinderen 4 i et bestemt blandingsforhold.
Sammenblanding skjer i sylinderen 4. Mengden av oppløsning som trekkes inn i sylinderen 4 bestemmes selvsagt av stempelets 7 slag. Siden slaget kan fastsettes nøyaktig, kan også mengden bestemmes nøyaktig etter ønske.
Når stempelet begynner å bevege seg oppad, lukkes ventilen 6 på grunn av et økende trykk i sylinderrommet, som åpner ventilen 5. Mengden av pletteringsløsning som lagres i sylinderen 4 føres nå under trykk inn i behandlingskammeret 10. En liten del av det kan bli tvunget gjennom legemet 3 mens resten fyller legemet fullstendig, slik at metall avsettes ved reduksjon fra løsningen på veggpartiene til porene i legemet 3.
Som nevnt foran, forutgås den kjemiske pletteringsprosess ved forbehandlinger som er kjent i forbindelse med kjemisk plettering.
For eksempel kan legemet etter grundig rensing bli impregnert med en løsning av stannoklorid for at det skal avsettes stanno-joner (øm-fintliggjøring). Etter vasking kan legemet bli impregnert méd en løs-ning av palladiumklorid for avsetting av palladium som et aktiverende eller katalytisk middel (reduksjonskimer) for å oppta metallet ved den kjemiske plettering. Disse forbehandlinger, dvs. rensingen, øm-fintliggjøringen og katalyseringen, kan foretas med adskilte bad i overensstemmelse med det som er vanlig ved kjemisk plettering.
Etter en forutbestemt bevegelse oppad mot den øverste ende av sylinderen 4 stopper stempelet 7 og kan så holdes i ro i en viss tid slik at den impregnerte løsning beholdes i porene i legemet 3 inntil metallinnholdet er blitt vesentlig deplettert. Stempelet 7 kan deretter føres nedad slik at ny løsning i samme mengde trekkes inn i sylinderen 4 gjennom tilførselskanalen 13. Siden formalinen frem-bringer reduksjonsreaksjonen umiddelbart, er det ønskelig å lagre den adskilt fra de andre bestanddeler og føre dem sammen umiddelbart forut for innføringen i legemet 3 på den måte som er illustrert og beskrevet.
En representativ løsning for kjemisk kobbérplettering inneholder
10 g/l kobbersulfat (2.56 g/l kobber), 50 g/l kalium-natrium-tartrat,
15 g/l natriumhydroksyd og 25 cm 3/l formalin (381 formaldehyd).
Ved anvendelse av en løsning med slik sammensetning i et eksempel med det apparat som er beskrevet i fig. 1, ble en gitt mengde av løs-ningen ført inn i et porøst slipelegeme og holdt der i fem minutter, hvoretter det ble ført bort under trykk. Løsningen som kom ut var transparent og inneholdt 0.6 g/l kobbersulfat (160 mg/l kobber),
50 g/l kalium-natrium-tartrat, 14 g/l kaliumhydroksyd og 9 g/l formalin. Den brukte løsning ble ført gjennom kanalen 15 til tanken 16
og hydrogen og andre gassaktige reaksjonsprodukter ble ført ut av kammeret 10 ved hjelp av viften 14 i kanalen 2a.
Et enkelt pletteringsforløp med et enkelt strøk av stempelet 7 er ikke tilfredsstillende for å gjøre legemet 3 tilstrekkelig ledende. Således utføres fornyelse av løsningen i kammeret 10 ved å føre stempelet 7 frem og tilbake et forutbestemt antall ganger, avhengig av naturen, størrelsen og andre egenskaper ved det slipelegemet 3
som skal gjøres ledende.
Den brukte løsning i tanken 16 elektrolyseres. Kobber som blir elek-trolytisk avsatt fra løsningen på beltet 18 transporteres av dette til et gjenvinningssted. Kobberkonsentrasjonen på 160 mg/l i løs-ningen kan reduseres til 0.2 mg/l.
Med ventilen 22 åpen blir den behandlete løsning ført gjennom kanalen 21 over i sedimenteringstanken 23 hvor det ved tilsetning av 40 g kaliumklorid pr. liter løsning oppnås en sedimentering av kalium-tartrat, hvorfra kalium-natriumtartrat kan gjenvinnes.
Hovedbestanddelene i pletteringsløsningen kan således gjenvinnes i vesentlig grad, .hvilket tillater fremgangsmåten å bli utført økonomisk uten å gi opphav til forurensning av omgivelsene.
Mens tilførselsretningen for løsning alltid er den samme ved utførel-seseksemplet ifølge fig. 1, kan denne retning skiftes for hvert enkelt.impregneringsforløp eller etter et visst antall forløp. Dette kan oppnås ved å benytte et apparat som vist i fig. 2, hvor de samme henvisningstal1 betegner samme deler som i fig. 1. Utførelses-formen ifølge fig. 2 omfatter en tilførselsledning 24 for væske og en tømmeledning 25, som begge kommuniserer med behandlingskammeret 10 som vist, idet de løper gjennom en elektromagnetisk styrt ventil
26. Periodisk energisering av ventilens spole 26a synkronisert med forskyvningen av stempelet 7 åpner ventilene 26b og 26c alternativt slik at impregnerings retningen til løsningen gjennom slipelegemet 3
i kammeret 10 veksles periodisk. Apparatet i fig. 2 omfatter også
et oppsamlingskar 27 for løsning, som er forsynt med en vakuumpumpe 28 som drives ks synkront med stempelet 7 for å muliggjøre den inter-
mittente fornyelse av løsningen gjennom legemet 3 i behandlingskammeret 10. Tømmeledningen 25 er også forsynt med en tilbakeslags-ventil 29.
Behandlingskammeret 10 vist i fig. 3 er forsynt med tre ledninger 30, 31 og 32 som kommuniserer henholdsvis med kammerets overdel, under-del og sidedel. Disse ledninger kan tjene vekselvis som tilførsels-og tømmeledninger og kan benyttes som alternative tilførsels- og tømmeledninger, avhengig av naturen til det slipelegemet som skal gjøres ledende, for å sikre gjennomføringen av en optimal plettering. Det er også mulig å tilføre en trykkgass (fortrinnsvis inert) gjennom ledningen 32 og å tillate løsningen å tømmes gjennom ledningen 30 eller 31, eller alternativt å utøve et undertrykk gjennom ledningen 32 for å fjerne brukt løsning gjennom denne før ny løsning tilføres.
I fig. 4 er det vist en alternativ utførelsesform av et apparat i-følge oppfinnelsen, hvor en sylinder 110 danner et behandlingskammer hvori et slipelegeme 103, igjen i form av et hjul, som skal behandles, er montert på en bærering 103a. Ved denne utførelsesform er det anbragt en hengselanordning 133 for å plassere hjulet 103 som har en aksel 103b påsatt, mot bæreringen 103a.
Hjulet 103 er igjen plassert slik at det skiller kammeret 110 i et øvre rom 110-1 og et nedre rom 110-11. I det nedre rom 110-11 er det anordnet et stempel 107 som kan føres frem og tilbake mellom de stillinger som er antydet med den heltrukne linje og den strek-prikkete linje 107<*.>
Kammeret 110 er forsynt med en innløpsåpning 110a, en overstrømnings-åpning 110b og tømmeåpninger 110c og 110d. Innløpsåpningen 110a er forbundet med et forrådskar 134 med pletteringsløsning over en til-bakeløpsventil 135 og en manuelt betjent ventil 136. Tømmeåpningen 110c er forsynt med en manuelt styrt ventil 137 som vanligvis er lukket.
Under drift blir ventilen 136, etter at hjulet 103 er satt på plass, først åpnet og stempelet 107 senket til den stilling som er vist med heltrukket linje slik at pletteringsløsning føres inn i kammerets nedre rom 110-11. Ventilen 136 blir deretter lukket og stempelet 107 føres oppad en strekning A 1, som er litt større enn tykkelsen på<V>iiiil^t lftV til Ae>n <zt i 1 1 i ti a sni pt anoitt tnfid «?trfiV-T>-ri Wftt li nie 107". Trykket som utvikler seg i rommet 110-11 forårsaker en grundig impregnering av hjulet 103 med pletteringsløsning. Siden hjulets 103 indre flater allerede er blitt katalysert ved en forbehandling som beskrevet ovenfor, reduseres løsningen som føres inn i porene slik at det dannes metallavsetninger på de katalyserte veggdeler av porene og den kjemiske plettering fortsetter over hele det porøse området av hjulet 103.
Når en reduksjon eller stopp i utviklingen av gassdannelsen iakttas, hvilket indikerer at pletteringskomponenten er stort sett oppbrukt, kan stempelet 107 føres ytterligere oppad med en strekning Al for å fornye impregnerings løsningen og tillate den nye løsning å bli opp-tatt i hjulet 103 i en ny forutbestemt tidsperiode, inntil deplette-ring finner sted. Den brukte løsning som strømmer ut samles opp gjennom overløpsrøret 110b i en oppsamlingstank (ikke vist) av den type som er beskrevet foran. Dette forløp gjentas inntil stempelet når den stilling som er angitt med 107', hvoretter hjulet 102 fjernes for vasking og tørking.
Claims (5)
1. Fremgangsmåte for å gjøre et elektrisk ikke-ledende porøst slipelegeme elektrisk ledende, for dannelse av en elektro-kjemisk slipeelektrode ved utnyttelse av kjemisk avleiring, hvor det porøse slipelegeme blir inn-satt med en kjemisk avleirings-løsning som inneholder et reduksjonsmiddel og et metallsalt som skal reduksjons-avleires slik at det dannes et metallisk belegg på poreveggene i det porøse slipelegeme,karakterisert vedat en forutbestemt mengde kjemisk avleirings-løsning tilføres på en gang til hele porelegemet og blir holdt i ro der, at løsningen holdes i porene i en bestemt tid, slik at metall-komponenten i løsningen kan avsettes tilnærmet fullstendig på poreveggene, at hele restløsningen trekkes ut av porene på en gang, hvoretter en ny, frisk mengde løsning tilføres porene, hvilket gjentas et forutbestemt antall ganger, for oppbygging av den ønskete tykkelse på metallbelegget.
2. Apparat for gjennomføring av fremgangsmåten ifølge krav 1, omfattende et behandlingskammer for opptak av et porøst slipelegeme, en forrådsbeholder for avleiringsløsning og en forbindelsesanordning mellom behandlingskammeret og forrådsbeholderen, for tilførsel og bortførsel av løsning,karakterisert vedat forbindelsesanordningen er koblet direkte til behandlingskammeret (10; 110 I) og opp-viser en sylinder (4, 110 II) med et stempel (7,107) (fig.l,<fi>g.4).
3. Apparat i samsvar med krav 2,karakterisert vedat forrådsbeholderen omfatter en første beholder (11) for et reduksjonsmiddel og en andre beholder (12) for en metall-salt-oppløsning og at det finnes sperreventiler (lia,11b) for å åpne og lukke for begge beholdere samtidig (fig.l).
4. Apparat i samsvar med krav 2 eller 3,karakterisert vedat behandlingskammeret (10,110 I) er forbundet med en løsnings-behandlingstank (16) for gjenvinning av gjenværende metallkomponenenter fra den brukte løsning.
5. Apparat i samsvar med et av kravene 2-4,karakterisert vedat sylinderen (4) er forbundet med såve] behandlingskammerets (10) lokk (2) som med dets bunn (1) ved
J6lpav ledninger ovier (26*.26b) (figm2 S Vent^erfSa,5bJ
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP49122596A JPS5819745B2 (ja) | 1974-10-25 | 1974-10-25 | デンカイケンサクトイシノ ムデンカイメツキソウチ |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO753270L NO753270L (no) | 1976-04-27 |
NO145442B true NO145442B (no) | 1981-12-14 |
NO145442C NO145442C (no) | 1982-03-24 |
Family
ID=14839833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO753270A NO145442C (no) | 1974-10-25 | 1975-09-26 | Fremgangsmaate og apparat for fremstilling av verktoeyselektroder for elektrokjemisk-slipebehandling |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5819745B2 (no) |
CH (1) | CH619739A5 (no) |
CS (1) | CS189722B2 (no) |
DD (1) | DD121609A5 (no) |
DK (1) | DK443275A (no) |
NL (1) | NL169092C (no) |
NO (1) | NO145442C (no) |
RO (1) | RO71718A (no) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5837255A (ja) * | 1981-08-26 | 1983-03-04 | 住金鋼材工業株式会社 | 合成床板 |
JPS6278335A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-10 | バトラ− マニユフアクチユアリング コンパニ | 壁パネル構造 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS542718B2 (no) * | 1971-08-27 | 1979-02-10 | ||
JPS59347B2 (ja) * | 1974-09-04 | 1984-01-06 | カブシキガイシヤ イノウエジヤパツクスケンキユウジヨ | デンカイケンサクトイシノセイサクホウホウ オヨビ ソノソウチ |
-
1974
- 1974-10-25 JP JP49122596A patent/JPS5819745B2/ja not_active Expired
-
1975
- 1975-09-26 NO NO753270A patent/NO145442C/no unknown
- 1975-10-01 DK DK443275A patent/DK443275A/da not_active Application Discontinuation
- 1975-10-06 CS CS756746A patent/CS189722B2/cs unknown
- 1975-10-07 CH CH1302175A patent/CH619739A5/de not_active IP Right Cessation
- 1975-10-22 NL NLAANVRAGE7512355,A patent/NL169092C/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-10-23 DD DD189014A patent/DD121609A5/xx unknown
- 1975-10-24 RO RO7583719A patent/RO71718A/ro unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5149129A (no) | 1976-04-28 |
CH619739A5 (en) | 1980-10-15 |
DK443275A (da) | 1976-04-26 |
NL169092B (nl) | 1982-01-04 |
NL169092C (nl) | 1982-06-01 |
DD121609A5 (no) | 1976-08-12 |
NO145442C (no) | 1982-03-24 |
NO753270L (no) | 1976-04-27 |
CS189722B2 (en) | 1979-04-30 |
RO71718A (ro) | 1982-02-26 |
NL7512355A (nl) | 1976-04-27 |
JPS5819745B2 (ja) | 1983-04-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4396474A (en) | Modified carbon or graphite fibrous percolating porous electrode, its use in electrochemical reactions | |
AU724854B2 (en) | A process and device for regenerating tinning solutions | |
CA2579670A1 (en) | Chromium plating method | |
US2748071A (en) | Apparatus for regeneration of etching media | |
NO145442B (no) | Fremgangsmaate og apparat for fremstilling av verktoeyselektroder for elektrokjemisk-slipebehandling | |
US4247303A (en) | Method of forming an electrically conductive abrasive wheel | |
FI70429C (fi) | Foerfarande foer aotervinning av aedelmetaller och elektrolysanordning foer anvaendning i foerfarandet | |
JP3703132B2 (ja) | 電気メッキ等の電気化学的処理方法およびその電気化学的反応装置 | |
Horikawa et al. | Removal and recovery of nickel ion from wastewater of electroless plating by reduction crystallization | |
JPS59347B2 (ja) | デンカイケンサクトイシノセイサクホウホウ オヨビ ソノソウチ | |
US4021319A (en) | Electrolytic process for recovery of silver from photographic fixer solution | |
Campbell et al. | The electrochemical recovery of metals from effluent and process streams | |
CN102459714A (zh) | 电镀设备 | |
CN212425730U (zh) | 一种微电解废水处理系统 | |
CN210559973U (zh) | 一种污泥电化学淋洗装置 | |
JPH04318198A (ja) | 砥粒子の分散めっき方法 | |
JP3110444U (ja) | 金属の電解回収装置及び電解めっきシステム | |
CN219637301U (zh) | 一种银回收处理设备 | |
NO753395L (no) | ||
US6063252A (en) | Method and apparatus for enriching the chromium in a chromium plating bath | |
US1098338A (en) | Cleaning metal surfaces. | |
US4276134A (en) | Method for removing chlorate from caustic solutions with electrolytic iron | |
WO1993006261A1 (en) | Electrowinning metals from solutions | |
CN213772256U (zh) | 一种石英晶片生产加工用镀膜机 | |
CN208879874U (zh) | 一种电解研磨抛光装置 |