KR970048937A - 미세 패턴 형성용 마스크 - Google Patents
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
본 발명은 반도체 제조공정에 사용되는 미세 패턴 형성용 마스크에 관한 것으로, 특히, 종래의 마스크에 광차단막으로 사용되는 크롬패턴의 두께를 조절하여 광 투과율을 조절하고 이를 이용하여 양질의 미세패턴을 형성하는 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도의 A 및 B는 본 발명에 의해 제조된 마스크를 이용하여 감광막 패턴을 형성하는 단계를 도시한 단면도.
Claims (1)
- 투명기판에 광차단용 크롬패턴이 다수개 구비된 마스크에 있어서, 상기 크롬 패턴의 두께가 4 - 10%의 투과율을 갖도록 구비된 것을 특징으로 하는 미세 패턴 형성용 마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950066147A KR970048937A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 미세 패턴 형성용 마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950066147A KR970048937A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 미세 패턴 형성용 마스크 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970048937A true KR970048937A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66637748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950066147A KR970048937A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 미세 패턴 형성용 마스크 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970048937A (ko) |
-
1995
- 1995-12-29 KR KR1019950066147A patent/KR970048937A/ko not_active Application Discontinuation
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 19951229 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination | ||
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |