[go: up one dir, main page]

KR970703632A - 방전여기형레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치 및 충방전장치 - Google Patents

방전여기형레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치 및 충방전장치 Download PDF

Info

Publication number
KR970703632A
KR970703632A KR1019960706798A KR19960706798A KR970703632A KR 970703632 A KR970703632 A KR 970703632A KR 1019960706798 A KR1019960706798 A KR 1019960706798A KR 19960706798 A KR19960706798 A KR 19960706798A KR 970703632 A KR970703632 A KR 970703632A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
discharge
laser
capacitor
electrode
power supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
KR1019960706798A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100325995B1 (ko
Inventor
미조구찌 하까루
니시사까 토시히로
코모리 히로시
Original Assignee
안자끼 사토루
고마쯔 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP6134468A external-priority patent/JP2601410B2/ja
Priority claimed from JP20227394A external-priority patent/JP3535576B2/ja
Application filed by 안자끼 사토루, 고마쯔 리미티드 filed Critical 안자끼 사토루
Publication of KR970703632A publication Critical patent/KR970703632A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100325995B1 publication Critical patent/KR100325995B1/ko
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/0014Monitoring arrangements not otherwise provided for
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/131Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • H01S3/134Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

레이저광의 출력을 안정화하는 것을 제1의 목적으로 한다. 이 제1의 목적을 달성하기 위해 출력검출수단(15)에 의해 레이저광(La)의 출력(E)이 목표치로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 레이저광의 출력(E)이 목표치로 되도록 전원(17)의 전압이 일정치 혹은 일정범위로 유지되면서 레이저챔버(4)내에 공급되는 레이저가스의 공급량이 제어된다.
또한 예비전리전극의 소모를 저감하여 레이저광의 출력의 저하를 방지하는 것을 제2의 목적으로 한다. 이 제2의 목적은 이하와 같이 달성된다.
즉 1차 콘덴서(C1)로부터 방전되는 펄스전류가 펄스트랜스(20)에 의해 승압 되어 2차 콘덴서(C2)에 충전된다.
이 때, 2차 콘덴서(C2)의 후단에 접속된 자기스위치(SR)는 포화상태에서 도통상태가 되며, 이 자기스위치(SR)와 직렬로 접속된 예비전리전극(6)을 전류가 통과한다. 2차 콘덴서(C2)로의 전하의 이행이 완료한 시점으로부터 2차 콘덴서(C2)로 역방향의 방전전류가 흐르려고 하지만 자기스위치 (SR)은 이 역 전류를 저지하는 작용을 하며. 예비전리방전을 정지시킨다. 이와 동기하여 펄스트랜스(20)의 자심은 포화하여 2차 콘덴서(C2)로부터 피킹콘덴서(C4)로의 전하의 이행이 개시된다. 그리고 피킹콘덴서(C4)의 전압이 상승하고, 방전개시전압에 달하며 레이저 발진이 이루어진다.

Description

방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치 및 충 방전장치
[도면의 간단한 설명]
제1도는 본 발명의 제1발명에 위한 방전여기형 레이저장치의 레이저가스제어장치의 제1실시예의 구성을 나타내는 도면이다.
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (12)

  1. 전원과, 그 전원의 전압을 방전전극에 인가시키는 주스위치와, 그 주스위치와 상기 방전전극의 사이에 개재되어 상기 전원으로부터 상기 방전전극에 흐르는 전류를 상기 전원의 전압의 크기에 따른 시간동안 저지하는 자기스위치를 가진 충방전회로를 구비함과 함께, 상기 방전전극이 배치된 레이저챔버 내에 레이저가스를 공급하여 상기 방전전극사이의 방전에 의해 상기 레이저가스를 여기하고, 레이저광을 발진, 출력시키도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서, 상기 레이저광의 출력을 검출하는 출력검출수단과, 상기 출력검출수단에 의해 상기 레이저광의 출력이 목표치 또는 목표범위로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 레이저광의 출력이 상기 목표치와 일치하던지 상기 목표범위 내에 들어가도록 상기 전원의 전압을 일정범위 내에서 변화시키면서 상기 레이저챔버 내에 공급되는 레이저가스의 공급량 또는 그 레이저챔버에서 배출되는 레이저가스의 배기량을 제어하는 제어수단을 구비한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
  2. 전원과, 그 전원의 전압을 방전전극에 인가시키는 주스위치와, 그 주스위치와 상기 방전전극의 사이에 개재되어 상기 전원으로부터 상기 방전전극에 흐르는 전류를 상기 전원의 전압의 크기에 따른 시간동안 저지하는 자기스위치를 가진 충 방전회로를 구비함과 함께, 상기 방전전극이 배치된 레이저챔버 내에 레이저가스를 공급하여 상기 방전전극사이의 방전에 의해 상기 레이저가스를 여기하고, 레이저광을 발진, 출력시키도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서, 상기 레이저광의 출력을 검출하는 출력검출수단과, 상기 출력검출수단에 의해 상기 레이저광의 출력이 목표치 또는 목표범위로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 레이저광의 출력이 상기 목표치와 일치하던지 상기 목표범위 내에 들어가도록 상기 전원의 전압을 변화시키는 전압제어수단과, 상기 전원의 전압축정범위를 미리 설정해 두고, 상기 전압제어수단에 의해 상기 전원의 전압이 변화된 결과, 상기 전압조정범위 외로 된 경우에 상기 전원의 전압이 상기 전압조정범위 내에 들어가도록 상기 레이저챔버 내에 공급되는 레이저가스의 공급량 또는 그 레이저챔버에서 배출되는 레이저가스의 배기량을 제어하는 급, 배기제어수단을 구비한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
  3. 제1항에 있어서, 레이저광의 주파수스펙트럼 분포에서의 스펙트럼 폭을 검출하는 스펙트럼폭검출수단을 구비하며, 이 스펙트럼 폭 검출수단에 의해 스펙트럼 폭이 목표스펙트럼 폭으로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 스펙트럼 폭이 목표스펙트럼 폭이 되도록 레이저가스를 레이저챔버 내로 공급하던지 그 레이저챔버로부터 배출하는 제어를 행하도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
  4. 제2항에 있어서, 레이저광의 주파수스펙트럼 분포에서의 스펙트럼 폭을 검출하는 스펙트럼폭검출수단을 구비하며, 이 스펙트럼폭검출수단에 의해 스펙트럼폭이 목표스펙트럼폭으로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 스펙트럼폭이 목표스펙트럼폭이 되도록 레이저가스를 레이저챔버 내로 공급하던지 그 레이저챔버로부터 배출하는 제어를 행하도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
  5. 제1항에 있어서, 방전전극사이의 방전방향에 대략 수직한 방향의 비임폭을 검출하는 비임폭검출수단을 구비하며, 이 비임폭검출수단에 의해 비임폭이 목표비임폭으로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 비임폭이 목표비임폭이 되도록 레이저가스를 레이저챔버 내로 공급하던지 그 레이저챔버로부터 배출하는 제어를 행하도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
  6. 제2항에 있어서, 방전전극사이의 방전방향에 대략 수직한 방향의 비임폭을 검출하는 비임폭검출수단을 구비하며, 이 비임폭검출수단에 의해 비임폭이 목표비임폭으로부터 벗어난 것이 검출된 경우에 상기 비임폭이 목표비임폭이 되도록 레이저가스를 래이저챔버 내로 공급하던지 그 래이저챔버로부터 배출하는 제어를 행하도록 한 방전여기행 레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치.
  7. 전원과, 그 전원의 전압을 예비전리전극 및 주 방전전극에 인가시키는 주스위치와, 그 주스위치와 상기 예비전리전극 및 상기 주방전전극의 사이에 개재된 복수단의 콘덴서를 가지며, 상기 주스위치를 작동시킴으로써 상기 전원에 의해 초단콘덴서에 축적된 전하를 제2단 이하의 콘덴서로 이행시켜 최종단콘덴서의 축적전하에 따라서 상기 예비전리전극간의 예비전리방전 및 상기 주방전전극간의 주 방전을 행하는 충 방전장치를 구비하며, 상기 주방전전극간의 주 방전에 의해 레이저가스를 여기하고, 레이저광을 발진, 출력시키도록 한 방전여기형레이저장치에 있어서의 충방전장치에 있어서, 1차측권선과 직렬로 상기초단콘덴서가 접속됨과 함께 2차측권선과 직렬로 제2단콘덴서가 접속되며, 초단콘덴서로부터 방전되는 펄스전류를 승압하여 제2단콘덴서에 충전시키는 펄스트랜스를 설치함과 함께, 상기 제2단콘덴서의 후단에 제2단콘덴서로부터 방전되는 전류를 저지하는 자기스위치를 접속하고, 그 자기스위치와 직렬로 상기 예비전리전극을 접속하고, 상기 제2단콘덴서 및 상기 2차측권선과, 상기 자기스위치 및 상기 예비전리전극과, 최종단의 제3콘덴서와, 상기 주방전전극을 각각 병렬로 접속하도록 한 방전여기형레이저장치에 있어서의 충방전장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 예비전리전극과 상기 주방전전극의 사이에 자기압축회로를 개재시킨 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치.
  9. 전원과, 그 전원의 전압을 예비전리전극 및 주 방전전극에 인가시키는 주스위치와. 그 주스위치와 상기 예비전리전극 및 상기 주방전전극의 사이에 개재된 복수단의 콘덴서를 가지며, 상기 주스위치를 작동시킴으로써 상기 전원에 의해 초단콘덴서에 축적된 전하를 제2단 이하의 콘덴서로 이행시켜 최종단콘덴서의 축척전하에 따라서 상기 예비전리전극간의 예비전리방전 및 상기 주방전전극간의 주방전을 행하는 충방전장치를 구비하며, 상기 주 방전전극간의 주 방전에 의해 레이저가스를 여기하고, 레이저광을 발진, 출력시키도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치에 있어서, 펄스트랜스의 1차측권선과 직렬로 상기 초단콘덴서를 접속함과 함께, 상기 펄스트랜스의 2차측권선을 두개의 제1 및 제2의 권선으로 분리하고, 상기 제1권선과 예비전리전극용의 제2단콘덴서를 가진 예비전리방전여기회로와, 상기 제2권선과 주방전전극용의 제2단콘덴서를 가진 주방전여기회로를 분리한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치.
  10. 청구항 9에 있어서, 상기 예비전리방전여기회로의 제1권선과 직렬로, 예비전리방전과 주방전의 타이밍을 조정하는 인덕터를 접속한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치.
  11. 청구항 9에 있어서, 상기 주방전전극용의 제2단콘덴서의 후단에 그 제2단콘덴서로부터 방전되는 전류를 저지하는 자기스위치를 접속하고, 그 자기스위치와, 최종단의 제3단콘덴서와, 상기 주방전전극을 각각 병렬로 접속하도록 한 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치.
  12. 제9항에 있어서, 상기 주방전전극용의 제2단콘덴서와 상기 주방전전극의 사이에, 자기압축회로를 개재시킨 방전여기형 레이저장치에 있어서의 충방전장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960706798A 1994-06-16 1995-05-26 방전여기형레이저장치에있어서의레이저가스의제어장치및충방전장치 Expired - Fee Related KR100325995B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP134468/1994 1994-06-16
JP6134468A JP2601410B2 (ja) 1994-06-16 1994-06-16 放電励起型レーザ装置におけるレーザガスの制御装置
JP202273/1994 1994-08-26
JP20227394A JP3535576B2 (ja) 1994-08-26 1994-08-26 放電励起型レーザ装置における充放電装置
PCT/JP1995/001015 WO1995034927A1 (fr) 1994-06-16 1995-05-26 Regulateur de gaz laser et dispositif de charge-decharge pour laser a decharge

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970703632A true KR970703632A (ko) 1997-07-03
KR100325995B1 KR100325995B1 (ko) 2002-07-22

Family

ID=26468582

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960706798A Expired - Fee Related KR100325995B1 (ko) 1994-06-16 1995-05-26 방전여기형레이저장치에있어서의레이저가스의제어장치및충방전장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5754579A (ko)
KR (1) KR100325995B1 (ko)
WO (1) WO1995034927A1 (ko)

Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6005880A (en) * 1997-02-14 1999-12-21 Lambda Physik Gmbh Precision variable delay using saturable inductors
US6020723A (en) * 1997-02-14 2000-02-01 Lambada Physik Gmbh Magnetic switch controlled power supply isolator and thyristor commutating circuit
DE19845586B4 (de) * 1997-10-03 2008-04-03 Komatsu Ltd. Entladungsschaltung für einen Impulslaser mit einer Impulsleistungsquelle
US6212214B1 (en) 1998-10-05 2001-04-03 Lambda Physik Ag Performance control system and method for gas discharge lasers
US6526085B2 (en) * 1998-10-05 2003-02-25 Lambda Physik Ag Performance control system and method for gas discharge lasers
US6490307B1 (en) 1999-03-17 2002-12-03 Lambda Physik Ag Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters
DE19942455A1 (de) 1998-10-05 2000-04-06 Lambda Physik Gmbh Leistungssteuersystem und -verfahren für Gasentladungslaser
US6965624B2 (en) * 1999-03-17 2005-11-15 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
US6389052B2 (en) 1999-03-17 2002-05-14 Lambda Physik Ag Laser gas replenishment method
SE518827C2 (sv) 1999-02-17 2002-11-26 Altitun Ab Metod för karakterisering av en avstämbar laser
US6727731B1 (en) 1999-03-12 2004-04-27 Lambda Physik Ag Energy control for an excimer or molecular fluorine laser
US6243406B1 (en) 1999-03-12 2001-06-05 Peter Heist Gas performance control system for gas discharge lasers
US6714577B1 (en) 1999-03-17 2004-03-30 Lambda Physik Ag Energy stabilized gas discharge laser
JP2000277840A (ja) * 1999-03-19 2000-10-06 Komatsu Ltd パルスレーザ用の充放電回路
US6198761B1 (en) 1999-05-07 2001-03-06 Lambda Physik Gmbh Coaxial laser pulser with solid dielectrics
SE514187C2 (sv) * 1999-07-06 2001-01-22 Altitun Ab Förfarande och anordning för att utstyra en avstämbar laser
WO2001013476A1 (en) * 1999-08-17 2001-02-22 Lambda Physik Ag Narrow band excimer laser
US6785316B1 (en) 1999-08-17 2004-08-31 Lambda Physik Ag Excimer or molecular laser with optimized spectral purity
JP3552979B2 (ja) * 1999-09-16 2004-08-11 ウシオ電機株式会社 ArFエキシマレーザ装置
JP3444350B2 (ja) * 1999-11-17 2003-09-08 ウシオ電機株式会社 エキシマレーザ装置
US6570901B2 (en) 2000-02-24 2003-05-27 Lambda Physik Ag Excimer or molecular fluorine laser having lengthened electrodes
US6847671B1 (en) 2000-03-29 2005-01-25 Lambda Physik Ag Blower for gas laser
WO2001084678A2 (en) 2000-04-18 2001-11-08 Lambda Physik Ag Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers
US6862307B2 (en) * 2000-05-15 2005-03-01 Lambda Physik Ag Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser
US6721345B2 (en) 2000-07-14 2004-04-13 Lambda Physik Ag Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers
JP3752978B2 (ja) * 2000-08-09 2006-03-08 ウシオ電機株式会社 巻線機器および巻線機器を用いた高電圧パルス発生回路
DE10042292B4 (de) * 2000-08-29 2004-08-12 Tuilaser Ag Verfahren zum Betreiben eines Excimer-Laser
US6535540B1 (en) * 2000-09-13 2003-03-18 Komatsu Ltd. Discharge device for pulsed laser
US20050259709A1 (en) * 2002-05-07 2005-11-24 Cymer, Inc. Systems and methods for implementing an interaction between a laser shaped as a line beam and a film deposited on a substrate
US7830934B2 (en) * 2001-08-29 2010-11-09 Cymer, Inc. Multi-chamber gas discharge laser bandwidth control through discharge timing
US20040254567A1 (en) * 2003-02-12 2004-12-16 Holz Frank G. Surgical method for ablating tissue
US6987790B2 (en) * 2003-02-14 2006-01-17 Lambda Physik Ag Excimer or molecular fluorine laser with several discharge chambers
US7277188B2 (en) * 2003-04-29 2007-10-02 Cymer, Inc. Systems and methods for implementing an interaction between a laser shaped as a line beam and a film deposited on a substrate
US6883300B2 (en) * 2003-07-11 2005-04-26 Allan Sanders Assembly including a chain for suspending an article such as a light and for concealing an electrical conductor
US7209507B2 (en) * 2003-07-30 2007-04-24 Cymer, Inc. Method and apparatus for controlling the output of a gas discharge MOPA laser system
US7277464B2 (en) * 2003-12-18 2007-10-02 Cymer, Inc. Method and apparatus for controlling the output of a gas discharge laser system
US7317179B2 (en) * 2005-10-28 2008-01-08 Cymer, Inc. Systems and methods to shape laser light as a homogeneous line beam for interaction with a film deposited on a substrate
US7679029B2 (en) * 2005-10-28 2010-03-16 Cymer, Inc. Systems and methods to shape laser light as a line beam for interaction with a substrate having surface variations
USD606628S1 (en) * 2007-03-27 2009-12-22 Samsung Electronics Co., Ltd. Gas controller
JP4185958B1 (ja) * 2007-06-11 2008-11-26 ファナック株式会社 ガスレーザ装置の立ち上げ方法及びガスレーザ装置
JP5499432B2 (ja) * 2007-10-05 2014-05-21 ソニー株式会社 撮像装置
JP6275737B2 (ja) 2013-11-05 2018-02-07 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及び非一過性のコンピュータ読み取り可能な記録媒体
GB2584731B (en) * 2019-06-13 2024-01-31 Bae Systems Plc Pulse charging of a capacitor
CN114221569B (zh) * 2021-12-21 2023-12-01 中国人民解放军国防科技大学 等离子体高能合成射流激励器并联放电装置及方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58223392A (ja) * 1982-06-22 1983-12-24 Nec Corp イオンレ−ザ装置
JPS60263485A (ja) * 1984-06-11 1985-12-26 Nec Corp イオンレ−ザ装置
JPS6378587A (ja) * 1986-09-22 1988-04-08 Toshiba Corp 気体レ−ザ装置
JPS6433981A (en) * 1987-07-29 1989-02-03 Power Reactor & Nuclear Fuel Switching power supply for high repetition pulse laser
JP2747585B2 (ja) * 1988-01-27 1998-05-06 株式会社小松製作所 狭帯域エキシマレーザの起動方法
JPH02103977A (ja) * 1988-10-13 1990-04-17 Toshiba Corp パルスレーザ用電源
JPH03117378A (ja) * 1989-09-28 1991-05-20 Toshiba Corp パルス電源装置
JPH03124273A (ja) * 1989-10-03 1991-05-27 Toshiba Corp パルス電源装置
JPH0758817B2 (ja) * 1989-10-20 1995-06-21 株式会社日立製作所 エキシマレーザ装置
JPH03166783A (ja) * 1989-11-27 1991-07-18 Nikon Corp ガスレーザー装置
JPH04137576A (ja) * 1990-09-27 1992-05-12 Komatsu Ltd 放電励起式ガスレーザ発振器
US5450436A (en) * 1992-11-20 1995-09-12 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Laser gas replenishing apparatus and method in excimer laser system

Also Published As

Publication number Publication date
US5754579A (en) 1998-05-19
WO1995034927A1 (fr) 1995-12-21
KR100325995B1 (ko) 2002-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970703632A (ko) 방전여기형레이저장치에 있어서의 레이저가스의 제어장치 및 충방전장치
US4240009A (en) Electronic ballast
US5883471A (en) Flashlamp pulse shaper and method
US7291983B2 (en) Ballast and igniter for a lamp having larger storage capacitor than charge pump capacitor
EP1128709A1 (en) Power regulation circuit for ballast for ceramic metal halide lamp
US4422016A (en) Constant energy transfer rate strobe source
US7778007B2 (en) Optical emission analysis apparatus
US4266165A (en) High intensity discharge lamp starting circuit
US5128593A (en) Power supply for gas-filled lamps
EP0615320A1 (en) Dual use power supply configuration for the double pulsed flash lamp pumped rod laser
US4404498A (en) Multiplex strobe light
JPH01223789A (ja) 固体レーザ励起用ランプの電源装置
KR910001371Y1 (ko) 방전등용 전자식 안정기의 점등회로
JP4949285B2 (ja) プラズマ放電装置
JP3981908B2 (ja) 高圧放電灯点灯装置
SU995391A1 (ru) Устройство дл питани газоразр дной лампы
SU1450086A1 (ru) Генератор импульсов напр жени
SU149150A1 (ru) Генератор дуговых импульсов переменного тока
JP3870582B2 (ja) 発光分析装置
SU1563577A1 (ru) Устройство дл питани импульсной газоразр дной лампы
JP2002093590A (ja) 放電灯点灯装置
JP3690530B2 (ja) 高圧放電灯点灯装置、高圧放電灯装置および照明装置
RU2069929C1 (ru) Устройство для возбуждения газового лазера
SU411315A1 (ko)
SU849481A1 (ru) Импульсный модул тор

Legal Events

Date Code Title Description
PA0105 International application

Patent event date: 19961129

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20000307

Comment text: Request for Examination of Application

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20011219

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20020214

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20020215

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20050204

Year of fee payment: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20050204

Start annual number: 4

End annual number: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee
PC1903 Unpaid annual fee

Termination category: Default of registration fee

Termination date: 20070110