NL8102105A - Inrichting en werkwijze voor het verzadigen van een gas met de damp van een vloeistof. - Google Patents
Inrichting en werkwijze voor het verzadigen van een gas met de damp van een vloeistof. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8102105A NL8102105A NL8102105A NL8102105A NL8102105A NL 8102105 A NL8102105 A NL 8102105A NL 8102105 A NL8102105 A NL 8102105A NL 8102105 A NL8102105 A NL 8102105A NL 8102105 A NL8102105 A NL 8102105A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- liquid
- compartment
- gas
- vapor
- temperature
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/008—Feed or outlet control devices
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S261/00—Gas and liquid contact apparatus
- Y10S261/65—Vaporizers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
* ί ‘ < mu 10,033 1 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken te Eindhoven " Inrichting en werkwijze voor het verzadigen van een gas met de damp van een vloeistof"
De uitvinding heeft betrekking qp een inrichting en een werkwijze voor het verzadigen van een gas met de damp van een vloeistof, van het type, waarbij het gas door de betreffende vloeistof wordt geborreld.
5 Inrichtingen en werkwijze! van dit type zijn in de literatuur beschreven. Deze inrichtingen worden bijvoorbeeld toegepast bij de fabricage van siliciumdioxyde uit een halogenide, zoals SiCl^ en zuurstof. Indien deze fabricage een proces stap vormt van een optische vezel fabricage is het van belang te beschikken over een mogelijkheid cm zuur-10 stof of een ander dragergas met een constante hoeveelheid SiCl^-damp aan de ruimte, waarin de reactie onder vorming van Si02 plaatsvindt te kunnen toevoeren. De toevoer van het mengsel SiCl4~ dragergas moet liefst met een grote snelheid kunnen plaatsvinden zonder, dat dit invloed heeft op de per tijdseenheid aan de reactieruimte toegevoerde hoeveelheid SiCl^.
15 in of voor de reactieruimte wordt bijvoorbeeld bij de fabricage van optische vezels de SiCl^- dragergas stroom vaak vermengd met een constante of met de tijd toenemende of afnemende hoeveelheid van een uitgangsmateriaal voor een stof die de brekingsindex van glasachtig Si02 wijzigt. Men kan hierbij bijvoorbeeld denken aan de fabricage van het 20 kernmateriaal van een stepped index vezel of een vezel met een brekings-indexgradient.
Bij een inrichting, waarbij dragergas, bijvoorbeeld zuurstof door een vloeistof zoals SiCl^, die op constante temperatuur wordt gehouden, wordt geborreld, zal bij opvoering van de snelheid, waarmee 25 het dragergas door de vloeistof wordt geleid, de verhouding vloeistof-damp tot dragergas in het algemeen de tendens hebben cm te dalen.
Indien de vloeistof tamelijk vluchtig is bij de werktempera-tuur (een hoge dampdruk bezit) kan bij verhoging van de doorstroomsnelheid van het dragergas de vloeistof afkoelen, waardoor de verdamping niet 30 meer bij constante temperatuur plaatsvindt. Hierdoor kan eveneens de verhouding vloeistofdamp tot dragergas op oncontroleerbare en ongewenste wijze gaan veranderen. Ook kan de kontakttijd te gering zijn cm verzadiging te bereiken.
8102105 __ *·., . :..¾... ,__.... _______________ _____________- . ' ... ·..'. _________ ... ..· . . _ "y- ^ « EHN 10,033 2 —-— Er bestaan inriditingen waarbij het dragergas over bet vloei- stofoppervlak strijkt. Hoewel hierbij sarmige van de nadelen die bij doorborrelinrichtingen kunnen optreden, niet worden gevonden, kan ook bij deze inrichtingen een oncontroleerbare verandering in de vloei-5 stof-damp-dragergas verhouding optreden. De uitvinding beoogt een inrichting van het doorborreltype, die geschikt is voor hoge gasdoor-strocm-snelheden. Een Inrichting van deze aard bezit volgens de uitvinding het kenmerk dat de inrichting bestaat uit twee onderling verbonden compartimenten, die in bedrijf met de vloeistof zijn gevuld, 10 waarbij het eerste compartiment is voorzien van een gasinleidbus, die eindigt beneden de spiegel van een vloeistof, die zich in bedrijf in dit compartiment bevindt en op een hogere temperatuur wordt gehouden dan de temperatuur waarbij het gas met de damp van deze vloeistof moet worden verzadigd en waarbij dit compartiment met het tweede conparti— 15 ment, waarin bij bedrijf de vloeistof wordt gehouden op de temperatuur, waarbij het gas moet worden verzadigd, is verbonden door middel van een gasbuis, waardoor het gas, dat door de vloeistof in het eerste compartiment bij bedrijf is geborreld in het tweede compartiment mret de vloeistof, die zich in dit compartiment bevindt in contact wordt ge-20 bracht alvorens de inrichting te verlaten.
Bij gebruik van de inrichting wordt het dragergas in het eerste compartiment verzadigd bij een hogere temperatuur dan uiteindelijk is gewenst,, vervolgens wordt het dragergas in het tweede compartiment met vloeistof in contact gebracht die zich op de gewenste tampe-25 ratuur bevindt. Een deel van de vloeistof damp in het dragergas condenseert daarbij en het uit het tweede compartiment stromende gas bevat hierna zoveel van de vloeistofdanp als overeenkomt met de partiele druk bij de temperatuur van de vloeistof in het tweede compartiment. Omdat bij kondensatie van de vloeistofdanp warmte vrijkomt zal het onder 30 omstandigheden noodzakelijk zijn het tweede compartiment tot de gewenste temperatuur af te koelen. Doordat in het tweede compartiment steeds vloeistofdanp kondenseert en daarmede de hoeveelheid vloeistof in dit compartiment toeneemt is volgens een voorkeursuitvoeringsvorm van de inrichting het eerste compartiment, bovendien met het tweede ccmparti-35 ment verbonden door middel van een afsluitbare verbindingsbuis, die · in beide compartimenten uitmondt op een plaats, die tijdens het gebruik beneden de vloeistofspiegel is gelegen.
__Volgens een voorkeursuitvoeringsvorm van de uitvinding is het '81 0 2:Tff5....................................
Hfflï 10,033 3 Λ _____tweede compartiment zodanig ingericht dat daarin het gas over de vloeistof strijkt. Het is echter ook mogelijk het gas door de vloeistof te laten borrelen. In het laatste geval bestaat echter het gevaar dat druppels vloeistof uit het compartiment warden meegesleept.
5 Aan de hand van de tekening zal nu een uitvoeringsvorm van een inrichting volgens de uitvinding en een werkwijze voor het verzadigen van een gas met de damp van een vloeistof nader worden beschreven.
In de tekening toont de enige figuur schanatisch een inrichting volgens de uitvinding. De inrichting bestaat in principe uit twee 10 gesloten compartimenten 1 en 2, waarin zich een vloeistof bevindt. Met de damp van deze vloeistof 8 moet een gas, dat door de buis 3 binnen-stroant warden verzadigd bij een temperatuur T. Daartoe bevindt de vloeistof in compartiment 1 zich op een temperatuur T+ A T. Een geschikt temperatuurverschil Δ T kan bijvoorbeeld 25 tot 1QQK bedragen 15 afhankelijk van de vluchtigheid van de vloeistof 8. Uiteraard zal de taiperatuur T+ A T lager moeten zijn dan het kookpunt van de vloeistof. Uit compartiment 1 stroomt het dragergas ver-zadigd bij Τ+Δ T dear de verbindingstuis 4 en de buis 6 over de vloeistof 8 die zich in compartiment 2 bevindt. In dit compartiment wordt de vloeistof op 20 een temperatuur T gehouden. Bij het contact met de vloeistof in compartiment 2 daalt de concentratie vloeistofdamp in het dragergas door kondensatie tot de partiaaldruk van de damp, die overeenkomt met die van de vloeistof bij temperatuur T. Via de buis 7 verlaat het dragergas met vloeistofdamp het compartiment 2. Het biedt voordeel de hierna 25 komende verbindingstuis naar de niet getekende reactiekamer qp een temperatuur te houden die enkele graden hoger is,dan T. Hierdoor kan in deze buis geen kondensatie van de vloeistofdamp optreden. De beide compartimenten 1 en 2 zijn verbonden door een verbindingsbuis 5, voorzien van een kraan 5A zodat ondanks kondensatie van vloeistofdamp in ccmparti-30 ment 2, de vloeistofniveau in beide compartimenten daarmede gelijk kunnen worden gemaakt. De compartimenten zijn in de praktijk voorzien van verwarmings inrichtingen en temperatuursensoren, zodat de temperaturen zoveel mogelijk constant kunnen warden gehouden.
Het kan ander omstandigheden noodzakelijk zijn via een koel-35 inrichting warmte uit het compartiment 2 af te voeren. Doordat het gas in het tweede compartiment warmte afstaat aan de vloeistof kan een vergroting van de gasdoorstroamsnelheid niet tot verlaging van de tempe-. ratuur van de vloeistof leiden.
81 0“2 105
Y
ï* - PHN 10,033 4 _____ In een praktisch geval bestond vloeistof 8 uit SiCl^. De temperatuur T+ A T in compartiment 1 werd op 80°C gehouden, in compartiment 2 op T 32°C. De verbindingshiis 7 met de reactieruimte werd qp 35°C. gehouden. Er werd zuurstof door de inrichting geleid. Een 5 toenemende gasdoorstroonsnelheid tot 2500 scan bleek geen invloed te hebben qp de concentratie vloeistof damp die compartiment 2 verlaat.
3 (onder een scan wordt een doarstroansnelheid verstaan van een cm per minuut onder standaardomstandigheden (0°C, 1 Bar.)).
10 15 20 25 30 81 0 2 1 05 ~~~~ 35
Claims (2)
- 2. Inrichting volgens conclusie 1 met het kenmerk dat het eerste compartiment bovendien met het tweede ccnpartiment is verbonden door middel van een verbindingshals die in beide compartimenten uitmondt op een plaats die in bedrijf beneden de vloeistofspiegels in de respectie- 20 velijke ccnpartimenten is gelegen.
- 3. Werkwijze voor het verzadigen van een gas met de damp van een vloeistof bij een gegeven temperatuur T met het kenmerk dat het gas door een hoeveelheid van de vloeistof wordt geleid die zich bevindt pp een temperatuur T+ Δ T en vervolgens in contact wordt gebracht net een 25 hoeveeheid van de vloeistof die zich bevindt op de temperatuur „T. 4. werkwijze volgens conclusie 3 met het kenmerk dat Δ T ligt tussen 25 en 100 C met dien verstande dat T+ Δ T lager is dan het kookpunt van de betreffaide vloeistof bij de druk van het gas, dat door de vloeistof wordt geleid. 30 810 2 10 5 35
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8102105A NL8102105A (nl) | 1981-04-29 | 1981-04-29 | Inrichting en werkwijze voor het verzadigen van een gas met de damp van een vloeistof. |
US06/369,790 US4450118A (en) | 1981-04-29 | 1982-04-19 | Apparatus for saturating a gas with the vapor of a liquid |
DE8282200478T DE3262609D1 (en) | 1981-04-29 | 1982-04-21 | Method of saturating a gas with the vapour of a liquid |
EP82200478A EP0063847B1 (en) | 1981-04-29 | 1982-04-21 | Method of saturating a gas with the vapour of a liquid |
CA000401433A CA1193962A (en) | 1981-04-29 | 1982-04-22 | Arrangement for and method of saturating a gas with the vapour of a liquid |
JP57070174A JPS57197027A (en) | 1981-04-29 | 1982-04-26 | Method for saturating gas with vapor of liquid and apparatus used therein |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8102105 | 1981-04-29 | ||
NL8102105A NL8102105A (nl) | 1981-04-29 | 1981-04-29 | Inrichting en werkwijze voor het verzadigen van een gas met de damp van een vloeistof. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8102105A true NL8102105A (nl) | 1982-11-16 |
Family
ID=19837421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL8102105A NL8102105A (nl) | 1981-04-29 | 1981-04-29 | Inrichting en werkwijze voor het verzadigen van een gas met de damp van een vloeistof. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4450118A (nl) |
EP (1) | EP0063847B1 (nl) |
JP (1) | JPS57197027A (nl) |
CA (1) | CA1193962A (nl) |
DE (1) | DE3262609D1 (nl) |
NL (1) | NL8102105A (nl) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4500480A (en) * | 1982-08-23 | 1985-02-19 | Respiratory Care, Inc. | Pediatric cartridge humidifier |
AU563417B2 (en) * | 1984-02-07 | 1987-07-09 | Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation | Optical fibre manufacture |
US4582480A (en) * | 1984-08-02 | 1986-04-15 | At&T Technologies, Inc. | Methods of and apparatus for vapor delivery control in optical preform manufacture |
JPH0714338B2 (ja) * | 1988-03-01 | 1995-02-22 | 有限会社パラサイト | 通気を利用した連続灌流装置 |
DE4002401A1 (de) * | 1988-08-20 | 1991-08-08 | Miller Johannisberg Druckmasch | Verfahren und vorrichtung zur messung des alkoholgehalts der feuchtfluessigkeit eines feuchtwerks einer offset-druckmaschine |
DE4113358A1 (de) * | 1991-04-24 | 1992-10-29 | Siemens Ag | Vorrichtung zur mischung eines traegergases mit einem nutzgas |
US5632797A (en) * | 1994-12-30 | 1997-05-27 | Corning Incorporated | Method of providing vaporized halide-free, silicon-containing compounds |
US6863268B2 (en) * | 2001-11-27 | 2005-03-08 | Chaojiong Zhang | Dew point humidifier (DPH) and related gas temperature control |
US6715743B2 (en) * | 2001-11-27 | 2004-04-06 | Chaojiong Zhang | Gas humidifier |
US6790475B2 (en) * | 2002-04-09 | 2004-09-14 | Wafermasters Inc. | Source gas delivery |
WO2004069318A1 (en) * | 2003-02-04 | 2004-08-19 | Fisher & Paykel Healthcare Limited | Breathing assistance apparatus |
US8708320B2 (en) | 2006-12-15 | 2014-04-29 | Air Products And Chemicals, Inc. | Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel |
WO2009064427A2 (en) * | 2007-11-13 | 2009-05-22 | Mckinley James J | Variable concentration dynamic headspace vapor source generator |
US8162296B2 (en) * | 2009-03-19 | 2012-04-24 | Air Products And Chemicals, Inc. | Splashguard for high flow vacuum bubbler vessel |
US8944420B2 (en) | 2009-03-19 | 2015-02-03 | Air Products And Chemicals, Inc. | Splashguard for high flow vacuum bubbler vessel |
US9327249B2 (en) * | 2012-04-17 | 2016-05-03 | Air Products And Chemicals, Inc. | Systems and methods for humidifying gas streams |
DE102013103603A1 (de) * | 2013-04-10 | 2014-10-16 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zum Versorgen eines Prozesses mit einem angereicherten Trägergas |
US20150137394A1 (en) * | 2013-11-18 | 2015-05-21 | Keith S. Reed | Air Humidification Injection Apparatus |
EP3785755A1 (en) * | 2019-08-28 | 2021-03-03 | Koninklijke Philips N.V. | Humidifying a gas flow stream |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1608251A (en) * | 1922-07-10 | 1926-11-23 | Aquazone Lab Inc | Apparatus for preparing supersaturated solutions |
FR1228245A (fr) * | 1959-03-10 | 1960-08-29 | Hydraulique & Urbanisme | Dispositif pour délivrer un débit de réactif proportionnel à un débit d'eau à traiter |
BE621252A (nl) * | 1961-08-19 | 1900-01-01 | ||
US3434471A (en) * | 1966-04-06 | 1969-03-25 | Smithkline Corp | Therapeutic intermittent positive pressure respirator |
FR1603327A (nl) * | 1967-03-24 | 1971-04-05 | ||
US3864440A (en) * | 1972-01-21 | 1975-02-04 | Respiratory Care | Humidifier and heater for delivered gas |
US4051205A (en) * | 1972-09-13 | 1977-09-27 | Graham Cameron Grant | Apparatus for saturated gas delivery |
US3966446A (en) * | 1975-10-23 | 1976-06-29 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Axial fabrication of optical fibers |
US4140735A (en) * | 1977-08-15 | 1979-02-20 | J. C. Schumacher Co. | Process and apparatus for bubbling gas through a high purity liquid |
US4206745A (en) * | 1978-07-19 | 1980-06-10 | Gilgen James K | Solar operated chemical heat pump |
US4276243A (en) * | 1978-12-08 | 1981-06-30 | Western Electric Company, Inc. | Vapor delivery control system and method |
US4314837A (en) * | 1979-03-01 | 1982-02-09 | Corning Glass Works | Reactant delivery system method |
-
1981
- 1981-04-29 NL NL8102105A patent/NL8102105A/nl not_active Application Discontinuation
-
1982
- 1982-04-19 US US06/369,790 patent/US4450118A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-04-21 EP EP82200478A patent/EP0063847B1/en not_active Expired
- 1982-04-21 DE DE8282200478T patent/DE3262609D1/de not_active Expired
- 1982-04-22 CA CA000401433A patent/CA1193962A/en not_active Expired
- 1982-04-26 JP JP57070174A patent/JPS57197027A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3262609D1 (en) | 1985-04-25 |
EP0063847B1 (en) | 1985-03-20 |
CA1193962A (en) | 1985-09-24 |
JPH0139814B2 (nl) | 1989-08-23 |
US4450118A (en) | 1984-05-22 |
EP0063847A1 (en) | 1982-11-03 |
JPS57197027A (en) | 1982-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL8102105A (nl) | Inrichting en werkwijze voor het verzadigen van een gas met de damp van een vloeistof. | |
US4582480A (en) | Methods of and apparatus for vapor delivery control in optical preform manufacture | |
US4826288A (en) | Method for fabricating optical fibers having cores with high rare earth content | |
US4212663A (en) | Reactants delivery system for optical waveguide manufacturing | |
US5558687A (en) | Vertical, packed-bed, film evaporator for halide-free, silicon-containing compounds | |
US4165223A (en) | Method of making dry optical waveguides | |
RU2161166C2 (ru) | Способ очистки полиалкилсилоксанов и получаемый при этом продукт | |
US8069690B2 (en) | Apparatus and method for fabricating glass bodies using an aerosol delivery system | |
EP0303911B1 (en) | Multiple, parallel packed column vaporizer | |
US4861524A (en) | Apparatus for producing a gas mixture by the saturation method | |
US5078092A (en) | Flash vaporizer system for use in manufacturing optical waveguide fiber | |
US4583997A (en) | Process for reducing the hydroxyl content of optical waveguides | |
US6094940A (en) | Manufacturing method of synthetic silica glass | |
US3488157A (en) | Apparatus for manufacturing,purifying and/or doping mono- or polycrystalline semi-conductor compounds | |
EP0908418A1 (en) | Manufacturing method of synthetic silica glass | |
US4278458A (en) | Optical fiber fabrication method and apparatus | |
GB1559978A (en) | Chemical vapour deposition processes | |
EP0941971B1 (en) | Manufacturing method of synthetic silica glass | |
CN110234412A (zh) | 冷凝汽化流体 | |
JPS63134531A (ja) | ガラス微粒子合成装置 | |
JP3186446B2 (ja) | シリカガラスの製造方法 | |
US2635039A (en) | Apparatus for purifying products of combustion | |
JP2005187254A (ja) | ガラス体の製造方法 | |
JP6979914B2 (ja) | 気化装置 | |
Rau et al. | Incorporation of OH in PCVD optical fibers and its reduction by fluorine doping |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |