[go: up one dir, main page]

NL178700C - Inrichting voor het neerslaan van een dunne laag op een substraat. - Google Patents

Inrichting voor het neerslaan van een dunne laag op een substraat.

Info

Publication number
NL178700C
NL178700C NLAANVRAGE7404173,A NL7404173A NL178700C NL 178700 C NL178700 C NL 178700C NL 7404173 A NL7404173 A NL 7404173A NL 178700 C NL178700 C NL 178700C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
depositing
substrate
thin layer
thin
layer
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7404173,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7404173A (nl
NL178700B (nl
Original Assignee
Cit Alcatel
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from BE129306A external-priority patent/BE797385R/xx
Application filed by Cit Alcatel filed Critical Cit Alcatel
Publication of NL7404173A publication Critical patent/NL7404173A/xx
Publication of NL178700B publication Critical patent/NL178700B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL178700C publication Critical patent/NL178700C/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/228—Gas flow assisted PVD deposition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3471—Introduction of auxiliary energy into the plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
NLAANVRAGE7404173,A 1973-03-27 1974-03-27 Inrichting voor het neerslaan van een dunne laag op een substraat. NL178700C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BE129306A BE797385R (en) 1971-04-27 1973-03-27 Thin mineral film deposition appts - using plasma excited by rf induction

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7404173A NL7404173A (nl) 1974-10-01
NL178700B NL178700B (nl) 1985-12-02
NL178700C true NL178700C (nl) 1986-05-01

Family

ID=3841811

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7404173,A NL178700C (nl) 1973-03-27 1974-03-27 Inrichting voor het neerslaan van een dunne laag op een substraat.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US3922214A (nl)
JP (1) JPS5026778A (nl)
CH (1) CH581198A5 (nl)
DE (1) DE2412928A1 (nl)
GB (2) GB1356769A (nl)
IT (1) IT1007402B (nl)
NL (1) NL178700C (nl)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2324755A1 (fr) * 1975-09-19 1977-04-15 Anvar Dispositif de pulverisation cathodique de grande vitesse de depot
JPS5435178A (en) * 1977-08-23 1979-03-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ultrafine particle depositing apparatus
DE2849240C2 (de) * 1978-11-13 1983-01-13 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen CVD-Beschichtungsvorrichtung für Kleinteile und ihre Verwendung
DE2941908C2 (de) * 1979-10-17 1986-07-03 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zum Herstellen einer eine Silizium-Schicht aufweisenden Solarzelle
FR2480552A1 (fr) * 1980-04-10 1981-10-16 Anvar Generateur de plasmaŸ
GB2085482B (en) * 1980-10-06 1985-03-06 Optical Coating Laboratory Inc Forming thin film oxide layers using reactive evaporation techniques
DE3117070A1 (de) * 1981-04-29 1982-11-18 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zum herstellen einer halbleiter-schicht-solarzelle
US4895765A (en) * 1985-09-30 1990-01-23 Union Carbide Corporation Titanium nitride and zirconium nitride coating compositions, coated articles and methods of manufacture
US4839245A (en) * 1985-09-30 1989-06-13 Union Carbide Corporation Zirconium nitride coated article and method for making same
US4929322A (en) * 1985-09-30 1990-05-29 Union Carbide Corporation Apparatus and process for arc vapor depositing a coating in an evacuated chamber
US5037522B1 (en) * 1990-07-24 1996-07-02 Vergason Technology Inc Electric arc vapor deposition device
CA2065581C (en) 1991-04-22 2002-03-12 Andal Corp. Plasma enhancement apparatus and method for physical vapor deposition
DE19635669C1 (de) * 1996-09-03 1997-07-24 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten mittels Gasflußsputtern
EP0803587B1 (de) * 1997-07-15 2000-10-04 Unaxis Trading AG Verfahren und Vorrichtung zur Sputterbeschichtung
IT1310029B1 (it) * 1999-02-26 2002-02-05 Ist Naz Fisica Della Materia Vaporizzatore a microplasma pulsato.
US20120048723A1 (en) * 2010-08-24 2012-03-01 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Sputter target feed system
JP6168157B2 (ja) 2013-10-30 2017-07-26 トヨタ自動車株式会社 車両およびその製造方法
JP6124020B2 (ja) 2014-08-29 2017-05-10 トヨタ自動車株式会社 車両用帯電電荷低減装置
JP6128093B2 (ja) 2014-10-16 2017-05-17 トヨタ自動車株式会社 車両の吸気装置
JP6160603B2 (ja) 2014-12-19 2017-07-12 トヨタ自動車株式会社 車両の冷却装置
JP6201980B2 (ja) 2014-12-25 2017-09-27 トヨタ自動車株式会社 車両の吸気装置
JP6115559B2 (ja) 2014-12-26 2017-04-19 トヨタ自動車株式会社 車両の排気装置
JP6183383B2 (ja) 2015-01-13 2017-08-23 トヨタ自動車株式会社 車両
JP6365316B2 (ja) 2015-01-19 2018-08-01 トヨタ自動車株式会社 車両の潤滑油又は燃料の供給装置
EP3048017B1 (en) 2015-01-23 2017-11-08 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Damping force generation device for vehicle
JP6281501B2 (ja) 2015-01-29 2018-02-21 トヨタ自動車株式会社 車両の車輪支持装置
JP6248962B2 (ja) 2015-02-10 2017-12-20 トヨタ自動車株式会社 車両の制動力発生装置
SG11202002076QA (en) * 2017-09-11 2020-04-29 Agency Science Tech & Res A sputtering system and method

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3408283A (en) * 1966-09-15 1968-10-29 Kennecott Copper Corp High current duoplasmatron having an apertured anode positioned in the low pressure region
US3625848A (en) * 1968-12-26 1971-12-07 Alvin A Snaper Arc deposition process and apparatus
BE766345A (fr) * 1971-04-27 1971-09-16 Universitaire De L Etat A Mons Dispositif pour fabriquer des couches minces de substances minerales.

Also Published As

Publication number Publication date
DE2412928A1 (de) 1974-10-03
JPS5026778A (nl) 1975-03-19
GB1419239A (en) 1975-12-24
GB1356769A (en) 1974-06-12
NL7404173A (nl) 1974-10-01
IT1007402B (it) 1976-10-30
US3922214A (en) 1975-11-25
NL178700B (nl) 1985-12-02
CH581198A5 (nl) 1976-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL178700C (nl) Inrichting voor het neerslaan van een dunne laag op een substraat.
NL168253C (nl) Werkwijze voor het bekleden van een oppervlak.
NL159603B (nl) Inrichting voor het opbrengen van een bekledingslaag op een materiaalbaan.
NL165938C (nl) Inrichting voor het behandelen van een dunne laag mate- riaal.
NL184368C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een antistatische laag op een substraat.
NL180604C (nl) Inrichting voor het aanbrengen van een dunne film op een substraat.
NL185017C (nl) Werkwijze voor het etsen van een polyimidefilm.
NL160400C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een laag van een lichtgevoelig, thermoplastisch materiaal, dat bij belichting een fotoresist kan vormen op een plaat met een gedrukte bedrading, alsmede een lichtgevoelig element ten gebruike bij deze werkwijze.
NL7409934A (nl) Werkwijze voor het bekleden van deeltjes met een continue, dichte, beschermende laag.
NL166068C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een gezuiverde molybdeenverbinding.
NL7511250A (nl) Inrichting voor de doorloopontwikkeling van band- of bladvormige van een fotografische laag voorziene dragers.
NL178088B (nl) Werkwijze voor het vormen van een hoogglanzende bekleding op een substraat.
NL162157C (nl) Werkwijze voor de bekleding van een betonnen ondergrond.
NL7405317A (nl) Inrichting voor het aanbrengen van een epitaxiale laag op ondermaterialen.
NL166081C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen op papier van een niet- -hechtende bekleding.
NL7608397A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een polyurethanlaag op een substraat.
NL7409415A (nl) Inrichting voor het afzetten van dunne lagen onder vacuum.
NL162753C (nl) Werkwijze voor het opbrengen van een bekledingslaag op een draagband, alsmede inrichting voor het toepassen van deze werkwijze.
NL7511873A (nl) Inrichting voor het vormen van een dunne laag.
NL7412592A (nl) Werkwijze voor het vormen van een fijn patroon en dunne, transparante, geleidende film.
NL7504277A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een spectraal- -selectieve bekleding op een plaat.
NL7710607A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een laag met een structuur op een substraat.
NL7609908A (nl) Werkwijze voor het verven van een hydroxy ge- substitueerd organisch polymeer ondermateriaal.
NL7413996A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een soldeervaste koperlaag.
NL161679B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een mengsel geschikt voor het aanbrengen van een afdekkende laag op een verdampbare vloeistof.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee