[go: up one dir, main page]

KR970072031A - 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법 - Google Patents

편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR970072031A
KR970072031A KR1019970016414A KR19970016414A KR970072031A KR 970072031 A KR970072031 A KR 970072031A KR 1019970016414 A KR1019970016414 A KR 1019970016414A KR 19970016414 A KR19970016414 A KR 19970016414A KR 970072031 A KR970072031 A KR 970072031A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
layer
glassy
heating
forming
Prior art date
Application number
KR1019970016414A
Other languages
English (en)
Inventor
마르셀 쟝 베구인 알라인
복 히더
오르 마스흐메이어 리차드
엠. 트로우쳇 데니스
Original Assignee
알프레드 엘. 미첼슨
코닝 인코오포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 알프레드 엘. 미첼슨, 코닝 인코오포레이티드 filed Critical 알프레드 엘. 미첼슨
Publication of KR970072031A publication Critical patent/KR970072031A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C03B23/023—Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/025—Re-forming glass sheets by bending by gravity
    • C03B23/0258—Gravity bending involving applying local or additional heating, cooling or insulating means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
    • G02B6/132—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by deposition of thin films
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12035—Materials
    • G02B2006/12038—Glass (SiO2 based materials)
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12166—Manufacturing methods
    • G02B2006/12169—Annealing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S65/00—Glass manufacturing
    • Y10S65/08—Quartz

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

본 발명은 실질적으로 편평한 펑면상의 실리카 기판 및 상기 실리카 기판상에 소결된 유리질 광도파관층을 갖는 실질적으로 편평한 평면상의 광파 광학회로를 제조하는 방법에 관한 것이다. 상기 구조물은 상승된 온도에서 충분한 시간동안 전처리되어 상기 구조물을 편평하게 하고 비틀어짐을 보상한다. 선택적으로, 상기 실리카 기판은 후속공정에서 발생될 비틀어짐 또는 워페이지(warpage)를 보상할 정도로 미리 결정된 정도로 가열 및 미리늘릴 수 있다.

Description

편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 기판 샘플을 가로질러 얻은 측정트랙을 나타낸 도면이다, 제2도는 본 발명에 의해 처리되는 피복된 기판의 측면도이다, 제3도는 본 발명에 의해 처리되는 2차 피복된 기판의 측면도이다, 제4도는 본 발명에 의해 처리된 피복된 기판의 측면도이다, 제5도는 본 발명에 의해 처리될 피복되지 않은 기판의 사시도이다, 제6도는 제5도의 A-A선을 따라 절단한 단면도이다, 제7도는 제2도의 확대도이다, 제8도는 제3도의 확대도이다.

Claims (10)

  1. a. 실질적으로 편평한 평면상의 실리카 기판을 제공하는 단계; b. 상기 기판상에 복수의 산화화합물 층을 형성시키는 단계; c. 상기 실리카 기판에 유리질의 광도파층을 형성하기 위해 상기 산화물 층을 소결시키는 단계; d. 상기 (e)단계에서 형성된 구조물을 편평하게 하기 위해 충분한 시간동안 상승된 온도로 가열시키는 단계; e. 통상의 사진석판술 및 에칭으로 상기 유리질 층에 광학회로를 형성시키는 단계; 및 f. 상기 기판과 실질적으로 동일한 굴절율을 갖는 오버레이링 유리로 상기 (e)단계에서 형성된 표면을 크래딩시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 실질적으로 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 구조물이 상기 가열단계(d) 동안에 편평한 그래파이트 지지체상에 지지됨을 특징으로 하는 실질적으로 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 가열단계(d)가 상기 (f)단계 이후에 반복됨을 특징으로 하는 실질적으로 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법.
  4. a. 실질적으로 편평한 평면상의 실리카 기판을 제공하는 단계; b. 상기 기판을 상승된 온도로 가열함에 따라 상기 기판상에 다른 유리층을 형성시키는 발생될 미래 워페이지를 보상하기 위해 미리 결정된 정도로 상기 기판을 미리늘리는 단계; c. 상기 기판상에 복수의 산화화합물 d. 상기 실리카기판에 유리질의 광도파층을 형성하기 위해 상기 산화물 층을 소결시키는 단계; e. 상기 유리질 층에 회로 또는 패턴을 형성시키는 단계; 및 f. 상기 (e)단계에서 형성된 표면을 오버레이링 유리층으로 크래딩시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 실질적으로 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법.
  5. 제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 (b)단계의 산화층이 산화물 슈트에 의해 형성됨을 특징으로 하는 실질적으로 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법.
  6. 제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 슈트가 Geo2-B2O3-P2O5-SiO2의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 실질적으로 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법.
  7. 제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 기판이 원형의 웨이퍼임을 특징으로 하는 실질적으로 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법.
  8. a. 실질적으로 편평한 평면상의 실리카 기판을 제공하는 단계; b. 상기 기판상에 복수의 산화화합물 층을 형성시키는 단계; c. 상기 실리카 기판에 유리질의 광도파층을 형성하기 위해 상기 산화물 층을 소결시키는 단계; d. 통상의 사진석판술로 상기 유리질 층에 광학회로를 형성시키는 단계; e. 상기 기판과 실질적으로 동일한 굴절율을 갖는 오버레이링 유리로 상기 (d)단계에서 형성된 표면을 크래딩시키는 단계; 및 f. 상기 (e)단계에서 형성된 구조물을 편평하게 하기 위해 충분한 시간동안 상승된 온도로 가열시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 실질적으로 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법.
  9. a. 실질적으로 편평한 평면상의 실리카 기판을 제공하는 단계; b. 상기 기판상에 복수의 산화화합물 층을 형성시키는 단계; c. 상기 실리카 기판에 유리질의 광도파층을 형성하기 위해 상기 산화물 층을 소결시키는 단계; d.통상의 사진석판술로 상기 유리질 층에 광학회로를 형성시키는 단계; e. 상기 (d)단계에서 형성된 구조물을 편평하게 하거나 상기 광학회로의 형성에 의해 유발된 어떤 비틀어짐을 극복하기 위해 충분한 시간동안 상승된 온도로 가열시키는 단계; f. 상기 기판과 실질적으로 동일한 굴절율을 갖는 오버레이링 유리층으로 상기 (e)단계에서 형성된 표면을 크래딩시키는 단계; 및 g. 상기 (e)단계의 가열을 선택적으로 반복시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 실질적으로 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법.
  10. 함께 밀봉 또는 용융된 적어도 두개의 유리층을 갖는 평면 구조물의 열팽창 계수의 차이에 의해 발생된 워페이지 및/또는 비틀어짐을 보상하는 방법에 있어서, 상길 방법이 적어도 하나의 유리층이 연화 또는 편평해지거나 상기 위페이지 또는 비틀어짐이 극복되도록 충분한 시간동안 상승된 온도로 상기 구조물을 가열시키는 단계를 포함하고, 상기 층의 하나가 선택적으로 실리카임을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970016414A 1996-04-30 1997-04-30 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법 KR970072031A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US1700196P 1996-04-30 1996-04-30
US60/017,001 1996-04-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR970072031A true KR970072031A (ko) 1997-11-07

Family

ID=21780175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970016414A KR970072031A (ko) 1996-04-30 1997-04-30 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법

Country Status (10)

Country Link
US (1) US5827342A (ko)
EP (1) EP0805364A1 (ko)
JP (1) JPH10123345A (ko)
KR (1) KR970072031A (ko)
CN (1) CN1167094A (ko)
AU (1) AU708513B2 (ko)
CA (1) CA2202216A1 (ko)
FR (1) FR2759465B1 (ko)
MX (1) MX9703234A (ko)
TW (1) TW327677B (ko)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19805170A1 (de) * 1998-02-10 1999-08-12 Cit Alcatel Planarer optischer Wellenleiter und Verfahren zu seiner Herstellung
US6377732B1 (en) 1999-01-22 2002-04-23 The Whitaker Corporation Planar waveguide devices and fiber attachment
US6389209B1 (en) 1999-09-07 2002-05-14 Agere Systems Optoelectronics Guardian Corp. Strain free planar optical waveguides
AUPR368201A0 (en) 2001-03-13 2001-04-12 Redfern Integrated Optics Pty Ltd Silica-based optical device fabrication
WO2002073257A1 (en) * 2001-03-13 2002-09-19 Redfern Integrated Optics Pty Ltd Silica-based optical device fabrication
US6603916B1 (en) * 2001-07-26 2003-08-05 Lightwave Microsystems Corporation Lightwave circuit assembly having low deformation balanced sandwich substrate
US7061122B2 (en) * 2002-10-11 2006-06-13 Tessera, Inc. Components, methods and assemblies for multi-chip packages
WO2008036227A1 (en) * 2006-09-20 2008-03-27 Corning Incorporated Temperature compensation for shape-induced in-plane stresses in glass substrates
US20080147110A1 (en) * 2006-12-19 2008-06-19 Lalith Hiran Wijeratne Embolic protection device with distal tubular member for improved torque response
US8154099B2 (en) * 2009-08-19 2012-04-10 Raytheon Company Composite semiconductor structure formed using atomic bonding and adapted to alter the rate of thermal expansion of a substrate
CN106933098B (zh) * 2017-02-24 2019-10-01 上海理工大学 平板型机械结构热变形补偿系统设计方法
US20190367402A1 (en) * 2018-05-30 2019-12-05 Corning Incorporated Methods to compensate for warp in glass articles
EP3805173B1 (en) * 2018-05-31 2022-06-01 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Glass panel unit manufacturing method

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4501602A (en) * 1982-09-15 1985-02-26 Corning Glass Works Process for making sintered glasses and ceramics
JPS6090838A (ja) * 1983-10-25 1985-05-22 Shin Etsu Chem Co Ltd 光伝送用石英ガラス母材の製造方法
DE3376110D1 (en) * 1983-12-22 1988-05-05 Shinetsu Chemical Co A method for the preparation of synthetic quartz glass suitable as a material of optical fibers
JPS60180338A (ja) * 1984-02-28 1985-09-14 Fujitsu Ltd 並直列変換方式
JPS6457207A (en) * 1987-08-28 1989-03-03 Hitachi Ltd Waveguide type optical device
GB8905966D0 (en) * 1989-03-15 1989-04-26 Tsl Group Plc Improved vitreous silica products
US5043002A (en) * 1990-08-16 1991-08-27 Corning Incorporated Method of making fused silica by decomposing siloxanes
US5152819A (en) * 1990-08-16 1992-10-06 Corning Incorporated Method of making fused silica
US5154744A (en) * 1991-08-26 1992-10-13 Corning Incorporated Method of making titania-doped fused silica
EP0535861B1 (en) * 1991-09-30 1998-02-18 AT&T Corp. Method for making planar optical waveguides
US5261022A (en) * 1991-10-21 1993-11-09 Photonic Integration Research, Inc. Optical waveguide of silica glass film on ceramic substrate
JPH05273426A (ja) * 1991-12-06 1993-10-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 光導波膜の作製方法およびこれを用いた光導波路の作製方法
JPH05345619A (ja) * 1992-06-16 1993-12-27 Furukawa Electric Co Ltd:The 石英導波路型光部品の製造方法
US5492843A (en) * 1993-07-31 1996-02-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of fabricating semiconductor device and method of processing substrate
JPH07109573A (ja) * 1993-10-12 1995-04-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd ガラス基板および加熱処理方法
US5483613A (en) * 1994-08-16 1996-01-09 At&T Corp. Optical device with substrate and waveguide structure having thermal matching interfaces
DE4433738B4 (de) * 1994-09-21 2006-04-06 Infineon Technologies Ag Doppelbrechungsarmer planarer optischer Wellenleiter und Verfahren zu seiner Herstellung
US5800860A (en) * 1995-06-28 1998-09-01 Lucent Technologies Inc. Method of manufacturing planar optical waveguides

Also Published As

Publication number Publication date
CN1167094A (zh) 1997-12-10
US5827342A (en) 1998-10-27
AU1908697A (en) 1997-11-06
AU708513B2 (en) 1999-08-05
EP0805364A1 (en) 1997-11-05
FR2759465B1 (fr) 1999-04-30
FR2759465A1 (fr) 1998-08-14
JPH10123345A (ja) 1998-05-15
TW327677B (en) 1998-03-01
MX9703234A (es) 1998-04-30
CA2202216A1 (en) 1997-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970072031A (ko) 편평한 평면상의 광파 광학회로의 제조방법
US6690872B2 (en) Silica based optical waveguide and production method therefor
MXPA97003234A (en) Treatment of crystal substrates to compensate combadura and distors
JPS6157601B2 (ko)
US20020039474A1 (en) Birefringence-free passive optical component
CN100397119C (zh) 光波导及其制造方法
KR20020092209A (ko) 광도파로 장치 및 그 제조 방법
JPH10227930A (ja) 温度無依存光導波路およびその製造方法
JP3500990B2 (ja) 基板型光導波路の製造方法
JPH0720336A (ja) 光導波路の構造とその製造方法
JPS61204604A (ja) 光導波路構造の製造法
JPH1068833A (ja) 光導波路及びその製造方法並びに光回路
JP2726424B2 (ja) 光素子およびその製造方法
JPH06308546A (ja) 光回路の特性調整方法
WO2021005635A1 (ja) 光モジュール及びその製造方法
JPH06214128A (ja) 光導波回路
JP4259963B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2005331797A (ja) 光導波路の製造方法
US20020021858A1 (en) Integrated thermo-optical silica switch
JP3840835B2 (ja) 石英系ガラス導波路素子の製造方法
JP2002162526A (ja) 光導波路およびその製造方法
JP2008020715A (ja) 光導波路およびその製造方法
JPH06174952A (ja) 基板型光導波路及びその製造方法
KR100333899B1 (ko) 버퍼층을이용하여복굴절을감소시키는광도파로및그제작방법
JP2003075669A (ja) 光導波路の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 19970430

PG1501 Laying open of application
PC1203 Withdrawal of no request for examination
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid