NO141419B - Elektrode for elektrokjemiske prosesser - Google Patents
Elektrode for elektrokjemiske prosesser Download PDFInfo
- Publication number
- NO141419B NO141419B NO744435A NO744435A NO141419B NO 141419 B NO141419 B NO 141419B NO 744435 A NO744435 A NO 744435A NO 744435 A NO744435 A NO 744435A NO 141419 B NO141419 B NO 141419B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- electrode
- base
- layer
- titanium
- powder
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 24
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 10
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 54
- 239000002585 base Substances 0.000 description 43
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 platinum metals Chemical class 0.000 description 6
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- 238000010285 flame spraying Methods 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 5
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 5
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 5
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910000497 Amalgam Inorganic materials 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical class [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001060 Gray iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910019891 RuCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012170 montan wax Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N platinum-iridium alloy Chemical compound [Ir].[Pt] HWLDNSXPUQTBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
- C25B11/057—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material consisting of a single element or compound
- C25B11/067—Inorganic compound e.g. ITO, silica or titania
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/02—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by shape or form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
- C25B11/057—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material consisting of a single element or compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
- C25B11/097—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds comprising two or more noble metals or noble metal alloys
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
Description
Oppfinnelsen angår en elektrode for elektrokjemiske prosesser, omfattende en basis som består av et passiverbart materiale, og et dekkskikt som i det minste delvis dekker denne basis, og som inneholder aktiverende stoffer.
Innen teknikken har tallrike elektrokjemiske prosesser funnet innpass, f.eks. til fremstilling av klor og alkalier fra saltopp-løsninger i kvikksølv- eller diafragmaceller, av klorater, hypo-klorider og lignende, til oksydasjon av organiske stoffer, til avsalting, f.eks. av sjøvann, og til katodisk korrosjonsbeskyttelse. For slike elektrokjemiske prosesser er det kjent å anvende katoder
og anoder av grafitt eller impregnert grafitt. I dette tilfelle blir grafittanodene nedbrutt ved elektrokjemiske reaksjoner, så det for å overholde en konstant avstand mellom elektrodene blir nødvendig fra tid til annen å etterstille anodene og til slutt å erstatte dem.
I tillegg er der kjent anoder av passiverbare metaller, som f.eks. titan, zirkonium, niob , tantal, wolfram, aluminium, jern, nikkel, bly, vismut, som er praktisk talt stabile, og som beholder sine dimensjoner uforandret under elektrolyseprosesser. De fortrinnsvis oksydiske passiveringsskikt som danner seg på overflaten av en slik metallanode, gir anodene en utmerket holdbarhet overfor korroderende angrep, men bevirker samtidig på grunn av sin store elektriske motstand en betraktelig økning av spenningsfallet. Det er kjent for å unngå denne ulempe å forsyne metallanoder med dekkskikt som inneholder aktiveringsstoffer som f.eks. platinametaller, forbindelser av platinametaller, alene eller sammen med oksyder av uedle metaller, som mangan, bly, titan eller tantal. Videre har der vært foreslått belegning med tallrike forbindelser, f.eks. karbider, borider, sulfider, fosfider og blandingsoksyder.
Viktige kriterier for et dekkskikts brukbarhet er dets holdbarhet i vedkommende elektrolytt, erosjonsfastheten og særlig heftningen til elektrodens basis, idet mangelfull kvalitet av heftningen ofte er årsaken til at elektrodene svikter. Der er kjent mange metoder til å bedre heftfastheten, som i det vesentlige er bestemt ved belegningsmetodens art, dekkskiktets stoffsammensetning og beskaffenheten av overflaten som skal belegges. Det er likeledes kjent mellom basis og dekkskikt å føye inn et ekstra mellomskikt som "heftformidler". Imidlertid kan en partiell løsning av dekkskikt fra basis ikke utelukkes ved bruk av de kjente former for sammenparring av basis og dekkskikt.
Hertil kommer at noe som også er viktig for brukbarheten av elektroder, er forbindelsen mellom elektrodens basis og strømtil-førselsstavene, som f.eks. består av titan, og som i sin tur forbindes elektrisk med en likeretter via strømskinner. Kvaliteten av den mekaniske og den elektriske forbindelse er ikke minst bestemt ved sveis- eller loddbarheten av de materialer som anvendes til fremstilling av elektrodebasis og strømtilførselsstaver.
Fra norsk patentsøknad 74 0031 er der f.eks. kjent et mellomskikt som består av et titanoksyd TiO^. og ved flamme- eller plasma-sprøyting er påført en elektrodebasis av metallisk titan. Ved-heftningen av aktiveringsstoffene til elektrodebasisen blir riktig-nok forbedret av mellomskiktet, men effekten .er begrenset ved mellomskiktets begrensede tykkelse, og ved skade på skiktet danner der seg ved anodisk kobling i løpet av korteste tid et TiC^-sperre-skikt på titanbasisens overflate, hvorved det anodiske spennings-
fall stiger.
En oppgave for oppfinnelsen består i å forbedre dekkskiktets heftning til elektrodens basis på en slik måte at man fullstendig unngår svekkelser av elektrodens elektrokjemiske aktivitet forårsaket ved delvis løsning av dekkskiktet. Videre er det en oppgave for oppfinnelsen å forbedre den mekaniske og elektriske forbindelse mellom elektrodens basis og strømtilførselsstaver av titan, som i sin tur via strømskinner er forbundet med en likeretter.
Disse oppgaver blir ifølge oppfinnelsen løst med en elektrode
av den innledningsvis nevnte art, hvis basis består av et titanoksyd TiOx, hvor x = 0,25 - 1,50. Ifølge en foretrukken utførelse av oppfinnelsen er x = 0,45 - 0,60. Ifølge en ytterligere foretrukken utførelsesform utgjør porøsiteten av elektrodens basis 20-50 volumprosent og den midlere porediameter 0,5-5 mm. Den fra dekkskiktet bortvendte overflate av elektrodens basis er i henhold til oppfinnelsen forsynt med et skikt av metallisk sintertitan til å bedre sveis- og loddbarheten.
Til fremstilling av basis for en elektrode i henhold til oppfinnelsen blir titanmetall- og titanoksyd-pulver blandet i forholdet 7:1 - 1:3, eventuelt etter tilsetning av et bindemiddel, som f.eks. en vandig oppløsning av polyvinyl-alkohol, blandingen presset til plater, staver eller andre egnede elektrodeformer, og de pressede stykker derpå sintret i inert atmosfære i temperaturområdet fra 900 til 1500°C.
Blandinger med høyere oksygeninnhold blir hensiktsmessig å sintre ved høyere temperaturer enn med oksygenfattige. For å bedre homogeniteten av sintrede TiO^-legemer kan det være gunstig å benytte en totrinns fremstillingsmetode hvor presstykker fremstilt ved den ovenfor omtalte metode først blir findelt og nedmalt og det fremkomne pulver, eventuelt etter tilsetning av et presningshjelpemiddel som parafin, voks, polyeten, polytetrafluoreten etc. presses til plater eller staver. Ved hjelp av hensiktsmessig utformede pressestempler blir der i platene hensiktsmessig presset forsterkningsribber og/ eller uttagninger som strekker seg gjennom elektrodens basis og tjener som gassavtrekkskanaler. Forstykkene blir så under en be-skyttelsesgass som f.eks. argon, varmet opp til en temperatur av ca. 1200-1400°C.
Ved hjelp av den omtalte ett- eller totrinns temperaturbehandli: av den komprimerte blanding av Ti- og TiC^-pulver blir der dannet hovedsakelig homogene TiO-faser som tilsvarer den respektive støk-iometriske sammensetning, og hvis gitre er betraktelig forstyrret. Således foreligger der f.eks. i området x = 0,6-1,25 en forbindelse av NaCl-type med fullstendig besatte gitterplasser, i området x <.0,42 er o£-titangitteret utvidet med innleiret oksygen, og i områdene x = 0,42-0,60 og x = 1,25-1,50 består elektrodens basis av blandinger av henholdsvis de forstyrrede Ti- og TiO-faser og TiO- og Ti203~fåsene.
Ifølge en ytterligere gunstig utførelse av oppfinnelsen utgjør porøsiteten av elektrodens basis 20-50%. Til fremstilling av en porøs basis blir sintrede presstykker med sammensetning TiOx med x = 0,25-1,50 findelt og ved siktning isolerte fraksjoner med korn-størrelse mellom 1 og 12 mm presset til plater, som så, f.eks. i argonatmosfære, opphetes til ca. 1200-1400°C.
Den midlere porediameter utgjør hensiktsmessig ca. 0,5 - 5 mm. Den store overflate av en slik basis gjør det mulig å pådra elektroden med større strømmer uten at dekkskiktet blir skadet. Ytterligere fordeler ligger i de tallrike statistisk jevnt fordelte porer som elektrodens basis er gjennomsatt med, og som virker som gassavtrekks-
kanaler, samt den forholdsvis lille vekt av en porøs basis.
For strømtilførsel blir der på elektrodens basis festet en
eller flere titanstaver som i sin tur via strømskinner f.eks. forbindes med en likeretter. Til fremstilling av forbindelsen mellom strømtilførselsstaver og basis er de vanlige metoder som slagglodding og særlig sveising mindre egnet for en elektrodebasis av TiOx med x = 0,25-1,50, da det selv ved omhyggelig håndtering ikke er til å unngå at der oppstår riss i loddeskiktet resp. sveisesømmen og også i selve elektrodens basis, og spenningsfallet på grunn av denne feil stiger til uheldig høye verdier under driften av elektroden. Sveis-
og loddbarheten av elektrodens basis blir ifølge oppfinnelsen forbedret ved at der på en flate av formstykket ved sparkling eller også ved pressing påføres et skikt av titanpulver innsatt med et bindemiddel, som foretret cellulose, og dette skikt så forbindes fast med elektrodens TiO -basis ved sintring ved en temperatur av ca. 1200°C i argonatmosfære. Ifølge en egnet metode blir titanskiktet påført elektrodens basis ved flamme- eller plasmasprøyting.
Elektrodene kan også fremstilles ved at titansvamp presses til plateformede stykker, forsynes med et skikt av en blanding av titan-
og rutilpulver eller også med et TiO -pulver og derpå sintres ved en temperatur av ca. 1100-1400 C. Ifølge en foretrukken metode til fremstilling av elektroden blir et skikt av TiO^-pulver i en senke dekket med et skikt av titanpulver, hvoretter begge skikt komprimeres med trykk av 300-3000 kp/cm 2, formes og sintres.
Den sintrede basis blir så forsynt med et dekkskikt inneholdende minst ett metall fra gruppen platina, palladium, iridium, rutenium, osmium, rhodium, gull eller sølv eller forbindelser av disse metaller som oksyder, nitrider eller sulfider. Egnede metoder til påføring av dekkskiktet er f.eks. felling fra oppløsninger, påsmøring av en suspensjon, galvanisk utfelling, plasmasprøyting, flammesprøyting eller pyrolytisk nedslag fra gassfase. Dekkskiktet, som brennes inn ved opphetning til ca. 300-600°C, bør dekke minst 5% av overflaten av elektrodens basis og ha en tykkelse av ca. 0,5-10 yum.
Dekkskiktet hos elektroder ifølge oppfinnelsen er fast forankret j i basissubstansens forstyrrede krystallgitter, så der selv etter flere gangers varmeherdning med etterfølgende bråkjøling av elektroden ikke kan konstateres noen løsning av skiktet eller reduksjon i den elektrokjemiske aktivitet. Nedslitning av dekkskiktene under erosive betingelser som dem der f.eks. foreligger i elektrolyseceller med hurtigstrømmende elektrolytter, blir ytterst liten. Den oppkløvede poreholdige overflate av elektrodens basis er dessuten betydelig større enn overflaten av en tilsvarende dimensjonert massiv metall-elektrode, så der kan påføres en større mengde aktiveringsstoffer pr. flateenhet og elektroden kan pådras med større strømtetthet uten skade på aktiveringsstoffene. En ytterligere fordel ved elektroden ifølge oppfinnelsen består i at gassavtrekkskanaler, avstivnings-ribber og lignende kan innpresses under fremstillingen av dens basis, så der ikke behøves noen etterbearbeidelse i tillegg.
Elektroder ifølge oppfinnelsen består fortrinnsvis av tre
skikt, hvorav det første, som vender mot elektrolytten, inneholder edle metaller eller forbindelser av edle metaller, annet skikt et titanoksyd TiO^ med x = 0,25-1,50 og tredje skikt titan. Skiktene er mekanisk uløselig forbundet med hverandre, idet midtskiktet i det vesentlige sikrer fast forankring av første skikt med elektrodens basis og tredje skikt sikrer sveisbarheten av elektrodens basis til strømtilførselsstaver av titan. Elektroden kombinerer dermed for-delene ved en basis av metallisk titan når det gjelder sveisbarhet, med fordelen av en basis av TiOx når det gjelder fast binding av dekkskiktet. Tykkelsen av TiO^- og Ti-skiktene, som danner basis, og forholdet mellom tykkelsene av de to skikt bestemmes utelukkende ved deres funksjon, dvs. mekanisk stabilitet og sveisbarhet av basis samt binding av dekkskiktet. Fortrinnsvis utgjør tykkelseforholdet ca. 10:1 - 1:10. Porøsitet og porestørrelsefordeling er variable og kan ved endring av de anvendte pulveres kornstørrelse samt presse- og sintringsbetingelsene tilpasses de respektive ønskede driftsbetingelser f.eks. for utformning av egnede gassavtrekkskanaler.
Elektroder i henhold til oppfinnelsen egner seg for elektrolyser av enhver art, f.eks. for vandig kloralkali-elektrolyse eller elektrolyse av klorhydrogensyre og av vann, og også for gjennomførelse av organiske oksydasjons- og reduksjonsprosesser, som anoder for katodisk korrosjonsbeskyttelse, for brenselceller og galvaniske celler.
Oppfinnelsen vil bli belyst nærmere ved eksempler under hen-visning til tegningen, som er et diagram over den spesifikke Eksempel 1 elektrisk motstand av titanoksyder TiOx.
Titanpulver med kornstørrelse ,06/im og rutilpulver,01 / x ble innledningsvis blandet i en hurtigløpende skovlblander, derpå innsatt med 5 vektdeler av en 2%'s vandig polyvinylalkohol-oppløsning og så blandet videre i 10 min. Forholdet Ti-pulver/Ti02_pulver utgjorde 7:1 - 1:3. Blandingene ble så presset i senkepresse med trykk av 2 Mp/cm 2 til sylindriske legemer med diameter 100 mm og høyde 50 mm, og disse ble først tørket ved en temperatur av 105°C og derpå i argon oppvarmet til 250°C og sintret.
På fig. 1 er den spesifikke elektriske motstand av sylindrene oppført som funksjon av oksygeninnholdet. Motstanden stiger jevnt fra det praktisk talt oksygenfrie titan og passerer ved x = 0,25 et maksimum og ved x = 0,50 et minimum. I område I foreligger der en 0(-t i-addisjons-blandekrystall med oksygen innpakket i oktaedriske hull, i området III er forbindelsen TiO stabil og dens gitterplasser fullstendig besatt. Motstanden tiltar i dette område og passerer et submaksimum og et subminimum ved henholdsvis x =0,9 og x =1,0. I område II, som strekker seg mellom x = 0,42 og x = 0,60, opptrer der forstyrrede O^-Ti- og TiO-faser ved siden av hverandre. I områdene IV og V, hvor motstanden stiger videre, foreligger der sluttelig blandinger av TiO og Ti2°3 resP« bare Ti20^.
Etter utført måling ble sylindrene ved flammesprøyting forsynt med et gjennomsnittlig 5 /im tykt platinaskikt, hvis heftfasthet ble prøvet ved bråkjøling av de til 200°C oppvarmede sylindre i vann av ca. 18°C. Sylindre av oksygenfritt titan, som ble benyttet til sammenligning, viste allerede etter 3-5 gangers bråkjøling lokale avskallinger av dekkskiktet, mens de første mindre feil ved sylindre med sammensetning TiOx - 0,25<x<D,42 og 0,60 <x^, 50 -ble iaktatt etter mer enn ti gangers bråkjøling, og dekkskiktet på legemer med sammensetning x = 0,42-0,60 forble feilfritt selv etter tyve gangers bråkjøling. En ytterligere fordel ved legemer med oksygeninnhold på 0,42 til 0,60 er den forholdsvis lave spesifikke elektriske motstand, hvorimot legemer med x>l,50 allerede på grunn av den store motstand er mindre egnet for elektroder.
Eksempel 2
61,4 vektdeler titanpulver, kornstørrelse^), 06/om, og 38,6 vektdeler rutilpulver, kornstørrelse <J,01 /im - molforhold ca. 8:3 - ble etter tilsetning av 5 vektdeler av en 2%'s vandig polyvinylalkohol-oppløsning blandet i 10 minutter i en hurtigblander og derpå i en senkepresse presset med et trykk av ca. 50 kp/cm 2 til sylindriske legemer med diameter 50 mm. Disse presstykker ble etter tørkning ved en temperatur av 105°C så i løpet av 4 timer opphetet til 1250°C i argonatmosfære og derpå findelt i kjeftknuser og nedmalt til korning ^0,06 /am i svingkvern. Pulveret var sprøtt med farve som grått støpejern og en sammensetning av Tib^
100 vektdeler av pulveret ble så innsatt med 5 vektdeler av en 10%'s oppløsning av hardt parafin i toluen, blandet i 5 minutter i en
2 hvirvelblander og presset i en senkepresse med trykk av 2,5 Mp/cm til plater som på en side hadde ribber og sylindriske uttagninger med
diameter 2,5 mm og forøvrig hadde dimensjonene 350 x 450 x 10 mm. Derpå ble platene tørket ved 110°C og opphetet til 1300°C i argon-atmosf ære i en gjennomstøtningsovn. Oppholdstiden utgjorde 3 timer. Den elektriske motstand av de tettsintrede plater med metallisk glans utguør ca. l,8Amm 2/m og det tilgjengelige porevolum ca. 15%.
Platene, som er bestemt som anodebasis for kloralkali-elektrolyseceller, ble på baksiden smurt med alkoholiske oppløsninger av 10 molprosent RuCl^t^O^ 5 og 10 molprosent H2Pt Clg samt oppvarmet til 700°C i en argonatmosfære for innbrenning av dekkskiktet. Etter avkjøling ble platene smurt med en alkoholisk oppløsning av 25 molprosent RuCl3 (H20)15 og derpå oppvarmet til 650°C i vanndampmettet luft. Det fastheftende, mørkegrå til sorte dekkskikt inneholder ca.
2 1,4 mg/cm edelmetaller.
Platene ble testet som anoder i en alkaliklorid-amalgamcelle. Elektrolytten inneholdt ca. 300 g/l Na Cl, temperaturen utgjorde 80°C og elektrodeavstanden 2 mm. Platene ble pådratt med strømtettheter på henholdsvis 10 000 og 20 000 A/m 2 og så undersøkt mikroskopisk på endringer i dekkskiktet. Skader eller tap i dekkskiktet kunne ikke fastslås. Anodepotentialet målt med Haber-Luggin-kapillar utgjorde 1,33 V referert til normal-hydrogenelektroden og forble likeledes uforandret.
Eksempel 3
37,5 vektdeler titanpulver og 62,5 rutilpulver - molforhold ca. 1:1 - ble som beskrevet i eksempel 2 blandet med 5 deler av en vandig polyvinylalkohol-oppløsning, presset, tørket og så opphetet til 1300°C i argonatmosfære. Presstykkene med molforhold Ti:0 som 1:1 ble knust, og fraksjonen 2 til 8 mm siktet fra, innsatt med en 5%'s oppløsning av et montanvoks i benzol, blandet og så presset med et trykk av 1,5 Mp/cm 2 til plater med dimensjonene 300 x 200 x 8 mm. Samtidig ble der påpreget overflaten et ribbeformig mønster. Platene ble så sintret ved en temperatur av 1250°C i ren argonatmosfære i tre timer. Platenes porevolum utgjorde ca. 40%, midlere porediameter ca 2 mm. Platene ble derpå ved flammesprøyting forsynt med et 0,9 yim tykt ekvimolekulart platina-iridium-dekkskikt og varmet opp i argon til 700°C for innbrenning av skiktet.
Platene ble prøvet som anoder i en diafragma-forsøkscelle til fremstilling av klor og natronlut ved en strømtetthet av 6 kA/m og en elektrolyttemperatur av 70°C. Tapet av edelmetall var mindre enn 0,1 g pr. tonn produsert klor.
I -r i ii'
Eksempel 4
61,4 vektdeler titanpulver, kornstørrelse ^),06 /im, og 38,6 vektdeler rutilpulver, kornstørrelse ^), 01/im - molforhold ca. 8:3 - ble etter tilsetning av 5 vektdeler av en 2%'s vandig polyvinylalkohol-oppløsning blandet i ti minutter i hurtigblander og derpå presset på en senkepresse med et trykk av ca. 50 kp/cm 2 til sylindriske legemer med diameter 50 mm. Etter tørkning ved 105°C ble presstykkene i
løpet av fire timer opphetet i argonatmosfære til 1250°C og derpå nedknust i kjeftknuser og nedmalt til korning ^0,06/im i svingkvern. Pulveret var sprøtt med farve som grått støpegods og en sammensetning av TiOg Det ble så bragt inn i en senke og dekket med et skikt
av titanpulver med kornstørrelse ^),1 mm. Pulverskiktene ble derpå presset til plater med dimensjonene 350 x 450 x 10 mm og med ribber og sylindriske uttagninger med diameter 2,5 mm på den ene side. Platenes TiO^-sider ble strøket-med en sur alkoholisk oppløsning av
10 molprosent RuCl_ (H_0) .. c og 10 molprosent H.PtCl-, tørket ved 110 C og så male gjennom en ovn hvor den ble opphetet til 1300°C
i argonatatmosfære og med oppholdstid 3 h. Etter avkjøling ble platene strøket med en alkoholisk oppløsning av 25 molprosent RuC<l>3 (H^O)1 5 og derpå varmet opp i vanndampmettet luft til 650°C.
Spenningsfallet på en horisontal kloralkalicelle med en kvikksølvkatode og en anode utgjorde ved en strømtetthet av 10 kA/m 2 og en k-verdi "på 0,09 V m 7/kA 4,0 til 4,1 V. Under samme betingelser var spenningsfallet på en celle med en anode bestående av en rekke paralleltplasserte vertikale titanbånd 4,25 til 4,30 V.
Claims (4)
1. Elektrode for elektrokjemiske prosesser, med en basis av et porøst, passiverbart materiale og med et dekkskikt som inneholder aktiverende stoffer og i det minste delvis dekker denne basis, karakterisert ved at elektrodens basis bastår av et titanoksyd TiOx hvor x = 0,25 - 1,50.
2. Elektrode som angitt i krav 1, karakterisert ved at x = 0,42 - 0,6.
3. Elektrode som angitt i krav 1 eller 2, karakterisert ved at poreandelen av elektrodens basis utgjør 20 - 50 volumprosent, og at den midlere porediameter er 0,5 - 5 mm.
4. Elektrode som angitt i et av kravene 1-3, karakterisert ved at den fra dekkskiktet bortvendte flate av elektrodens basis er forsynt med et skikt av sintertitan.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2405010A DE2405010C3 (de) | 1974-02-02 | 1974-02-02 | Sinter-Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zum Herstellen der Elektrode |
DE2412828A DE2412828C2 (de) | 1974-03-16 | 1974-03-16 | Elektrode für elektrochemische Prozesse |
DE2420011A DE2420011C2 (de) | 1974-04-25 | 1974-04-25 | Sinter-Elektrode für elektrochemische Prozesse |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO744435L NO744435L (no) | 1975-08-05 |
NO141419B true NO141419B (no) | 1979-11-26 |
NO141419C NO141419C (no) | 1980-03-05 |
Family
ID=27185757
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO744435A NO141419C (no) | 1974-02-02 | 1974-12-09 | Elektrode for elektrokjemiske prosesser |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5642675B2 (no) |
CA (1) | CA1040137A (no) |
CH (1) | CH613995A5 (no) |
FR (1) | FR2259921B1 (no) |
GB (1) | GB1443502A (no) |
IT (1) | IT1031341B (no) |
NL (1) | NL7417054A (no) |
NO (1) | NO141419C (no) |
SE (1) | SE398894B (no) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3571165B1 (en) * | 2017-01-18 | 2022-03-23 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Bismuth-based chloride-storage electrodes |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51117978A (en) * | 1975-04-09 | 1976-10-16 | Sekisui Chem Co Ltd | Electrode |
US4032427A (en) * | 1975-11-03 | 1977-06-28 | Olin Corporation | Porous anode separator |
DD137365A5 (de) * | 1976-03-31 | 1979-08-29 | Diamond Shamrock Techn | Elektrode |
LU75407A1 (no) * | 1976-07-16 | 1978-02-08 | ||
FR2439826A1 (fr) * | 1978-10-24 | 1980-05-23 | Anger Roger | Anode stabilisee moulee |
US4422917A (en) * | 1980-09-10 | 1983-12-27 | Imi Marston Limited | Electrode material, electrode and electrochemical cell |
DE3106587C2 (de) * | 1981-02-21 | 1987-01-02 | Heraeus Elektroden GmbH, 6450 Hanau | Elektrode und deren Verwendung |
FR2541691B1 (fr) * | 1983-02-25 | 1989-09-15 | Europ Composants Electron | Electrode pour bain electrolytique |
GB8804859D0 (en) * | 1988-03-01 | 1988-03-30 | Ici Plc | Electrode & construction thereof |
US4912286A (en) * | 1988-08-16 | 1990-03-27 | Ebonex Technologies Inc. | Electrical conductors formed of sub-oxides of titanium |
DE69012091T2 (de) * | 1990-02-20 | 1994-12-22 | Atraverda Ltd | Elektrochemische Zelle und Verfahren. |
ITMI20120873A1 (it) * | 2012-05-21 | 2013-11-22 | Industrie De Nora Spa | Elettrodo per evoluzione di prodotti gassosi e metodo per il suo ottenimento |
AR106068A1 (es) | 2015-09-25 | 2017-12-06 | Akzo Nobel Chemicals Int Bv | Electrodo y proceso para su manufactura |
AR106069A1 (es) * | 2015-09-25 | 2017-12-06 | Akzo Nobel Chemicals Int Bv | Electrodo y proceso para su manufactura |
WO2019176956A1 (ja) * | 2018-03-12 | 2019-09-19 | 三菱マテリアル株式会社 | チタン基材、チタン基材の製造方法、及び、水電解用電極、水電解装置 |
KR20220044191A (ko) * | 2019-08-01 | 2022-04-06 | 미쓰이금속광업주식회사 | 연료 전지용 촉매층, 그 제조 방법 및 그것을 구비한 연료 전지 |
-
1974
- 1974-12-09 NO NO744435A patent/NO141419C/no unknown
- 1974-12-31 NL NL7417054A patent/NL7417054A/xx not_active Application Discontinuation
-
1975
- 1975-01-29 CH CH104375A patent/CH613995A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-01-31 SE SE7501094A patent/SE398894B/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-01-31 CA CA219,144A patent/CA1040137A/en not_active Expired
- 1975-01-31 IT IT19809/75A patent/IT1031341B/it active
- 1975-01-31 GB GB441875A patent/GB1443502A/en not_active Expired
- 1975-02-03 JP JP1419775A patent/JPS5642675B2/ja not_active Expired
- 1975-02-03 FR FR7503334A patent/FR2259921B1/fr not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3571165B1 (en) * | 2017-01-18 | 2022-03-23 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Bismuth-based chloride-storage electrodes |
EP4019669A1 (en) * | 2017-01-18 | 2022-06-29 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Method for chloride ions removal with bismuth-based chloride-storage electrodes |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS50109176A (no) | 1975-08-28 |
SE7501094L (no) | 1975-08-04 |
IT1031341B (it) | 1979-04-30 |
SE398894B (sv) | 1978-01-23 |
NL7417054A (nl) | 1975-08-05 |
FR2259921A1 (no) | 1975-08-29 |
GB1443502A (en) | 1976-07-21 |
NO141419C (no) | 1980-03-05 |
NO744435L (no) | 1975-08-05 |
CA1040137A (en) | 1978-10-10 |
CH613995A5 (en) | 1979-10-31 |
FR2259921B1 (no) | 1979-01-05 |
JPS5642675B2 (no) | 1981-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0047595B1 (en) | Electrochemical cell | |
NO141419B (no) | Elektrode for elektrokjemiske prosesser | |
US4146438A (en) | Sintered electrodes with electrocatalytic coating | |
DE2405010C3 (de) | Sinter-Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zum Herstellen der Elektrode | |
US5069771A (en) | Molten salt electrolysis with non-consumable anode | |
Hayfield | Development of the noble metal/oxide coated titanium electrode | |
JP5616633B2 (ja) | 電解用陽極 | |
IL170874A (en) | Process for the production of an electrolytic electrode with a platinum group metal oxide coating and electrodes made therefrom | |
NO142314B (no) | Elektrode for elektrokjemiske prosesser. | |
NO158952B (no) | Anode for elektrolyseprosesser og fremgangsmaate for fremstilling derav. | |
NO147490B (no) | Elektrode til bruk ved elektrolyse, spesielt for elektrolyse av smeltet salt | |
US4323595A (en) | Nickel-molybdenum cathode | |
GB2040312A (en) | Nickel-molybdenum cathode | |
JPS59232284A (ja) | 電極の製法および使用 | |
NO341164B1 (no) | Kloratanodebelegg med jevn overflatemorfologi | |
CN106381507B (zh) | 一种用于熔融三元碳酸盐电解体系的惰性阳极 | |
US4098671A (en) | Cathode for electrolytic process involving hydrogen generation | |
FI61726B (fi) | Sintrad kiselkarbid-ventil-metallborid-kolanod foer elektrokemiska processer | |
NO752310L (no) | ||
US4078988A (en) | Electrode for electrochemical processes and method of producing the same | |
Vasudevan | Anodes for electrochemcial processes (Part-I) | |
US3862023A (en) | Electrode having silicide surface | |
CA1124210A (en) | Sintered electrodes with electrocatalytic coating | |
US3963593A (en) | Electrodes having silicide surface | |
CN101935853A (zh) | 一种铝电解用合金析氧阳极 |