KR970048963A - 페이즈 쉬프트 포토마스크 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 미세한 패턴을 형성하기 위한 패이즈 쉬프트 포토마스크에 있어서, 기판(11); 웨이퍼 상에 형성하고자 하는 패턴에 대응되는 모양으로 상기 기판상에 형성되어 빛의 투과를 차단하는 비투과층(12); 및 상기 비투과층의 에지 부위에 형성되어 투과되는 빛의 위상을 변화시키는 패이즈 쉬프터(13)를 구비하는 것을 특징으로 하는 패이즈 쉬프트 포토마스크에 관한 것으로, 노광 부위와 비노광 부위간의 에너지 콘트라스트를 향상시켜 전체 해상도를 향상시킬 수 있도록 한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2A도 내지 제2D도는 본 발명의 일실시예에 따른 패이즈 쉬프트 포토마스크의 단면도 및 특성 그래프.
Claims (2)
- 미세한 패턴을 형성하기 위한 패이즈 쉬프트 포토마스크에 있어서, 기판; 웨이퍼 상에 형성하고자 하는 패턴에 대응되는 모양으로 상기 기판상에 형성되어 빛의 투과를 차단하는 비투과층; 및 상기 비투과층의 에지 부위에 형성되어 투과되는 빛의 위상을 변화시키는 패이즈 쉬프터를 구비하는 것을 특징으로 하는 패이즈 쉬프트 포토마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 패이즈 쉬프터는 투과되는 빛의 위상을 180°변화시키는 해프 톤 패이즈 쉬프터인것을 특징으로 하는 패이즈 쉬프트 포토마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950064525A KR970048963A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 페이즈 쉬프트 포토마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950064525A KR970048963A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 페이즈 쉬프트 포토마스크 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970048963A true KR970048963A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66623538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950064525A Withdrawn KR970048963A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 페이즈 쉬프트 포토마스크 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970048963A (ko) |
-
1995
- 1995-12-29 KR KR1019950064525A patent/KR970048963A/ko not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 19951229 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination | ||
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |