NL163633C - Werkwijze voor het maken van een patroon in een nega- tief resistmateriaal op een substraat. - Google Patents

Werkwijze voor het maken van een patroon in een nega- tief resistmateriaal op een substraat.

Info

Publication number: NL163633C
Authority: NL; Netherlands
Prior art keywords: negative; pattern; substrate; making; resisting material
Prior art date: 1973-10-23

Application number

NL7413817.A

Other languages

English (en)

Other versions

NL7413817A (nl

NL163633B (nl

Original Assignee

Western Electric Co

Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)

1973-10-23

Filing date

1974-10-22

Publication date

1980-09-15

1974-10-22 Application filed by Western Electric Co filed Critical Western Electric Co

1975-04-25 Publication of NL7413817A publication Critical patent/NL7413817A/nl

1980-04-15 Publication of NL163633B publication Critical patent/NL163633B/nl

1980-09-15 Application granted granted Critical

1980-09-15 Publication of NL163633C publication Critical patent/NL163633C/nl

Classifications

- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

Physics & Mathematics (AREA)
Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
General Physics & Mathematics (AREA)
Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
Epoxy Resins (AREA)
Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Materials For Photolithography (AREA)

NL7413817.A 1973-10-23 1974-10-22 Werkwijze voor het maken van een patroon in een nega- tief resistmateriaal op een substraat. NL163633C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number	Priority Date	Filing Date	Title
US40892773A	1973-10-23	1973-10-23

Publications (3)

Publication Number	Publication Date
NL7413817A NL7413817A (nl)	1975-04-25
NL163633B NL163633B (nl)	1980-04-15
NL163633C true NL163633C (nl)	1980-09-15

Family

ID=23618345

Family Applications (1)

Application Number	Title	Priority Date	Filing Date
NL7413817.A NL163633C (nl)	1973-10-23	1974-10-22	Werkwijze voor het maken van een patroon in een nega- tief resistmateriaal op een substraat.

Country Status (9)

Country	Link
JP (1)	JPS5929852B2 (nl)
BE (1)	BE821326A (nl)
CA (1)	CA1032392A (nl)
DE (1)	DE2450381C3 (nl)
FR (1)	FR2248289B1 (nl)
GB (1)	GB1484873A (nl)
IT (1)	IT1024658B (nl)
NL (1)	NL163633C (nl)
SE (1)	SE419907B (nl)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number	Priority date	Publication date	Assignee	Title
US4130424A (en) *	1976-08-06	1978-12-19	Bell Telephone Laboratories, Incorporated	Process using radiation curable epoxy containing resist and resultant product
JPS5786830A (en) *	1980-11-20	1982-05-31	Fujitsu Ltd	Pattern forming material
JPS5786831A (en) *	1980-11-20	1982-05-31	Fujitsu Ltd	Pattern forming material
JPS57109943A (en) *	1980-12-26	1982-07-08	Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt>	Formation of submicron pattern using radiation sensitive resist
DE3114931A1 (de) *	1981-04-13	1982-10-28	Hoechst Ag, 6000 Frankfurt	Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
GB2285141B (en) *	1993-12-23	1998-03-11	Motorola Ltd	Method of removing photo resist

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number	Priority date	Publication date	Assignee	Title
US3770433A (en) *	1972-03-22	1973-11-06	Bell Telephone Labor Inc	High sensitivity negative electron resist

1974
- 1974-07-18 CA CA205,002A patent/CA1032392A/en not_active Expired
- 1974-10-15 SE SE7412962A patent/SE419907B/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-10-21 FR FR7435316A patent/FR2248289B1/fr not_active Expired
- 1974-10-22 NL NL7413817.A patent/NL163633C/nl not_active IP Right Cessation
- 1974-10-22 BE BE149750A patent/BE821326A/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-10-22 IT IT70139/74A patent/IT1024658B/it active
- 1974-10-23 JP JP49121557A patent/JPS5929852B2/ja not_active Expired
- 1974-10-23 GB GB45812/74A patent/GB1484873A/en not_active Expired
- 1974-10-23 DE DE2450381A patent/DE2450381C3/de not_active Expired

Also Published As

Publication number	Publication date
DE2450381A1 (de)	1975-04-24
NL7413817A (nl)	1975-04-25
IT1024658B (it)	1978-07-20
SE419907B (sv)	1981-08-31
JPS5929852B2 (ja)	1984-07-24
JPS5074427A (nl)	1975-06-19
NL163633B (nl)	1980-04-15
SE7412962L (nl)	1975-04-24
CA1032392A (en)	1978-06-06
BE821326A (fr)	1975-02-17
DE2450381C3 (de)	1984-09-20
DE2450381B2 (de)	1979-07-19
FR2248289B1 (nl)	1979-03-16
FR2248289A1 (nl)	1975-05-16
GB1484873A (en)	1977-09-08

Similar Documents

Publication	Publication Date	Title
NL185690C (nl)	1990-06-18	Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakdrukvorm.
NL184444C (nl)	1989-07-17	Werkwijze voor het vormen van een patroon in een laag.
NL168253C (nl)	1982-03-16	Werkwijze voor het bekleden van een oppervlak.
NL7702377A (nl)	1977-09-08	Werkwijze voor het bereiden van een vlamwerende polymeersamenstelling.
NL187505C (nl)	1991-10-16	Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakdrukvorm.
NL177094C (nl)	1985-08-01	Werkwijze voor het vervaardigen van een verpakking.
NL7608300A (nl)	1977-02-01	Werkwijze en inrichting voor het op een materiaal opbrengen van een patroon.
NL185017B (nl)	1989-08-01	Werkwijze voor het etsen van een polyimidefilm.
NL187735C (nl)	1992-01-02	Werkwijze voor het vervaardigen van een georienteerd polymeermateriaal.
NL7706730A (nl)	1977-12-20	Werkwijze voor het bereiden van een poreus materiaal.
NL184543C (nl)	1989-08-16	Werkwijze voor het vervaardigen van een drukplaat.
NL7703833A (nl)	1977-10-11	Werkwijze voor het bereiden van een cyaanazokleurstof.
NL163633C (nl)	1980-09-15	Werkwijze voor het maken van een patroon in een nega- tief resistmateriaal op een substraat.
NL7609908A (nl)	1977-03-11	Werkwijze voor het verven van een hydroxy ge- substitueerd organisch polymeer ondermateriaal.
NL185013B (nl)	1989-08-01	Werkwijze voor het bereiden van een polymeer.
NL7407985A (nl)	1975-01-28	Werkwijze voor het vormen van een patroon en patroon vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL182710C (nl)	1988-05-02	Werkwijze voor het vervaardigen van een zeef met een nagenoeg plat zeefvlak.
NL7713913A (nl)	1978-06-19	Werkwijze voor het bereiden van een samenstel- ling op basis van polypropeen alsmede voor het vervaardigen van biaxiaal georienteerde foelies.
NL177834C (nl)	1985-12-02	Werkwijze voor het bereiden van een verfmateriaal.
NL7707601A (nl)	1978-03-14	Werkwijze ter bereiding van een materiaal voor het bekleden van vormen.
NL7605002A (nl)	1976-11-23	Werkwijze voor het afzetten van ruthenium op een heet substraat.
NL7706131A (nl)	1977-12-06	Werkwijze voor het bereiden van een verknoopbaar polymeer.
NL180517C (nl)	1987-03-02	Werkwijze voor het vormen van een bekledingsmateriaal.
NL7611581A (nl)	1977-05-03	Werkwijze voor het bereiden van een polymeer.
NL7612686A (nl)	1977-05-20	Werkwijze voor het vervaardigen van een litho- grafische drukplaat en volgens deze werkwijze vervaardigde drukplaat.

Legal Events

Date	Code	Title	Description
1994-11-16	V4	Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent