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KR970049080A - 식각 균일도가 개선된 습식식각 방법 - Google Patents

식각 균일도가 개선된 습식식각 방법 Download PDF

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Publication number
KR970049080A
KR970049080A KR1019950057167A KR19950057167A KR970049080A KR 970049080 A KR970049080 A KR 970049080A KR 1019950057167 A KR1019950057167 A KR 1019950057167A KR 19950057167 A KR19950057167 A KR 19950057167A KR 970049080 A KR970049080 A KR 970049080A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wet etching
semiconductor wafer
uniformity
etching solution
wet
Prior art date
Application number
KR1019950057167A
Other languages
English (en)
Inventor
이영철
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자 주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR1019950057167A priority Critical patent/KR970049080A/ko
Publication of KR970049080A publication Critical patent/KR970049080A/ko

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Abstract

습식식각시 습식식각액에 담겨지는 반도체 웨이퍼의 시간을 균일하게 하여 식각균일도를 향상시킬 수 있는 습식식각 방법에 관하여 개시한다. 본 발명은 반도체 웨이퍼 상에 형성된 소정의 막질의 습식식각방법에 있어서, 상기 반도체 웨이퍼의 제1방향을 습식 식각용액에 담구는 단계와, 상기 습식 식각용액에 담구어진 상기 반도체 웨이퍼를 꺼내어 상기 제1방향과 반대의 제2방향으로 상기 반도체 웨이퍼를 습식 식각용액에 담구어 식각균일도를 향상시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식식각방법을 제공한다. 상기 제1방향은 상기 반도체 웨이퍼의 윗쪽방향이며, 상기 제2방향은 상기 제1방향과 반대의 플랫존방향이다. 본 발명에 의하면, 질이 형성된 반도체 웨이퍼가 습식식각용액에 담겨 있는 시간을 균일하게 하여 식각균일도를 향상시킬수 있다.

Description

식각 균일도가 개선된 습식식각 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 습식식각방법을 설명하기 위한 도면이다.

Claims (2)

  1. 반도체 웨이퍼 상에 형성된 소정의 막질의 습식 식각방법에 있어서, 상기 반도체 웨이퍼의 제1방향을 습식 식각용액에 담구는 단계와, 상기 습식 식각용액에 담구어진 상기 반도체 웨이퍼를 꺼내어 상기 제1방향과 반대의 제2방향으로 상기 반도체 웨이퍼를 습식 식각용액에 담구어 식각균일도를 향상시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식식각방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1방향은 윗쪽 방향미며, 상기 제2방향은 상기 제1방향과 반대의 플랫존방향인 것을 특징으로 하는 습식시각방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950057167A 1995-12-26 1995-12-26 식각 균일도가 개선된 습식식각 방법 KR970049080A (ko)

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Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 19951226

PG1501 Laying open of application
PC1203 Withdrawal of no request for examination
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid