KR970703632A - 방전여기형레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치 및 충방전장치 - Google Patents
방전여기형레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치 및 충방전장치 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (12)
- 전원과, 그 전원의 전압을 방전전극에 인가시키는 주스위치와, 그 주스위치와 상기 방전전극의 사이에 개재되어 상기 전원으로부터 상기 방전전극에 흐르는 전류를 상기 전원의 전압의 크기에 따른 시간동안 저지하는 자기스위치를 가진 충방전회로를 구비함과 함께, 상기 방전전극이 배치된 레이저챔버 내에 레이저가스를 공급하여 상기 방전전극사이의 방전에 의해 상기 레이저가스를 여기하고, 레이저광을 발진, 출력시키도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서, 상기 레이저광의 출력을 검출하는 출력검출수단과, 상기 출력검출수단에 의해 상기 레이저광의 출력이 목표치 또는 목표범위로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 레이저광의 출력이 상기 목표치와 일치하던지 상기 목표범위 내에 들어가도록 상기 전원의 전압을 일정범위 내에서 변화시키면서 상기 레이저챔버 내에 공급되는 레이저가스의 공급량 또는 그 레이저챔버에서 배출되는 레이저가스의 배기량을 제어하는 제어수단을 구비한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
- 전원과, 그 전원의 전압을 방전전극에 인가시키는 주스위치와, 그 주스위치와 상기 방전전극의 사이에 개재되어 상기 전원으로부터 상기 방전전극에 흐르는 전류를 상기 전원의 전압의 크기에 따른 시간동안 저지하는 자기스위치를 가진 충 방전회로를 구비함과 함께, 상기 방전전극이 배치된 레이저챔버 내에 레이저가스를 공급하여 상기 방전전극사이의 방전에 의해 상기 레이저가스를 여기하고, 레이저광을 발진, 출력시키도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서, 상기 레이저광의 출력을 검출하는 출력검출수단과, 상기 출력검출수단에 의해 상기 레이저광의 출력이 목표치 또는 목표범위로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 레이저광의 출력이 상기 목표치와 일치하던지 상기 목표범위 내에 들어가도록 상기 전원의 전압을 변화시키는 전압제어수단과, 상기 전원의 전압축정범위를 미리 설정해 두고, 상기 전압제어수단에 의해 상기 전원의 전압이 변화된 결과, 상기 전압조정범위 외로 된 경우에 상기 전원의 전압이 상기 전압조정범위 내에 들어가도록 상기 레이저챔버 내에 공급되는 레이저가스의 공급량 또는 그 레이저챔버에서 배출되는 레이저가스의 배기량을 제어하는 급, 배기제어수단을 구비한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
- 제1항에 있어서, 레이저광의 주파수스펙트럼 분포에서의 스펙트럼 폭을 검출하는 스펙트럼폭검출수단을 구비하며, 이 스펙트럼 폭 검출수단에 의해 스펙트럼 폭이 목표스펙트럼 폭으로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 스펙트럼 폭이 목표스펙트럼 폭이 되도록 레이저가스를 레이저챔버 내로 공급하던지 그 레이저챔버로부터 배출하는 제어를 행하도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
- 제2항에 있어서, 레이저광의 주파수스펙트럼 분포에서의 스펙트럼 폭을 검출하는 스펙트럼폭검출수단을 구비하며, 이 스펙트럼폭검출수단에 의해 스펙트럼폭이 목표스펙트럼폭으로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 스펙트럼폭이 목표스펙트럼폭이 되도록 레이저가스를 레이저챔버 내로 공급하던지 그 레이저챔버로부터 배출하는 제어를 행하도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
- 제1항에 있어서, 방전전극사이의 방전방향에 대략 수직한 방향의 비임폭을 검출하는 비임폭검출수단을 구비하며, 이 비임폭검출수단에 의해 비임폭이 목표비임폭으로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 비임폭이 목표비임폭이 되도록 레이저가스를 레이저챔버 내로 공급하던지 그 레이저챔버로부터 배출하는 제어를 행하도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
- 제2항에 있어서, 방전전극사이의 방전방향에 대략 수직한 방향의 비임폭을 검출하는 비임폭검출수단을 구비하며, 이 비임폭검출수단에 의해 비임폭이 목표비임폭으로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 비임폭이 목표비임폭이 되도록 레이저가스를 래이저챔버 내로 공급하던지 그 래이저챔버로부터 배출하는 제어를 행하도록 한 방전여기행 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
- 전원과, 그 전원의 전압을 예비전리전극 및 주 방전전극에 인가시키는 주스위치와, 그 주스위치와 상기 예비전리전극 및 상기 주방전전극의 사이에 개재된 복수단의 콘덴서를 가지며, 상기 주스위치를 작동시킴으로써 상기 전원에 의해 초단콘덴서에 축적된 전하를 제2단 이하의 콘덴서로 이행시켜 최종단콘덴서의 축적전하에 따라서 상기 예비전리전극간의 예비전리방전 및 상기 주방전전극간의 주 방전을 행하는 충 방전장치를 구비하며, 상기 주방전전극간의 주 방전에 의해 레이저가스를 여기하고, 레이저광을 발진, 출력시키도록 한 방전여기형레이저장치에 있어서의 충방전장치에 있어서, 1차측권선과 직렬로 상기초단콘덴서가 접속됨과 함께 2차측권선과 직렬로 제2단콘덴서가 접속되며, 초단콘덴서로부터 방전되는 펄스전류를 승압하여 제2단콘덴서에 충전시키는 펄스트랜스를 설치함과 함께, 상기 제2단콘덴서의 후단에 제2단콘덴서로부터 방전되는 전류를 저지하는 자기스위치를 접속하고, 그 자기스위치와 직렬로 상기 예비전리전극을 접속하고, 상기 제2단콘덴서 및 상기 2차측권선과, 상기 자기스위치 및 상기 예비전리전극과, 최종단의 제3콘덴서와, 상기 주방전전극을 각각 병렬로 접속하도록 한 방전여기형레이저장치에 있어서의 충방전장치.
- 제7항에 있어서, 상기 예비전리전극과 상기 주방전전극의 사이에 자기압축회로를 개재시킨 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치.
- 전원과, 그 전원의 전압을 예비전리전극 및 주 방전전극에 인가시키는 주스위치와. 그 주스위치와 상기 예비전리전극 및 상기 주방전전극의 사이에 개재된 복수단의 콘덴서를 가지며, 상기 주스위치를 작동시킴으로써 상기 전원에 의해 초단콘덴서에 축적된 전하를 제2단 이하의 콘덴서로 이행시켜 최종단콘덴서의 축척전하에 따라서 상기 예비전리전극간의 예비전리방전 및 상기 주방전전극간의 주방전을 행하는 충방전장치를 구비하며, 상기 주 방전전극간의 주 방전에 의해 레이저가스를 여기하고, 레이저광을 발진, 출력시키도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치에 있어서, 펄스트랜스의 1차측권선과 직렬로 상기 초단콘덴서를 접속함과 함께, 상기 펄스트랜스의 2차측권선을 두개의 제1 및 제2의 권선으로 분리하고, 상기 제1권선과 예비전리전극용의 제2단콘덴서를 가진 예비전리방전여기회로와, 상기 제2권선과 주방전전극용의 제2단콘덴서를 가진 주방전여기회로를 분리한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치.
- 청구항 9에 있어서, 상기 예비전리방전여기회로의 제1권선과 직렬로, 예비전리방전과 주방전의 타이밍을 조정하는 인덕터를 접속한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치.
- 청구항 9에 있어서, 상기 주방전전극용의 제2단콘덴서의 후단에 그 제2단콘덴서로부터 방전되는 전류를 저지하는 자기스위치를 접속하고, 그 자기스위치와, 최종단의 제3단콘덴서와, 상기 주방전전극을 각각 병렬로 접속하도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치.
- 제9항에 있어서, 상기 주방전전극용의 제2단콘덴서와 상기 주방전전극의 사이에, 자기압축회로를 개재시킨 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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DE19845586B4 (de) * | 1997-10-03 | 2008-04-03 | Komatsu Ltd. | Entladungsschaltung für einen Impulslaser mit einer Impulsleistungsquelle |
US6212214B1 (en) | 1998-10-05 | 2001-04-03 | Lambda Physik Ag | Performance control system and method for gas discharge lasers |
US6526085B2 (en) * | 1998-10-05 | 2003-02-25 | Lambda Physik Ag | Performance control system and method for gas discharge lasers |
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DE19942455A1 (de) | 1998-10-05 | 2000-04-06 | Lambda Physik Gmbh | Leistungssteuersystem und -verfahren für Gasentladungslaser |
US6965624B2 (en) * | 1999-03-17 | 2005-11-15 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
US6389052B2 (en) | 1999-03-17 | 2002-05-14 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
SE518827C2 (sv) | 1999-02-17 | 2002-11-26 | Altitun Ab | Metod för karakterisering av en avstämbar laser |
US6727731B1 (en) | 1999-03-12 | 2004-04-27 | Lambda Physik Ag | Energy control for an excimer or molecular fluorine laser |
US6243406B1 (en) | 1999-03-12 | 2001-06-05 | Peter Heist | Gas performance control system for gas discharge lasers |
US6714577B1 (en) | 1999-03-17 | 2004-03-30 | Lambda Physik Ag | Energy stabilized gas discharge laser |
JP2000277840A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-10-06 | Komatsu Ltd | パルスレーザ用の充放電回路 |
US6198761B1 (en) | 1999-05-07 | 2001-03-06 | Lambda Physik Gmbh | Coaxial laser pulser with solid dielectrics |
SE514187C2 (sv) * | 1999-07-06 | 2001-01-22 | Altitun Ab | Förfarande och anordning för att utstyra en avstämbar laser |
WO2001013476A1 (en) * | 1999-08-17 | 2001-02-22 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser |
US6785316B1 (en) | 1999-08-17 | 2004-08-31 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular laser with optimized spectral purity |
JP3552979B2 (ja) * | 1999-09-16 | 2004-08-11 | ウシオ電機株式会社 | ArFエキシマレーザ装置 |
JP3444350B2 (ja) * | 1999-11-17 | 2003-09-08 | ウシオ電機株式会社 | エキシマレーザ装置 |
US6570901B2 (en) | 2000-02-24 | 2003-05-27 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular fluorine laser having lengthened electrodes |
US6847671B1 (en) | 2000-03-29 | 2005-01-25 | Lambda Physik Ag | Blower for gas laser |
WO2001084678A2 (en) | 2000-04-18 | 2001-11-08 | Lambda Physik Ag | Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers |
US6862307B2 (en) * | 2000-05-15 | 2005-03-01 | Lambda Physik Ag | Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser |
US6721345B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-04-13 | Lambda Physik Ag | Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers |
JP3752978B2 (ja) * | 2000-08-09 | 2006-03-08 | ウシオ電機株式会社 | 巻線機器および巻線機器を用いた高電圧パルス発生回路 |
DE10042292B4 (de) * | 2000-08-29 | 2004-08-12 | Tuilaser Ag | Verfahren zum Betreiben eines Excimer-Laser |
US6535540B1 (en) * | 2000-09-13 | 2003-03-18 | Komatsu Ltd. | Discharge device for pulsed laser |
US20050259709A1 (en) * | 2002-05-07 | 2005-11-24 | Cymer, Inc. | Systems and methods for implementing an interaction between a laser shaped as a line beam and a film deposited on a substrate |
US7830934B2 (en) * | 2001-08-29 | 2010-11-09 | Cymer, Inc. | Multi-chamber gas discharge laser bandwidth control through discharge timing |
US20040254567A1 (en) * | 2003-02-12 | 2004-12-16 | Holz Frank G. | Surgical method for ablating tissue |
US6987790B2 (en) * | 2003-02-14 | 2006-01-17 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular fluorine laser with several discharge chambers |
US7277188B2 (en) * | 2003-04-29 | 2007-10-02 | Cymer, Inc. | Systems and methods for implementing an interaction between a laser shaped as a line beam and a film deposited on a substrate |
US6883300B2 (en) * | 2003-07-11 | 2005-04-26 | Allan Sanders | Assembly including a chain for suspending an article such as a light and for concealing an electrical conductor |
US7209507B2 (en) * | 2003-07-30 | 2007-04-24 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for controlling the output of a gas discharge MOPA laser system |
US7277464B2 (en) * | 2003-12-18 | 2007-10-02 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for controlling the output of a gas discharge laser system |
US7317179B2 (en) * | 2005-10-28 | 2008-01-08 | Cymer, Inc. | Systems and methods to shape laser light as a homogeneous line beam for interaction with a film deposited on a substrate |
US7679029B2 (en) * | 2005-10-28 | 2010-03-16 | Cymer, Inc. | Systems and methods to shape laser light as a line beam for interaction with a substrate having surface variations |
USD606628S1 (en) * | 2007-03-27 | 2009-12-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Gas controller |
JP4185958B1 (ja) * | 2007-06-11 | 2008-11-26 | ファナック株式会社 | ガスレーザ装置の立ち上げ方法及びガスレーザ装置 |
JP5499432B2 (ja) * | 2007-10-05 | 2014-05-21 | ソニー株式会社 | 撮像装置 |
JP6275737B2 (ja) | 2013-11-05 | 2018-02-07 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置及び非一過性のコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
GB2584731B (en) * | 2019-06-13 | 2024-01-31 | Bae Systems Plc | Pulse charging of a capacitor |
CN114221569B (zh) * | 2021-12-21 | 2023-12-01 | 中国人民解放军国防科技大学 | 等离子体高能合成射流激励器并联放电装置及方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58223392A (ja) * | 1982-06-22 | 1983-12-24 | Nec Corp | イオンレ−ザ装置 |
JPS60263485A (ja) * | 1984-06-11 | 1985-12-26 | Nec Corp | イオンレ−ザ装置 |
JPS6378587A (ja) * | 1986-09-22 | 1988-04-08 | Toshiba Corp | 気体レ−ザ装置 |
JPS6433981A (en) * | 1987-07-29 | 1989-02-03 | Power Reactor & Nuclear Fuel | Switching power supply for high repetition pulse laser |
JP2747585B2 (ja) * | 1988-01-27 | 1998-05-06 | 株式会社小松製作所 | 狭帯域エキシマレーザの起動方法 |
JPH02103977A (ja) * | 1988-10-13 | 1990-04-17 | Toshiba Corp | パルスレーザ用電源 |
JPH03117378A (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-20 | Toshiba Corp | パルス電源装置 |
JPH03124273A (ja) * | 1989-10-03 | 1991-05-27 | Toshiba Corp | パルス電源装置 |
JPH0758817B2 (ja) * | 1989-10-20 | 1995-06-21 | 株式会社日立製作所 | エキシマレーザ装置 |
JPH03166783A (ja) * | 1989-11-27 | 1991-07-18 | Nikon Corp | ガスレーザー装置 |
JPH04137576A (ja) * | 1990-09-27 | 1992-05-12 | Komatsu Ltd | 放電励起式ガスレーザ発振器 |
US5450436A (en) * | 1992-11-20 | 1995-09-12 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Laser gas replenishing apparatus and method in excimer laser system |
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